CN201309893Y - 高透过率触摸屏用透明导电玻璃 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种高透过率触摸屏用透明导电玻璃，它包括玻璃基片，在玻璃基片的一面上依次镀加有五氧化二铌膜、二氧化硅膜和铟锡氧化物半导体透明导电膜。在玻璃基片的另外一面依次镀加有五氧化二铌膜和二氧化硅膜。本实用新型的高透过率触摸屏用透明导电玻璃的三层膜的产品指标：透过率大于93％，电阻率为：1*E－4Ω.cm，ITO薄膜均匀性±5％；五层膜的产品的指标：透过率大于98％，电阻率为：1*E－4Ω.cm，ITO薄膜均匀性±5％，相比现有二层膜的产品指标：透过率大于91％，电阻率为：1*E－4Ω.cm，ITO薄膜均匀性±7％，在透过率和ITO薄膜均匀性上均有明显改善。

Description

高透过率触摸屏用透明导电玻璃
技术领域
本实用新型涉及一种玻璃，尤其是一种高透过率触摸屏用透明导电玻璃。
背景技术
触摸屏主要应用于手机、GPS等终端设备上时，对显示出来的画面质量有较大的影响。目前市场上主要的触摸屏用导电玻璃主要是两层膜结构，如图1所示，在玻璃基片1上镀制有二氧化硅膜(SiO2)3a和铟锡氧化物半导体透明导电膜(ITO)4，这种导电玻璃的光线透过率较低，只能达到80％～81％，清晰度较低。通常为了提高显示清晰度就必须要提高液晶显示器本身的发光亮度，而提高发光亮度一方面增加了液晶显示器的功耗，另外一方面严重缩短了液晶显示器的背光源寿命。
发明内容
发明目的：针对目前触摸屏的光线透过率不高的现象，提供一种高透过率的透明导电玻璃作为制作触摸屏用的导电电极，来提高触摸屏的可见光光线透过率，使得液晶显示器显示更加清晰，降低能源消耗。
技术方案：为解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案如下：
一种高透过率触摸屏用透明导电玻璃，它包括玻璃基片，在玻璃基片的一面上依次镀加有五氧化二铌膜、二氧化硅膜和铟锡氧化物半导体透明导电膜。
在玻璃基片的另外一面依次镀加有五氧化二铌膜和二氧化硅膜。
所述的二氧化硅膜的厚度为10至40nm，五氧化二铌膜膜层厚度范围为40至80nm。
利用不同介质薄膜在特定厚度的光学折射率不同来进行叠加，形成光学干涉效果，最终使得光学透过率增加，显得更加透明。
在电磁光谱可见部分，普通的平板玻璃(折射率n＝1.515)大约反射8.4％入射光(从前面反射4.2％以及从后面反射4.2％)，这种反射在触摸屏的应用中，使得可见光透过率下降很多，只能达到80％，但是当光线通过由不同折射率的薄膜所形成的多层复合膜时，利用透明介质膜层的光学折射率的不同来形成光学干涉效果，而最终获得减反射(AR)效应，使得可见光的光学透过率增加。
有益效果：本实用新型的高透过率触摸屏用透明导电玻璃的三层膜的产品指标：透过率大于93％，电阻率为：1*E-4Ω.cm，ITO薄膜均匀性±5％；五层膜的产品的指标：透过率大于98％，电阻率为：1*E-4Ω.cm，ITO薄膜均匀性±5％，相比现有二层膜的产品指标：透过率大于91％，电阻率为：1*E-4Ω.cm，ITO薄膜均匀性±7％，在透过率和ITO薄膜均匀性上均有明显改善。采用这种高透过率的导电玻璃作为触摸屏的导电电极，能显著地提高液晶显示器可见光透过率，提高液晶显示器的显示清晰度，降低了背光源的功耗，提高了寿命，具有绿色环保效果。
附图说明
图1为现有触摸屏用导电玻璃的结构示意图。
图2为本实用新型三层膜的结构示意图。
图3为本实用新型五层膜的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做更进一部的解释。
如图2所示，在超薄玻璃基片1上，用磁控中频反应溅射的方法，在玻璃基片1的一面先镀制五氧化二铌膜(Nb2O5)2a和二氧化硅膜(SiO2)3a，然后再采用直流反应溅射工艺镀制铟锡氧化物半导体透明导电膜(ITO)4，三层膜的结构有效地提高了玻璃基片的光学透过率，并降低了玻璃基片的光学反射率，防止玻璃眩光的产生。为了进一步提高其透过率，如图3所示，在玻璃基片1的另一面，用同样的方法，镀加五氧化二铌膜(Nb2O5)2b和二氧化硅膜(SiO2)3b，即制成五层膜的结构，进一步提高其性能。所述的五氧化二铌膜(Nb2O5)2a、2b也可以用二氧化钛膜(TiO2)、氮化硅(Si3N4)、三氧化二铝(Al2O3)等代替，所述的五氧化二铌膜2a和2b或二氧化钛膜(TiO2)、氮化硅(Si3N4)、三氧化二铝(Al2O3)的膜层厚度范围为40至80nm，二氧化硅膜3a和3b的膜层厚度为10至40nm。

Claims (3)

1、一种高透过率触摸屏用透明导电玻璃，它包括玻璃基片(1)，其特征在于：在玻璃基片(1)的一面上依次镀加有五氧化二铌膜(2a)、二氧化硅膜(3a)和铟锡氧化物半导体透明导电膜(4)。
2、根据权利要求1所述的高透过率触摸屏用透明导电玻璃，其特征在于：在玻璃基片(1)的另外一面依次镀加有五氧化二铌膜(2b)和二氧化硅膜(3b)。
3、根据权利要求1或2所述的高透过率触摸屏用透明导电玻璃，其特征在于：所述的五氧化二铌膜(2a)和(2b)的膜层厚度为40至80nm，二氧化硅膜(3a)和(3b)的膜层厚度为10至40nm。
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