CN201091030Y - 掩膜盒与掩膜传送盒及其支撑件 - Google Patents
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Abstract
本实用新型的掩膜盒以及掩膜传送盒，是用于避免环境中微粒对掩膜造成污染，以及防止掩膜上的电荷累积所产生的静电放电破坏。此掩膜盒由两盖体所组成；其中至少一盖体上的支撑件或限制件的材料为静电消散材，此种材质可减少电荷累积，并防止静电对掩膜所造成的伤害。
Description
技术领域
本实用新型是有关一种掩膜盒以及掩膜传送盒，特别是指其中可防止静电放电破坏的掩膜盒以及传送盒。
背景技术
近代半导体科技发展迅速，其中光学光刻技术(Optical Lithography)扮演重要的角色，只要是关于图形(pattern)定义，皆需仰赖光学光刻技术。
光学光刻技术在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的掩膜(photo mask)。利用曝光原理，则光源通过掩膜投影至硅晶圆(siliconwafer)可曝光显示特定图案。由于任何附着于掩膜上的尘埃颗粒(如微粒、粉尘或有机物)都会造成投影成像的品质劣化，用于产生图形的掩膜必须保持绝对洁净，因此在一般的晶圆制程中，都提供无尘室(cleanroom)的环境以避免空气中的颗粒污染。然而，目前的无尘室也无法达到绝对无尘状态。现代的半导体制程皆利用抗污染的掩膜盒(reticle pod)进行掩膜的保存与运输，以使掩膜保持洁净。
已知的掩膜盒多以高分子材质所构成，此种高分子材质具有成型容易、价格低廉以及可形成透明体的优点。此种绝缘电阻高的高分子材质容易因为磨擦或拨离而产生静电，尤其是无尘室的作业环境需要保持较低湿度，使高分子材质的掩膜盒非常容易产生与累积电荷。此外，在使用掩膜或是将掩膜移进或是移出掩膜盒时，掩膜表面也会因摩擦而产生静电。掩膜表面的静电容易吸引空气中的污染微粒，更甚者还会造成掩膜上的金属线出现静电放电(electrostaticdischarge，ESD)效应。静电放电所产生的瞬间电流会引起电花(spark)或电弧(arc)，在电花与电弧发生的同时，强大的电流伴随着高温，导致金属线的氧化与溶解，因而改变了掩膜的图案。
目前针对静电放电所解决的方法有许多，首先是改善作业环境，使空气中维持适当的湿度、作业人员穿着具接地效应的衣物或使用离子扇消除环境中的静电。但是改变作业环境的具有许多无法预测的变因，没有办法完全解决静电对掩膜的伤害。
另一种方法是改变掩膜盒组成组件的材质，美国专利号US 6,513,654提出，设置具接地功能的掩膜支撑件，在掩膜盒与配合机台接触时，掩膜支撑件可将掩膜上的电荷导出。另外美国专利号US 6,247,599提出，在掩膜盒的底盘、罩盖或提把上增设导电板，由此减少电荷的累积。然以上方法均须仰赖导电组件接地时释出电荷，但是当静电由导电组件释出时，仍会产生电流，还是会造成放电使得掩膜受到损伤。
有鉴于以上缺点，本实用新型所提供的掩膜支撑件或限制件，乃针对先前技术加以改良。
实用新型内容
基于解决上述先前技术的缺点，本实用新型所提供的掩膜盒，是将与掩膜直接接触的支撑件或限制件作材质上的改变，利用静电消散材质做为该支撑件或限制件的材料，即便静电消散材质会因为磨擦而产生电荷，但位于附近的金属材料会随即将电荷导出，避免电荷累积以及静电放电效应。
本实用新型的主要目的在于提供一种具有静电消散材质的掩膜支撑件，可减少电荷累积，并且防止静电对掩膜所造成的伤害。
本实用新型的另一目的在于提供一种具有静电消散材质的掩膜支撑件，此种材料可持续导出电荷，避免瞬间放电对掩膜产生高温伤害。
本实用新型的又一目的在于提供一种具有静电消散材质的掩膜限制件，可减少电荷累积，并且防止静电对掩膜所造成的伤害。
本实用新型的再一目的在于提供一种具有静电消散材质的掩膜限制件，此种材料可持续导出电荷，避免瞬间放电对掩膜产生高温伤害。
本实用新型提供一种掩膜盒，其特征在于，该掩膜盒包括：
一第一盖体；以及
一第二盖体，与第一盖体组合形成一内部空间，可容置至少一掩膜；
其中，该第一以及第二盖体至少其中之一具有一本体，该本体面对该内部空间的表面上设有多数个支撑件或限制件，该支撑件或限制件材质为静电消散材。
其中该静电消散材质电阻值为104-1011Ω。
其中该些支撑件及限制件为不同材质所构成。
其中该些支撑件及限制件为相同材质所构成。
其中该本体面对该内部空间的表面上设有一导电板，该支撑件设于该导电板上与该导电板电性连接。
其中该第一盖体或第二盖体为金属材质。
其中该支撑件的结构包括：
一平面衬底连接一第一斜面且该第一斜面再连接一第二斜面以形成一整体结构，且于该整体结构的两侧周边区域即设二个第一开口，其中每一该第一开口中配置一上固定组件及一下固定组件。
其中该支撑件的结构包括：
一座体，以多数个支撑点固接于该掩膜传送盒上盖体内各角落的位置；以及
一弯曲弹性组件，其一弯曲的端部结合于该座体上，另一弯曲的端部则呈弹性悬浮状态于该多数个支撑点之间，且进一步包括一顶持面及一扣压面；
其中，当该掩膜传送盒的盖合一掩膜时，该弯曲弹性组件的该顶持面及该扣压面与该掩膜接触并固定之。
一种掩膜传送盒，其特征在于，该掩膜传送盒包括：
一顶盖；以及
一基座，与顶盖组合形成一内部空间，可容置至少一掩膜，该基座面对该内部空间的表面上设有多数个支撑件，该支撑件材质为静电消散材。
本实用新型提供一种掩膜盒，其特征在于，该掩膜盒包括：
一第一盖体；
一第二盖体，与第一盖体组合形成一内部空间，可容置至少一掩膜，且该第一以及第二盖体至少其中之一具有一本体；
多数个限制件，设置于该本体面对内部空间的表面上；以及
多数个支撑件，设置于该本体面对内部空间的表面上，且其材质为静电消散材；
其中该多数个限制件与该多数个支撑件使用多成份射出成型方法结合。
本实用新型提供一种掩膜传送盒，其特征在于，该掩膜传送盒包括：
一顶盖；
一基座，与顶盖组合形成一内部空间，可容置至少一掩膜，且该顶盖以及基座至少其中之一具有一本体；
多数个限制件，设置于该本体面对内部空间的表面上；以及
多数个支撑件，设置于该本体面对内部空间的表面上，且其材质为静电消散材；
其中该多数个限制件与该多数个支撑件使用多成份射出成型方法结合。
本实用新型提供一种支撑件，其特征在于，该支撑件包括：
一平面衬底连接一第一斜面且该第一斜面再连接一第二斜面以形成一整体结构，且于该整体结构的两侧周边区域即设二个第一开口，并于每一该第一开口中配置一上固定组件及一下固定组件，其中该支撑件的材质部份或全部为静电消散材。
其中该静电消散材质电阻值为104-1011Ω。
本实用新型提供一种支撑件，其特征在于，该支撑件包括：
一座体，是以多数个支撑点固接于该掩膜传送盒上盖体内各角落的位置；
一弯曲弹性组件，其一弯曲的端部结合于该座体上，另一弯曲的端部则呈弹性悬浮状态于该多数个支撑点之间，且进一步包括一顶持面及一扣压面；
其中，当该掩膜传送盒的盖合一掩膜时，该弯曲弹性组件的该顶持面及该扣压面与该掩膜接触并固定之，且该支撑件的材质部份或全部为静电消散材。
其中该静电消散材质电阻值为104-1011Ω。
本实用新型的有益效果是：
本实用新型提供的掩膜盒以及掩膜传送盒，其是针对与掩膜直接接触的掩膜支撑件或限制件的材质改变为静电消散材质，便可以提供静电消散的途径。该静电消散材质是界于导电材质与非导电材质之间，其特性在于导电速度慢，因此不易与掩膜或掩膜盒产生放电的现象，故不易因生热而使得掩膜受到影响，具有较佳的掩膜保护作用，且仍具有屏蔽作用，因此可大幅降低损坏掩膜的风险。
附图说明
为进一步说明本实用新型的具体技术内容以下结合实施例及附图详细说明如后，其中：
图1是一掩膜盒的分解示意图。
图2是本实用新型掩膜支撑件与限制件的一较佳实施例示意图。
图3A至图3D是本实用新型掩膜支撑件的另一较佳实施例结构示意图。
图4是本实用新型掩膜支撑件的结构示意图。
图5A与图5B是本实用新型掩膜支撑件的结构示意图。
图6是本实用新型掩膜支撑件的又一较佳实施例结构示意图。
图7是本实用新型掩膜支撑件与限制件的又一较佳实施例结构示意图。
具体实施方式
由于本实用新型是揭露一种静电消散材质的支撑件与限制件，其中所利用到的一些基本组件与彼此间的结合方式，已于先前技术中详细揭露，故以下文中的说明，不再作完整描述。同时，对于掩膜盒主要结构原理，属于该领域具有通常知识的人士所能轻易理解的，亦不再赘述。而以下文中所对照的附图，是表达与本实用新型特征有关的结构示意，并未亦不需要依据实际尺寸完整绘制，需先叙明。
图1是为本实用新型掩膜盒或掩膜传送盒结构的示意图，此掩膜盒或掩膜传送盒100包括一第一盖体或顶盖102与一第二盖体或基座104，第一盖体或顶盖102与第二盖体或基座104可组合并形成一内部空间，且此内部空间可容置一掩膜114，其中该掩膜盒或掩膜传送盒100的第一盖体102或第二盖体104可为金属材质，或亦可另设置一金属内衬于该掩膜盒或掩膜传送盒100内，形成屏蔽效果以隔绝外在的干扰。第二盖体或基座104是由一本体106、一导电板108、多数个支撑件112及多数个限制件110所组成，其中导电板108设于本体106面对内部空间的表面上，且该导电板108为导电材质，而多数个限制件110或支撑件112则是设于导电板108之上，该些支撑件112及限制件110可为不同材质或相同材质所构成，其中支撑件112与导电板108电性相接，且其材质为电阻值为介于约104-约1011Ω之间的静电消散材质。此外由于将掩膜114置于支撑件112上时，支撑件112与掩膜114直接接触，故使用静电消散材质可持续导出电荷，避免瞬间放电对掩膜产生高温伤害，以减少电荷累积，并防止静电对掩膜所造成的伤害。
图2为配置于掩膜盒内的多数个限制件或支撑件的一较佳实施例，其中该掩膜盒100的第二盖体104包含一本体106、一导电板108、一掩膜114、多数个限制件110与多数个支撑件112，其中该掩膜盒100的第一盖体102或第二盖体104可为金属材质，或亦可另设置一金属内衬于该掩膜盒或掩膜传送盒100内，形成屏蔽效果以隔绝外在的干扰。将一导电板108设于本体106上，多数个限制件110或支撑件112则设于一导电板108上，其中限制件110与支撑件112是使用多成份射出成型方法结合，其嵌入件为支撑件112，且其材质为电阻值为介于约104-约1011Ω之间的静电消散材质。当掩膜114被置入掩膜盒100内第二盖体104后，掩膜114会被多数限制件110及一支撑件112支撑，并受限制件110的限制而固定在第二盖体104上，且围绕于掩膜114周围限制件110的作用则在于减少掩膜盒100于运送中产生振动并减少冲击而导致掩膜114发生碰撞，故以多数个限制件110与多数个支撑件112搭配使用的。
图3A为配置于掩膜盒内的多数个支撑件的另一较佳实施例，其中该支撑件200是采用一体成形的技术所制造，且其材质为电阻值为介于约104-约1011Ω之间的静电消散材质，该支撑件200的结构至少包含一平面衬底202连接一第一斜面204，同时第一斜面204再连接一第二斜面206以形成一整体结构，在此要强调的是，在本实用新型中并未对第一斜面204及第二斜面206进行限制，其中第一斜面204与平面衬底202会形成一角度，此角度近似90度，然此角度亦可随着实施例而调整，而第二斜面206与第一斜面204也会形成一角度，其作用在提供一个可以平顺滑动的面。接着于支撑件200的整体结构的两侧周边区域即设二个第一开口208，并于每一第一开口208中再配置一个上固定组件210及一个下固定组件212。当一片掩膜114置于掩膜传送盒100的基座104内时，于顶盖102与基座104合一的过程中，以便能经支撑件200第二斜面206的推送，让掩膜114能够平顺的导入掩膜114至掩膜传送盒100中适当且不晃动的位置，然后由上固定组件210及下固定组件212来支撑及固定掩膜。
另外根据图3A，图3B、图3C、图3D为配置于掩膜传送盒支撑件的另一较佳实施例，图3B的特征在前述实施例的支撑件200的整体结构的中央区域再开设一第二开口214，而此第二开口214的配置可视不同的实施方式而可增设在整体结构的中央区域或在第二斜面206上形成多数个开口；经由此第二开口214的设计，可以减少掩膜114与支撑件200的接触面积，因此可以降低尘粒产生的机率。接着请继续参考图3C及图3D，其是本实用新型支撑件的又一实施例，其特征是在接近中央区域增设至少一导轨216，同时也可配合第二开口214的位置将导轨216设在开口的两侧上，此导轨216设计的目的之一，即可进一步减少掩膜114与支撑件200在接触及滑动时的接触面积，使得制程良率能提高。另外，为了要使支撑件200能够固定在掩膜传送盒100顶盖102中，因此在支撑件200的平面衬底202的底面两侧周边区域还增设一对接合组件218，如图4所示，以便让支撑件200固定在顶盖102的一侧边上。而上述的支撑件200可使用电阻值为介于约104-约1011Ω之间的静电消散材质来形成或是使用一种弹性材料来形成。
图5A、图5B、图6为配置于掩膜盒内的多数个支撑件的又一较佳实施例，该支撑件300包含一座体302，并在座体302上设置单或多数个支撑点304，可以使座体302固接于掩膜传送盒100的顶盖102的各角落上；同时，还有一个弯曲弹性组件306与座体302相连接，其中弯曲弹性组件306的一端自座体302上整体延伸而出，而弯曲弹性组件306的另一个端部则呈弹性悬浮状态于此单或多数个支撑点304之间；此弯曲弹性组件306进一步具有一扣压面308及一顶持面310的设计，以便当掩膜传送盒100的顶盖102与基座104盖合一掩膜114时，由此弯曲弹性组件306的扣压面308及顶持面310与掩膜114接触并且扣合固定。另外，在本实用新型中的支撑件300上的单或多数个支撑点304，可设计成具有角度配置，此角度可以随着实施例而调整，而本实用新型以多数个支撑点304为例。此外，支撑件300的材质为电阻值为介于约104-约1011Ω之间的静电消散材质，并且该支撑件300可使用拆卸的方式与掩膜传送盒100顶盖102结合之。
图7为配置于掩膜盒内的多数个限制件或支撑件的再一较佳实施例，其掩膜盒100包括一第一盖体102与一第二盖体104，第一盖体102与第二盖体104组合形成一内部空间，且此内部空间可容置一掩膜114，其中该掩膜盒或掩膜传送盒100的第一盖体102或第二盖体104可为金属材质，或亦可另设置一金属内衬于该掩膜盒或掩膜传送盒100内，形成屏蔽效果以隔绝外在的干扰。配置于掩膜盒100内的多数个支撑件112则可分为第一支撑件112与第二支撑件300两种型态，且第一支撑件112设于第二盖体104上，第二支撑件300设于第一盖体上102。将一导电板108设于第二盖体104的本体106上，多数个限制件110或支撑件112则设于一导电板108上，且支撑件112与导电板108电性相接，该些限制件110及支撑件112可为不同材质或相同材质所构成，其中第一限制件110与支撑件112是使用多成份射出成型方法结合，该嵌入件为支撑件112，且其材质为电阻值为介于约104-约1011Ω之间的静电消散材质。第二支撑件300包含一座体302，并在座体302上设置单或多数个支撑点304，可以使座体302固接于掩膜盒100的第一盖体102的各角落上；同时，还有一个弯曲弹性组件306与座体302相连接，其中弯曲弹性组件306的一端自座体302上整体延伸而出，而弯曲弹性组件306的另一个端部则呈弹性悬浮状态于此单或多数个支撑点304之间。当掩膜114被置入掩膜盒100内第二盖体104后，掩膜114会被多数限制件110及第一支撑件112支撑，并受限制件110的限制而固定在第二盖体104上，且围绕于掩膜114周围限制件110的作用则在于减少掩膜盒100于运送中产生振动并减少冲击而导致掩膜114发生碰撞，故以多数个支撑件112与多数个限制件110搭配使用的，当第一盖体102与第二盖体104盖合一掩膜114时，设置于第一盖体102上的第二支撑件300的弯曲弹性组件306进一步具有一扣压面308及一顶持面310的设计，由此弯曲弹性组件306的扣压面308及顶持面310与掩膜114接触并且扣合固定并共同支撑掩膜114。此外由于将掩膜114与第一支撑件112、第二支撑件300为直接接触，故使用电阻值为介于约104-约1011Ω之间的静电消散材质可持续导出电荷，避免瞬间放电对掩膜产生高温伤害，以减少电荷累积，并防止静电对掩膜所造成的伤害。
本实用新型进一步提供再一较佳实施例，为配置于掩膜传送盒内的多数个限制件或支撑件，其掩膜传送盒100包括一顶盖102与一基座104，顶盖102与基座104组合形成一内部空间，且此内部空间可容置一掩膜114，其中该掩膜传送盒100为金属材质或亦可另设置一金属内衬于该掩膜传送盒100内，形成屏蔽效果以隔绝外在的干扰。配置于掩膜盒100内的多数个支撑件112则可分为第一支撑件112、第二支撑件200与第三支撑件300三种型态，第一支撑件112设于基座104上，第二支撑件200与第三支撑件300设于顶盖102上。在顶盖102的四个角落上，配置有多数个第二支撑件200或第三支撑件300，并且以座体302上的单或多数个支撑点304或接合组件218以可拆卸的方式固接于顶盖102内各角落的位置，因此可以再提供多数个扣压面308及顶持面310作为固定及支撑点。当掩膜114被置入掩膜传送盒100内的基座104后，掩膜114会被多数限制件110及第一支撑件112支撑，并受限制件110的限制而固定在基座104上，当顶盖102盖合时，由于顶盖102的相对基座104内的近似“ㄇ”字形结构的开口侧配置有第二支撑件200，故可由第二支撑件200上的第二斜面206来将掩膜114推至近似“ㄇ”字形的定位，此时因顶盖102的各个角落上还配置有多数个第三支撑件300，因此当掩膜114被第二支撑件200上的第二斜面206推至定位后，还会被第二支撑件200上的上固定件210及下固定件212以及多数个第三支撑件300上的弹性组件306的扣压面308及顶持面310共同支撑及固定掩膜114。此外由于将掩膜114与第一支撑件112、第二支撑件200及第三支撑件300为直接接触，故使用电阻值为介于约104-约1011Ω之间的静电消散材质可持续导出电荷，避免瞬间放电对掩膜产生高温伤害，以减少电荷累积，并防止静电对掩膜所造成的伤害。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用以限定本实用新型的申请专利权利；同时以上的描述，对于熟知本技术领域的专门人士应可明了及实施，因此其它未脱离本发明所揭示的精神下所完成的等效改变或修饰，均应包含在下述的申请专利范围中。
Claims (14)
1.一种掩膜盒，其特征在于，该掩膜盒包括：
一第一盖体；以及
一第二盖体，与第一盖体组合形成一内部空间，可容置至少一掩膜；
其中，该第一以及第二盖体至少其中之一具有一本体，该本体面对该内部空间的表面上设有多数个支撑件或限制件，该支撑件或限制件材质为静电消散材。
2.如权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于，其中该静电消散材质电阻值为104-1011Ω。
3.如权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于，其中该些支撑件及限制件为不同材质所构成。
4.如权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于，其中该些支撑件及限制件为相同材质所构成。
5.如权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于，其中该本体面对该内部空间的表面上设有一导电板，该支撑件设于该导电板上与该导电板电性连接。
6.如权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于，其中该第一盖体或第二盖体为金属材质。
7.如权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于，其中该支撑件的结构包括：
一平面衬底连接一第一斜面且该第一斜面再连接一第二斜面以形成一整体结构，且于该整体结构的两侧周边区域即设二个第一开口，其中每一该第一开口中配置一上固定组件及一下固定组件。
8.如权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于，其中该支撑件的结构包括：
一座体，以多数个支撑点固接于该掩膜传送盒上盖体内各角落的位置；以及
一弯曲弹性组件，其一弯曲的端部结合于该座体上，另一弯曲的端部则呈弹性悬浮状态于该多数个支撑点之间，且进一步包括一顶持面及一扣压面；
其中，当该掩膜传送盒的盖合一掩膜时，该弯曲弹性组件的该顶持面及该扣压面与该掩膜接触并固定之。
9.一种掩膜传送盒，其特征在于，该掩膜传送盒包括：
一顶盖；以及
一基座，与顶盖组合形成一内部空间，可容置至少一掩膜，该基座面对该内部空间的表面上设有多数个支撑件，该支撑件材质为静电消散材。
10.一种掩膜盒，其特征在于，该掩膜盒包括：
一第一盖体；
一第二盖体，与第一盖体组合形成一内部空间，可容置至少一掩膜，且该第一以及第二盖体至少其中之一具有一本体；
多数个限制件，设置于该本体面对内部空间的表面上；以及
多数个支撑件，设置于该本体面对内部空间的表面上，且其材质为静电消散材；
其中该多数个限制件与该多数个支撑件使用多成份射出成型方法结合。
11.一种掩膜传送盒，其特征在于，该掩膜传送盒包括：
一顶盖；
一基座，与顶盖组合形成一内部空间，可容置至少一掩膜，且该顶盖以及基座至少其中之一具有一本体；
多数个限制件，设置于该本体面对内部空间的表面上；以及
多数个支撑件，设置于该本体面对内部空间的表面上，且其材质为静电消散材；
其中该多数个限制件与该多数个支撑件使用多成份射出成型方法结合。
12.一种支撑件，其特征在于，该支撑件包括：
一平面衬底连接一第一斜面且该第一斜面再连接一第二斜面以形成一整体结构，且于该整体结构的两侧周边区域即设二个第一开口，并于每一该第一开口中配置一上固定组件及一下固定组件，其中该支撑件的材质部份或全部为静电消散材。
13.一种支撑件，其特征在于，该支撑件包括：
一座体，是以多数个支撑点固接于该掩膜传送盒上盖体内各角落的位置；
一弯曲弹性组件，其一弯曲的端部结合于该座体上，另一弯曲的端部则呈弹性悬浮状态于该多数个支撑点之间，且进一步包括一顶持面及一扣压面；
其中，当该掩膜传送盒的盖合一掩膜时，该弯曲弹性组件的该顶持面及该扣压面与该掩膜接触并固定之，且该支撑件的材质部份或全部为静电消散材。
14.如权利要求12或13所述的支撑件，其特征在于，其中该静电消散材质电阻值为104-1011Ω。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNU2007201775046U CN201091030Y (zh) | 2007-09-30 | 2007-09-30 | 掩膜盒与掩膜传送盒及其支撑件 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNU2007201775046U CN201091030Y (zh) | 2007-09-30 | 2007-09-30 | 掩膜盒与掩膜传送盒及其支撑件 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN201091030Y true CN201091030Y (zh) | 2008-07-23 |
Family
ID=39862788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNU2007201775046U Expired - Lifetime CN201091030Y (zh) | 2007-09-30 | 2007-09-30 | 掩膜盒与掩膜传送盒及其支撑件 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN201091030Y (zh) |
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2007
- 2007-09-30 CN CNU2007201775046U patent/CN201091030Y/zh not_active Expired - Lifetime
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