CN201618588U - 一种新型立式磨粉装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种新型立式磨粉装置,其机架(1)上设有主磨电机(2)、底盘(3)、磨体(4)、主磨轴(13),磨体(4)上设有喂料口(18)、进风口(19),主磨电机(2)连接主磨轴(13),主磨轴(13)连接磨盘(11),磨盘(11)上设粉碎销(6),出粉管(8)连接出粉口(17)、副磨电机(16),副磨电机(16)连接分级叶轮(9),磨体(4)连接磨盖(7),磨盖(7)通过减速机(14)连接磨盖开启电机(15),磨体(4)内设有回流圈(10),其特征在于磨体(4)内侧设有主齿圈(5),回流圈(10)外侧设有副齿圈(5’),本实用新型粉碎效率高,粒度分布好,粒度的几何形状理想,被粉碎的物料温度较低,单位时间内的产量较高。

Description

一种新型立式磨粉装置
技术领域:
本实用新型涉及一种新型立式磨粉装置,属于静电粉末设备中立式磨粉机技术领域。
背景技术:
目前,已有的立式磨粉装置,物料进入喂料口后,从齿圈中的进料孔进入磨腔,且为单齿圈,单位时间内粉碎效率低,粒度分布较差,粒度的几何形状不理想,粉碎效率低。
实用新型内容:
本实用新型的目的在于克服上述已有技术的不足而提供一种粉碎效率高,粒度分布好,粒度的几何形状理想,被粉碎的物料温度较低,单位时间内的产量较高的一种新型立式磨粉装置。
本实用新型的目的可以通过如下措施来达到:一种新型立式磨粉装置,它具有机架,机架上设有主磨电机、底盘,底盘连接磨体,磨体上设有喂料口、进风口,底盘和磨体通过轴承座连接主磨轴,主磨轴的下端连接主磨电机,上端连接磨盘,磨盘设在磨体内,磨盘上设有均匀分布的粉碎销,磨体连接磨盖,磨盖上设有出粉管,出粉管连接出粉口,出粉管上设有副磨电机,副磨电机与磨体内的分级叶轮相连,磨盖通过减速机连接磨盖开启电机,磨体内设有回流圈,其特征在于磨体内侧设有主齿圈,回流圈外侧设有副齿圈。
为了进一步实现本实用新型的目的,所述的喂料口设在主齿圈和副齿圈的上方。
本实用新型同已有技术相比可产生如下积极效果:本实用新型物料进入喂料口后,从齿圈的上方进入磨腔,且有两个齿圈,一个主齿圈,一个副齿圈,单位时间内粉碎效率高,粒度分布好,粒度的几何形状理想,被粉碎的物料温度较低,单位时间内的产量较高。
附图说明:
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的主磨部分的结构示意图。
具体实施方式:下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作详细说明:
实施例:一种新型立式磨粉装置(参见图1-图2),它具有机架1,机架1上设有主磨电机2、底盘3,底盘3连接磨体4,底盘3和磨体4通过轴承座12连接主磨轴13,主磨轴13的下端连接主磨电机2,上端连接磨盘11,磨盘11设在磨体4内,磨盘11上设有均匀分布的粉碎销6,磨体4内设有回流圈10,磨体4内侧设有主齿圈5,回流圈10外侧设有副齿圈5’,磨体4的一侧上部设有喂料口18,另一侧下部设有进风口19,喂料口18设在主齿圈5和副齿圈5’的上方,磨体4连接磨盖7,磨盖7上设有出粉管8,出粉管8连接出粉口17,出粉管8连接副磨电机16(又称分级电机),副磨电机16与磨体4内的分级叶轮9相连。磨盖7通过减速机14连接磨盖开启电机15。
物料由喂料口18在主齿圈5和副齿圈5’的上方进入磨腔内,均布在磨盘11外缘圆周上的粉碎销6,随磨盘11作圆周高速运动,撞击物料,同时,高速旋转的磨盘11产生的风量,与立式磨粉装置所连接的旋风分离装置的引风机产生的风量形成强旋风,作用于物料,使物料与物料,物料与粉碎销,物料与齿圈之间强烈碰撞,剪切摩擦和粉碎研磨物料,形成粉粒。在引风机引风风力和同向旋转的分级叶轮9风力的联合作用下,处于不同位置和粗细不等的粉粒,以不同的速度流向分级叶轮,穿越叶片间隙,由出粉口17进入旋风分离器和回收装置。

Claims (2)

1.一种新型立式磨粉装置,它具有机架(1),机架(1)上设有主磨电机(2)、底盘(3),底盘(3)连接磨体(4),磨体(4)上设有喂料口(18)、进风口(19),底盘(3)和磨体(4)通过轴承座(12)连接主磨轴(13),主磨轴(13)的下端连接主磨电机(2),上端连接磨盘(11),磨盘(11)设在磨体(4)内,磨盘(11)上设有均匀分布的粉碎销(6),磨体(4)连接磨盖(7),磨盖(7)上设有出粉管(8),出粉管(8)连接出粉口(17),出粉管(8)上设有副磨电机(16),副磨电机(16)与磨体(4)内的分级叶轮(9)相连,磨盖(7)通过减速机(14)连接磨盖开启电机(15),磨体(4)内设有回流圈(10),其特征在于磨体(4)内侧设有主齿圈(5),回流圈(10)外侧设有副齿圈(5’)。
2.根据权利要求1所述的一种新型立式磨粉装置,其特征在于所述的喂料口(18)设在主齿圈(5)和副齿圈(5’)的上方。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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