CN201729483U - 输送装置的磁性导正机构 - Google Patents

Abstract

一种输送装置的磁性导正机构，其输送装置具有一承载工具，此承载工具以直立方式被多个滚轮输送前进。磁性导正机构具有一滑座及一轨道，并使滑座与承载工具相互连接，且滑座内部设置有至少一第一磁性组件。而轨道则具有二彼此相对的槽状框件，以供滑座置入二槽状框件之间且相隔一距离。此二槽状框件内部分别设置有一第二磁性组件及一第三磁性组件，借由第二磁性组件与第三磁性组件分别相斥于第一磁性组件，令滑座非接触式的于轨道内移动，以提供更佳的输送稳定性与更长的使用寿命。

Description

输送装置的磁性导正机构

技术领域

本新型涉及一种输送装置，特别涉及一种输送装置的磁性导正机构。

背景技术

连续输送装置被广泛的运用在许多领域中，特别被应用至需要连续加工的工艺。以运用在半导体制造业、光电业、电子业等的溅镀技术工艺为例，为了提高镀膜产品的竞争力、降低设备与操作成本、缩短周期时间(cycle time)、提高产能效率以及提升镀膜质量与产品良率，连续式(in-line)多腔体(multi-chambers)真空溅镀设备便从其它溅镀设备中脱颖而出。此连续式多腔体真空溅镀设备其特点便是使用一连续输送装置。连续式真空溅镀设备通常包含一入料腔体、一镀膜腔体、一出料腔体以及一连续输送装置，其中入料腔体以及出料腔体的真空度低于镀膜腔体的真空度。待加工的一基板是借由连续输送装置一片接一片地连续输入或输出上述腔体，并在腔体内进行溅镀加工的动作。

连续式多腔体真空溅镀设备中，最常使用的便是一直立式连续输送装置。一般的直立式连续输送装置是由一滑轨、一滑块、一承载工具以及多个滚轮所组成。其搭配方式如下：承载工具的一上缘与滑块接合，而滑块则置于滑轨内。滚轮置于承载工具的一下缘，目的是提供动力使承载工具能往前进。当承载工具往前进时，便会因承载工具与滑块间的结合，而连带使承载工具顺着滑轨的一轨道移动。

但是，以往的现有技术会有滑块与滑轨间磨擦干涉以及偏移的问题存在。原因在于滑块与滑轨之间的搭配是接触式的，所以滑块与滑轨间必须要有适当的一间隙才能使滑块顺利在滑轨上移动。然而连续式多腔体真空溅镀设备的每个腔体的温度均不同，并且每个腔体内的温度分部亦不平均。而滑块与滑轨间的运动皆在上述腔体内进行，因此滑块与滑轨在冷缩热胀下，滑块与滑轨间的间隙便会有大有小。滑块与与滑轨间的间隙太大时，此间隙会造成滑块在运行中偏移，而滑块的偏移会连带使承载工具在输送上也产生偏移；滑块与滑轨间的间隙太小，便会造成滑块与滑轨间的磨擦与干涉，损耗输送装置的寿命。

实用新型内容

鉴于以上的问题，本实用新型的目的在于提供一种输送装置的磁性导正机构，借以解决现有技术所存在滑轨与滑块间偏移与磨擦干涉的问题。

本实用新型所揭露的输送装置的磁性导正机构，其输送装置具有一承载工具，此承载工具被多个滚轮输送前进。而磁性导正机构包含一滑座及一轨道。其中，滑座连接于承载工具的一侧边，并于滑座内部设置有至少一第一磁性组件。轨道具有二彼此相对的槽状框件，并使滑座位于二槽状框件之间且相隔一距离，此二槽状框件内部分别设置有至少一第二磁性组件及至少一第三磁性组件。当滑座相对于轨道移动时，使其第二磁性组件与第三磁性组件分别相斥于第一磁性组件，令滑座非接触于二槽状框件。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中二槽状框件分别具有一沟槽，各沟槽分别用以承载第二磁性组件与第三磁性组件。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中滑座具有一凹陷，凹陷位于滑座内部中央。凹陷用来承载容纳第一磁性组件。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中该磁性导正机构具有一垂直轴向，该承载工具沿着该垂直轴向设置在该多个滚轮上，该承载工具与该多个滚轮之间保持一垂直角度。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中该磁性导正机构具有一垂直轴向，该承载工具沿一倾斜轴向设置在该多个滚轮上，该承载工具沿着该倾斜轴向与该垂直轴向之间保持一倾斜角度，该倾斜角度小于15°。

本实用新型所还揭露另一实施例的输送装置的磁性导正机构，其输送装置具有一承载工具，此承载工具被多个滚轮输送前进。而磁性导正机构包含一滑座、一轨道及一磁性控制设备。其中，滑座连接于承载工具的一侧边，并于滑座内部设置有至少一第一磁性组件。轨道具有二彼此相对的槽状框件，并使滑座位于二槽状框件之间且相隔一距离，此二槽状框件内部分别设置有至少一第二磁性组件及至少一第三磁性组件。磁性控制设备分别电性连接于第二磁性组件和第三磁性组件。

当滑座相对于轨道移动时，第二磁性组件与第三磁性组件分别相斥于第一磁性组件，并借由磁性控制设备调整第二磁性组件和第三磁性组件的相斥力，令滑座恒保持在二槽状框件的中间位置。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中该二槽状框件分别具有一沟槽，各该沟槽分别用以承载该第二磁性组件与该第三磁性组件。

在本实用新型所揭露的一实施例，其中该滑座具有一凹陷，该凹陷位于该滑座内部中央，该凹陷用以承载该第一磁性组件。

在本实用新型所揭露的一实施例，磁性导正机构还包括一光发射器及一感应芯片。光发射器用以发出一光束，使其光束与承载工具的一轨道路径相互平行。感应芯片设置在承载工具，并且感应芯片与磁性控制设备相互电性连接。当感应芯片接收光发射器所发出的光束时，感应芯片可检测光束与轨道路径之间的偏移量，使得感应芯片依据偏移量发出一信号至磁性控制设备，令磁性控制设备调整第二磁性组件和第三磁性组件的相斥力。

根据上述本实用新型所揭露的实施例，由于滑座与轨道间借由磁力相斥，故不会互相接触。且滑座与轨道因互不接触，滑座与轨道不被外在的热胀冷缩环境所影响，并能使滑座位于轨道两侧边的中央而不易有偏移。因此综合上述，本实用新型所揭露的实施例可以避免滑座与轨道间的磨擦，增加输送装置使用的寿命；并且克服滑座偏移以及现有技术因摩擦所产生的微尘所造成的产品瑕疵的问题，并提升输送上的稳定性。另外，本实用新型所揭露的实施例中若轨道两侧的磁性组件为电磁铁，且再搭配磁控导正设备，本实用新型所揭露的实施例便可以控制磁力大小，使滑座恒保持于轨道的中央。如此一来可使输送上的稳定性更加提升。

以下结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细描述，但不作为对本实用新型的限定。

附图说明

图1为根据本实用新型一实施例的输送装置的磁性导正机构的概要结构图；

图2为说明图1的轨道与滑座的局部详细结构图；

图3为说明于图2中的滑座的概要分解图；

图4为说明于图1中一实施例的轨道与滑座的剖面图；

图5为说明于图1中另一实施例的轨道与滑座的剖面图；以及

图6为搭配图1的直立式连续输送装置的磁性导正机构的额外配备的磁控导正设备的连结示意图。

其中，附图标记

100  磁性导正机构

110  轨道

112  第一槽状框件

114  第二槽状框件

116  沟槽

120  滑座

122  凹陷

124  上盖

126  滑座下壳

129  距离

130  第一磁性组件

140  第二磁性组件

150  第三磁性组件

160  滚轮

170  承载工具

180  磁控导正设备

182  感应晶

184  光发射器

186  磁性控制设备

188  光束

500  倾斜角度

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的结构原理和工作原理作具体的描述：

请参照图1、图2与图3，其为根据本实用新型一实施例的输送装置的磁性导正机构100。其磁性导正机构100包含一轨道110、一滑座120、多个第一磁性组件130、多个第二磁性组件140及多个第三磁性组件150。接着参照图2，其中上述轨道110具有彼此相对的一第一槽状框件112与一第二槽状框件114，第一槽状框件112与第二槽状框件114分别具有一沟槽116。这些沟槽116分别用来承载第二磁性组件140与第三磁性组件150。

请参照图2，滑座120置于轨道110的第一槽状框件112与第二槽状框件114之间。且滑座120分别与该第一槽状框件112与该第二槽状框件114相隔一距离129，也就是滑座120与轨道110之间不互相接触。请参照图3，滑座120包含一上盖124以及一底座126，其中底座126具有一凹陷122。凹陷122被上盖124覆盖。凹陷122用来承载第一磁性组件130，使第一磁性组件130位于滑座120内部中央。

参照图2以及图3，第一磁性组件130固定于滑座120内；第二磁性组件140固定于第一槽状框件112的沟槽116内；第三磁性组件150固定于第二槽状框件114的沟槽116内。且此三种磁性组件的磁力相对关系为第二磁性组件140与第一磁性组件130相斥，并且第三磁性组件150与第一磁性组件130也相斥。另外，第一磁性组件130、第二磁性组件140以及第三磁性组件150可以是一永久磁铁。

此外，由图1所示，滑座120连接固定于一承载工具170上缘，而承载工具170下缘则与多个滚轮160接触。滚轮160可提供一动力并且带动承载工具170形成一垂直移动。并使承载工具170带动滑座120一起移动。而滑座120则顺着轨道110的轨道移动，并借由滑座120内部的第一磁性组件130分别与轨道110的第一槽状框件112与第二槽状框件114的第二磁性组件140及第三磁性组件150相斥，使滑座120不与轨道110接触。如此一来便可免去现有技术存在滑轨容易产生摩擦的问题。并且由于滑座120会保持位于轨道110的两槽状框件112、114中央，故本实施例不会因轨道110的冷缩热胀变形而使轨道110与滑座120间的间隙大小有所影响。如此一来也可免去现有技术存在因滑轨与滑块之间产生偏移，而导致滑轨与滑块之间容易产生摩擦甚至卡止等问题。

接着参照图4为图1中输送装置的磁性导正机构100的侧向剖面图，并由图可知滑座120分别于轨道110的第一槽状框件112与第二槽状框件114保持一距离129，亦即滑座120非接触于轨道110。且其中磁性导正机构100具有一垂直轴向，并使承载工具170沿着垂直轴向设置在多滚轮160上，以使承载工具170与多滚轮160之间保持一垂直角度。

参照图5为图1中输送装置的磁性导正机构100的另一实施例的侧向剖面图，并由图可知滑座120分别于轨道110的第一槽状框件112与第二槽状框件114保持一距离129，亦即滑座120非接触于轨道110。且其中磁性导正机构100具有一垂直轴向，并使承载工具170沿着一倾斜轴向设置在多滚轮160上，以使承载工具170沿着倾斜轴向与垂直轴向之间保持一倾斜角度500。其中倾斜角度500至少小于15°，最佳角度约可为7°～10°之间。

另外上述的第二磁性组件140以及第三磁性组件150除了可以是永久磁铁外亦可以为电磁铁。当第二磁性组件140以及第三磁性组件150是电磁铁时，磁性导正机构100可以额外搭配一磁控导正设备180。此磁控导正设备180用来控制电磁铁的磁力大小，以提升承载工具170输送上的稳定性。请参照图6，此磁控导正设备180包含一光发射器184、一感应芯片182以及一磁性控制设备186。其中光发射器184可发射一光束188，且光束188与承载工具170的轨道路径相互平行。另外感应芯片182置于承载工具170上，且位于光束188的一路径上。当光束188打在感应芯片182上会形成一光点，而感应芯片182则可检测此光点在承载工具170输送途中是否有一偏移量，并将此偏移量转换为一信号。另外，磁性控制设备186则分别连结第二磁性组件140和第三磁性组件150，且磁性控制设备186另与感应芯片182连接。当承载工具170于输送途中有偏移时，于承载工具170上的感应芯片182上的光点便会发生偏移。此时感应芯片182检测到光点的偏移量，便使偏移量转换为信号，并使信号传送至磁性控制设备186。磁性控制设备186针对接收到的信号调整第二磁性组件140和第三磁性组件150对滑座120相斥的磁力大小，使滑座120可以恒保持轨道110的两槽状框件的中央。如此一来，可以使输送过程中的稳定度大大提升。

根据上述本实用新型所揭露的实施例，由于滑座与轨道间借由磁力相斥，故不会互相接触。且滑座与轨道因互不接触，滑座与轨道不被外在的热胀冷缩环境所影响，并能使滑座位于轨道两侧边的中央而不易有偏移。因此综合上述，本实用新型所揭露的实施例可以避免滑座与轨道间的磨擦，增加输送装置使用的寿命；并且克服滑座偏移以及现有技术因摩擦所产生的微尘所造成的产品瑕疵的问题，并提升输送上的稳定性。另外，本实用新型所揭露的实施例中若轨道两侧的磁性组件为电磁铁，且再搭配磁控导正设备，本实用新型所揭露的实施例便可以控制磁力大小，使滑座恒保持于轨道的中央。如此一来可使输送上的稳定性更加提升。

当然，本实用新型还可有其它多种实施例，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种输送装置的磁性导正机构，该输送装置具有一承载工具，该承载工具被多个滚轮输送前进，其特征在于，该磁性导正机构包含：

一滑座，连接于该承载工具的一侧边，该滑座内部设置有至少一第一磁性组件；以及

一轨道，具有二彼此相对的槽状框件，该滑座位于该二槽状框件之间且相隔一距离，该二槽状框件内部分别设置有至少一第二磁性组件及至少一第三磁性组件；

其中，该第二磁性组件、该第三磁性组件的磁性为分别与该第一磁性组件的磁性相斥。

2.根据权利要求1所述的输送装置的磁性导正机构，其特征在于，该二槽状框件分别具有一沟槽，各该沟槽分别用以承载该第二磁性组件与该第三磁性组件。

3.根据权利要求1所述的输送装置的磁性导正机构，其特征在于，该滑座具有一凹陷，该凹陷位于该滑座内部中央，该凹陷用以承载该第一磁性组件。

4.根据权利要求1所述的输送装置的磁性导正机构，其特征在于，该磁性导正机构具有一垂直轴向，该承载工具沿着该垂直轴向设置在该多个滚轮上，该承载工具与该多个滚轮之间保持一垂直角度。

5.根据权利要求1所述的输送装置的磁性导正机构，其特征在于，该磁性导正机构具有一垂直轴向，该承载工具沿一倾斜轴向设置在该多个滚轮上，该承载工具沿着该倾斜轴向与该垂直轴向之间保持一倾斜角度，该倾斜角度小于15°。

6.一种输送装置的磁性导正机构，该输送装置具有一承载工具，该承载工具被多个滚轮输送前进，其特征在于，该磁性导正机构包含：

一滑座，连接于该承载工具的一侧边，该滑座内部设置有至少一第一磁性组件；

一轨道，具有二彼此相对的槽状框件，该滑座位于该二槽状框件之间且相隔一距离，该二槽状框件内部分别设置有至少一第二磁性组件及至少一第三磁性组件；以及

一磁性控制设备，分别电性连接于该第二磁性组件和该第三磁性组件；

其中，该第二磁性组件、该第三磁性组件的磁性为分别与该第一磁性组件的磁性相斥，并借由该磁性控制设备调整该第二磁性组件和该第三磁性组件的相斥力，令该滑座恒保持在该二槽状框件的中间位置。

7.根据权利要求6所述的输送装置的磁性导正机构，其特征在于，该二槽状框件分别具有一沟槽，各该沟槽分别用以承载该第二磁性组件与该第三磁性组件。

8.根据权利要求6所述的输送装置的磁性导正机构，其特征在于，该滑座具有一凹陷，该凹陷位于该滑座内部中央，该凹陷用以承载该第一磁性组件。

9.根据权利要求6所述的输送装置的磁性导正机构，其特征在于，该磁性导正机构还包括：

用以发出与该承载工具的一轨道路径相互平行的光束的一光发射器；以及

一感应芯片，设置在该承载工具，并且该感应芯片与该磁性控制设备相互电性连接；

其中，该感应芯片为用于接收该光发射器所发出的该光束，并且检测该光束与该轨道路径之间的偏移量的感应芯片，该感应芯片依据该偏移量发出令该磁性控制设备调整该第二磁性组件和该第三磁性组件的相斥力的一信号至该磁性控设备制。

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