CN102909918A - 双面镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种双面镀膜玻璃及其制备方法。该双面镀膜玻璃，包括玻璃基板，在玻璃基板的一面设有第一增透膜层，在玻璃基板的另一面依次层叠有第二增透膜层及ITO膜层；其中，第一增透膜层包括依次层叠于玻璃基板一面上的第一Nb2O5膜层、第一SiO2膜层、第二Nb2O5膜层及第二SiO2膜层；第二增透膜层包括依次层叠于玻璃基板另一面上的第三Nb2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Nb2O5膜层及第四SiO2膜层。上述双面镀膜玻璃，根据Nb2O5、SiO2材料的折射率，利用光的波动性和干涉原理，设计出提高双面镀膜玻璃透过率的膜系；该双面镀膜玻璃不容易老化泛黄，光反射小，透过率高，画面图像清晰，对紫外线和红外线部分有一定的防护作用，能够更好地应用到市场。

Description

双面镀膜玻璃及其制备方法
技术领域
本发明涉及玻璃工艺领域，特别是涉及一种双面镀膜玻璃及其制备方法。
背景技术
目前大部分液晶显示用玻璃镀膜产品所镀的膜层为SiO2+ITO膜层，这样镀膜出来的产品，在550nm处透过率约为90%，镀膜前后透过率的比值为97%左右，视觉效果较差，大部分液晶显示用玻璃厂家都可以做到这种质量的触摸屏产品，由于技术指标较低，在日益激烈的触摸屏行业竞争处于越来越不利的地位，随着人们对视觉品质的不断追求，生产更高透过率的触摸屏产品将拥有更大得市场。
发明内容
基于此，有必要提供一种透过率较高的双面镀膜玻璃及其制备方法。
一种双面镀膜玻璃，包括玻璃基板，在所述玻璃基板的一面设有第一增透膜层，在所述玻璃基板的另一面依次层叠有第二增透膜层及ITO膜层；
其中，所述第一增透膜层包括依次层叠于所述玻璃基板一面上的第一Nb2O5膜层、第一SiO2膜层、第二Nb2O5膜层及第二SiO2膜层；
所述第二增透膜层包括依次层叠于所述玻璃基板另一面上的第三Nb2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Nb2O5膜层及第四SiO2膜层。
在其中一个实施例中，所述玻璃基板为TFT玻璃。
在其中一个实施例中，所述TFT玻璃的厚度为0.2mm~1mm。
在其中一个实施例中，所述第一Nb2O5膜层及所述第三Nb2O5膜层的厚度为12nm～14nm；所述第二Nb2O5膜层及所述第四Nb2O5膜层的厚度为110nm~114nm。
在其中一个实施例中，所述第一SiO2膜层及所述第三SiO2膜层的厚度为30nm~34nm；所述第二SiO2膜层的厚度为83nm~86nm；所述第四SiO2膜层的厚度为54nm~57nm。
在其中一个实施例中，所述ITO膜层的厚度为12nm~16nm。
一种双面镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：
采用磁控溅射镀膜的方法，在玻璃基板的一面上依次形成第一Nb2O5膜层、第一SiO2膜层、第二Nb2O5膜层及第二SiO2膜层，以形成第一增透膜层；
采用磁控溅射镀膜的方法，在玻璃基板的另一面上依次形成第三Nb2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Nb2O5膜层及第四SiO2膜层，以形成第二增透膜层；及
采用磁控溅射镀膜的方法，在所述第二增透膜层上形成ITO膜层，即得双面镀膜玻璃。
在其中一个实施例中，所述第一Nb2O5膜层及所述第三Nb2O5膜层的厚度为12nm~14nm；所述第二Nb2O5膜层及所述第四Nb2O5膜层的厚度为110nm~114nm；所述第一SiO2膜层及所述第三SiO2膜层的厚度为30nm~34nm；所述第二SiO2膜层的厚度为83nm~86nm；所述第四SiO2膜层的厚度为54nm~57nm；所述ITO膜层的厚度为12nm~16nm。
在其中一个实施例中，所述第一增透膜层及所述第二增透膜层的磁控溅射镀膜工艺包括：将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向所述镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.4Pa~0.6Pa，在室温下进行镀膜。
在其中一个实施例中，所述ITO膜层的磁控溅射镀膜工艺包括：将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向所述镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.4Pa~0.6Pa，在温度60℃~80℃下进行镀膜。
上述双面镀膜玻璃，根据Nb2O5、SiO2材料的折射率，利用光的波动性及干涉原理，设计出提高双面镀膜玻璃透过率的膜系；在玻璃基板镀有Nb2O5及SiO2材料，该双面镀膜玻璃不容易老化泛黄，光反射小，透过率高，画面图像清晰；同时，上述双面镀膜玻璃，在420nm~660nm波段的透过率达到96.5%以上，镀膜前后透过率的比值达到106%以上，对紫外线和红外线部分有一定的防护作用，说明该双面镀膜玻璃的透过率较高，能够更好地应用到市场。
附图说明
图1为一实施方式的双面镀膜玻璃的结构示意图；
图2为一实施方式的双面镀膜玻璃的制备方法的流程图；
图3为实施例1的双面镀膜玻璃和传统TFT镀膜玻璃的透过率对比图；
图4为TFT玻璃镀膜前的透过率图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
请参阅图1，一实施方式的双面镀膜玻璃100，包括玻璃基板110，在玻璃基板110的一面设有第一增透膜层120，在玻璃基板110的另一面依次层叠有第二增透膜层130及ITO(氧化铟锡)膜层140。
其中，第一增透膜层120包括依次层叠于玻璃基板110一面上的第一Nb2O5膜层122、第一SiO2膜层124、第二Nb2O5膜层126及第二SiO2膜层128；
第二增透膜层130包括依次层叠于玻璃基板110另一面上的第三Nb2O5膜层132、第三SiO2膜层134、第四Nb2O5膜层136及第四SiO2膜层138。
玻璃基板110可以为TFT（膜场效应晶体管）玻璃。TFT玻璃的厚度为0.2mm~1mm。
第一Nb2O5膜层122及第三Nb2O5膜层132的厚度为12nm~14nm；第二Nb2O5膜层126及第四Nb2O5膜层136的厚度为110nm~114nm。
第一SiO2膜层124及第三SiO2膜层134的厚度为30nm~34nm；第二SiO2膜层128的厚度为83nm~86nm；第四SiO2膜层138的厚度为54nm~57nm。
ITO膜层140的厚度为12nm~16nm。由于ITO膜层的导电性，使得镀ITO膜层后的玻璃基板具有良好的防静电功能。
传统的TFT镀膜玻璃，在玻璃基板的一面上依次涂镀有SiO2膜层及ITO膜层，SiO2膜层的厚度为23nm~27nm，ITO膜层的厚度为12nm~16nm。该TFT镀膜玻璃在550nm处透过率约为90%，镀膜前后透过率的比值为97%左右，视觉效果较差。
上述双面镀膜玻璃，根据Nb2O5、SiO2材料的折射率及光的波动性和干涉原理，设计出提高双面镀膜玻璃透过率的膜系，在420nm~660nm波段的透过率达到96.5%以上，镀膜前后透过率的比值达到106%以上，对紫外线和红外线部分有一定的防护作用，说明该双面镀膜玻璃极大地提高了TFT镀膜玻璃的光学性能，在同类产品中有极大的竞争优势。
另外，在玻璃基板表面设有Nb2O5及SiO2材料，该双面镀膜玻璃不容易老化泛黄，光反射小，透过率高，画面图像清晰；同时，在玻璃基板的一面增透膜层表面涂镀ITO膜层，增强了玻璃基板的防静电能力。
请参阅图2，一实施方式的双面镀膜玻璃的制备方法，包括以下步骤：
步骤S10、采用磁控溅射镀膜的方法，在玻璃基板的一面上依次形成第一Nb2O5膜层、第一SiO2膜层、第二Nb2O5膜层及第二SiO2膜层，以形成第一增透膜层。
玻璃基板可以为TFT玻璃。TFT玻璃的厚度为0.2mm~1mm。第一Nb2O5膜层的厚度为12nm～14nm；第二Nb2O5膜层的厚度为110nm～114nm。第一SiO2膜层的厚度为30nm~34nm；第二SiO2膜层的厚度为83nm~86nm。
第一增透膜层的磁控溅射镀膜工艺包括：将玻璃基板置于磁控溅射镀膜的镀膜箱中，将镀膜箱抽真空，后向所述镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.4Pa~0.6Pa，在室温下，在玻璃基板的一面上，按Nb/Si/Nb/Si的靶位进行连续镀膜。
将镀有第一增透膜层的玻璃基板从镀膜箱中取出，进行清洗，后将镀有第一增透膜层的玻璃基板再次置于镀膜箱中，继续进行镀膜。
步骤S20、采用磁控溅射镀膜的方法，在玻璃基板的另一面上依次形成第三Nb2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Nb2O5膜层及第四SiO2膜层，以形成第二增透膜层。
第三Nb2O5膜层的厚度为12nm～14nm；第四Nb2O5膜层的厚度为110nm~114nm。第三SiO2膜层的厚度为30nm~34nm；第四SiO2膜层的厚度为54nm~57nm。
第二增透膜层的磁控溅射镀膜工艺包括：将镀有第一增透膜层的玻璃基板再次置于镀膜箱中，将镀膜箱抽真空，后向镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.4Pa~0.6Pa，在室温下，在玻璃基板的另一面上，按Nb/Si/Nb/Si的靶位进行连续镀膜。
步骤S30、采用磁控溅射镀膜的方法，在所述第二增透膜层上形成ITO膜层，即得双面镀膜玻璃。
ITO膜层的厚度为12nm~16nm。ITO膜层的磁控溅射镀膜工艺包括：将镀有第一增透膜层及第二增透膜层的玻璃基板置于磁控溅射镀膜的镀膜箱中，将镀膜箱抽真空，后向镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.4Pa~0.6Pa，镀膜箱的温度为60℃~80℃，进行镀膜。
上述双面镀膜玻璃的制备方法，将Nb2O5及SiO2材料涂镀到玻璃基板的两面，后在一面上涂镀ITO膜层,制得的双面镀膜玻璃不容易老化泛黄，光反射小，透过率高，画面图像清晰，且防静电能力强，对紫外线和红外线有较好的防护作用，能够更好地应用于市场。
下面结合具体实施例，对本发明作进一步的阐述。
实施例1
采用磁控溅射镀膜的方法，在TFT玻璃的一面上依次形成12nm的第一Nb2O5膜层、34nm的第一SiO2膜层、110nm的第二Nb2O5膜层及86nm的第二SiO2膜层，以形成第一增透膜层。
采用磁控溅射镀膜的方法，在TFT玻璃的另一面上依次形成12nm的第三Nb2O5膜层、34nm的第三SiO2膜层、110nm的第四Nb2O5膜层及57nm的第四SiO2膜层，以形成第二增透膜层。
采用磁控溅射镀膜的方法，在第二增透膜层上形成16nm的ITO膜层，即得双面镀膜玻璃。
其中，TFT玻璃的厚度为0.5mm。第一增透膜层及第二增透膜层的镀膜工艺包括：将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.5Pa，在室温下进行镀膜。
ITO膜层的镀膜工艺包括：将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.5Pa，在80℃下进行镀膜。
用日本岛津公司的UV2600型分光光度计，对上述双面镀膜玻璃进行透过率测试，其测试结果如图3所示。图3中，该双面镀膜玻璃在420nm~660nm波段的透过率达到96.5%以上，与图4中的TFT玻璃镀膜前的透过率进行对比，镀膜前后透过率的比值达到106%以上，优于传统的TFT镀膜玻璃在此波段的透过率，说明该双面镀膜玻璃的透过率较高，效果较好。
实施例2
采用磁控溅射镀膜的方法，在TFT玻璃的一面上依次形成14nm的第一Nb2O5膜层、30nm的第一SiO2膜层、114nm的第二Nb2O5膜层及83nm的第二SiO2膜层，以形成第一增透膜层。
采用磁控溅射镀膜的方法，在TFT玻璃的另一面上依次形成14nm的第三Nb2O5膜层、30nm的第三SiO2膜层、114nm的第四Nb2O5膜层及83nm的第四SiO2膜层，以形成第二增透膜层。
采用磁控溅射镀膜的方法，在第二增透膜层上形成12nm的ITO膜层，即得双面镀膜玻璃。
其中，TFT玻璃的厚度为0.4mm。第一增透膜层及第二增透膜层的镀膜工艺包括：将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.5Pa，在室温下进行镀膜。
ITO膜层的镀膜工艺包括：将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.5Pa，在70℃下进行镀膜。
对上述双面镀膜玻璃进行透过率测试，该双面镀膜玻璃在420nm~660nm波段的透过率达到96.5%以上，镀膜前后透过率的比值达到106%以上。
实施例3
采用磁控溅射镀膜的方法，在TFT玻璃的一面上依次形成13nm的第一Nb2O5膜层、32nm的第一SiO2膜层、112nm的第二Nb2O5膜层及84nm的第二SiO2膜层，以形成第一增透膜层。
采用磁控溅射镀膜的方法，在TFT玻璃的另一面上依次形成13nm的第三Nb2O5膜层、32nm的第三SiO2膜层、112nm的第四Nb2O5膜层及55nm的第四SiO2膜层，以形成第二增透膜层。
采用磁控溅射镀膜的方法，在第二增透膜层上形成14nm的ITO膜层，即得双面镀膜玻璃。
其中，TFT玻璃的厚度为0.4mm。第一增透膜层及第二增透膜层的镀膜工艺包括：将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.5Pa，在室温下进行镀膜。
ITO膜层的镀膜工艺包括：将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.5Pa，在60℃下进行镀膜。
对上述双面镀膜玻璃进行透过率测试，该双面镀膜玻璃在420nm~660nm波段的透过率达到96.5%以上，镀膜前后透过率的比值达到106%左右。
上述实施例的双面镀膜玻璃，根据Nb2O5、SiO2材料的折射率及光的波动性和干涉原理，设计出提高双面镀膜玻璃透过率的膜系；将Nb2O5及SiO2材料涂镀到玻璃基板的两面，后在一面上涂镀ITO膜层，得到的双面镀膜玻璃不容易老化泛黄，光反射小，透过率高，画面图像清晰，且防静电能力强，对紫外线和红外线有较好的防护作用；同时，上述双面镀膜玻璃，在420nm~660nm波段的透过率达到96.5%以上，镀膜前后透过率的比值达到106%以上，说明该双面镀膜玻璃的透过率较高，能够更好地应用到市场。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种双面镀膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于，在所述玻璃基板的一面设有第一增透膜层，在所述玻璃基板的另一面依次层叠有第二增透膜层及ITO膜层；
其中，所述第一增透膜层包括依次层叠于所述玻璃基板一面上的第一Nb2O5膜层、第一SiO2膜层、第二Nb2O5膜层及第二SiO2膜层；
所述第二增透膜层包括依次层叠于所述玻璃基板另一面上的第三Nb2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Nb2O5膜层及第四SiO2膜层。
2.根据权利要求1所述的双面镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基板为TFT玻璃。
3.根据权利要求2所述的双面镀膜玻璃，其特征在于，所述TFT玻璃的厚度为0.2mm~1mm。
4.根据权利要求1所述的双面镀膜玻璃，其特征在于，所述第一Nb2O5膜层及所述第三Nb2O5膜层的厚度为12nm~14nm；所述第二Nb2O5膜层及所述第四Nb2O5膜层的厚度为110nm~114nm。
5.根据权利要求1所述的双面镀膜玻璃，其特征在于，所述第一SiO2膜层及所述第三SiO2膜层的厚度为30nm~34nm；所述第二SiO2膜层的厚度为83nm~86nm；所述第四SiO2膜层的厚度为54nm~57nm。
6.根据权利要求1所述的双面镀膜玻璃，其特征在于，所述ITO膜层的厚度为12nm~16nm。
7.一种双面镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
采用磁控溅射镀膜的方法，在玻璃基板的一面上依次形成第一Nb2O5膜层、第一SiO2膜层、第二Nb2O5膜层及第二SiO2膜层，以形成第一增透膜层；
采用磁控溅射镀膜的方法，在玻璃基板的另一面上依次形成第三Nb2O5膜层、第三SiO2膜层、第四Nb2O5膜层及第四SiO2膜层，以形成第二增透膜层；及
采用磁控溅射镀膜的方法，在所述第二增透膜层上形成ITO膜层，即得双面镀膜玻璃。
8.根据权利要求7所述的双面镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述第一Nb2O5膜层及所述第三Nb2O5膜层的厚度为12nm~14nm；所述第二Nb2O5膜层及所述第四Nb2O5膜层的厚度为110nm~114nm；所述第一SiO2膜层及所述第三SiO2膜层的厚度为30nm~34nm；所述第二SiO2膜层的厚度为83nm~86nm；所述第四SiO2膜层的厚度为54nm~57nm；所述ITO膜层的厚度为12nm~16nm。
9.根据权利要求7所述的双面镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述第一增透膜层及所述第二增透膜层的磁控溅射镀膜工艺包括：将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向所述镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.4Pa~0.6Pa，在室温下进行镀膜。
10.根据权利要求7所述的双面镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述ITO膜层的磁控溅射镀膜工艺包括：将磁控溅射镀膜的镀膜箱抽真空，后向所述镀膜箱内充入氩气及氧气至真空度为0.4Pa~0.6Pa，在温度60℃~80℃下进行镀膜。
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Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103488346A (zh) * 2013-10-10 2014-01-01 珠海市魅族科技有限公司 一种用于触控显示屏的保护层和移动终端
CN104176947A (zh) * 2014-08-07 2014-12-03 宜昌南玻显示器件有限公司 Ito导电玻璃及其制备方法
CN104951133A (zh) * 2015-06-18 2015-09-30 无锡启晖光电科技有限公司 一种触摸屏增透防污膜
CN105236770A (zh) * 2015-10-19 2016-01-13 洛阳康耀电子有限公司 一种双面触摸屏消影导电玻璃的加工方法
CN105271821A (zh) * 2015-10-19 2016-01-27 洛阳康耀电子有限公司 一种触摸屏双面消影导电玻璃的加工方法
CN107162438A (zh) * 2017-06-19 2017-09-15 合肥市惠科精密模具有限公司 一种tft‑lcd玻璃基板双面镀膜的方法
CN107703567A (zh) * 2017-11-06 2018-02-16 广东弘景光电科技股份有限公司 高硬度减反射镀膜镜片
CN107777898A (zh) * 2016-08-26 2018-03-09 河源市力友显示技术有限公司 一种双面镀膜导电玻璃的抗干扰加工方法
CN109557604A (zh) * 2017-09-25 2019-04-02 四川南玻节能玻璃有限公司 一种抗紫外线减反射膜层及其应用
CN110471231A (zh) * 2019-08-21 2019-11-19 Oppo广东移动通信有限公司 壳体组件和电子设备
CN111362588A (zh) * 2018-12-25 2020-07-03 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 一种具有防紫外线功能的ar玻璃及其生产工艺
CN111665577A (zh) * 2020-04-20 2020-09-15 湖北卫东化工股份有限公司 一种可以直观识别雪地伪装的检验镜及制备方法
CN112230320A (zh) * 2020-11-13 2021-01-15 光驰科技(上海)有限公司 一种大尺寸超薄基板上光学滤光片的制备方法
CN112748597A (zh) * 2020-12-31 2021-05-04 江西沃格光电股份有限公司 显示模组及其制备方法和电子产品
CN113718213A (zh) * 2021-04-26 2021-11-30 深圳市新邦薄膜科技有限公司 一种分光薄膜真空磁控镀膜方法
CN115343787A (zh) * 2022-06-27 2022-11-15 四川虹基光玻新材料科技有限公司 Ar膜及其制备方法和应用
CN115505884A (zh) * 2021-06-23 2022-12-23 江西华派光电科技有限公司 一种高透光蓝宝石面板及其制作方法
CN115793317A (zh) * 2022-12-30 2023-03-14 芜湖长信科技股份有限公司 一种降低液晶显示器件光波震荡的方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1400476A (zh) * 2001-08-01 2003-03-05 三星康宁株式会社 用于显示器件的防反射和防静电多层薄膜
CN201305551Y (zh) * 2009-03-11 2009-09-09 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 双面镀膜玻璃
CN201317743Y (zh) * 2009-03-11 2009-09-30 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 单面镀膜玻璃
CN101648777A (zh) * 2009-07-31 2010-02-17 佳晶光电（厦门）有限公司 一种高透过率tp玻璃及其制造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1400476A (zh) * 2001-08-01 2003-03-05 三星康宁株式会社 用于显示器件的防反射和防静电多层薄膜
CN201305551Y (zh) * 2009-03-11 2009-09-09 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 双面镀膜玻璃
CN201317743Y (zh) * 2009-03-11 2009-09-30 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 单面镀膜玻璃
CN101648777A (zh) * 2009-07-31 2010-02-17 佳晶光电（厦门）有限公司 一种高透过率tp玻璃及其制造方法

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103488346A (zh) * 2013-10-10 2014-01-01 珠海市魅族科技有限公司 一种用于触控显示屏的保护层和移动终端
CN104176947A (zh) * 2014-08-07 2014-12-03 宜昌南玻显示器件有限公司 Ito导电玻璃及其制备方法
CN104176947B (zh) * 2014-08-07 2016-08-24 宜昌南玻显示器件有限公司 Ito导电玻璃及其制备方法
CN104951133A (zh) * 2015-06-18 2015-09-30 无锡启晖光电科技有限公司 一种触摸屏增透防污膜
CN105236770A (zh) * 2015-10-19 2016-01-13 洛阳康耀电子有限公司 一种双面触摸屏消影导电玻璃的加工方法
CN105271821A (zh) * 2015-10-19 2016-01-27 洛阳康耀电子有限公司 一种触摸屏双面消影导电玻璃的加工方法
CN107777898A (zh) * 2016-08-26 2018-03-09 河源市力友显示技术有限公司 一种双面镀膜导电玻璃的抗干扰加工方法
CN107162438A (zh) * 2017-06-19 2017-09-15 合肥市惠科精密模具有限公司 一种tft‑lcd玻璃基板双面镀膜的方法
CN109557604A (zh) * 2017-09-25 2019-04-02 四川南玻节能玻璃有限公司 一种抗紫外线减反射膜层及其应用
CN109557604B (zh) * 2017-09-25 2023-11-14 四川南玻节能玻璃有限公司 一种抗紫外线减反射膜层及其应用
CN107703567A (zh) * 2017-11-06 2018-02-16 广东弘景光电科技股份有限公司 高硬度减反射镀膜镜片
CN107703567B (zh) * 2017-11-06 2024-05-03 广东弘景光电科技股份有限公司 高硬度减反射镀膜镜片
CN111362588A (zh) * 2018-12-25 2020-07-03 深圳市三鑫精美特玻璃有限公司 一种具有防紫外线功能的ar玻璃及其生产工艺
CN110471231A (zh) * 2019-08-21 2019-11-19 Oppo广东移动通信有限公司 壳体组件和电子设备
CN111665577A (zh) * 2020-04-20 2020-09-15 湖北卫东化工股份有限公司 一种可以直观识别雪地伪装的检验镜及制备方法
CN111665577B (zh) * 2020-04-20 2021-03-12 湖北卫东化工股份有限公司 一种可以直观识别雪地伪装的检验镜及制备方法
CN112230320A (zh) * 2020-11-13 2021-01-15 光驰科技(上海)有限公司 一种大尺寸超薄基板上光学滤光片的制备方法
CN112748597A (zh) * 2020-12-31 2021-05-04 江西沃格光电股份有限公司 显示模组及其制备方法和电子产品
CN112748597B (zh) * 2020-12-31 2023-08-15 江西沃格光电股份有限公司 显示模组及其制备方法和电子产品
CN113718213A (zh) * 2021-04-26 2021-11-30 深圳市新邦薄膜科技有限公司 一种分光薄膜真空磁控镀膜方法
CN115505884A (zh) * 2021-06-23 2022-12-23 江西华派光电科技有限公司 一种高透光蓝宝石面板及其制作方法
CN115343787A (zh) * 2022-06-27 2022-11-15 四川虹基光玻新材料科技有限公司 Ar膜及其制备方法和应用
CN115343787B (zh) * 2022-06-27 2024-05-28 四川虹基光玻新材料科技有限公司 Ar膜及其制备方法和应用
CN115793317A (zh) * 2022-12-30 2023-03-14 芜湖长信科技股份有限公司 一种降低液晶显示器件光波震荡的方法

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