CN208649462U - 一种镀膜系统 - Google Patents

一种镀膜系统 Download PDF

Info

Publication number
CN208649462U
CN208649462U CN201821116044.0U CN201821116044U CN208649462U CN 208649462 U CN208649462 U CN 208649462U CN 201821116044 U CN201821116044 U CN 201821116044U CN 208649462 U CN208649462 U CN 208649462U
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
even heat
heat plate
coating system
process cavity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201821116044.0U
Other languages
English (en)
Inventor
马峥
张风港
张津燕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Deyun Chuangxin (Beijing) Technology Co.,Ltd.
Original Assignee
Beijing Juntai Innovation Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Juntai Innovation Technology Co Ltd filed Critical Beijing Juntai Innovation Technology Co Ltd
Priority to CN201821116044.0U priority Critical patent/CN208649462U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN208649462U publication Critical patent/CN208649462U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本申请涉及薄膜太阳能生产技术领域,具体涉及一种镀膜系统。本申请提供的镀膜系统,能够支持对基板镀多个不同种类的膜层,以得到性能更好的具有复合膜层的基板;与现有的镀膜系统相比,本申请提供的镀膜系统在基板上制备多层膜层时基板不用从系统内取出,因此不会与外界大气接触破除真空并暴露大气,能够避免因膜层与空气接触氧化,导致膜层内产生杂质的问题发生,基板上的膜层质量更好;并且相邻两个工艺腔之间设有一个调温腔,通过调温腔调整基板的温度,使基板的温度满足下一个工艺腔制备温度的需求,减少了进入下一个反应腔中的温度调整时间,大大的提高了生产效率、提高产能。

Description

一种镀膜系统
技术领域
本申请涉及薄膜太阳能生产技术领域,具体涉及一种镀膜系统。
背景技术
目前市场上对薄膜太阳能电池的需求正逐渐增长,制造薄膜太阳能电池的技术更成为近年来的研究热点,LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition-低气压化学气相沉积)作为薄膜天阳能电池膜层的主要形成方法,被广泛应用在薄膜太阳能电池生产领域;现有的公开了一种LPCVD系统,设有用于放置若干片基板的传输垫板,通过传输垫板将加热板的热量传输至需要镀膜的基片;系统中还设有反应腔,用于对基片进行镀膜,比如ZnO(氧化锌)膜。由于各个膜层所需的制造温度不同,现有的LPCVD系统一次只能制备一个膜层,造成工艺不够灵活。
实用新型内容
(一)本申请所要解决的技术问题是:现有LPCVD系统一次只能生产一种膜层,导致连续生产的节拍控制及生产效率低。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题,本申请实施例提供了一种镀膜系统,所述镀膜系统包括:传输装置、多个工艺腔和相邻两个所述工艺腔之间设有的调温腔;
其中,所述传输装置配置为将基板运输至所述工艺腔和所述调温腔内;每个所述工艺腔配置为通入各自对应的工艺气体以对所述基板进行镀膜;
所述调温腔配置为将镀膜后的基板调温至下一个工艺腔对应的指定温度。
有益效果:本申请实施例提供的镀膜系统,能够支持在基板上形成多个不同种类的膜层,以得到性能更好的具有复合膜层的基板;与现有的镀膜系统相比,本申请实施例提供的镀膜系统在基板上制备多层膜层时基板不用从系统内取出,因此不会与外界大气接触破除真空并暴露大气,能够避免因膜层与空气接触氧化,导致膜层内产生杂质的问题发生,基板上的膜层质量更好;并且相邻两个工艺腔之间设有一个调温腔,通过调温腔调整基板的温度,使基板的温度满足下一个工艺腔制备温度的需求,减少了进入下一个反应腔中的温度调整时间,大大的提高了生产效率、提高产能。
进一步地,所述调温腔为加热腔或第一冷却腔。
进一步地,所述加热腔内设有第一匀热板和第一搬运装置,所述第一搬运装置用于将所述传输装置上的工件搬运到所述第一匀热板上,或将所述第一匀热板上的工件搬运到所述传输装置上。
进一步地,所述第一搬运装置包括第一顶针机构和第一驱动机构,所述第一匀热板安装在所述加热腔的下部,所述第一顶针机构包括第一安装架和竖直安装在所述第一安装架上的多个第一顶针本体,多个所述第一顶针本体由下至上穿过所述第一匀热板;
所述第一驱动机构与所述第一安装架相连,以带动所述第一安装架上下移动;
位于所述加热腔内的传输装置设置在所述第一匀热板的上侧。
进一步地,所述第一冷却腔内设有第二匀热板和第二搬运装置,所述第二搬运装置用于将所述传输装置上的工件搬运到所述第二匀热板上,或将所述第二匀热板上的工件搬运到所述传输装置上。
进一步地,所述第二搬运装置包括第二顶针机构和第二驱动机构,所述第二匀热板安装在所述第一冷却腔的下部,所述第二顶针机构包括第二安装架和竖直安装在所述第二安装架上的多个第二顶针本体,多个所述第二顶针本体由下至上穿过所述第二匀热板;
所述第二驱动机构与所述第二安装架相连,以带动所述第二安装架上下移动;
位于所述第一冷却腔内的传输装置设置在所述第二匀热板的上侧。
进一步地,所述工艺腔内设有第三匀热板和第三搬运装置,所述第三搬运装置用于将所述传输装置上的工件搬运到所述第三匀热板上,或将所述第三匀热板上的工件搬运到所述传输装置上。
进一步地,所述第三搬运装置包括第三顶针机构和第三驱动机构,所述第三匀热板安装在所述工艺腔的下部,所述第三顶针机构包括第三安装架和竖直安装在所述第三安装架上的多个第三顶针本体,多个所述第三顶针本体由下至上穿过所述第三匀热板;
所述第三驱动机构与所述第三安装架相连,以带动所述第三安装架上下移动;
位于所述工艺腔内的传输装置设置在所述第三匀热板的上侧。
进一步地,所述工艺腔内还设有喷淋机构,所述喷淋机构固定在所述第三匀热板的上侧,并通过管道与位于所述工艺腔外部的气盒连通。
进一步地,所述传输装置包括多个水平设置的传送辊,多个所述传送辊相互平行并同步转动。
进一步地,还包括装载台、预热腔、第二冷却腔和卸载台,所述传输装置依次通过装载台、预热腔、工艺腔、第二冷却腔和卸载台。
进一步地,所述预热腔内设有加热灯管,所述加热灯管固定在所述预热腔的下部,所述预热腔内的传送辊位于所述加热灯管的上侧。
附图说明
本申请上述和/或附加方面的优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是本申请中一个实施例中镀膜系统的结构示意图;
图2是本申请中另一个实施例镀膜系统的结构示意图;
图3是本申请一个实施例中第一工艺腔的结构示意图;
图4是本申请一个实施例中加热腔的结构示意图;
图5是本申请一个实施例中第一冷却腔的结构示意图
图6是本申请一个实施例中采用所述镀膜系统镀膜的流程图;
图7是本申请另一个实施例中采用所述镀膜系统镀膜的流程图。
其中图1至图5中附图标记与部件名称之间的对应关系为:
1、装载台,2、预热腔,21、加热灯管,3、工艺腔,31、第一工艺腔,311、第三搬运装置,3111、第三驱动机构,3112、第三顶针机构,31121、安装架,31122、第三顶针本体,312、第三匀热板,313、喷淋机构,32、第二工艺腔,4、调温腔,41、加热腔,411、第一搬运装置,4111、第一驱动机构,4112、第一顶针机构,41121、第一安装架,41122、第一顶针本体,412、第一匀热板,42、第一冷却腔,421、第二搬运装置,4211、第二驱动机构,4212、第二顶针机构,42121、第二安装架,42122、第二顶针本体,422、第二匀热板,5、气盒,6、第二冷却腔,7、卸载台,8、传输装置,9、门阀。
具体实施方式
为了能够更清楚地理解本申请的上述目的、特征和优点,下面结合附图和具体实施方式对本申请进行进一步的详细描述。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
如图1所示,本申请实施例提供了一种镀膜系统,包括传输装置8、多个工艺腔3和相邻两个工艺腔3之间设有的调温腔4。
其中,传输装置8配置为将基板运输至工艺腔3和调温腔4内;每个工艺腔3配置为通入各自对应的工艺气体以对基板进行镀膜;调温腔4配置为将镀膜后的基板调温至下一个工艺腔3对应的指定温度。
本申请实施例提供的镀膜系统,能够支持对基板镀多个不同种类的膜层,以得到性能更好的具有复合膜层的基板;与现有的镀膜系统相比,本申请提供的镀膜系统在基板上制备多层膜层时基板不用从系统内取出,因此不会与外界大气接触破除真空并暴露大气,能够避免因膜层与空气接触氧化,导致膜层内产生杂质的问题发生,基板上的膜层质量更好;并且相邻两个工艺腔3之间设有一个调温腔4,通过调温腔4调整基板的温度,使基板的温度满足下一个工艺腔3制备温度的需求,减少了进入下一个反应腔中的温度调整时间,大大的提高了生产效率、提高产能。
本申请实施例提供的一种镀膜系统,可应用于LPCVD(低气压化学气相沉积)系统,或者其他需要进行复合镀膜的设备。
根据本申请的一个实施例,如图2所示,镀膜系统还包括装载台1、预热腔2、第二冷却腔6和卸载台7,传输装置8依次通过装载台1、预热腔2、工艺腔3、第二冷却腔6和卸载台7。
本申请的一个实施例中,如图1和图2所示,传输装置8包括多个水平设置的传送辊,多个传送辊相互平行并同步转动。
本申请的另一个实施例中,传输装置8还包括第四驱动机构和支撑机构。多个传送辊分别安装在支撑架上,第四驱动机构用于驱动多个传送辊同步转动。
其中,支撑机构可以为支撑架,多个传送辊水平设置并并排安装在支撑架上,且多个传送辊之间相互平行。
其中,第四驱动机构可以为驱动电机,驱动电机带动传送辊转动,进而带动位于传送辊上的基板移动。
其中,在多个工艺腔3和调温腔4内均设有传送辊。
本申请的另一个实施例中,每个所述传送辊均与第四驱动机构传动连接。如一个驱动电机驱动支撑机构上皮带转动,皮带与每个传送辊的端部相接,进而带动每一个传送辊转动;或者每个传送辊上均与一个第四驱动机构传动连接,均能够实现本申请中通过第四驱动机构带动所有传送辊转动的目的。
需要说明的是,本申请的一个实施例中,一部分传送辊与第四驱动机构传动连接,如工艺腔3内至少有一个传送辊与第四驱动机构传动连接,调温腔4内至少有一个传送辊与第四驱动机构传动连接。
以调温腔4为例,在位于调温腔4两端和中间的传送辊与第四驱动机构传动连接,其它的传送辊为从动传送辊。
以装载台1上的传送辊为例,在装载台1上两端和中部的传送辊与第四驱动机构传动连接,其它的为从动传送辊。
本申请的一个实施例中,只有两端的传送辊与第四驱动机构传动连接,或只有一个传送辊与第四驱动机构传动连接,只要能够实现将传送辊上的基板送入下一个工位就也能够实现本实用新型的目的;同理工艺腔3内的传送辊与第四驱动机构的传动连接方式与调温腔4的情形相同,在此不再赘述。
本申请的一个实施例中,传送辊可抽插的连接在支撑架上,即传送辊可从支撑传送位置抽出,也可以插入至传送位置。
本申请的一个实施例中,采用传送辊直接输送基板的方式,这样能够对大尺寸的基板进行输送,传送效率更高,解决了现有技术中由于垫板的存在对于大尺寸基板传送效率低的问题,同时在工艺腔3内对基板进行加热镀膜时,基板能够直接与加热板进行接触,加热板上的热量能够直接传递给基板,不用经过垫板,热传递效率更高,同时也避免了由于使用垫板这种多层传导的方式很容易造成基板温度的不均匀的问题,而基板的温度均匀性在镀膜的工艺中直接影响最后的成膜质量,因此能够提高成膜质量;并且不使用垫板适用于玻璃等硬质基板在生产系统中的传输。
本申请的一个实施例中,如图4和图5所示,调温腔4为加热腔41或第一冷却腔42,加热腔41用于对在上一个工艺腔3镀膜完成的基板进行加热,使基板的温度满足下一个工艺腔3的温度需求;第一冷却腔42用于对在上一个工艺腔3镀膜完成的基板进行冷却,使基板的温度满足下一个工艺腔3的温度需求。调温腔4为加热腔41或第一冷却腔42,可以通过加热腔41来升高基板的温度,通过冷却腔降低基板的温度,其中调温腔4采用加热腔41或第一冷却腔42可通过下一个工艺腔3的生产需求来判断,如果下一个工艺腔3的镀膜工艺温度大于上一个工艺腔3的镀膜工艺温度,此时调温腔4就选用加热腔41,反之则选择第一冷却腔42。
如图4所示,加热腔41内设有第一匀热板412和第一搬运装置411,第一搬运装置411用于将传输装置上的工件搬运到第一匀热板412上,或将第一匀热板412上的工件搬运到传输装置上。第一搬运装置411包括第一顶针机构4112和第一驱动机构4111,第一匀热板412安装在加热腔41的下部,第一顶针机构4112包括第一安装架41121和竖直安装在第一安装架41121上的多个第一顶针本体41122,多个第一顶针本体41122由下至上穿过第一匀热板412;第一驱动机构4111与第一安装架41121相连,以带动第一安装架41121上下移动;位于加热腔41内的传送辊设置在第一匀热板412的上侧。
如图4所示,第一驱动机构4111位于加热腔41的外侧,第一驱动机构4111的输出端穿过加热腔41与第一顶针机构4112传动连接。
本申请的一个实施例中,第一驱动机构4111可以为气缸或者液压缸;加热腔41内的传送辊位于第一匀热板412的上侧;在基板进入加热腔41内加热时,先通过第一驱动机构4111带动第一安装架41121向上移动,进而带动位于第一安装架41121上的多个第一顶针本体41122穿过第一匀热板412,多个第一顶针本体41122穿过传送辊上的缝隙抵靠在基板的下表面,多个第一顶针本体41122继续向上移动将基板顶起脱离传送辊的上表面,此时将传送辊从基板的下侧撤出,多个第一顶针本体41122对基板进行支撑,此时第一驱动机构4111带动第一安装架41121向下移动,带动第一顶针本体41122和基板向下移动直至第一顶针本体41122的上端缩进匀热板上的通孔中,此时基板就放置在第一匀热板412上,通过第一匀热板412对基板进行加热,直至基板加热至指定温度(即下一个工艺腔3所需温度);此时通过第一驱动机构4111带动第一安装架41121向上移动,多个第一顶针本体41122推动基板向上移动,直至基板升高至传送辊安装位置的上侧,此时将多个传送辊伸出复位,然后再通过第一驱动机构4111带动第一安装架41121和其上的多个第一顶针本体41122向下移动复位,此时基板落在传送辊上,通过传送辊将基板送入下一个工艺腔3。
本申请的一个实施例中,第一冷却腔42用于对进入其内部的镀膜基板进行冷却,如图5所示,第一冷却腔42内设有第二匀热板422和第二搬运装置421,第二搬运装置421用于将传输装置上的工件搬运到第二匀热板422上,或将第二匀热板422上的工件搬运到传输装置上。第二搬运装置421包括第二顶针机构4212和第二驱动机构4211,第二匀热板422安装在第一冷却腔42的下部,第二顶针机构4212包括第二安装架42121和竖直安装在第二安装架42121上的多个第二顶针本体42122,多个第二顶针本体42122由下至上穿过第二匀热板422;第二驱动机构4211与第二安装架42121相连,以带动第二安装架42121上下移动;位于第一冷却腔42内的传送辊设置在第二匀热板422的上侧;通过第二匀热板422对镀膜基板进行冷却。
如图1和图2所示,本申请的一个实施例中,工艺腔3设有两个,分别为第一工艺腔31和第二工艺腔32,第一工艺腔31位于第二工艺腔32的前端,第一工艺腔31用于对基板镀ZnO(氧化锌)膜层,第二工艺腔32用于对玻璃基板镀BZO(硼锌氧化物)膜层(即在ZnO膜层上形成BZO膜层),由于BZO膜层的生产工艺温度大于ZnO的生产工艺温度,因此调温腔4为加热腔41,如果第一工艺腔31用于生产BZO膜层,第二工艺腔32用于生产ZnO,那么调温腔4就为第一冷却腔42。
需要说明是,本申请的一个实施例中,工艺腔3也可以是设置有三个、四个、五个或六个,根据相邻的两个工艺腔3对于温度的需求来选择调温腔4的类型,这样在一个镀膜系统中能够同时生产多种膜层,其同样能够实现本申请的目的,其宗旨未脱离本申请的设计思想,应属于本申请的保护范围。
本申请的一个实施例中,多个工艺腔3的结构是相同的,以第一工艺腔31为例来具体说明工艺腔3的结构,如图3所示,工艺腔31内设有第三匀热板312和第三搬运装置311,第三搬运装置311用于将传输装置上的工件搬运到第三匀热板312上,或将第三匀热板312上的工件搬运到传输装置上。
如图3所示,第三搬运装置311包括第三顶针机构3112和第三驱动机构3111,第三匀热板312安装在工艺腔3的下部,第三顶针机构3112包括第三安装架31121和竖直安装在第三安装架31121上的多个第三顶针本体31122,多个第三顶针本体31122由下至上穿过第三匀热板312;第三驱动机构3111与第三安装架31121相连,以带动第三安装架31121上下移动;位于工艺腔3内的传送辊设置在第三匀热板312的上侧。
如图3所示,第三驱动机构3111与第三安装架31121相连,以带动第三安装架31121上下移动,第三驱动机构3111位于工艺腔3的外侧,第三驱动机构3111的输出端穿过工艺腔3与第三顶针机构3112传动连接。
本申请的一个实施例中,第三驱动机构3111可以为气缸或者液压缸;工艺腔3内设有喷淋机构313,喷淋机构313与工艺气源连通,具体的喷淋机构313通过管道与位于工艺腔3外侧气盒5连通,喷淋机构313固定在第三匀热板312的上侧,工艺腔3内的传送辊位于喷淋机构313和第三匀热板312之间。
在基板进入工艺腔3镀膜内时,先通过第三驱动机构3111带动第三安装架31121向上移动,进而带动位于第三安装架31121上的多个第三顶针本体31122穿过第三匀热板312,多个第三顶针本体31122穿过传送辊上的缝隙抵靠在基板的下表面,多个第三顶针本体31122继续向上移动将基板顶起脱离传送辊的上表面,此时将传送辊从基板的下侧撤出,多个第三顶针本体31122对基板进行支撑,此时第三驱动机构3111带动第三安装架31121向下移动,带动第三顶针本体31122和基板向下移动直至第三顶针本体31122的上端缩进匀热板上的通孔中,此时基板就放置在第三匀热板312上,通过第三匀热板312对基板进行加热,直至基板加热至指定温度(工艺腔3内镀膜所需温度);然后通过喷淋机构313喷出工艺气体,对基板进行镀膜,其中喷淋机构313为喷淋板,喷淋板通过管道与对应的气盒5连通,将气盒5内的工艺气体送入工艺腔3内。镀膜完成后通过第三驱动机构3111带动第三安装架31121向上移动,多个第三顶针本体31122推动基板向上移动,直至基板升高至传送辊安装位置的上侧,此时将多个传送辊伸出复位,然后在通过第三驱动机构3111带动第三安装架31121和其上的多个第三顶针本体31122向下移动复位,此时基板落在传送辊上,通过传送辊将基板送入下端的调温腔4。
如图2所示,预热腔2内设有加热灯管21,加热灯管21固定在预热腔2的下部,预热腔2内的传送辊位于加热灯管21的上侧,通过加热灯管21对基板进行预热这样能够降低基板在工艺腔3内的升温时间,进而提高生产效率。
本申请的一个实施例中,相连两个部件之间均设有门阀9,如装载台1和预热腔2之间设有门阀9,通过门阀9来实现装载台1与预热腔2之间的连通或断开,即门阀9打开时装载台1与预热腔2连通,装载台1上的基板能够传输装置输送至预热腔2内,而门阀9断开时装载台1与预热腔2之间断开,这样能够保证预热腔2内维持密闭真空状态;同理预热腔2与工艺腔3、工艺腔3与第二冷却腔6、第二冷却腔6和卸载台7之间也都设有门阀9。
其中第二冷却腔6用于降低从工艺腔3内出来的镀膜完成的基板的温度,防止基板直接进入外界大气中温度骤降,导致基板的性能出现缺陷。
如图6所示,采用本申请提供的镀膜系统进行镀膜的工艺,包括以下步骤:
S1,基板进入一个工艺腔内并进行镀膜;
S2,镀膜后的基板调温至下一个工艺腔对应的指定温度,调温后的基板进入下一个工艺腔内并进行镀膜,直至基板在最后一个工艺腔内完成镀膜。
本申请提供的镀膜工艺,采用多个工艺腔进行镀膜,能够支持对基板镀多个不同种类的膜层,以得到性能更好的具有复合膜层的基板;与现有的镀膜系统相比,本申请提供的镀膜系统在基板上制备多层膜层时基板不会从系统内取出,因此不会与外界大气接触破除真空并暴露大气,能够避免膜层与空气接触氧化,导致膜层内产生杂质,基板上的膜层质量更好;并且相邻两个工艺腔之间设有一个调温腔,通过调温腔调整玻璃基板的温度,使基板的温度满足下一个工艺腔制备温度的需求,减少了进入下一个反应腔中的温度调整时间,大大的提高了生产效率、提高产能。
本申请的一个实施例中,通过如下方式在工艺腔内对基板进行镀膜:基板通过传输装置运输到一个工艺腔内,工艺腔内设有第三匀热板和第三搬运装置,位于传输装置上的基板通过第三搬运装置搬运到此工艺腔内的第三匀热板上,对基板进行镀膜。
如图7所示,步骤S2具体包括如下子步骤:S2-1,镀膜后的基板通过传输装置运输至调温腔内进行调温,基板调整至下一工艺腔对应的指定温度后通过传输装置运送至下一个工艺腔内;S2-2,位于传输装置上的基板通过工艺腔内的第三搬运装置搬运到工艺腔内的第三匀热板上,对基板进行镀膜。
基板在工艺腔镀膜的具体过程为:基板被工艺腔内的第三顶针机构顶起,撤出传输装置上的传送辊,第三顶针机构复位,基板放置在第三匀热板上,工艺腔上部的喷淋机构喷出工艺气体,对基板进行镀膜;镀膜完成后第三顶针机构把基板顶起,传输装置上的传送辊伸出,第三顶针机构复位,基板被放置在传输装置的传送辊上。
具体的,基板进入工艺腔镀膜内时,先通过第三驱动机构带动第三安装架向上移动,进而带动位于第三安装架上的多个第三顶针本体穿过第三匀热板,多个第三顶针本体穿过传送辊上的缝隙抵靠在基板的下表面,多个第三顶针本体继续向上移动将基板顶起脱离传送辊的上表面,此时将传送辊从基板的下侧撤出,多个第三顶针本体对基板进行支撑,此时第三驱动机构带动第三安装架向下移动,带动第三顶针本体和基板向下移动直至第三顶针本体的上端缩进第三匀热板上的通孔中,此时基板就放置在第三匀热板上,通过第三匀热板对基板进行加热,直至基板加热至指定温度(工艺腔内镀膜所需温度);然后通过喷淋机构喷出工艺气体,对基板进行镀膜,其中喷淋机构为喷淋板,喷淋板通过管道与对应的气盒连通,将气盒内的工艺气体送入工艺腔内。镀膜完成后通过第三驱动机构带动第三安装架向上移动,多个第三顶针本体推动基板向上移动,直至基板升高至传送辊安装位置的上侧,此时将多个传送辊伸出复位,然后再通过第三驱动机构带动第三安装架和其上的多个第三顶针本体向下移动复位,此时基板落在传送辊上,通过传送辊将基板送入下端的调温腔或系统中的第二冷却腔。
下面以工艺腔设有两个且调温腔为加热腔为例来具体说明本申请实施例提供的镀膜工艺的工艺过程。
将玻璃基板放入装载台:人工或自动传输线将镀好CIGS薄膜的玻璃基板放到装载台上,再传输到预热腔;
玻璃基板在预热腔中预热:玻璃基板在预热腔中加热到预定温度后,通过传输装置将基板传输到第一工艺腔中;
在第一工艺腔中镀膜,第三顶针机构把玻璃基板顶起,传送辊撤出,第三顶针机构复位,玻璃基板放置在第三匀热板上,腔室上部的喷淋板喷出工艺气体,进行制备ZnO膜层的镀膜工艺,镀膜完成后第三顶针机构把玻璃基板顶起,传送辊伸出,第三顶针机构复位,基板将被传输到加热腔中。
玻璃基板在加热腔中再次加热,第一顶针机构把玻璃基板顶起,传送辊撤出,第一顶针机构复位,玻璃基板放置在第一匀热板上,将玻璃基板二次加热至工艺要求的制备BZO膜层温度。玻璃基板将被传输到第二工艺腔中;
在第二工艺腔中镀膜,第三顶针机构把玻璃基板顶起,传送辊撤出,第三顶针机构复位,玻璃基板放置在第三匀热板上,腔室上部的喷淋板喷出工艺气体,进行制备BZO膜层的镀膜工艺,镀膜完成后第三顶针机构把玻璃基板顶起,传送辊伸出,第三顶针机构复位,玻璃基板将被传输到冷却腔中。
玻璃基板在冷却腔中冷却并进行吹扫,镀完膜的玻璃基板冷却到一定的温度并进行过吹扫后,传入到卸载台中。
玻璃基板传到卸载台后,完成整个工艺流程。由人工或自动传输线将基片传递给生产线下游设备。
在本申请的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“连通”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接连通,也可以通过中间媒介间接连通,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。此外,在本申请的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
以上所述仅为本申请的较佳实施例,并不用以限制本申请,凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (12)

1.一种镀膜系统,其特征在于,所述镀膜系统包括:传输装置、多个工艺腔和相邻两个所述工艺腔之间设有的调温腔;
其中,所述传输装置配置为将基板运输至所述工艺腔和所述调温腔内;
每个所述工艺腔配置为通入各自对应的工艺气体以对所述基板进行镀膜;
所述调温腔配置为将镀膜后的基板调温至下一个工艺腔对应的指定温度。
2.根据权利要求1所述的镀膜系统,其特征在于:所述调温腔为加热腔或第一冷却腔。
3.根据权利要求2所述的镀膜系统,其特征在于:所述加热腔内设有第一匀热板和第一搬运装置,所述第一搬运装置用于将所述传输装置上的工件搬运到所述第一匀热板上,或将所述第一匀热板上的工件搬运到所述传输装置上。
4.根据权利要求3所述的镀膜系统,其特征在于:所述第一搬运装置包括第一顶针机构和第一驱动机构,所述第一匀热板安装在所述加热腔的下部,所述第一顶针机构包括第一安装架和竖直安装在所述第一安装架上的多个第一顶针本体,多个所述第一顶针本体由下至上穿过所述第一匀热板;
所述第一驱动机构与所述第一安装架相连,以带动所述第一安装架上下移动;
位于所述加热腔内的传输装置设置在所述第一匀热板的上侧。
5.根据权利要求2所述的镀膜系统,其特征在于:所述第一冷却腔内设有第二匀热板和第二搬运装置,所述第二搬运装置用于将所述传输装置上的工件搬运到所述第二匀热板上,或将所述第二匀热板上的工件搬运到所述传输装置上。
6.根据权利要求5所述的镀膜系统,其特征在于:所述第二搬运装置包括第二顶针机构和第二驱动机构,所述第二匀热板安装在所述第一冷却腔的下部,所述第二顶针机构包括第二安装架和竖直安装在所述第二安装架上的多个第二顶针本体,多个所述第二顶针本体由下至上穿过所述第二匀热板;
所述第二驱动机构与所述第二安装架相连,以带动所述第二安装架上下移动;
位于所述第一冷却腔内的传输装置设置在所述第二匀热板的上侧。
7.根据权利要求1所述的镀膜系统,其特征在于:所述工艺腔内设有第三匀热板和第三搬运装置,所述第三搬运装置用于将所述传输装置上的工件搬运到所述第三匀热板上,或将所述第三匀热板上的工件搬运到所述传输装置上。
8.根据权利要求7所述的镀膜系统,其特征在于:所述第三搬运装置包括第三顶针机构和第三驱动机构,所述第三匀热板安装在所述工艺腔的下部,所述第三顶针机构包括第三安装架和竖直安装在所述第三安装架上的多个第三顶针本体,多个所述第三顶针本体由下至上穿过所述第三匀热板;
所述第三驱动机构与所述第三安装架相连,以带动所述第三安装架上下移动;
位于所述工艺腔内的传输装置设置在所述第三匀热板的上侧。
9.根据权利要求7所述的镀膜系统,其特征在于:所述工艺腔内还设有喷淋机构,所述喷淋机构固定在所述第三匀热板的上侧,并与所述工艺腔外部的气源连通。
10.根据权利要求1至9任一项所述的镀膜系统,其特征在于:所述传输装置包括多个水平设置的传送辊,多个所述传送辊相互平行并同步转动。
11.根据权利要求10所述的镀膜系统,其特征在于:还包括装载台、预热腔、第二冷却腔和卸载台,所述传输装置依次通过装载台、预热腔、工艺腔、第二冷却腔和卸载台。
12.根据权利要求11所述的镀膜系统,其特征在于:所述预热腔内设有加热灯管,所述加热灯管固定在所述预热腔的下部,所述预热腔内的传送辊位于所述加热灯管的上侧。
CN201821116044.0U 2018-07-13 2018-07-13 一种镀膜系统 Active CN208649462U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201821116044.0U CN208649462U (zh) 2018-07-13 2018-07-13 一种镀膜系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201821116044.0U CN208649462U (zh) 2018-07-13 2018-07-13 一种镀膜系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN208649462U true CN208649462U (zh) 2019-03-26

Family

ID=65784860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201821116044.0U Active CN208649462U (zh) 2018-07-13 2018-07-13 一种镀膜系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN208649462U (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108642478A (zh) * 2018-07-13 2018-10-12 君泰创新(北京)科技有限公司 一种镀膜系统及镀膜工艺
CN115323344A (zh) * 2022-08-09 2022-11-11 通威太阳能(安徽)有限公司 太阳电池及其生产设备、铜种子层镀膜工艺及镀膜装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108642478A (zh) * 2018-07-13 2018-10-12 君泰创新(北京)科技有限公司 一种镀膜系统及镀膜工艺
CN115323344A (zh) * 2022-08-09 2022-11-11 通威太阳能(安徽)有限公司 太阳电池及其生产设备、铜种子层镀膜工艺及镀膜装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108642478A (zh) 一种镀膜系统及镀膜工艺
TWI425114B (zh) 串列式真空處理設備及用於在其中處理基板之方法
WO2022027994A1 (zh) 镀膜设备、方法、系统及太阳能电池、组件、发电系统
CN208649462U (zh) 一种镀膜系统
US20190315579A1 (en) Transfer device and transfer method
CN101845621A (zh) 大面积平板式等离子体增强化学气相沉积系统
WO2021218760A1 (zh) 传送载板、真空镀膜设备及真空镀膜方法
CN202481732U (zh) 一种外传输校正系统
US20140165910A1 (en) Apparatus for large-area atomic layer deposition
CN103155119A (zh) 批处理式基板处理装置
CN111138095A (zh) 一步法真空玻璃合片生产线
KR101044772B1 (ko) 대면적 하향식 cigs 고속성막공정 시스템 및 방법
CN102062529B (zh) 一种无网带硅电池片烧结炉
CN206742216U (zh) 基板传送装置及包含该基板传送装置的基板处理系统
US11114581B2 (en) Method for producing solar cell module
CN117305772A (zh) 一种单腔多层膜蒸镀系统及方法
CN202543323U (zh) 一种lpcvd预热腔控温系统
CN111235552A (zh) 一种预热型管式pecvd设备及其控制方法
CN104078384A (zh) 直列式热处理装置
CN102296285A (zh) 一种线列式有机金属化合物气相淀积系统及方法
WO2012029493A1 (ja) ラミネート装置及びラミネート方法
CN213013087U (zh) 托盘预热腔及对应的pecvd设备
CN212770954U (zh) 一种预热型管式pecvd设备
CN111016381B (zh) 一种多层曲面组件专用的层压装置
CN108666231A (zh) 基板处理系统、基板传送装置和传送方法

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20210118

Address after: 101149 102-lq307, 1-3 / F, building 26, No. 17, huanke Middle Road, Jinqiao Science and technology industrial base, Tongzhou Park, Zhongguancun Science and Technology Park, Tongzhou District, Beijing

Patentee after: Deyun Chuangxin (Beijing) Technology Co.,Ltd.

Address before: 100176 10th floor, building 2, yard 9, Ronghua South Road, Yizhuang Economic and Technological Development Zone, Daxing District, Beijing

Patentee before: Juntai innovation (Beijing) Technology Co.,Ltd.

TR01 Transfer of patent right