CN1990524A - 抗静电聚酯薄膜 - Google Patents

Abstract

本发明提供了改善了抗静电性和光学性能的抗静电聚酯薄膜，其在聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式层叠有至少一个抗静电层、以及在该抗静电层上以离线涂布方式层叠有光漫射层。当将该聚酯薄膜用作LCD的光漫射薄膜时，可以获得均匀的抗静电性，还可以降低由剥离所产生的带电且不会因高温高湿下的析出而使光学特性恶化，并减少了因剥离时产生的静电而引发的缺陷。

Description

抗静电聚酯薄膜

技术领域

本发明涉及抗静电聚酯薄膜。更具体地，本发明涉及通过在聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式(in-line coating)层叠至少一个抗静电层、以及在该抗静电层上以离线涂布(off-line coating)方式层叠光漫射层而使抗静电性和光学物性得到了改善的聚酯薄膜。

背景技术

近年来，随着产业化的进行，在各种电子和电气设备、信息通信领域直至一般生活用品的广泛领域中，由静电产生损害的问题正在增加。因此，在这些设备和工业场所的抗静电已成为重要课题。所谓抗静电性是指使积蓄在绝缘体表面的电荷通过适当方法进行放电的性质。为了提高抗静电性，可形成抗静电层以使积蓄在产品表面的电荷放电。特别是在对薄膜进行制造和加工的工序中，薄膜上易于附着杂质和尘土，由于这些工序中会发生放电，若在这些工序中使用有机溶剂，则有时会增加着火和火灾的危险。而且，由于当薄膜用作电气和电子部件材料时会引起对部件的静电损害，所以赋予薄膜以抗静电性能是非常重要的。

根据以往的方法，通过在薄膜上以离线涂布方式层叠光漫射层，可以赋予该光漫射层以抗静电性能。这种方法可以解决在制造漫射薄膜、薄片化操作以及组装背光单元(backlight unit，BLU)时因静电引起的放电、污染和异物吸附等问题。为了赋予光漫射层以抗静电性，可向形成光漫射层的组分中加入例如锂、铜、镁、钙、铁、钴和镍等金属。但是，这种向光漫射层中加入金属的方法除了经济方面不利外，还有难以获得充分的抗静电性和高亮度的限制。

根据以往赋予抗静电性能的另一种方法，可在薄膜和光漫射层之间形成抗静电涂层。用于形成抗静电涂层的抗静电剂是表面活性剂或阴离子/阳离子型的高分子，当在涂布面上引入了漫射层时，该抗静电剂通常依赖于大气中的湿度来发挥其抗静电性能。但是层叠在该抗静电层上的光漫射层阻碍了它与空气中的水分接触，导致抗静电性能较差。当抗静电剂是表面活性剂时，抗静电层和光漫射层间的粘合力变差，引起漫射层的剥离或BLU的亮度降低，从而降低了BLU的光学特性。另外，当将上述抗静电剂与形成光漫射层的组分混合使用时，在高温高湿的条件下抗静电剂会析出到抗静电层的表面，从而在漫射层的表面上留下白点和黑点等光学缺陷。

而且，当在薄膜和光漫射层之间以离线涂布方式形成抗静电层时，由于涂布是在将漫射层和抗静电涂层分离的状态下进行的，因此，离线涂布工序数增加，是导致制造成本增加的不利因素。即使从节约成本的观点出发，用漫射层形成液和抗静电层形成液的混合溶液同时进行涂布，也存在下述的一些问题，例如溶液的混合困难、漫射层因抗静电剂的存在而不能很好地进行固化、以及抗静电剂析出等。

发明内容

因此，本发明是为了解决上述问题而提出的，目的之一在于提供一种抗静电聚酯薄膜，其通过在聚酯薄膜和光漫射层之间以流水线涂布方式形成抗静电层，以获得高的抗静电性和经济性。

本发明的另一个目的在于提供抗静电聚酯薄膜的制造方法，其通过在聚酯薄膜和光漫射层之间以流水线涂布方式形成抗静电层，以获得高的抗静电性和经济性。

为了达到上述目的，本发明的一个方面提供了抗静电聚酯薄膜，其包括聚酯薄膜、在上述聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式形成的至少一个抗静电层、和在上述抗静电层上以离线涂布方式层叠的光漫射层。

上述流水线涂布优选选自迈耶绕线棒涂布法(Mayer bar coating)、照相凹版涂布法、逆向辊涂法、挤压模涂布法(extrusion die coating)、辊衬刮刀辊涂法和吻涂法(kiss coating)中的任何一种方式。

上述抗静电层优选含有导电聚合物、粘合剂树脂和交联剂，更优选的是，相对于导电聚合物100重量份含有粘合剂树脂200～2000重量份和交联剂40～100重量份。抗静电剂中含有的固体成分为0.5～10重量％。

上述导电聚合物优选通过聚阴离子与聚噻吩或衍生物发生聚合来制备。

上述粘合剂树脂优选含有选自羰基、羟基、丙烯基、氨基甲酸基、羧基、酰胺基、酰亚胺基、羧酸、马来酸和马来酸酐中的至少一种官能团。

上述交联剂优选是选自异氰酸酯类、羰基酰亚胺类、噁唑啉类、环氧类和三聚氰胺类化合物中的至少一种化合物。

上述光漫射层优选含有光漫射树脂和光漫射粒子。

本发明的另一个方面提供了抗静电聚酯薄膜的制造方法，其包括下述步骤：在聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式形成抗静电层、和在上述抗静电层上以离线涂布方式形成光漫射层。

上述流水线涂布优选是选自迈耶绕线棒涂布法、照相凹版涂布法、逆向辊涂法、挤压模涂布法、辊衬刮刀辊涂法和吻涂法中的任何一种涂布工序。

流水线涂布优选在聚酯薄膜的单轴拉伸之后进行。

具体实施方式

下面，对本发明进行更加详细地说明。

根据本发明的一个实施方案的抗静电聚酯薄膜，其具有作为基材层的聚酯薄膜、在上述聚酯薄膜上以流水线涂布方式层叠的抗静电层、在上述抗静电层上以离线涂布方式层叠的使入射光漫射的光漫射层。

下面，对作为基材层的聚酯薄膜进行具体地说明。

本发明中使用的聚酯薄膜由透明度高的高分子材料制成。对本发明中使用的高分子材料没有严格的种类的限制，只要高分子材料具有较高的机械强度如抗划伤性和高耐久性就可以。例如，可以使用本领域中公知的作为抗静电涂布基材的薄膜来构成聚酯薄膜。

本发明中所用聚酯薄膜的材料的非限定性例子中包括聚酯树脂，例如聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等，具体如下所述。构成聚酯薄膜的上述聚酯树脂是由芳香族二羧酸和脂肪族二元醇通过缩聚而制备得到的。作为芳香族二羧酸，可列举出对苯二甲酸、2，6-萘二羧酸等；作为脂肪族二元醇，可列举出乙二醇、二甘醇、1，4-环己二甲醇等。代表性的聚酯是聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚2，6-萘二甲酸乙二酯(PEN)等。上述聚酯也可以含有其他成分。

作为聚酯共聚物中合适的二羧酸成分，可列举出间苯二甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、2，6-萘二羧酸、己二酸、癸二酸、羟基酸(例如，对羟苯甲酸)。作为聚酯共聚物中合适的二元醇成分，可列举出乙二醇、二甘醇、丙二醇、丁二醇、1，4-环己二甲醇和新戊二醇。这些二羧酸成分和二元醇成分可以单独使用，也可以任意地组合使用。本发明的薄膜优选是具有高透明性、同时生产性和加工性优异的单轴或者双轴取向薄膜。

为了防止光透过薄膜时的光损失，聚酯薄膜必须具有高的光透过度。另外聚酯薄膜优选与抗静电层易于接合。含有聚酯薄膜的光漫射薄片的光透过度优选为90％或以上。

聚酯薄膜的厚度为25μm～250μm。聚酯薄膜的厚度与使用聚酯薄膜的背光单元的尺寸大小成比例。在用于携带电话、个人数字助手(PDA)等的小型背光单元中主要适合使用厚度为100μm以下的聚酯薄膜；在用于笔记本电脑和监控器等的中型背光单元中适合使用厚度为50μm～188μm的聚酯薄膜；而在用于电视等的大型背光单元中适合使用厚度为125μm以上的聚酯薄膜。也即，背光单元中所用的聚酯薄膜的厚度随背光单元的尺寸增加而增加。这是因为大尺寸的背光单元尺寸需要使用更多的光源，从这些光源中产生的热量增加，其结果是，这些背光单元中使用的聚酯薄膜就必须具有较好的耐热性。

下面，对抗静电层进行具体地说明。

抗静电层是以流水线涂布方式层叠在作为基材的聚酯薄膜上。流水线涂布方式是指这样的涂布工序，即，将熔融挤出的聚酯薄片沿长度方向或宽度方向进行单轴拉伸后，在该拉伸的薄片的单面或双面上进行涂布的工序。当然也可以在沿长度和宽度两方向进行拉伸后再进行涂布。这种流水线涂布方式的优点是可以在高涂布速度下提供高性能，这就生产性来说是非常有竞争力的。但是，在流水线涂布中的这种高涂布速度，限制了对合适的涂布溶液的开发以及对适宜涂布条件的应用。对流水线涂布的类型没有特别的限制，只要不是离线涂布就可以。上述流水线涂布优选选自迈耶绕线棒涂布法、照相凹版涂布法、逆向辊涂法、挤压模涂布法、辊衬刮刀辊涂法和吻涂法。

可以使用任何抗静电组合物，只要能在聚酯薄膜上以流水线涂布方式形成抗静电层就行。例如，可以使用以往的湿度依赖性抗静电组合物如表面活性剂等形成抗静电层。为了提高抗静电层的防污性和抗静电性能，优选使用含有导电聚合物、粘合剂树脂和交联剂的抗静电组合物形成抗静电层。

具体地说，上述抗静电层中含有的导电聚合物树脂优选通过将聚阴离子与聚噻吩或其衍生物混合而使用，由此赋予最终的抗静电聚酯薄膜以抗静电性，更具体地说，该导电聚合物可以通过在聚阴离子的存在下，将由下述通式1或通式2表示的化合物进行均聚、或者将由下述通式1和通式2表示的化合物进行共聚而获得。

式中，R₁、R₂分别独立地表示氢原子、或C_1-12的脂肪族烃基、脂环族烃基或芳香族烃基，例如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基或苯基等，

式中，n是1～4的整数。

上述聚阴离子是酸性聚合物，例如包括高分子羧酸、高分子磺酸和聚乙烯基磺酸等。作为高分子羧酸，包括聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、和聚马来酸。作为高分子磺酸的一个离子是聚苯乙烯磺酸。

本发明中，使用含有0.5重量％的聚(3，4-乙二氧撑噻吩)和0.8重量％的聚苯乙烯磺酸(分子量Mn＝150000)聚合物的水分散体(Baytron P，Bayer公司)作为导电聚合物树脂。

为了改善抗静电层与作为基材层的聚酯薄膜之间的粘合性，上述抗静电层中含有的粘合剂树脂是水分散或者水溶性树脂。相对于导电聚合物树脂100重量份，加入粘合剂树脂200～2000重量份。如果粘合剂树脂的含量低于200重量份，则抗静电层与基材层之间的粘合性较差；而如果超过2000重量份，则不能得到令人满意的透明性和抗静电性。

上述粘合剂树脂中含有选自羰基、羟基、丙烯基、氨基甲酸基、羧基、酰胺基、酰亚胺基、羧酸、马来酸和马来酸酐中的至少一种官能团。含有该官能团的粘合剂树脂是选自聚丙烯酸类、聚氨酯类、环氧类、聚酯类、乙烯基树脂和酰胺类树脂中的至少一种树脂。这些粘合剂树脂可以通过将它们共聚而实际上具有复合骨架结构。作为具有复合骨架结构的粘合剂的例子，包括丙烯酸接枝聚酯、丙烯酸接枝聚氨酯、乙烯基接枝聚酯树脂、和乙烯基接枝聚氨酯树脂。

抗静电层中含有的交联剂用于改善抗静电层与作为基材层的聚酯薄膜之间的粘合性，优选选自异氰酸酯类、羰基酰亚胺类、噁唑啉类和三聚氰胺类化合物中的至少一种化合物。相对于上述导电聚合物树脂100重量份，加入上述交联剂40～400重量份。如果交联剂加入低于40重量份，则由于不能进行充分固化而难以获得令人满意的粘合性。而如果交联剂加入超过400重量份，则妨碍透明性。

将上述抗静电组合物用溶剂稀释，直至含有0.5～10.0重量％的固体成分，然后将稀释液涂布在聚酯薄膜上。对溶剂的种类没有限制，只要是能够使固体成分溶解并涂布在聚酯薄膜上的就可以。优选使用水作为溶剂。若上述固体成分的含量低于0.5重量％，则涂布层不易形成，且抗静电性不能充分体现。而如果固体成分含量超过10.0重量％，则薄膜的透明性下降。

另一方面，为了改善抗静电层在形成时的稳定性、润湿性和流平性，抗静电层中还可以含有选自乙醇、异丙醇等醇类；乙基溶纤剂、叔丁基溶纤剂等醚类；甲乙酮、丙酮等酮类；二甲基乙醇胺等胺类和离子性/非离子性表面活性剂中的至少一种溶剂。抗静电层的厚度优选为0.2～0.5μm，但是并不限于此范围。

下面，对光漫射层进行说明。

光漫射层是在入射到聚酯薄膜上的光线射出的方向形成的层，也称为“前面光漫射层”。该光漫射层通过使入射光折射和散射而使光漫射。

光漫射层由光漫射树脂和分散于树脂中的光漫射粒子构成。任何固化性树脂，例如热固化性树脂或光固化性树脂，都可以用作光漫射树脂。热固化性树脂优选选自尿素树脂、三聚氰胺树脂、酚醛树脂、环氧树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂、氨基甲酸酯树脂、丙烯酸类树脂、聚氨酯树脂、氟化树脂、硅树脂和聚酰胺酰亚胺，但并不限于此。由于必须使光线透过，所以热固性树脂优选是无色透明的。对于光固化性树脂，可以使用丙烯酸、氨基甲酸酯或环氧类树脂，或者具有它们的复合结构的树脂。光漫射树脂中还可以含有分散剂、流平剂或消泡剂等。

关于光漫射粒子，可以单独使用有机类粒子或无机类粒子，也可以使用它们的混合物。作为有机类粒子，主要使用聚甲基丙烯酸甲酯粒子，也可以使用聚苯乙烯粒子和聚苯乙烯共聚物粒子等。作为无机粒子，例如包括多晶硅、氧化硅、氧化钛、氧化锆、和氟化镁等。光漫射粒子的大小可以不定，通常将具有二种或更多种大小的粒子混合使用，这是因为有利于填充由使用单一大小的粒子产生的间隙。另一方面，粒子的大小和粒子与树脂的比例可以变化，这与聚酯薄膜的光学特性有关。如果粒子的含量过高，则粒子可能会突出到光漫射层的外部而导致光透过性变差，而且易于产生脱落，会影响可操作性。相反，如果粒子的含量过低，则难以确保最佳的光漫射性。

在本发明的一个具体实施方案中，光漫射层的涂布厚度可以根据使用的光漫射粒子的种类进行变化。

本发明的另一个具体实施方案中，当将光漫射层仅层叠在抗静电层的单面上时，也可以在该光漫射层的与抗静电层相反的面上层叠防粘连层。

根据本发明的又一个实施方案，抗静电聚酯薄膜的制造方法包括以下步骤：即在聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式形成抗静电层、和在该抗静电层上以离线涂布方式形成光漫射层。

作为基材薄膜的聚酯薄膜可以用公知工序制造。具体的来说聚酯薄膜可以根据下述工序形成：将聚酯树脂真空干燥后，在挤出机中挤出并通过T形模(T-die)挤压成薄片状；将该薄片通过静电施加法(pinning)粘合在冷却辊上，然后通过冷却固化获得未拉伸聚酯薄片；利用辊与辊间的线速度差，用被加热到聚酯树脂的玻璃转化温度或其以上温度的辊将未拉伸聚酯薄片沿纵方向进行2.5～4.5倍的拉伸。然后，将得到的薄膜用夹子固定在横向拉伸装置内，再进行3.0～7.0倍的机械拉伸，并在此进行热固定，从而获得双轴拉伸薄膜。也可以对该双轴拉伸薄膜进行电晕放电处理，以便使其易于与抗静电层层叠，以及改善抗静电层的应用性。

将抗静电剂以流水线涂布方式涂布在聚酯薄膜上以形成抗静电层。流水线涂布优选选自迈耶绕线棒涂布法、照相凹版涂布法、逆向辊涂法、挤压模涂布法、辊衬刮刀辊涂法和吻涂法。

在此之后，将光漫射剂以离线涂布方式涂布在抗静电层上，以形成光漫射层。

下面，通过列举实施例来更加详细地说明本发明，但是这些实施例是为了更加具体地说明本发明而列举的，本发明的范围并不限于这些实施例。

<制造例1>：聚酯薄膜的制造

将聚酯树脂原料进行真空干燥，然后使用挤压机进行熔化和挤出，将熔化的高温聚酯树脂通过口模用旋转冷却辊形成薄片状，之后通过用静电施加法使该薄片与冷却辊粘合而获得未拉伸聚酯薄片。一边使该未拉伸聚酯薄片通过预热到70～120℃的辊，一边沿长度方向拉伸3倍，获得单轴拉伸聚酯薄膜。然后，对获得的单轴拉伸聚酯薄膜的单面进行电晕放电处理。

<实施例1>

将导电高分子树脂(Bayer公司，Baytron P)100重量份、丙烯酸粘合剂树脂(Nippon Carbide公司，Y8003B)400重量份、以及环氧交联剂(Nagase Chemtech公司，DENACOL EX-313)100重量份这些固体成分混合于水制成抗静电涂布液。此时，固体成分的含量相对于整个抗静电涂布液被控制在2.0重量％。用#8迈尔棒作为流水线涂布器具，将该抗静电涂布液涂布在由上述制造例1中制造的聚酯薄膜的经电晕处理过的表面上。然后，在100～130℃的干燥(tender)温度区间内，使涂布的涂布液干燥。在与薄膜前进方向垂直的方向将涂布的聚酯薄膜进行3.5倍拉伸，并在240℃下热处理4秒，以获得25μm厚的双轴拉伸的抗静电聚酯薄膜。

将由下述表1表示的组合物，以离线涂布方式涂布在抗静电层的表面，然后在110℃下使其干燥60秒，以获得厚15μm的光漫射层。

[表1]

组合物总量			100g
				组合物	光漫射树脂	丙烯酸树脂(韩国爱敬化学，A-811)	30g
光漫射粒子	丙烯酸粒子(SOKEN MX 1000)	30g
			溶剂		甲乙酮	40g

将具有由下述表2表示的组成的用以形成防粘连层的涂布液，涂布在光漫射层上的与抗静电层相反一侧的表面，然后在100℃下使其干燥40秒，形成厚5μm的防粘连层，从而制成了最终的抗静电聚酯薄膜。

[表2]

防粘连树脂	丙烯酸树脂(韩国爱敬化学，A-811)	28g
			防粘连粒子	丙烯酸粒子(SOKEN MX 1000)	0.5g
溶剂	甲乙酮	70g
					100g

<实施例2>

除了在抗静电涂布液的制造阶段，将导电高分子树脂(Bayer公司，Baytron P)100重量份、聚氨酯粘合剂树脂(大日本油墨化学，AP-40F)500重量份、以及三聚氰胺交联剂(Cytec公司，CYMEL385)150重量份这些固体成分混合于水来制成抗静电涂布液；而且将固体成分含量相对于整个抗静电涂布液控制为2.0重量％以外，用与上述实施例1相同的方法制造抗静电聚酯薄膜。

<实施例3>

除了在抗静电涂布液的制造阶段，将导电高分子树脂(Bayer公司，Baytron P)100重量份、聚酯树脂(日本合成，WOO30)400重量份、以及环氧交联剂(Nagase Chemtech.，DENACOL EX-313)100重量份这些固体成分混合于水来制成抗静电涂布液；而且将固体成分含量相对于整个抗静电涂布液控制为2.0重量％以外，用与上述实施例1相同的方法制造抗静电聚酯薄膜。

<比较例1>

除了在抗静电涂布液的制造阶段，将季铵盐抗静电剂(Cytec公司，CYSTAT 09)100重量份、聚氨酯粘合剂树脂(大日本油墨化学，AP-40F)300重量份、以及三聚氰胺交联剂(Cytec公司，CYMEL385)50重量份这些固体成分混合于水来制成抗静电涂布液；而且将固体成分含量相对于整个抗静电涂布液控制为2.0重量％以外，用与上述实施例1相同的方法制造抗静电聚酯薄膜。

<比较例2>

除了在抗静电涂布液的制造阶段，将季铵盐抗静电剂(日本油脂公司，EREGAN264-A)100重量份、丙烯酸树脂(Nippon Carbide公司，Y8003B)200重量份、以及环氧交联剂(Nagase Chemtech公司，DENACOL EX-313)50重量份这些固体成分混合于水来制成抗静电涂布液；而且将固体成分含量相对于整个抗静电涂布液控制为2.0重量％以外，用与上述实施例1相同的方法制造抗静电聚酯薄膜。

<比较例3>

对由制造例11制造的聚酯薄膜的单面或双面都不进行抗静电处理。将未处理的薄膜在与薄膜前进方向垂直的方向进行3.5倍拉伸，然后在240℃下热处理4秒，以获得125μm厚的双轴拉伸抗静电聚酯薄膜。

在上述没有进行抗静电处理的聚酯薄膜的单面上，以离线涂布方式涂布具有表1所示组成的用于形成光漫射层的涂布液，然后在110℃下使其干燥60秒，以获得厚15μm的光漫射层。然后，将具有下述表3所示组成的用于形成防粘连层的涂布液(含有抗静电剂)，以离线涂布方式涂布，且在110℃下干燥40秒，形成厚5μm的防粘连层，从而制成了最终的抗静电光漫射薄膜。

[表3]

防粘连树脂	丙烯酸树脂(韩国爱敬化学，A-811)	28g
			防粘连粒子	丙烯酸粒子(SOKEN MX 1000)	0.5g
抗静电剂	离子性抗静电剂(PU101)	2g
			溶剂	甲乙酮	80g
		110.5g

<比较例4>

对由制造例11制造的聚酯薄膜的单面或双面都不进行抗静电处理。将未处理的薄膜在与薄膜前进方向垂直的方向进行3.5倍拉伸，然后在240℃下热处理4秒，以获得125μm厚的双轴拉伸抗静电聚酯薄膜。

在上述没有进行抗静电处理的聚酯薄膜的单面上，以离线涂布方式涂布具有表1所示组成的涂布液，然后在110℃下使其干燥60秒，以获得厚15μm的光漫射层。然后，将除了抗静电剂以外具有表3所示组成的涂布液，以离线涂布方式涂布，且在110℃下干燥40秒，形成厚5μm的防粘连层。然后，将具有下述表4所示组成的用于形成抗静电层的涂布液，以离线涂布方式涂布在防粘连层上，且在110℃下干燥40秒，从而制成了最终的抗静电光漫射薄膜。

[表4]

抗静电剂	离子性抗静电剂(PU101)	2g
			溶剂	甲醇	150g

对由上述实施例1～3和比较例1～4制造的双轴拉伸薄膜，用如下的方法进行物性评价，该结果示于表5中。

1.抗静电性

在温度23℃、湿度50％RH的环境下，将试样放置在电阻率计(三菱股份有限公司，MCP-T600)中，然后以JIS K7194为基准测量其表面电阻。

2.析出试验

将由实施例1～3和比较例1～4中制造的抗静电聚酯薄膜放置于两块玻璃板之间，然后在温度85℃、湿度85％RH的条件下，在恒温恒湿器中进行300小时的析出试验，并检查有无在玻璃板和漫射薄膜之间生成光学缺陷(析出物)。

3.透明度(浊度)

在自动数字浊度仪(日本电测股份有限公司制作)中垂直设置一块10cm×10cm大小的试样，用具有400～700nm波长的光在垂直于试样的方向进行照射。

浊度(Haze)值由下述数学式1求出。

浊度(％)＝(1-散射光的量/光的总透过量)×100    (1)

4.总透射率的测量

在自动数字浊度仪(日本电测股份有限公司制作)中垂直设置一块10cm×10cm大小的光漫射薄片，用具有550nm波长的光在垂直于薄片的方向进行照射。浊度值和总透射率由下述数学式2求出。

Haze(％)＝(1-P/TT)×100        (2)

总透射率(％)＝(TT/IT)×100

其中，P表示光以直线透过薄片的量，TT表示光的总透过量，IT表示入射光量。

5.亮度测量

使用32”直下型(direct-type)的背光单元测量亮度，将漫射薄膜裁剪成规定大小的尺寸后，安装在光漫射板上，放置成与亮度计(BM-7，Topcon公司)成0.2°角度，且与亮度计和背光单元的间隔为25cm。然后，测量在背光单元上的13个灯的位置的亮度值，并进行平均。另外，在灯的间距处取12个点测量亮度值，并进行平均。计算出这两个平均值之间的差值。

[表5]

	实施例1	实施例2	实施例3	比较例1	比较例2	比较例3	比较例4
								表面电阻	107	107	108	1015	1016	108	108
透明度(％)	85	84	85	89	92	85	84
								析出	无	无	无	无	无	有	有
亮度	7003	6980	7000	6750	6550	6950	6980
								综合评价	良好	良好	良好	不好	不好	不好	不好

由表5中可知，含有湿度依赖性抗静电树脂的抗静电聚酯薄膜，由于漫射层的存在而具有较差的抗静电性；但含有导电树脂的抗静电聚酯薄膜，其漫射性、稳定性和抗静电性良好。

以流水线涂布方式制造的抗静电产品，在析出试验后没有观察到光学缺陷。与此相反，在以离线涂布方式制造的比较例3和4的抗静电薄膜中，观察到在玻璃板和漫射板之间产生了光学缺陷。

由上述描述可知，根据本发明的抗静电聚酯薄膜，由于将抗静电剂以流水线涂布方式涂布在聚酯薄膜上，所以降低了离线涂布工序数，有助于降低抗静电聚酯薄膜的制造成本，并且获得了不受周边环境、尤其湿度和其它物理因素(如损伤等)的影响而可以永久保持的抗静电性。另外，流水线涂布方式降低了光学缺陷的发生。而且，当将抗静电聚酯薄膜用作LCD的光漫射薄膜时，可以获得均匀的抗静电性，减少了由剥离所产生的带电且不会因高温高湿环境下的析出而降低光学特性，并且降低了因剥离时产生的静电而引发的缺陷。因此，本发明的抗静电聚酯薄膜与以往的抗静电聚酯薄膜相比，抗静电性优异且同时降低了制造成本。

虽然以上参照具体的实施例对本发明进行了说明，但本领域的技术人员可知在本发明的技术构思范围内可以进行多种修改和改变。因此，这些修改和改变是包括在所附的权利要求书的范围之内。

Claims (12)

1.一种抗静电聚酯薄膜，其包括：

聚酯薄膜、

在所述聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式形成的至少一个抗静电层、和

在所述抗静电层上以离线涂布方式层叠的光漫射层。

2.根据权利要求1所述的抗静电聚酯薄膜，其中所述流水线涂布是选自迈耶绕线棒涂布法、照相凹版涂布法、逆向辊涂法、挤压模涂布法、辊衬刮刀辊涂法和吻涂法中的一种涂布工序。

3.根据权利要求1所述的抗静电聚酯薄膜，其中所述抗静电层含有导电聚合物、粘合剂树脂和交联剂。

4.根据权利要求3记载的抗静电聚酯薄膜，其中所述抗静电层中，相对于导电聚合物100重量份含有粘合剂树脂200～2000重量份和交联剂40～100重量份。

5.根据权利要求2～4中任一项中所述的抗静电聚酯薄膜，其中所述导电聚合物是通过聚阴离子与聚噻吩或其衍生物发生聚合来制造的。

6.根据权利要求3或4所述的抗静电聚酯薄膜，其中所述粘合剂树脂含有选自羰基、羟基、丙烯基、氨基甲酸基、羧基、酰胺基、酰亚胺基、羧酸、马来酸和马来酸酐中的至少一种官能团。

7.根据权利要求3或4所述的抗静电聚酯薄膜，其中所述交联剂是选自异氰酸酯类、羰基酰亚胺类、噁唑啉类、环氧类和三聚氰胺类化合物中的至少一种化合物。

8.根据权利要求2所述的抗静电聚酯薄膜，其中所述抗静电层含有固体成分0.5～10重量％。

9.根据权利要求1所述的抗静电聚酯薄膜，其中所述光漫射层含有光漫射树脂和光漫射粒子。

10.一种抗静电聚酯薄膜的制造方法，其包括下述步骤：

在聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式形成抗静电层；和

在所述抗静电层上以离线涂布方式形成光漫射层。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述流水线涂布方式是选自迈耶绕线棒涂布法、照相凹版涂布法、逆向辊涂法、挤压模涂布法、辊衬刮刀辊涂法和吻涂法的一种涂布工序。

12.根据权利要求10所述的方法，其中所述流水线涂布在聚酯薄膜的单轴拉伸之后进行。