CN112625537B - 电子设备的中框及其制作方法、电子设备的外壳和电子设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种电子设备的中框及其制作方法、电子设备的外壳和电子设备。上述电子设备的中框包括基材、设置在基材上的涂料层和设置在涂料层远离基材一侧的光学薄膜层，制备涂料层的原料包括涂料主剂和稀释剂，按质量份数计，涂料主剂包括：树脂15份～35份、颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份，光学薄膜层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，高折射率层和低折射率层交替设置，且光学薄膜层中远离基材的最外层为高折射率层，电子设备的中框的Lab颜色色度指标为：L＝55～65，a＝10～20，b＝15～30。上述电子设备的中框具有粉金色的外观，亮度较高，且不会对电子设备的信号造成干扰。

Description

电子设备的中框及其制作方法、电子设备的外壳和电子设备
技术领域
本发明涉及电子设备领域，特别是涉及一种电子设备的中框及其制作方法、电子设备的外壳和电子设备。
背景技术
随着电子设备的广泛使用，人们在不断追寻电子设备的高性能的同时也在追寻时尚的外观，在这些时尚的外观中黄金的颜色与玫瑰的颜色是人们一直追求的颜色效果，同时在视觉效果上拥有黄金和玫瑰色的粉金色更是人们所喜爱的颜色。
在人们最经常使用的电子设备中，手机是基本上每天都会使用的设备。在手机的外观中，前后盖基本上都是玻璃和复合板，通过丝印和贴膜的方式来实现不同的外观颜色，但是中框部分就无法使用玻璃和复合板了，中框所使用的材料往往是铝合金和铝塑混合物，而且由于中框的外形特殊通常无法采用面板的那些生产方式来实现不同的外观颜色。
在中框上要想得到粉金色，通常采用直接镀金属的方式或喷涂油墨的方式。然而，由于金属层会对电子信号产生干扰且通常所镀金属包括金，金本身存在价格昂贵的问题，导致采用直接镀金属得到粉金色的方式无法得到广泛应用。而采用喷涂油墨的方式，由于材料的限制，色彩的鲜艳程度和亮度会降低，而且粉金色的油墨配比困难，无法达到直接镀金属的方式所产生的粉金色的绚丽效果。
发明内容
基于此，有必要提供一种外观呈现鲜艳和亮度较高的粉金色且不会对电子设备的信号造成干扰的电子设备的中框及其制作方法。
此外，还有必要提供一种电子设备的外壳及电子设备。
一种电子设备的中框，包括：基材、设置在所述基材上的涂料层和设置在所述涂料层远离所述基材一侧的光学薄膜层，制备所述涂料层的原料包括涂料主剂，按质量份数计，所述涂料主剂包括：树脂15份～35份、颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份，所述颜料包括质量比为1∶(1～1.25)的萘酚红和银粉，所述光学薄膜层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，所述高折射率层和所述低折射率层交替设置，且所述光学薄膜层中远离所述基材的最外层为高折射率层，所述电子设备的中框的Lab颜色色度指标为：L＝55～65，a＝10～20，b＝15～30。
在其中一个实施例中，制备所述涂料层的原料还包括稀释剂，所述稀释剂与所述涂料主剂的质量比为(2～4)∶1。
在其中一个实施例中，所述树脂为丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物；及/或，所述溶剂为783慢干水。
在其中一个实施例中，所述涂料层的厚度为13μm～17μm。
在其中一个实施例中，所述光学薄膜层的总厚度为200nm～400nm；及/或，所述高折射率层和所述低折射率层的总层数为3层～5层。
在其中一个实施例中，所述光学薄膜层由依次层叠设置的第一高折射率层、低折射率层和第二高折射率层组成，所述第一高折射率层较所述第二高折射率层更靠近所述涂料层，所述第一高折射率层的厚度为20nm～50nm，所述低折射率层的厚度为150nm～180nm，所述第二高折射率层的厚度为20nm～40nm。
在其中一个实施例中，所述光学薄膜层由依次层叠设置的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层和第三高折射率层组成，所述第一高折射率层较所述第三高折射率层更靠近所述涂料层，所述第一高折射率层的厚度为40nm～60nm，所述第一低折射率层的厚度为105nm～125nm，所述第二高折射率层的厚度为38nm～60nm，所述第二低折射率层的厚度为20nm～40nm，所述第三高折射率层的厚度为15nm～25nm。
在其中一个实施例中，所述高折射率层的材料选自Nb2O5、TiO2、Si3N4及SiOxNy中的一种，其中，0＜x≤2，0＜y≤3；及/或，所述低折射率层的材料为SiO2。
在其中一个实施例中，所述电子设备的中框还包括设置在所述涂料层和所述光学薄膜层之间的第一UV胶层和/或设置在所述光学薄膜层远离所述基材的一侧的第二UV胶层。
在其中一个实施例中，所述第一UV胶层的厚度为8μm～12μm；所述第二UV胶层的厚度为8μm～12μm。
一种电子设备的中框的制作方法，包括如下步骤：
在基材上形成涂料层，制备所述涂料层的原料包括涂料主剂，按质量份数计，所述涂料主剂包括：树脂15份～35份、颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份，所述颜料包括质量比为1∶(1～1.25)的萘酚红和银粉；及
在所述涂料层远离所述基材的一侧形成光学薄膜层，制作电子设备的中框；其中，所述光学薄膜层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，所述高折射率层和所述低折射率层交替设置，且所述光学薄膜层中远离所述基材的最外层为高折射率层，所述电子设备的中框的Lab颜色色度指标为：L＝55～65，a＝10～20，b＝15～30。
在其中一个实施例中，采用喷涂的方式在所述基材上形成所述涂料层；及/或，采用溅射的方式形成所述光学薄膜层。
在其中一个实施例中，所述在所述涂料层远离所述基材的一侧形成光学薄膜层的步骤之前，还包括：在所述涂料层远离所述基材的一侧形成第一UV胶层，所述光学薄膜层形成在所述第一UV胶层远离所述基材的一侧；及/或，所述在所述涂料层远离所述基材的一侧形成光学薄膜层的步骤之后，还包括：在所述光学薄膜层远离所述基材的一侧形成第二UV胶层。
一种电子设备的外壳，包括盖板和中框，所述中框为上述的电子设备的中框或上述的电子设备的中框的制作方法制作的电子设备的中框。
一种电子设备，包括上述的外壳以及位于所述外壳内的电路板组件。
上述电子设备的中框包括基材、涂料层和光学薄膜层。通过调整涂料层的原料组成，使得涂料层呈现粉红色，并结合光学薄膜层的膜层设计，与涂料层配合，使得电子设备的中框的Lab颜色色度指标为：L＝55～65，a＝10～20，b＝15～30，呈现粉金色。同时，光学薄膜层包括高折射率层和低折射率层，且高折射率层位于远离基材的最外层，膜层相互干涉、配合，能够提高电子设备的中框的整体亮度，较单纯涂料层的颜色效果更加绚丽，亮度更高。另外，上述电子设备的中框中涂料层和光学薄膜层相互配合，无需镀金属层，不会对电子设备的信号造成干扰。因此，上述电子设备的中框不仅具有亮度高、颜色鲜艳的粉金色的外观且不会对电子信号造成干扰。
附图说明
图1为一实施方式的电子设备的中框的结构示意图；
图2为图1所示的电子设备的中框中光学薄膜层的一种结构示意图；
图3为图1所示的电子设备的中框中光学薄膜层的另一种结构示意图；
图4为一实施方式的电子设备的中框的制作方法的工艺流程图。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将结合具体实施方式对本发明进行更全面的描述。具体实施方式中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体地实施例的目的，不是旨在于限制本发明。
请参阅图1，一实施方式的电子设备的中框100，包括：基材110、设置在基材110上的涂料层120和设置在涂料层120远离基材110一侧的光学薄膜层130。
具体地，电子设备可以为手持式电子设备。在其中一个实施例中，电子设备为手机、平板电脑等。
具体地，基材110为已完成形状制作，暂未上色的中框本体。例如，基材110为可以注塑的材料，如铝合金和铝塑混合物。
其中，涂料层120的原料包括涂料主剂和稀释剂。具体地，稀释剂与涂料的质量比为(2～4)∶1。进一步地，稀释剂与涂料的质量比为3∶1。在喷涂过程中，通常加入稀释剂降低树脂粘度，改善工艺性能。在其中一个实施例中，稀释剂为783慢干水，是一种由酮类、酯类、苯类及表面活性剂混合而成的透明液体。
涂料主剂包括树脂、颜料、溶剂和助剂。具体地，按质量份数计，涂料主剂包括：树脂15份～35份、颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份。
在其中一个实施例中，树脂为丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物(ABS树脂)。树脂为涂料主剂中的成膜物质，还可以提高涂料层120的硬度，改善光泽、抗水性、耐酸碱性等化学性能。在本实施方式中，由于中框基材110的材质为铝合金或铝塑混合物，采用ABS树脂作为成膜物质，较其他树脂，如环氧树脂、酚醛树脂等，能够提高涂料层120与基材110之间的附着力。具体地，树脂的质量份数为15份、18份、20份、25份、30份或35份。
颜料包括质量比为1∶(1～1.25)的萘酚红和银粉。进一步地，颜料包括质量比为1∶1的萘酚红和银粉。颜料经精细研磨以粉末形式加入涂料中，使涂料层120呈现粉红色。在其中一个实施例中，颜料的质量份数为20份、25份、30份、35份或40份。
溶剂的质量份数是25份、30份、35份、40份或45份。在其中一个实施例中，溶剂为783慢干水，是一种由酮类、酯类、苯类及表面活性剂混合而成的透明液体。783慢干水属特慢干溶剂，主要用来做丝印油墨稀释剂，溶解力强、无毒、气味小、沸点高、挥发慢、不含水，不含氯和重金属，物理、化学性能稳定及流平性好等特点，且其溶解性能优良，特别是在蒸发的后阶段能发挥高溶解力，使涂膜的平整度好而无桔皮、光泽好。
助剂的质量份数为1份、2份、3份、5份或6份。在其中一个实施例中，助剂为分散剂。助剂由多种特性化合物组合而成，少量加入涂料当中，获得改善涂料作业性的作用。例如，助剂为消泡剂、流平剂或分散剂。具体在本实施方式中，助剂为分散剂，型号为A-002。可以理解，在其他实施例中，助剂不限于为上述物质，还可以为本领域常用的助剂，在此不再赘述。
具体地，涂料层120采用喷涂的方式形成在基材110上。在其中一个实施例中，涂料层120的制备过程具体如下：称取涂料主剂和稀释剂。其中，按质量份数计，涂料主剂包括：树脂15份～35份、颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份；将涂料主剂搅拌混合均匀，然后用420目的网纱进行过滤(目标为筛除掉大颗粒物质)，再加入稀释剂混合均匀，使用喷枪将混合后的涂料主剂和稀释剂均匀地喷涂于基材110表面。在喷涂过程中，通常加入稀释剂降低树脂粘度，改善工艺性能。
进一步地，涂料层120的厚度为13μm～17μm。在其中一个实施例中，涂料层120的厚度为13μm、14μm、15μm、16μm或17μm。在本实施方式中，涂料层120主要是提供电子设备的中框100的主体色调，并作为中框基材110与光学薄膜层130之间的过渡层。
具体地，光学薄膜层130包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，高折射率层和低折射率层交替设置，且光学薄膜层130中远离基材110的最外层为高折射率层。具体地，光学薄膜层130的总层数为3层～5层。光学薄膜层130的总厚度为200nm～400nm。在其中一个实施例中，光学薄膜层130的总厚度为200nm、250nm、300nm、350nm或400nm。进一步地，光学薄膜层130的总厚度为200nm～300nm，更进一步地，光学薄膜层130的总厚度为250nm～300nm。
请参阅图2，在其中一些实施例中，光学薄膜层130由依次层叠设置的第一高折射率层131、第一低折射率层133和第二高折射率层135组成，第一高折射率层131较第二高折射率层135更靠近涂料层120，第一高折射率层131的厚度为20nm～50nm，第一低折射率层133的厚度为150nm～180nm，第二高折射率层135的厚度为20nm～40nm。具体地，第一高折射率层131的厚度为20nm、25nm、30nm、35mn、40nm、45nm或50nm。第一低折射率层133的厚度为150nm、160nm、170nm或180nm。第二高折射率层135的厚度为20nm、25nm、30nm、35nm或40nm。
具体地，高折射率层的材料选自Nb2O5、TiO2、Si3N4及SiOxNy中的一种。其中，0＜x≤2，0＜y≤3。低折射率层的材料为SiO2。在本文中，把折射率在1.8以上的叫做高折射率材料，折射率在1.5以下的叫做低折射率材料。
请参阅图3，在另一些实施例中，光学薄膜层130由依次层叠设置的第一高折射率层131、第一低折射率层133、第二高折射率层135、第二低折射率层137和第三高折射率层139组成，第一高折射率层131较第三高折射率层139更靠近涂料层120，第一高折射率层131的厚度为40nm～60nm，第一低折射率层133的厚度为105nm～125nm，第二高折射率层135的厚度为38nm～60nm，第二低折射率层137的厚度为20nm～40nm，第三高折射率层139的厚度为15nm～25nm。具体地，第一高折射率层131的厚度为40nm、45nm、50nm、55mn或60nm。进一步地，第一高折射率层131的厚度为44nm～57nm。第一低折射率层133的厚度为105nm、110nm、115nm、120nm或125nm。进一步地，第一低折射率层133的厚度为114nm～123nm。第二高折射率层135的厚度为38nm、45nm、50nm、55nm或60nm。进一步地，第二高折射率层135的厚度为38nm～57nm。第二低折射率层137的厚度为20nm、25nm、30nm、35nm或40nm。第三高折射率层139的厚度为15nm、20nm或25nm。进一步地，第三高折射率层139的厚度为17nm～24nm。
可以理解，光学薄膜层130的总层数不限于为3层或5层，还可以为7层、9层等，但综合考虑成本、加工效率等因素，将光学薄膜层130的总层数设置为3层或5层。
具体地，高折射率层的材料选自Nb2O5、TiO2、Si3N4及SiOxNy中的一种。其中，0＜x≤2，0＜y≤3。低折射率层的材料为SiO2。
光学薄膜层130的作用主要是把中框的整体颜色调整到需要的色彩范围以及对中框的整体亮度进行调整。由于采用涂料层120作为底色无法达到粉金色的效果，所以在涂料层120上形成多层的一个光学薄膜层130，在本实施方式中，通过调整光学薄膜层130的各膜层层叠顺序、各膜层厚度及材料，使得中框的反射颜色呈现粉金色的颜色所规定的LAB值的范围，且够提高电子设备的中框100的亮度。
进一步地，为了保证中框的均匀性以及硬度，光学薄膜层130采用溅射镀膜的方式，且在溅射镀膜过程中，采用中框在机台中镀公转加自转的方式。
在一些实施例中，电子设备的中框100还包括第一UV胶层140和第二UV胶层150。第一UV胶层140设置在涂料层120和光学薄膜层130之间，第二UV胶层150设置在光学薄膜层130远离基材110的一侧。第一UV胶层140的厚度为8μm～12μm。第二UV胶层150的厚度为8μm～12μm。
第一UV胶层140的主要作用是保护涂料层120，起到增强涂料层120附着力的作用，同时还可起到绝缘和隔热的作用，且第一UV胶层140不会对电子设备的中框100的颜色造成干扰。第一UV胶层140为透明保护层。采用UV胶层作为保护层，能够在较低温度和紫外光照下快速固化成型，较其他需要高温加热的保护层，对涂料层120的损害小。具体地，第一UV胶层140的主要成份为紫外光固型树脂。例如，第一UV胶层140的原料包括UV主剂和稀释剂。UV主剂包括：单体、预聚体、光引发剂和助剂。预聚体可以为环氧丙烯酸酯、丙烯酸树脂、聚氨酯丙烯酸酯等。单体为IBOA、HDDA的、TMPTA等，光引发剂为二苯甲酮等。可以理解，上述仅列出了几种常用的UV胶层的原料，但UV胶层的原料并不限于此。
进一步地，第一UV胶层140在使用时，将UV主剂和稀释剂按一定比例调配。在其中一个实施例中，UV主剂和稀释剂的质量比为1∶1。稀释剂为783慢干水，是一种由酮类、酯类、苯类及表面活性剂混合而成的透明液体。
第一UV胶层140的制备工艺包括：预烤温度为50℃～60℃，预烤时间为3min～5min；喷房湿度为45％～70％，喷房温度为18℃～25℃；UV炉的照射能量为900mj/cm2～1200mj/cm2。上述仅列出了一种常用的UV胶层的制备工艺，但并不限于此，还可以为本领域常用的UV胶层的制备工艺。
进一步地，第一UV胶层140的厚度为8μm～12μm。在其中一个实施例中，第一UV胶层140的厚度为8μm、9μm、10μm、11μm或12μm。
第二UV胶层150的作用主要是保护光学薄膜层130，同时提高电子设备的中框100整体的耐磨性。第二UV胶层150的组成及制备工艺与第一UV胶层140相同，在此不再赘述。
进一步地，上述电子设备的中框的Lab颜色色度指标为：L＝55～65，a＝10～20，b＝15～30。
上述实施方式的电子设备的中框100至少具有以下优点：
(1)上述电子设备的中框100包括依次设置的基材110、涂料层120、第一UV胶层140、光学薄膜层130和第二UV胶层150。通过调整涂料层120的原料组成，使得涂料层120呈现粉红色。并结合光学薄膜层130的膜层设计，与涂料层120的组成配合，使得中框的颜色呈现粉金色的颜色所规定的LAB值的范围，同时，提高中框的整体亮度，较单纯涂料层120的颜色效果更加绚丽，色彩效果更佳。且上述电子设备的中框100中不含有金属层，不会对电子设备的信号造成干扰。
(2)上述电子设备的中框100中的第一UV胶层140能够保护涂料层120，起到增强涂料层120附着力的作用，第二UV胶层150能够保护光学薄膜层130，且第一UV胶层140和第二UV胶层150不会对中框的颜色造成影响。
请参阅图4，一实施方式的电子设备的中框的制作方法，为上述实施方式的电子设备的中框的一种制作方法，包括如下步骤：
步骤S210：在基材上形成涂料层。
其中，制备涂料层的原料包括涂料主剂，按质量份数计，涂料主剂包括：树脂15份～35份、颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份。制备涂料层的原料还包括稀释剂。具体地，稀释剂与涂料的质量比为(2～4)∶1。进一步地，稀释剂与涂料的质量比为3∶1。在喷涂过程中，通常加入稀释剂降低树脂粘度，改善工艺性能。在其中一个实施例中，稀释剂为783慢干水，是一种由酮类、酯类、苯类及表面活性剂混合而成的透明液体。
在其中一个实施例中，树脂为丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物(ABS树脂)。树脂为涂料主剂中的成膜物质，还可以提高涂料层的硬度，改善光泽、抗水性、耐酸碱性等化学性能。在本实施方式中，由于中框基材的材质为铝合金或铝塑混合物，采用ABS树脂作为成膜物质，较其他树脂，如环氧树脂、酚醛树脂等，能够提高涂料层与基材之间的附着力。具体地，树脂的质量份数为15份、18份、20份、25份、30份或35份。
颜料包括质量比为1∶(1～1.25)的萘酚红和银粉。进一步地，颜料包括质量比为1∶1的萘酚红和银粉。颜料经精细研磨以粉末形式加入涂料中，使涂料层呈现粉红色。在其中一个实施例中，颜料的质量份数为20份、25份、30份、35份或40份。
溶剂的质量份数是25份、30份、35份、40份或45份。在其中一个实施例中，溶剂为783慢干水，是一种由酮类、酯类、苯类及表面活性剂混合而成的透明液体。783慢干水属特慢干溶剂，主要用来做丝印油墨稀释剂，溶解力强、无毒、气味小、沸点高、挥发慢、不含水，不含氯和重金属，物理、化学性能稳定及流平性好等特点，且其溶解性能优良，特别是在蒸发的后阶段能发挥高溶解力，使涂膜的平整度好而无桔皮、光泽好。
助剂的质量份数为1份、2份、3份、5份或6份。在其中一个实施例中，助剂为分散剂。助剂由多种特性化合物组合而成，少量加入涂料当中，获得改善涂料作业性的作用。例如，助剂为消泡剂、流平剂或分散剂。具体在本实施方式中，助剂为分散剂，型号为A-002。可以理解，在其他实施例中，助剂不限于为上述物质，还可以为本领域常用的助剂，在此不再赘述。
具体地，采用喷涂的方式在基材上形成涂料层。在其中一个实施例中，在基材上形成涂料层的过程具体如下：称取涂料主剂和稀释剂。其中，按质量份数计，涂料主剂包括：树脂15份～35份、颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份；将涂料主剂搅拌混合均匀，然后用420目的网纱进行过滤(目标为筛除掉大颗粒物质)，再加入稀释剂混合均匀，使用喷枪将混合后的涂料主剂和稀释剂均匀地喷涂于基材表面。在喷涂过程中，通常加入稀释剂降低树脂粘度，改善工艺性能。
进一步地，涂料层的厚度为13μm～17μm。在其中一个实施例中，涂料层的厚度为13μm、14μm、15μm、16μm或17μm。在本实施方式中，涂料层主要是提供电子设备的中框的主体色调，并作为中框基材与光学薄膜层之间的过渡层。
步骤S220：在涂料层远离基材的一侧形成第一UV胶层。
其中，第一UV胶层的厚度为8μm～12μm。在其中一个实施例中，第一UV胶层的厚度为8μm、9μm、10μm、11μm或12μm。第一UV胶层的主要作用是保护涂料层，起到增强涂料层附着力的作用，同时还可起到绝缘和隔热的作用，且第一UV胶层不会对电子设备的中框的颜色造成干扰。第一UV胶层为透明保护层。采用UV胶层作为保护层，能够在较低温度和紫外光照下快速固化成型，较其他需要高温加热的保护层，对涂料层的损害小。具体地，第一UV胶层的主要成份为紫外光固型树脂。例如，第一UV胶层的原料包括UV主剂和稀释剂。UV主剂包括：单体、预聚体、光引发剂和助剂。预聚体可以为环氧丙烯酸酯、丙烯酸树脂、聚氨酯丙烯酸酯等。单体为IBOA、HDDA的、TMPTA等，光引发剂为二苯甲酮等。可以理解，上述仅列出了几种常用的UV胶层的原料，但UV胶层的原料并不限于此。
进一步地，第一UV胶层在使用时，将UV主剂和稀释剂按一定比例调配。在其中一个实施例中，UV主剂和稀释剂的质量比为1∶1。稀释剂为783慢干水，是一种由酮类、酯类、苯类及表面活性剂混合而成的透明液体。
第一UV胶层的制备工艺包括：预烤温度为50℃～60℃，预烤时间为3min～5min；喷房湿度为45％～70％，喷房温度为18℃～25℃；UV炉的照射能量为900mj/cm2～1200mj/cm2。上述仅列出了一种常用的UV胶层的制备工艺，但并不限于此，还可以为本领域常用的UV胶层的制备工艺。
步骤S230：在第一UV胶层远离基材的一侧形成光学薄膜层。
采用溅射镀膜的方式形成光学薄膜层。进一步地，为了保证中框的均匀性以及硬度，在溅射镀膜过程中，采用中框在机台中镀公转加自转的方式。溅射镀膜过程中的工艺参数可以为本领域常用的工艺参数，在此不再赘述。
具体地，光学薄膜层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，高折射率层和低折射率层交替设置，且光学薄膜层远离基材的最外层为高折射率层。具体地，光学薄膜层的总层数为3层～5层。光学薄膜层的总厚度为200nm～400nm。在其中一个实施例中，光学薄膜层的总厚度为200nm、250nm、300nm、350nm或400nm。进一步地，光学薄膜层的总厚度为200nm～300nm，更进一步地，光学薄膜层的总厚度为250nm～300nm。
在其中一些实施例中，光学薄膜层由依次层叠设置的第一高折射率层、第一低折射率层和第二高折射率层组成，第一高折射率层较第二高折射率层更靠近涂料层，第一高折射率层的厚度为20nm～50nm，第一低折射率层的厚度为150nm～180nm，第二高折射率层的厚度为20nm～40nm。具体地，第一高折射率层的厚度为20nm、25nm、30nm、35mn、40nm、45nm或50nm。第一低折射率层的厚度为150nm、160nm、170nm或180nm。第二高折射率层的厚度为20nm、25nm、30nm、35nm或40nm。
具体地，高折射率层的材料选自Nb2O5、TiO2、Si3N4及SiOxNy中的一种。其中，0＜x≤2，0＜y≤3。低折射率层的材料为SiO2。在本文中，把折射率在1.8以上的叫做高折射率材料，折射率在1.5以下的叫做低折射率材料。
在另一些实施例中，光学薄膜层由依次层叠设置的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层和第三高折射率层组成，第一高折射率层较第三高折射率层更靠近涂料层，第一高折射率层的厚度为40nm～60nm，第一低折射率层的厚度为105nm～125nm，第二高折射率层的厚度为38nm～60nm，第二低折射率层的厚度为20nm～40nm，第三高折射率层的厚度为15nm～25nm。具体地，第一高折射率层的厚度为40nm、45nm、50nm、55mn或60nm。进一步地，第一高折射率层的厚度为44nm～57nm。第一低折射率层的厚度为105nm、110nm、115nm、120nm或125nm。进一步地，第一低折射率层的厚度为114nm～123nm。第二高折射率层的厚度为38nm、45nm、50nm、55nm或60nm。进一步地，第二高折射率层的厚度为38nm～57nm。第二低折射率层的厚度为20nm、25nm、30nm、35nm或40nm。第三高折射率层的厚度为15nm、20nm或25nm。进一步地，第三高折射率层的厚度为17nm～24nm。
可以理解，光学薄膜层的总层数不限于为3层或5层，还可以为7层、9层等，但综合考虑成本、加工效率等因素，将光学薄膜层的总层数设置为3层或5层。
具体地，高折射率层的材料选自Nb2O5、TiO2、Si3N4及SiOxNy中的一种。其中，0＜x≤2，0＜y≤3。低折射率层的材料为SiO2。
光学薄膜层的作用主要是把中框的整体颜色调整到需要的色彩范围以及对中框的整体亮度进行调整。由于采用涂料层作为底色无法达到粉金色的效果，所以在涂料层上形成多层的一个光学薄膜层，在本实施方式中，通过调整光学薄膜层的各膜层层叠顺序、各膜层厚度及材料，使得中框的反射颜色呈现粉金色的颜色所规定的LAB值的范围，且够提高电子设备的中框的亮度。
步骤S240：在光学薄膜层远离基材的一侧形成第二UV胶层，制作电子设备的中框。
第二UV胶层的作用主要是保护光学薄膜层及保护整个中框，提高电子设备的中框的耐磨性等性能。第二UV胶层的组成及制备工艺与第一UV胶层相同，在此不再赘述。
进一步地，上述电子设备的中框的Lab颜色色度指标为：L＝55～65，a＝10～20，b＝15～30。
上述实施方式的电子设备的中框的制作方法至少具有以下优点：
(1)上述电子设备的中框的制作方法在基材上依次形成涂料层、第一UV胶层、光学薄膜层和第二UV胶层。通过调整涂料层的原料组成，使得涂料层呈现粉红色。并结合光学薄膜层的膜层设计，与涂料层的组成配合，使得中框的颜色呈现粉金色的颜色所规定的LAB值的范围，同时，提高中框的整体亮度，较单纯涂料层的颜色效果更加绚丽，色彩效果更佳。且采用上述电子设备的中框的制作方法将油墨喷涂和镀膜方式结合，不会对电子设备的信号造成干扰。
(2)上述电子设备的中框中的第一UV胶层能够保护涂料层，起到增强涂料层附着力的作用，第二UV胶层能够保护光学薄膜层，且第一UV胶层和第二UV胶层均为透明保护层，在制作过程中采用UV光照和低温加热即可，不会对电子设备的中框的颜色造成影响。
(3)上述电子设备的中框的涂料层和光学薄膜层的制备工艺成熟，加工方便。
(4)上述电子设备的中框的调试颜色方便，批量生产稳定性好。
一实施方式的电子设备的外壳，包括盖板和上述实施方式的电子设备的中框。具体地，电子设备可以为手持式电子设备。在其中一个实施例中，电子设备为手机、平板电脑等。上述电子设备的外壳具有粉金色的中框以及较高的亮度，色彩绚丽，满足使用者对粉金色外观的需求。
一实施方式的电子设备，包括上述实施方式的电子设备的外壳以及位于外壳内的电路板组件。具体地，电子设备可以为手持式电子设备。在其中一个实施例中，电子设备为手机、平板电脑等。上述电子设备具有粉金色的中框以及较高的亮度，色彩绚丽，满足使用者对粉金色外观的需求。
以下为具体实施例部分：
实施例1
本实施例的电子设备的中框的制作过程具体如下：
(1)在基材上喷涂形成厚度为16μm的涂料层。其中，涂料层的原料由质量比为1∶3的涂料主剂和783慢干水(稀释剂)组成。按质量份数计，涂料主剂由ABS树脂20份、质量比为1∶1的萘酚红和银粉(颜料)30份、783慢干水(溶剂)30份及分散剂(助剂)2份组成。
(2)在涂料层远离基材的一侧形成厚度为12μm的第一UV胶层。第一UV胶层的原料由质量比为50∶50∶2的783慢干水(稀释剂)、光引发剂和消泡剂组成。
(3)在第一UV胶层远离基材的一侧依次溅射形成第一高折射率层、第一低折射率层和第二高折射率层，得到光学薄膜层。其中，第一高折射率层的材料为TiO2，厚度为24nm；第一低折射率层的材料为SiO2，厚度为177nm；第二高折射率层的材料为TiO2，厚度为27nm。
(4)在第二高折射率层远离基材的一侧形成厚度为12μm的第二UV胶层。第二UV胶层的原料由质量比为1∶1的UV主剂和783慢干水(稀释剂)组成。
实施例2
本实施例的电子设备的中框的制作过程具体如下：
(1)在基材上喷涂形成厚度为16μm的涂料层。其中，涂料层的原料由质量比为1∶3的涂料主剂和783慢干水(稀释剂)组成。按质量份数计，涂料主剂由ABS树脂20份、质量比为1∶1的萘酚红和银粉(颜料)30份、783慢干水(溶剂)30份及分散剂(助剂)2份组成。
(2)在涂料层远离基材的一侧形成厚度为12μm的第一UV胶层。第一UV胶层的原料由质量比为50∶50∶2的783慢干水(稀释剂)、光引发剂和消泡剂组成。
(3)在第一UV胶层远离基材的一侧依次溅射形成第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层和第三高折射率层，得到光学薄膜层。其中，第一高折射率层的材料为Nb2O5，厚度为44nm；第一低折射率层的材料为SiO2，厚度为114nm；第二高折射率层的材料为Nb2O5，厚度为50nm；第二低折射率层的材料为SiO2，厚度为32nm；第三高折射率层的材料为Nb2O5，厚度为19nm。
(4)在第三高折射率层远离基材的一侧形成厚度为12μm的第二UV胶层。第二UV胶层的原料由质量比为1∶1的UV主剂和783慢干水(稀释剂)组成。
实施例3
实施例3的电子设备的中框的制作过程与实施例2的电子设备的中框的制作过程相似，区别在于：光学薄膜层的材料及厚度不同。实施例3的光学薄膜层中，第一高折射率层的材料为TiO2，厚度为45nm；第一低折射率层的材料为SiO2，厚度为120nm。第二高折射率层的材料为TiO2，厚度为38nm；第二低折射率层的材料为SiO2，厚度为40nm；第三高折射率层的材料为TiO2，厚度为17nm。
实施例4
实施例4的电子设备的中框的制作过程与实施例2的电子设备的中框的制作过程相似，区别在于：光学薄膜层的材料及厚度不同。实施例4的光学薄膜层中，第一高折射率层的材料为SiOxNy，厚度为55nm；第一低折射率层的材料为SiO2，厚度为123nm。第二高折射率层的材料为SiOxNy，厚度为50nm；第二低折射率层的材料为SiO2，厚度为21nm；第三高折射率层的材料为SiOxNy，厚度为24nm。
实施例5
实施例5的电子设备的中框的制作过程与实施例2的电子设备的中框的制作过程相似，区别在于：实施例5的电子设备的中框中不含有第一UV胶层。且实施例5的光学薄膜层中，第一高折射率层的材料为Nb2O5，厚度为57nm；第一低折射率层的材料为SiO2，厚度为117nm；第二高折射率层的材料为Nb2O5，厚度为57nm；第二低折射率层的材料为SiO2，厚度为30nm；第三高折射率层的材料为Nb2O5，厚度为17nm。
表1实施例的膜层设计
Figure BDA0002804716350000151
Figure BDA0002804716350000161
以下为测试部分：
1、利用色彩计求出利用D65光源得到实施例制作的电子设备的中框的CIE1976LAB色彩体系的L、a和b色度值，如下表1所示。
表1实施例的色度值和亮度值数据
L值 a值 b值
实施例1 63 12 20
实施例2 63 13 17
实施例3 60 15 25
实施例4 63 19 25
实施例5 63 19 25
从上表1中可以看出，实施例的电子设备的中框的Lab颜色色度指标为：L＝55～65，a＝10～20，b＝15～30，外观呈现鲜艳和亮度较高的粉金色。
2.对实施例制备的电子设备的中框的颜色层(包括涂料层、UV胶层和光学薄膜层)与基材之间的附着力以及颜色层的震动耐磨性进行测试，得到如下表2所示的结果。其中，附着力测试采用划百格用3M胶带测试，根据破损状况来确认对应的标准。附着力为5B表示附着力好。耐磨性测试中采用钢丝绒进行测试。
表2实施例的色度值和亮度值数据
附着力 震动耐磨性
实施例1 5B 无脱落
实施例2 5B 无脱落
实施例3 5B 无脱落
实施例4 5B 无脱落
实施例5 5B 无脱落
从上述实验数据中可以看出，上述实施例的电子设备的中框中颜色层与基材之间的附着力好，且耐磨性好。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (15)

1.一种电子设备的中框，其特征在于，包括：基材、设置在所述基材上的涂料层和设置在所述涂料层远离所述基材一侧的光学薄膜层，制备所述涂料层的原料包括涂料主剂，按质量份数计，所述涂料主剂包括：树脂15份～35份、颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份，所述颜料包括质量比为1:(1～1.25)的萘酚红和银粉，所述光学薄膜层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，所述高折射率层和所述低折射率层交替设置，且所述光学薄膜层中远离所述基材的最外层为高折射率层，所述电子设备的中框的Lab颜色色度指标为：L＝55～65，a＝10～20，b＝15～30；所述光学薄膜层的厚度为250nm～300nm；所述涂料层的厚度为13μm～17μm。
2.根据权利要求1所述的电子设备的中框，其特征在于，制备所述涂料层的原料还包括稀释剂，所述稀释剂与所述涂料主剂的质量比为(2～4):1。
3.根据权利要求1所述的电子设备的中框，其特征在于，所述树脂为丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物。
4.根据权利要求1～3任一项所述的电子设备的中框，其特征在于，所述溶剂为783慢干水。
5.根据权利要求1所述的电子设备的中框，其特征在于，所述高折射率层和所述低折射率层的总层数为3层～5层。
6.根据权利要求1所述的电子设备的中框，其特征在于，所述光学薄膜层由依次层叠设置的第一高折射率层、低折射率层和第二高折射率层组成，所述第一高折射率层较所述第二高折射率层更靠近所述涂料层，所述第一高折射率层的厚度为20nm～50nm，所述低折射率层的厚度为150nm～180nm，所述第二高折射率层的厚度为20nm～40nm。
7.根据权利要求1所述的电子设备的中框，其特征在于，所述光学薄膜层由依次层叠设置的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层和第三高折射率层组成，所述第一高折射率层较所述第三高折射率层更靠近所述涂料层，所述第一高折射率层的厚度为40nm～60nm，所述第一低折射率层的厚度为105nm～125nm，所述第二高折射率层的厚度为38nm～60nm，所述第二低折射率层的厚度为20nm～40nm，所述第三高折射率层的厚度为15nm～25nm。
8.根据权利要求1～3及5～7任一项所述的电子设备的中框，其特征在于，所述高折射率层的材料选自Nb2O5、TiO2、Si3N4及SiOxNy中的一种，其中，0<x≤2，0<y≤3；及/或，所述低折射率层的材料为SiO2。
9.根据权利要求1～3及5～7任一项所述的电子设备的中框，其特征在于，所述电子设备的中框还包括设置在所述涂料层和所述光学薄膜层之间的第一UV胶层和/或设置在所述光学薄膜层远离所述基材的一侧的第二UV胶层。
10.根据权利要求9所述的电子设备的中框，其特征在于，所述第一UV胶层的厚度为8μm～12μm；所述第二UV胶层的厚度为8μm～12μm。
11.一种电子设备的中框的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
在基材上形成涂料层，制备所述涂料层的原料包括涂料主剂，按质量份数计，所述涂料主剂包括：树脂15份～35份、颜料20份～40份、溶剂25份～45份及助剂1份～6份，所述颜料包括质量比为1:(1～1.25)的萘酚红和银粉；及
在所述涂料层远离所述基材的一侧形成光学薄膜层，制作电子设备的中框；其中，所述光学薄膜层包括至少一个高折射率层和至少一个低折射率层，所述高折射率层和所述低折射率层交替设置，且所述光学薄膜层中远离所述基材的最外层为高折射率层，所述电子设备的中框的Lab颜色色度指标为：L＝55～65，a＝10～20，b＝15～30；所述光学薄膜层的厚度为250nm～300nm；所述涂料层的厚度为13μm～17μm。
12.根据权利要求11所述的电子设备的中框的制作方法，其特征在于，采用喷涂的方式在所述基材上形成所述涂料层；及/或，采用溅射的方式形成所述光学薄膜层。
13.根据权利要求11或12所述的电子设备的中框的制作方法，其特征在于，所述在所述涂料层远离所述基材的一侧形成光学薄膜层的步骤之前，还包括：在所述涂料层远离所述基材的一侧形成第一UV胶层，所述光学薄膜层形成在所述第一UV胶层远离所述基材的一侧；及/或，所述在所述涂料层远离所述基材的一侧形成光学薄膜层的步骤之后，还包括：在所述光学薄膜层远离所述基材的一侧形成第二UV胶层。
14.一种电子设备的外壳，其特征在于，包括盖板和中框，所述中框为权利要求1～10任一项所述的电子设备的中框或权利要求11～13任一项所述的电子设备的中框的制作方法制作的电子设备的中框。
15.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求14所述的外壳以及位于所述外壳内的电路板组件。
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