CN112748597A - 显示模组及其制备方法和电子产品 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示模组及其制备方法和电子产品。上述显示模组包括玻璃盖板、黑色油墨层、显示面板及镀膜单元。玻璃盖板上设有可视区和边框区；黑色油墨层设置在玻璃盖板上且对应边框区；镀膜单元设置在玻璃盖板上且对应可视区和边框区；镀膜单元包括多个膜层，且镀膜单元的透过率大于75％；镀膜单元在黑色油墨层的远离玻璃盖板的一侧遮蔽黑色油墨层，显示面板与镀膜单元全贴合，或者黑色油墨层设置在镀膜单元远离玻璃盖板的一侧，显示面板与黑色油墨层全贴合，显示模组的L值为30～35，a为‑2～0，b值为‑2～1。上述显示模组的透过率高且膜层均匀性好。

Description

显示模组及其制备方法和电子产品

技术领域

本发明涉及显示领域，特别是涉及一种显示模组及其制备方法和电子产品。

背景技术

一体黑的实现与显示模组的构成组件以及工艺方式如TFT显示屏、偏光片、贴合方式、贴合胶水、边框油墨、玻璃盖板等均有很大的关系，需要各种因素的匹配。屏幕全贴合有助于一体黑效果，在显示屏玻璃已经不可改变的情况下，一体黑的实现只能通过改变玻璃盖板的颜色来实现。而“一体黑”盖板的实现方式主要有以下2种：丝印油墨或使用半透型材质为盖板。丝印油墨的方式具体为：将玻璃盖板经过CNC、强化、丝印黑色边框后，在玻璃盖板的可视区或按键部分印刷一层IR半透油墨，通过油墨颜色来实现“一体黑”效果。然而丝印半透油墨的方式存在透过率低的问题，透过率一般仅为10％～50％，会增加显示模组的背光能耗。且采用丝印的方式只能得到微米厚度的膜层，膜厚均匀性差，容易出现色差，影响显示效果。半透型材质可以是塑料或者玻璃。塑料材质的一体黑加工，通常是在树脂材料中添加色粉，通过调配材料里面色粉的添加量，来实现“一体黑”效果；玻璃则可以在生产的时候就添加颜色，也可以通过染色工艺染色。然而在塑料和玻璃加工时增加色粉，颜色均匀性不好控制，容易出现色差，影响显示效果。

发明内容

基于此，有必要提供一种透过率高且膜层均匀性好的一体黑显示模组及其制备方法。

此外，还有必要提供一种电子产品。

一种显示模组，包括：

玻璃盖板，所述玻璃盖板具有可视区和环绕所述可视区设置的边框区；

黑色油墨层，所述黑色油墨层设置在所述玻璃盖板上，且对应所述边框区；

镀膜单元，所述镀膜单元设置在所述玻璃盖板上且对应所述可视区和所述边框区；所述镀膜单元包括多个膜层，各膜层的材料各自独立地选自金属、金属氧化物、金属碳化物、金属氮化物、金属氟化物、二氧化硅及碳化硅中的一种，所述金属为钛、镍、铜、铬、钨、钼、锆、铌、铁或镁，且所述镀膜单元的透过率大于75％；及

显示面板，所述镀膜单元在所述黑色油墨层的远离所述玻璃盖板的一侧遮蔽所述黑色油墨层，所述显示面板与所述镀膜单元全贴合，或者所述黑色油墨层设置在所述镀膜单元远离所述玻璃盖板的一侧，所述显示面板与所述黑色油墨层全贴合；

所述显示模组的L值为30～35，a值为-2～0，b值为-2～1。

在其中一个实施例中，在所述镀膜单元中，所述膜层的总个数为3个～6个；及/或，所述镀膜单元的总厚度为40nm～90nm。

在其中一个实施例中，每个所述膜层的材料各自独立地选自二氧化钛、氮化铜、三氧化二铬、钨、五氧化二铌、三氧化二铁、氟化镁、二氧化硅及碳化硅中的一种。

在其中一个实施例中，所述镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层，所述第一膜层较所述第四膜层更靠近所述玻璃基板，所述第一膜层的材料为二氧化硅，厚度为9.5nm～10.5nm；所述第二膜层的材料为钨，厚度为1.5nm～2.5nm；所述第三膜层的材料为五氧化二铌，厚度为26nm～28nm；所述第四膜层的材料为二氧化硅，厚度为48nm～50nm。

在其中一个实施例中，所述镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层较所述第三膜层更靠近所述玻璃基板，所述第一膜层的材料为五氧化二铌，厚度为6.5nm～7.5nm；所述第二膜层的材料为氮化铜，厚度为4.5nm～5.5nm；所述第三膜层的材料为二氧化硅，厚度为35nm～37nm。

在其中一个实施例中，所述镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层，所述第一膜层的材料为氧化铬，厚度为11.5nm～12.5nm所述第二膜层的材料为二氧化钛，厚度为17.5nm～18.5nm；所述第三膜层的材料为二氧化硅，厚度为9.5nm～10.5nm；所述第四膜层的材料为氮化硅，厚度为5.5nm～6.5nm，且所述第四膜层较所述第一膜层更靠近所述玻璃盖板。

在其中一个实施例中，所述镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层的材料为二氧化钛，厚度为11.5nm～12.5nm；所述第二膜层的材料为三氧化二铁，厚度为3.5nm～4.5nm；所述第三膜层的材料为氟化镁，厚度为32nm～34nm，且所述第三膜层较所述第一膜层更靠近所述玻璃盖板。

一种显示模组的制备方法，包括如下步骤：

提供玻璃盖板，所述玻璃盖板具有可视区和环绕所述可视区设置的边框区；

在所述玻璃盖板上形成黑色油墨层，所述黑色油墨层对应所述边框区；

在所述玻璃盖板上形成镀膜单元，所述镀膜单元对应所述可视区和所述边框区；

将所述玻璃盖板形成有所述黑色油墨层和所述镀膜单元的一侧与显示面板全贴合，制备显示模组；

其中，所述镀膜单元遮蔽所述黑色油墨层；或者，所述黑色油墨层设置在所述镀膜单元远离所述玻璃盖板的一侧；

所述镀膜单元包括多个膜层，每个所述膜层的材料各自独立地选自金属、金属氧化物、金属碳化物、金属氮化物、金属氟化物、二氧化硅及碳化硅中的一种，所述金属为钛、镍、铜、铬、钨、钼、锆、铌、铁或镁；且所述镀膜单元的透过率大于75％，所述显示模组的L值为30～35，a为-2～0，b值为-2～1。

在其中一个实施例中，采用蒸发镀膜的方式或溅射镀膜的方式形成所述镀膜单元。

一种电子产品，包括上述的显示模组或包括上述的显示模组的制备方法制备的显示模组和电路组件，所述显示模组与所述电路组件电连接。

上述显示模组通过在玻璃盖板上形成镀膜单元，并选择特定的镀膜材料配合，使得镀膜单元的透过率较高，对显示模组的显示亮度及背光电能损耗影响较小。且形成镀膜单元的方式较丝印半透油墨的方式，镀膜单元的厚度可以达到纳米级别且均匀性较好。上述镀膜单元与其他结构配合，使得显示模组在息屏状态时，实现可视区和边框区呈现一体黑的均匀效果，不会影响显示面板的色彩饱和度。

附图说明

图1为第一实施方式的显示模组的结构示意图；

图2为第一实施方式的显示模组的制备方法的工艺流程图；

图3为第二实施方式的显示模组的结构示意图；

图4为第二实施方式的显示模组的制备方法的工艺流程图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将结合具体实施方式对本发明进行更全面的描述。具体实施方式中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体地实施例的目的，不是旨在于限制本发明。

请参阅图1，第一实施方式的显示模组100，包括：玻璃盖板110、黑色油墨层120、显示面板130和镀膜单元140。

其中，玻璃盖板110上设有可视区116和环绕可视区116设置的边框区118。具体地，可视区116一般呈矩形，边框区118设置在玻璃盖板110的外围边缘且环绕可视区116设置，为回字形。玻璃盖板110用于保护显示面板130。

黑色油墨层120设置在玻璃盖板110上，且对应边框区118。具体地，黑色油墨层120可以通过丝印的方式形成。黑色油墨层120的材料可以为本领域常用的材料，在此不再赘述。在玻璃盖板110的边框区118设置黑色油墨层120，能够防止漏光，防止内部背光板光线从显示面板130边缘漏出来；另外，屏幕触控层中会内置独立的电容层增加触控准确性，屏幕像素也需要电路控制，这些布线会围绕边框展开，没有边框也就无法布线。

显示面板130与玻璃盖板110之间为全贴合结构，且玻璃盖板110形成有黑色油墨层120的一侧与显示面板130贴合。显示面板130的结构可以为本领域常用的结构，例如包括：依次层叠设置的薄膜晶体管基板(TFT基板)、液晶层以及彩色滤光片基板(CF基板)，CF基板与玻璃盖板110贴合。可以理解，上述仅列出了常用的一种显示面板130的结构，显示面板130还可以包括其他本领域常用的结构，在此不再赘述。

镀膜单元140对应可视区116和边框区118设置。镀膜单元140设置在玻璃盖板110上并遮蔽黑色油墨层120。镀膜单元140与显示面板130全贴合。镀膜单元140包括多个膜层，每个膜层的材料各自独立地选自金属、金属氧化物、金属碳化物、金属氮化物、金属氟化物、二氧化硅及碳化硅中的一种，金属为钛、镍、铜、铬、钨、钼、锆、铌、铁或镁。镀膜单元140的透过率大于75％。优选地，镀膜单元140的透过率为76％～84％。

具体地，在镀膜单元140中，膜层的总个数为3个～6个。进一步地，膜层的总个数为3个或4个。镀膜单元140的总厚度为40nm～90nm。进一步地，镀膜单元140的总厚度为40nm～60nm。每个膜层的材料各自独立地选自二氧化钛、氮化铜、三氧化二铬、钨、五氧化二铌、三氧化二铁、氟化镁、二氧化硅及碳化硅中的一种。

进一步地，在其中一个实施例中，镀膜单元140包括依次层叠的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层。第一膜层的材料为氧化铬，厚度为11.5nm～12.5nm；第二膜层的材料为二氧化钛，厚度为17.5nm～18.5nm第三膜层的材料为二氧化硅，厚度为9.5nm～10.5nm；第四膜层的材料为氮化硅，度为5.5nm～6.5nm。第四膜层较第一膜层、第二膜层和第三膜层更靠近玻璃盖板110。进一步地，第一膜层的折射率为2.7。第二膜层的折射率为2.49。第三膜层的折射率为1.47。第四膜层的折射率为2.17。

在另一个实施例中，镀膜单元140包括依次层叠的第一膜层、第二膜层和第三膜层，第一膜层的材料为二氧化钛，厚度为11.5nm～12.5nm；第二膜层的材料为三氧化二铁，厚度为3.5nm～4.5nm；第三膜层的材料为氟化镁，厚度为32nm～34nm。第三膜层较第一膜层、第二膜层更靠近玻璃盖板110。进一步地，第一膜层的折射率为2.49。第三膜层的折射率为1.38。

在又一个实施例中，镀膜单元140包括依次层叠的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层，第一膜层较第四膜层更靠近玻璃基板110，第一膜层的材料为二氧化硅，厚度为9.5nm～10.5nm；第二膜层的材料为钨，厚度为1.5nm～2.5nm；第三膜层的材料为五氧化二铌，厚度为26nm～28nm；第四膜层的材料为二氧化硅，厚度为48nm～50nm。进一步地，第一膜层和第四膜层的折射率为1.47。第三膜层的折射率为2.35。

在又一个实施例中，镀膜单元140包括依次层叠的第一膜层、第二膜层和第三膜层，第一膜层较第三膜层更靠近玻璃基板110，第一膜层的材料为五氧化二铌，厚度为6.5nm～7.5nm第二膜层的材料为氮化铜，厚度为4.5nm～5.5nm；第三膜层的材料为二氧化硅，厚度为35nm～37nm。进一步地，第一膜层的折射率为2.35。第二膜层的折射率为2.8。第三膜层的折射率为1.47。

上述镀膜单元140通过各膜层结构的相互配合，实现了镀膜单元140具有较高的透过率，透过率大于75％，甚至高达86％，对显示模组100的显示亮度及背光电能损耗影响较小，另外，上述镀膜单元140与其他结构配合，使得显示模组100在息屏状态时，实现可视区116和边框区118呈现一体黑的均匀效果，不会影响显示屏色彩饱和度。

在本实施方式中，镀膜单元140设置在整个玻璃盖板110上，较单纯的将镀膜单元140设置在边框区l18的方式，工艺简单，无需整体镀膜后再去除可视区116的膜层，降低了成本，提高了生产效率。

另外，在显示面板130和玻璃盖板110之间设置镀膜单元140不会对显示模组的原有性能造成影响。

进一步地，上述显示模组100的L值为30～35，a值为-2～0，b值为-2～1。

请参阅图2，第一实施方式的显示模组的制备方法，为第一实施方式的显示模组的一种制备方法，包括如下步骤：

步骤S210：提供玻璃盖板，玻璃盖板上设有可视区和环绕可视区设置的边框区。

具体地，可视区一般呈矩形，边框区设置在玻璃盖板的外围边缘且环绕可视区设置，为回字形。玻璃盖板用于保护显示面板。

步骤S220：在玻璃盖板上形成黑色油墨层，黑色油墨层对应边框区。

黑色油墨层可以通过丝印的方式形成。黑色油墨层的材料可以为本领域常用的材料，在此不再赘述。在玻璃盖板的边框区设置黑色油墨层，能够防止漏光，防止内部背光板光线从显示面板边缘漏出来；另外，屏幕触控层中会内置独立的电容层增加触控准确性，屏幕像素也需要电路控制，这些布线会围绕边框展开，没有边框也就无法布线。

步骤S230：在玻璃盖板上形成镀膜单元，且镀膜单元遮蔽黑色油墨层。

其中，镀膜单元对应可视区和边框区。镀膜单元包括多个膜层，每个膜层的材料各自独立地选自金属、金属氧化物、金属碳化物、金属氮化物、金属氟化物、二氧化硅及碳化硅中的一种，金属为钛、镍、铜、铬、钨、钼、锆、铌、铁或镁。镀膜单元的透过率大于75％。优选地，镀膜单元的透过率为76％～84％。

具体地，在镀膜单元中，膜层的总个数为3个～6个。进一步地，膜层的总个数为3个或4个。镀膜单元的总厚度为40nm～90nm。进一步地，镀膜单元的总厚度为40nm～60nm。每个膜层的材料各自独立地选自二氧化钛、氮化铜、三氧化二铬、钨、五氧化二铌、三氧化二铁、氟化镁、二氧化硅及碳化硅中的一种。

进一步地，在其中一个实施例中，镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层。第一膜层的材料为氧化铬，厚度为11.5nm～12.5nm；第二膜层的材料为二氧化钛，厚度为17.5nm～18.5nm第三膜层的材料为二氧化硅，厚度为9.5nm～10.5nm；第四膜层的材料为氮化硅，度为5.5nm～6.5nm。第四膜层较第一膜层、第二膜层和第三膜层更靠近玻璃盖板。进一步地，第一膜层的折射率为2.7。第二膜层的折射率为2.49。第三膜层的折射率为1.47。第四膜层的折射率为2.17。

在另一个实施例中，镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层和第三膜层，第一膜层的材料为二氧化钛，厚度为11.5nm～12.5nm第二膜层的材料为三氧化二铁，厚度为3.5nm～4.5nm；第三膜层的材料为氟化镁，厚度为32nm～34nm。第三膜层较第一膜层、第二膜层更靠近玻璃盖板。进一步地，第一膜层的折射率为2.49。第三膜层的折射率为1.38。

在又一个实施例中，镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层，第一膜层更靠近玻璃基板，第一膜层的材料为二氧化硅，厚度为9.5nm～10.5nm；第二膜层的材料为钨，厚度为1.5nm～2.5nm；第三膜层的材料为五氧化二铌，厚度为26nm～28nm；第四膜层的材料为二氧化硅，厚度为48nm～50nm。进一步地，第一膜层和第四膜层的折射率为1.47。第三膜层的折射率为2.35。

在又一个实施例中，镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层和第三膜层，第一膜层更靠近玻璃基板，第一膜层的材料为五氧化二铌，厚度为6.5nm～7.5nm；第二膜层的材料为氮化铜，厚度为4.5nm～5.5nm第三膜层的材料为二氧化硅，厚度为35nm～37nm。进一步地，第一膜层的折射率为2.35。第二膜层的折射率为2.8。第三膜层的折射率为1.47。

上述镀膜单元通过各膜层结构的相互配合，实现了膜层具有较高的透过率，透过率大于75％，甚至高达86％，对显示模组的显示亮度及背光电能损耗影响较小。

进一步地，采用蒸发镀膜的方式或溅射镀膜的方式形成镀膜单元。采用上述方式形成镀膜单元，使得每个膜层的厚度可以达到纳米级别且均匀性较好。另外，采用上述方式，还可以通过控制镀膜过程中的工艺参数以得到具有合适折射率的材料。

步骤S240：将玻璃盖板形成有黑色油墨层的一侧与显示面板全贴合，制备显示模组。

显示面板的结构可以为本领域常用的结构，例如包括：层叠设置的薄膜晶体管基板(TFT基板)、液晶层以及彩色滤光片基板(CF基板)，CF基板与玻璃盖板贴合。可以理解，上述仅列出了常用的一种显示面板的结构，显示面板还可以包括其他本领域常用的结构，在此不再赘述。

具体地，通过光学胶将玻璃盖板形成有黑色油墨层的一侧与显示面板全贴合，光学胶可以为本领域常用的异方性导电胶。

进一步地，上述显示模组的L值为30～35，a值为-2～0，b值为-2～1。

上述显示模组的制备方法至少具有以下优点：

(1)上述显示模组的制备方法通过在玻璃盖板的上通过真空镀膜或溅射镀膜的方式沉积镀膜单元，镀膜单元的厚度可以达到纳米级别，且膜层的色相可以通过镀膜的材料配方、膜系结构进行调整，实现显示面板和边框区颜色接近或一致，达到浑然一体的一体黑视觉效果，不会影响显示屏色彩饱和度，增强用户体验。

(2)上述镀膜单元通过各膜层结构的相互配合，实现了膜层具有较高的透过率，透过率大于75％，甚至高达86％，对显示模组的显示亮度及背光电能损耗影响较小。

(3)上述显示模组的制备方法工艺简单，无需整体镀膜后再去除可视区的膜层，降低了成本，提高了生产效率。

请参阅图3，第二实施方式的显示模组300，包括玻璃盖板310、黑色油墨层320、显示面板330和镀膜单元340。

本实施方式的显示模组300的玻璃盖板310的结构、黑色油墨层320的结构、显示面板330的结构以及镀膜单元340的结构分别与第一实施方式的显示模组100的玻璃盖板110的结构、黑色油墨层120的结构、显示面板130的结构以及镀膜单元340的结构相同，在此不再赘述。

本实施方式的显示模组300与第一实施方式的显示模组100的区别在于：黑色油墨层320及镀膜单元340在玻璃盖板310上的设置方式。本实施方式的显示模组300的镀膜单元340设置在玻璃盖板310上，黑色油墨层320设置在镀膜单元340远离玻璃盖板310的一侧。

上述镀膜单元340通过各膜层结构的相互配合，实现了镀膜单元340具有较高的透过率，透过率大于75％，甚至高达86％，对显示模组300的显示亮度及背光电能损耗影响较小，另外，上述镀膜单元340与其他结构配合，使得显示模组300在息屏状态时，实现可视区和边框区呈现一体黑的均匀效果，不会影响显示屏色彩饱和度。

在本实施方式中，镀膜单元340设置在整个玻璃盖板310上，较单纯的将镀膜单元340设置在边框区的方式，工艺简单，无需整体镀膜后再去除可视区的膜层，降低了成本，提高了生产效率。

进一步地，上述显示模组300的L值为30～35，a值为-2～0，b值为-2～1。

请参阅图4，第二实施方式的显示模组的制备方法，为第二实施方式的显示模组的一种制备方法，包括如下步骤：

步骤S410：提供玻璃盖板，玻璃盖板上设有可视区和环绕可视区设置的边框区。

具体地，本实施方式的步骤S410与第一实施方式的显示模组的制备方法的步骤S210相同，在此不再赘述。

步骤S420：在玻璃盖板上形成镀膜单元。

具体地，镀膜单元对应可视区和边框区设置。本实施方式的镀膜单元的结构与第一实施方式的显示模组的制备方法的步骤S230所形成的镀膜单元的结构相同，在此不再赘述。

进一步地，采用蒸发镀膜的方式或溅射镀膜的方式形成镀膜单元。

上述镀膜单元通过各膜层结构的相互配合，实现了膜层具有较高的透过率，透过率大于75％，甚至高达86％，对显示模组的显示亮度及背光电能损耗影响较小，

步骤S430：在玻璃盖板上形成有镀膜单元的一侧形成黑色油墨层，黑色油墨层对应边框区。

具体地，本实施方式的步骤S430与第一实施方式的显示模组的制备方法的步骤S220相同，在此不再赘述。

步骤S440：将玻璃盖板形成有黑色油墨层的一侧与显示面板全贴合，制备显示模组。

具体地，本实施方式的步骤S440与第一实施方式的显示模组的制备方法的步骤S240相同，在此不再赘述。

一实施方式的电子产品，包括第一实施方式的显示模组、由第一实施方式的显示模组的制备方法制备的显示模组、第二实施方式的显示模组或由第二实施方式的显示模组制备的显示模组和电路组件，显示模组与电路组件电连接。该电子产品在息屏时，可视区与边框区具有均匀的一体黑效果。在其中一个实施例中，电子产品为手机、平板等。

以下为具体实施例部分：

实施例1

本实施例的显示模组的制备过程具体如下：

(1)提供玻璃盖板，玻璃盖板上设有可视区和环绕可视区设置的边框区。

(2)在玻璃盖板上形成黑色油墨层，黑色油墨层对应边框区。

(3)通过磁控溅射的方式在步骤(2)的玻璃盖板上沉积镀膜单元，镀膜单元遮蔽黑色油墨层，镀膜单元形成在玻璃盖板的整个表面上。镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层。更靠近玻璃盖板的第一膜层的材料为二氧化硅，折射率为1.47，厚度为10nm；第二膜层的材料为金属钨，厚度2nm；第三膜层为五氧化二铌，折射率为2.35，厚度为27nm；第四膜层的材料为二氧化硅，厚度为49nm。

(4)将显示面板与步骤(3)的玻璃盖板形成有黑色油墨层的一侧全贴合，制备显示模组。

实施例2

本实施例的显示模组的制备过程具体如下：

(1)提供玻璃盖板，玻璃盖板上设有可视区和环绕可视区设置的边框区。

(2)在玻璃盖板上形成黑色油墨层，黑色油墨层对应边框区。

(3)通过磁控溅射的方式在步骤(2)的玻璃盖板上沉积镀膜单元，镀膜单元遮蔽黑色油墨层，镀膜单元形成在玻璃盖板的整个表面上。镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层和第三膜层。更靠近玻璃盖板的第一膜层的材料为五氧化二铌，折射率为2.35，厚度为7nm第二膜层的材料为氮化铜，折射率为2.8，膜厚为5nm；第三膜层的材料为二氧化硅，厚度为36nm。

(4)将显示面板与步骤(3)的玻璃盖板形成有黑色油墨层的一侧全贴合，制备显示模组。

实施例3

本实施例的显示模组的制备过程具体如下：

(1)提供玻璃盖板，玻璃盖板上设有可视区和环绕可视区设置的边框区。

(2)通过磁控溅射的成膜方式在玻璃基板上沉积镀膜单元，镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层。第四膜层更靠近玻璃基板，第一膜层更靠近贴合后的显示面板。第一膜层的材料为氧化铬，折射率为2.7，厚度为12nm；第二膜层的材料为二氧化钛，折射率为2.49，膜厚为18nm；第三膜层的材料为二氧化硅，厚度为10nm；第四膜层的材料为碳化硅，折射率2.17，厚度6nm。

(3)在步骤(2)的镀膜单元远离玻璃盖板的一侧形成黑色油墨层，黑色油墨层对应边框区。

(4)将显示面板与步骤(3)的玻璃盖板形成有黑色油墨层的一侧全贴合，制备显示模组。

实施例4

本实施例的显示模组的制备过程具体如下：

(1)提供玻璃盖板，玻璃盖板上设有可视区和环绕可视区设置的边框区。

(2)通过蒸发的成膜方式在玻璃基板上沉积镀膜单元，镀膜单元遮蔽黑色油墨层，镀膜单元形成在玻璃盖板的整个表面上。镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层和第三膜层。第一膜层更靠近贴合后的显示面板，第三膜层更靠近玻璃盖板。第一膜层的材料为二氧化钛，折射率为2.49，膜厚为12nm第二膜层的材料为三氧化二铁，厚度为4nm；第三膜层的材料为氟化镁，折射率1.38，厚度33nm。

(3)在步骤(2)的镀膜单元远离玻璃盖板的一侧形成黑色油墨层，黑色油墨层对应边框区。

(4)将显示面板与步骤(3)的玻璃盖板形成有黑色油墨层的一侧全贴合，制备显示模组。

对上述实施例1～实施例4所制备的镀膜单元的透过率以及显示模组的反射率和Lab值进行测试，得到如下表1所示的实验结果。

表1实施例的透过率、反射率和Lab值数据

从上述实验数据中可以看出，实施例1～实施例4所制备的镀膜单元的透过率大于75％，甚至高达84％，较传统的丝印半透油墨和采用半透型材质的方法，具有更高的透过率对显示模组的显示亮度及背光电能损耗影响较小。另外，上述镀膜单元与其他结构配合，使得显示模组在息屏状态时，实现可视区和边框区呈现一体黑的均匀效果，不会影响显示屏色彩饱和度。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示模组，其特征在于，包括：

玻璃盖板，所述玻璃盖板具有可视区和环绕所述可视区设置的边框区；

黑色油墨层，所述黑色油墨层设置在所述玻璃盖板上，且对应所述边框区；

镀膜单元，所述镀膜单元设置在所述玻璃盖板上且对应所述可视区和所述边框区；所述镀膜单元包括多个膜层，各膜层的材料各自独立地选自金属、金属氧化物、金属碳化物、金属氮化物、金属氟化物、二氧化硅及碳化硅中的一种，所述金属为钛、镍、铜、铬、钨、钼、锆、铌、铁或镁，且所述镀膜单元的透过率大于75％；及

显示面板，所述镀膜单元在所述黑色油墨层的远离所述玻璃盖板的一侧遮蔽所述黑色油墨层，所述显示面板与所述镀膜单元全贴合，或者，所述黑色油墨层设置在所述镀膜单元远离所述玻璃盖板的一侧，所述显示面板与所述黑色油墨层全贴合；

所述显示模组的L值为30～35，a值为-2～0，b值为-2～1。

2.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，在所述镀膜单元中，所述膜层的总数量为3个～6个；及/或，所述镀膜单元的总厚度为40nm～90nm。

3.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，每个所述膜层的材料各自独立地选自二氧化钛、氮化铜、三氧化二铬、钨、五氧化二铌、三氧化二铁、氟化镁、二氧化硅及碳化硅中的一种。

4.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层，所述第一膜层较所述第四膜层更靠近所述玻璃基板，所述第一膜层的材料为二氧化硅，厚度为9.5nm～10.5nm；所述第二膜层的材料为钨，厚度为1.5nm～2.5nm；所述第三膜层的材料为五氧化二铌，厚度为26nm～28nm所述第四膜层的材料为二氧化硅，厚度为48nm～50nm。

5.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层较所述第三膜层更靠近所述玻璃基板，所述第一膜层的材料为五氧化二铌，厚度为6.5nm～7.5nm；所述第二膜层的材料为氮化铜，厚度为4.5nm～5.5nm；所述第三膜层的材料为二氧化硅，厚度为35nm～37nm。

6.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层、第三膜层和第四膜层，所述第一膜层的材料为氧化铬，厚度为11.5nm～12.5nm；所述第二膜层的材料为二氧化钛，厚度为17.5nm～18.5nm；所述第三膜层的材料为二氧化硅，厚度为9.5nm～10.5nm；所述第四膜层的材料为氮化硅，厚度为5.5nm～6.5nm，且所述第四膜层较所述第一膜层更靠近所述玻璃盖板。

7.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述镀膜单元包括依次层叠的第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层的材料为二氧化钛，厚度为11.5nm～12.5nm；所述第二膜层的材料为三氧化二铁，厚度为3.5nm～4.5nm；所述第三膜层的材料为氟化镁，厚度为32nm～34nm，且所述第三膜层较所述第一膜层更靠近所述玻璃盖板。

8.一种显示模组的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供玻璃盖板，所述玻璃盖板具有可视区和环绕所述可视区设置的边框区；

在所述玻璃盖板上形成黑色油墨层，所述黑色油墨层对应所述边框区；

在所述玻璃盖板上形成镀膜单元，所述镀膜单元对应所述可视区和所述边框区；

将所述玻璃盖板形成有所述黑色油墨层和所述镀膜单元的一侧与显示面板全贴合，制备显示模组；

其中，所述镀膜单元遮蔽所述黑色油墨层；或者，所述黑色油墨层形成在所述镀膜单元远离所述玻璃盖板的一侧；

所述镀膜单元包括多个膜层，每个所述膜层的材料各自独立地选自金属、金属氧化物、金属碳化物、金属氮化物、金属氟化物、二氧化硅及碳化硅中的一种，所述金属为钛、镍、铜、铬、钨、钼、锆、铌、铁或镁；且所述镀膜单元的透过率大于75％，所述显示模组的L值为30～35，a为-2～0，b值为-2～1。

9.根据权利要求8所述的显示模组的制备方法，其特征在于，采用蒸发镀膜的方式或溅射镀膜的方式形成所述镀膜单元。

10.一种电子产品，其特征在于，包括权利要求1～7任一项所述的显示模组或包括权利要求8～9任一项所述的显示模组的制备方法制备的显示模组和电路组件，所述显示模组与所述电路组件电连接。

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