CN1971730B - 光学元件和光拾取装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的光学元件具有基材和在该基材表面上形成的防反射膜，上述防反射膜分别具有多个具有规定折射率的低折射率层、和具有规定折射率的高折射率层，同时上述多个低折射率层和上述多个高折射率层交替层叠形成，并且在多个上述低折射率层中，至少2个低折射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同。

Description

光学元件和光拾取装置
技术领域
本发明涉及具有防反射膜的光学元件以及使用它的光拾取装置。
背景技术
以往，作为使用波长约780nm光束的CD、或使用波长635-650nm光束的DVD等信息记录介质进行信息记录再现的装置，有光拾取装置。该光拾取装置通过使由光源射出的光束通过准直镜或物镜等光学元件在信息记录介质的记录面上进行聚光，进行信息的记录再现。
近年来，作为用于这种光拾取装置的信息记录介质，开发了使用波长约405nm光束的高密度DVD，例如AOD(Advanced Optical Disc)或BD(Blu-ray Disc)等。
就与该高密度DVD对应的光拾取装置来说，可通过层叠多个低折射率层和高折射率层形成光学元件的防反射膜，提高光学元件的耐光性(例如，参见特开2005-11494号公报)。另外，在对于CD、DVD和高密度DVD三种信息记录介质具有兼容性的光拾取装置中，也可通过层叠多个低折射率层和高折射率层形成光学元件的防反射膜，分别防止相对于三个波长光束的反射，或使聚光光点小径化，或良好地保持透射光量的平衡(例如，参见特开2005-31361号公报)。
但是，在上述特开2005-11494号公报、特开2005-31361号公报中公开的防反射膜中，由于只使用了相同组成的层作为各低折射率层，所以在根据温度和湿度等环境条件的变化在防反射膜中产生的膜应力中，低折射率层上产生的膜应力叠加作用的结果，有时在防反射膜中产生裂缝或剥离。即，防反射膜的耐环境性差。
发明内容
本发明的课题是提供与以往相比可提高耐环境性的光学元件和光拾取装置。
本发明的光学元件具有基材和在该基材表面上形成的防反射膜，上述防反射膜分别具有多个低折射率层和高折射率层。上述多个低折射率层和上述多个高折射率层交替层叠形成，并且在多个上述低折射率层中，至少2个低折射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同。
附图说明
图1是光拾取装置的大致结构示意图。
图2是物镜的剖面图。
图3是表示物镜的光学面的图。
图4是表示实施例(2)，(3)的物镜的反射率特性图。
图5是表示实施例(6)-(9)、比较例(4)-(6)的物镜的反射率特性图。
图6是表示实施例(4)的物镜的反射率特性图。
图7是表示实施例(5)的物镜的反射率特性图。
图8是表示由7层组成的防反射膜的一例剖面图。
图9是表示由9层组成的防反射膜的一例剖面图。
图10是表示由8层组成的防反射膜的一例剖面图。
具体实施方式
下面，对本发明优选的实施方式进行说明。
项目1记载的结构是在具有基材和在该基材表面上形成的防反射膜的光学元件中，上述防反射膜分别具有多个折射率相对于波长450nm的光束为1.4-1.6的低折射率层、和折射率相对于波长450nm光束为1.8-2.2的高折射率层，同时上述多个低折射率层和上述多个高折射率层交替层叠形成，并且在多个上述低折射率层中，至少2个低折射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同。
本说明书中，主成分是指含量在80％或更高的成分。
另外，2个低折射率层之间副成分的含有比率不同是指例如含有比率差异至少大于等于1％，此外，包括一方的含有比率大于0％，而另一方的含有比率是0％的情况。
项目2记载的结构是在项目1记载的光学元件，被设置在使用由光源射出的光束进行信息记录和/或再现的光拾取装置的光路上。
项目3记载的结构是在项目2记载的光学元件中，将由波长350-450nm中至少特定波长的单色光组成的光束汇聚在信息记录介质上的物镜。
项目4记载的结构是在项目1-3任一项记载的光学元件中，彼此主成分相同，且副成分含有比率不同的至少一对上述低折射率层介于一个上述高折射率层相邻。
项目5记载的结构是在项目1-4任一项记载的光学元件中，各低折射率层与通过一个上述高折射率层相邻的另一上述低折射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同。
项目6记载的结构是在项目1-5任一项记载的光学元件中，上述低折射率层的主成分是二氧化硅。
项目7记载的结构是在项目1-6任一项记载的光学元件中，上述低折射率层的副成分是氧化铝。
项目8记载的结构是在项目1-7任一项记载的光学元件中，上述高折射率层由氧化铪、氧化锆、氧化钛、氧化镁、氧化镧、钛酸锆、氧化钽、氧化硅、氧化钍、氧化钇、氧化镨和氧化钪中任意单体或混合物形成。
项目9记载的结构是在项目8记载的光学元件中，上述高折射率层由氧化锆形成。
项目10记载的结构是在项目1-9任一项记载的光学元件中，上述防反射膜由7-9层形成。
项目11记载的结构是在项目1-10任一项记载的光学元件中，在上述防反射膜中含有的层中，最接近上述基材侧的第1层的膜厚为100 -130nm，第2接近上述基材侧的第2层的膜厚为10-14nm，第3接近上述基材侧的第3层的膜厚为28-36nm，第4接近上述基材侧的第4层的膜厚为46-60nm，第5接近上述基材侧的第5层的膜厚为13-17nm，第6接近上述基材侧的第6层的膜厚为44-55nm，第7接近上述基材侧的第7层的膜厚为75-95nm。
项目12记载的结构是在项目1-10任一项记载的光学元件中，在上述防反射膜中含有的层中，最接近上述基材侧的第1层的膜厚为85-105nm，第2接近上述基材侧的第2层的膜厚为11-15nm，第3接近上述基材侧的第3层的膜厚为30-38nm，第4接近上述基材侧的第4层的膜厚为54-68nm，第5接近上述基材侧的第5层的膜厚为20-25nm，第6接近上述基材侧的第6层的膜厚为34-43nm，第7接近上述基材侧的第7层的膜厚为85-108nm。
项目13记载的结构是在项目1-10任一项记载的光学元件中，在上述防反射膜中含有的层中，最接近上述基材侧的第1层的膜厚为100-130nm，第2接近上述基材侧的第2层的膜厚为13-17nm，第3接近上述基材侧的第3层的膜厚为42-52nm，第4接近上述基材侧的第4层的膜厚为50-63nm，第5接近上述基材侧的第5层的膜厚为13-17nm，第6接近上述基材侧的第6层的膜厚为52-65nm，第7接近上述基材侧的第7层的膜厚为85-108nm。
项目14记载的结构是在项目1-10任一项记载的光学元件中，在上述防反射膜中含有的层中，最接近上述基材侧的第1层的膜厚为80-100nm，第2接近上述基材侧的第2层的膜厚为10-14nm，第3接近上述基材侧的第3层的膜厚为46-58nm，第4接近上述基材侧的第4层的膜厚为10-14nm，第5接近上述基材侧的第5层的膜厚为14-18nm，第6接近上述基材侧的第6层的膜厚为33-42nm，第7接近上述基材侧的第7层的膜厚为27-35nm，第8接近上述基材侧的第8层的膜厚为35-45nm，第9接近上述基材侧的第9层的膜厚为94-117nm。
本说明书中，膜厚是指光学元件的光轴上的层的厚度。
项目15记载的结构是在项目1-14任一项记载的光学元件中，上述基材由具有由α-烯烃和环状烯烃的共聚物组成的树脂和光稳定剂的树脂组合物组成，上述环状烯烃用下述通式(I)或(II)表示。
Figure 756466DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820070214D000011
(式中，n是0或1，m是0或正整数，k是0或1，R1-R18以及Ra和Rb分别独立地表示氢原子、卤原子或烃基。)
Figure 673607DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820070214D000012
(式中，p和q分别独立地是0或正整数，r和s分别独立地是0、1或2，R21-R39分别独立地表示氢原子、卤原子、烃基或烷氧基。)
项目16记载的结构是在项目15记载的光学元件中，上述光稳定剂是受阻胺类光稳定剂。
项目17记载的结构是具有射出第1光束的第1光源、将由上述第1光源出射的上述第1光束汇聚在信息记录介质上的物镜和设置在由上述光源射出的上述第1光束的光路上的光学元件的光拾取装置，上述光学元件在具有基材和在该基材表面上形成的防反射膜的光学元件中，上述防反射膜分别具有多个折射率相对于波长450nm光束为1.4-1.6的低折射率层、和折射率相对于波长450nm光束为1.8-2.2的高折射率层，同时上述多个低折射率层和上述多个高折射率层交替层叠形成，并且在多个上述低折射率层中，至少2个低折射率层彼此主 成分相同、而副成分含有比率不同。
项目18记载的结构是在项目17记载的光拾取装置中，上述光学元件是上述物镜。
项目19记载的结构是在项目17或18记载的光拾取装置中，上述第1光源射出由波长350-450nm中特定波长的单色光构成的光束。
根据项目1-19任一项记载的结构，与以往相比提高了耐环境性。
下面，参照附图对本发明的实施方式进行说明。
图1是表示光拾取装置1的大致结构剖面图。
如该图所示，本发明中光拾取装置1具有三种激光光源10，11，12作为光源。
激光源10是把BD(Bru-ray Disc)100作为信息记录介质进行信息的记录/再现时，射出波长350-450nm中特定波长(例如405nm，407nm)的光束的光源。另外，本实施方式中，BD100的保护层厚度为0.1mm。
激光源11是把DVD101作为信息记录介质进行信息的记录/再现时，射出波长620-680nm中特定波长(例如，655nm)的光束的光源，并且通过与激光源12进行一体化形成光源单元13。另外，本实施方式中，DVD101的保护层厚度为0.6mm。本实施方式中，DVD是指DVD-ROM和DVD-Video、DVD-Audio、DVD-RAM、DVD-R、DVD-RW、DVD+R、DVD+RW等DVD系列信息记录介质的总称。
激光源12是把CD102作为信息记录介质进行信息的记录/再现时，射出750-810nm中特定波长(例如，785nm)的光束的光源。另外，本实施方式中，CD102的保护层厚度为1.2mm。此外，本说明书中，CD是指CD-ROM或CD-Audio、CD-Video、CD-R、CD-RW等CD系列信息记录介质的总称。
在由激光源10射出的光束的光轴方向，由图1中自下侧向上侧依次并列排列着光束整形器20、射束分裂器21、准直镜22、射束分裂器23、1/4波长板24、光圈25、物镜3。在物镜3上，排列着使物镜3沿图1中上下方向移动的二维传动装置(Secondary actuator)26。在与物镜3的相对位置上，排列着作为信息记录介质的BD100、DVD101 或CD102。
此外，相对于射束分裂器21，在图1中右侧依次并列排列着传感镜40和光检测器43。传感镜40具有柱面透镜41和凹透镜42。
另外，在由激光源11，12射出的光束的光轴方向，由图1中右侧向左侧依次并列排列着射束分裂器50、准直镜51、射束分裂器23。在射束分裂器50的图1中上侧依次并列排列着传感镜60和光检测器63。传感镜60具有柱面透镜61和凹透镜62。
接着，对光拾取装置1中的操作、作用进行简单地说明。在向BD100记录信息时或再现BD100中的信息时，激光源10射出光束。该光束如图1中以实线示出的光线路径那样，开始时透过光束整形器20进行整形，透过射束分裂器21后，用准直镜22变换为平行光。接着，该光束透过射束分裂器23和1/4波长板24被光圈25缩小，然后被物镜3汇聚而在BD100的信息记录面100a上形成聚光点。此时，物镜3由其周围设置的二维传动装置26进行聚焦或跟踪。
接着，形成聚光点的光在BD100的信息记录面100a上通过信息凹坑进行调制而反射。然后，该反射光透过物镜3、1/4波长板24、射束分裂器23和准直镜22被射束分裂器21反射后，通过传感镜40给予象散，到达光检测器43。然后，使用光检测器43的输出信号，进行BD100中信息的再现。
在向DVD101记录信息时或再现DVD101中的信息时，激光源11射出光。该光束如图1中以虚线示出的光线路径那样，首先透过射束分裂器50，然后由准直镜51变换为平行光。接着，该光束由射束分裂器23进行反射，透过1/4波长板24被光圈25缩小，然后被物镜3汇聚而在DVD101的信息记录面101a上形成聚光点。此时，物镜3通过其周围设置的二维传动装置26进行聚焦或跟踪。
接着，形成聚光点的光在DVD101的信息记录面101a上通过信息凹坑进行调制而反射。然后，该反射光透过物镜3、1/4波长板24，分别由射束分裂器23，50进行反射后，通过传感镜60给予象散，到达光检测器63。然后，使用光检测器63的输出信号，进行DVD101中 信息的再现。
在向CD102记录信息时或再现CD102中的信息时，激光源12射出光。该光束如图1中以双点划线示出的光线路径那样，首先透过射束分裂器50，然后由准直镜51变换为平行光。接着，该光束由射束分裂器23进行反射，透过1/4波长板24被光圈25缩小，然后被物镜3汇聚而在CD102的信息记录面102a上形成聚光点。此时，物镜3通过其周围设置的二维传动装置26进行聚焦或跟踪。
接着，形成聚光点的光在CD102的信息记录面102a上通过信息凹坑进行调制而反射。然后，该反射光透过物镜3、1/4波长板24，分别由射束分裂器23，50进行反射后，通过传感镜60给予象散，到达光检测器63。然后，使用光检测器63的输出信号，进行CD102中信息的再现。
下面，对物镜3的结构进行详细地说明。
物镜3是本发明的光学元件，并具有将由各激光源10，11，12射出的光束汇聚在BD100、DVD101或CD102的信息记录面100a，101a，102a上的功能。另外，使物镜3的数值孔径NA相对于由激光源10射出的光束为0.85，相对于由激光源11射出的光束为0.65，相对于由激光源12射出的光束为0.45-0.51。此外，物镜3的折射率为1.55。
该物镜3如图2所示是单透镜，具有一个基材30。
基材30的2个光学面均是非球面。这2个光学面中，光源侧的光学面如图3所示，至少被分成第1区域30a和第2区域30b。第1区域30a是由激光源10，11，12射出的光束透过的区域，而第2区域30b是由激光源10，11射出的光束透过的区域。另外，该第2区域30b进一步分成激光源10，11的2个光束透过的区域、和仅由激光源11射出的光束透过的区域。
在第1区域30a上，形成作为相位结构的衍射结构(未图示)。该衍射结构通过产生光程差将来自激光源10，11，12的各光束分别汇聚在相应的信息记录介质的信息记录面100a，101a，102a上。作为这种衍射结构的形状，可以使用一直以来公知的形状。本实施方式的衍 射结构由以光轴为中心的多个波带构成，并且包括光轴的剖面形状为锯齿形状。
这种基材30优选由对短波长的蓝紫色激光的耐光性和耐热性良好的树脂组合物形成。作为这种树脂组合物，有具有由α-烯烃和环状烯烃的共聚物形成的树脂和光稳定剂的树脂组合物，例如，三井化学工业(株)的“APEL”(产品名)等。
其中，上述环状烯烃优选以下述通式(I)或(II)表示。
Figure 453344DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820070214D000021
其中，式中，n是0或1，m是0或正整数，k是0或1。当k是1时，用k表示的环是六元环，当k是0时该环是五元环。
此外，R1-R18以及Ra和Rb分别独立地表示氢原子、卤原子或烃基。其中，卤原子是氟原子、氯原子、溴原子或碘原子。
另外，作为烃基，通常可列举出碳原子数1-20的烷基、碳原子数1-20的卤代烷基、碳原子数3-15的环烷基或芳烃基。更加具体地，作为烷基，可列举出甲基、乙基、丙基、异丙基、戊基、己基、辛基、癸基、十二烷基和十八烷基等。这些烷基也可以被卤原子取代。
其中，作为环烷基，可列举出环己基，作为芳烃基可列举出苯基、萘基等。此外上述通式(I)中，R15和R16、R17和R18、R15和R17、R16和R18、R15和R18或R16和R17可以各自结合(彼此共同)，形成单环或多环基团，而且这样形成的单环或多环也可以具有双键。作为其中形成的单环或多环，具体可列举出如下化学式。
Figure 661602DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820070214D000031
另外上述示例中，附加了1或2的号码的碳原子表示在上述通式(I)中分别结合R15(R16)或R17(R18)的碳原子。
另外，R15和R16、或R17和R18也可以形成亚烷基(烷叉基)。这种亚烷基通常是碳原子数2-20的亚烷基，作为这种亚烷基的具体例子，可列举出亚乙基、亚丙基和亚异丙基。
Figure 475975DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820070214D000032
其中，式中，p和q分别独立地是0或正整数，r和s分别独立地是0、1或2。另外，R21-R39分别独立地表示氢原子、卤原子、烃基或烷氧基。
其中，卤原子与上述通式(I)中的卤原子相同。另外，作为烃基，通常可列举出碳原子数1-20的烷基、碳原子数3-15的环烷基或芳烃基。更加具体地，作为烷基，可列举出甲基、乙基、丙基、异丙基、戊基、己基、辛基、癸基、十二烷基和十八烷基等。这些烷基也可以被卤原子取代。
作为环烷基，可列举出环己基，作为芳烃基可列举出芳基、芳烷基，具体地，可列举出苯基、甲苯基、萘基、苄基、苯乙基等。
作为烷氧基，可列举出甲氧基、乙氧基、丙氧基等。其中，R29和R30结合的碳原子与R33结合的碳原子或R31结合的碳原子可以直接或通过碳原子数1-3的亚烷基进行结合。即，当上述2个碳原子通过亚烷基进行结合时，R29和R33、或R30和R31彼此共同地形成亚甲基(-CH2-)、亚乙基(-CH2CH2-)、或亚丙基(-CH2CH2CH2-)中的任一种亚烷基。
而且，当r＝s＝0时，R35和R32或R35和R39还可以互相结合形成单环或多环的芳环。具体地讲，当r＝s＝0时，可列举出由R35和R32形成的如下的芳环。
其中，q与通式(II)中的q相同。作为如上所述的通式(I)或(II)中表示的环状烯烃，具体地讲，可列举出二环-2-庚烯衍生物(二环庚-2-烯衍生物)、三环-3-癸烯衍生物、三环-3-十一碳烯衍生物、四环-3-十二碳烯衍生物、五环-4-十五碳烯衍生物、五环十五碳二烯衍生物、五环-3-十五碳烯衍生物、五环-3-十六碳烯衍生物、五环-4-十六碳烯衍生物、六环-4-十七碳烯衍生物、七环-5-二十碳烯衍生物、七环-4-二十碳烯衍生物、七环-5-二十一碳烯衍生物、八环-5-二十二碳烯衍生物、九环-5-二十五碳烯衍生物、九环-6-二十六碳烯衍生物、环戊二烯-苊烯加成物、1，4-甲撑-1，4，4a，9a-四氢芴衍生物、1，4-甲撑-1，4，4a，5，10，10a-六氢蒽衍生物等。
下面示出了如上所述的以通式(I)或通式(II)表示的环状烯烃的更加具体的例子。
Figure 565470DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000121
等二环[2.2.1]庚-2-烯衍生物；
Figure 764370DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000131
Figure 488930DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000151
Figure 243259DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000161
Figure 503656DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000181
等四环[4.4.0.12.5.17.10]-3-十二碳烯衍生物；
Figure 175126DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000201
等六环[6.6.1.13.6.110.13.02.7.09.14]-4-十七碳烯衍生物；
等八环[8.8.0.12.9.14.7.111.18.113.16.03.8.012.17]-5-二十二碳烯衍生物；
Figure 241936DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000221
等七环-5-二十碳烯衍生物或者七环-5-二十一碳烯衍生物；
等三环[4.3.0.12.5]-3-癸烯衍生物；
Figure 49672DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000231
等三环[4.4.0.12.5]-3-十一碳烯衍生物；
Figure 547650DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000232
等五环[6.5.1.13.6.02.7.09.13]-4-十五碳烯衍生物；
Figure 319297DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000241
等二烯化合物；
Figure 332252DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000242
等五环[7.4.0.12.5.19.12.08.13]-3-十五碳烯衍生物；
等七环[8.7.0.13.6.110.17.112.15.02.7.011.16]-4-二十碳烯衍生物；
等九环[10.9.1.14.7.113.20.115.18.03.8.02.10.012.21.014.19]-5-二十五碳烯衍生物；
Figure 509790DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000252
等五环[8.4.0.12.5.19.12.08.13]-3-十六碳烯衍生物；
Figure 947724DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000261
等七环[8.8.0.14.7.111.18.113.16.03.8.012.17]-5-二十一碳烯衍生物；
等九环[10.10.1.15.8.114.21.116.19.02.11.04.9.013.22.015.20]-6-二十六碳烯衍生物；
此外，
Figure 653960DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000271
Figure 767410DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000281
Figure 916948DEST_PATH_DEST_PATH_DEST_PATH_S061A8718820060816D000301
Figure DEST_PATH_G200610108718801D00011
另外，作为构成上述共聚物的α-烯烃，可列举出例如乙烯、丙烯、1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-辛烯、1-癸烯、1-十二碳烯、1-十四碳烯、1-十六碳烯、1-十八碳烯、1-二十碳烯等直链状α-烯烃；4-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-丁烯等支链状α-烯烃等。优选碳原子数2-20的α-烯烃。这种直链状 或支链状的烯烃可以被取代基取代，另外可以单独使用、或二种或多种以上组合使用。
作为取代基，可列举出各种取代基，没有特别限制，作为代表的基团，可列举出烷基、芳基、苯胺基、酰基氨基、磺酰胺基、烷硫基、芳硫基、烯基、环烷基、环烯基、炔基、杂环、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、甲硅烷氧基、氨基、烷基氨基、酰亚胺基、脲基、氨磺酰氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环硫基、硫脲基、羟基和巯基的各基团、以及螺环化合物残基、桥烃化合物残基、磺酰基、亚磺酰基、磺酰氧基、氨磺酰基、磷酰基、氨甲酰基、酰基、酰氧基、氧基羰基、羧基、氰基、硝基、卤代烷氧基、卤代芳氧基、吡咯基、四唑基等各基团和卤原子等。
作为上述烷基优选碳原子数1-32的，可以是直链也可以是支链。作为芳基优选苯基。
作为酰基氨基，可列举出烷基羰基氨基、芳基羰基氨基；作为磺酰胺基，可列举出烷基磺酰氨基、芳基磺酰氨基；烷硫基、芳硫基中的烷基成分、芳基成分可列举出上述的烷基、芳基。
作为烯基优选碳原子数2-23的，作为环烷基优选碳原子数3-12者，特别优选5-7者，烯基既可以是直链也可以是支链。作为环烯基优选碳原子数3-12者，特别优选5-7者。
作为脲基，可列举出烷基脲基、芳基脲基；作为氨磺酰氨基可列举出烷基氨磺酰氨基、芳基氨磺酰氨基；作为杂环基优选5-7元者，具体地可列举出2-呋喃基、2-噻吩基、2-嘧啶基、2-苯并噻唑基等；作为饱和杂环优选5-7元者，具体地可列举出四氢吡喃基、四氢硫代吡喃基等；作为杂环氧基优选具有5-7元杂环者，例如3，4，5，6-四氢吡喃-2-氧基、1-苯基四唑-5-氧基等；作为杂环硫基优选5-7元的杂环硫基，例如2-吡啶基硫基、2-苯并噻唑基硫基、2，4-二苯氧基-1，3，5-三唑-6-硫基等；作为甲硅烷氧基可列举出三甲基甲硅烷氧基、三乙基甲硅烷氧基、二甲基丁基甲硅烷氧基等；作为酰亚胺基可列举出琥珀酰亚胺、3-十七烷基琥珀酰亚胺、酞酰亚 胺、戊二酰亚胺等；作为螺环化合物残基可列举出螺[3.3]庚烷-1-基等；作为桥烃化合物残基可列举出二环[2.2.1]庚烷-1-基、三环[3.3.1.13.7]癸烷-1-基、7，7-二甲基-二环[2.2.1]庚烷-1-基等。
作为磺酰基，可列举出烷基磺酰基、芳基磺酰基、卤代烷基磺酰基、卤代烷基磺酰基等；作为亚磺酰基，可列举出烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基等；作为磺酰氧基，可列举出烷基磺酰氧基、芳基磺酰氧基等；作为氨磺酰基，可列举出N，N-二烷基氨磺酰基、N，N-二芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基等；作为磷酰基，可列举出烷氧基磷酰基、芳氧基磷酰基、烷基磷酰基、芳基磷酰基等；作为氨甲酰基，可列举出N，N-二烷基氨甲酰基、N，N-二芳基氨甲酰基、N-烷基-N-芳基基甲酰基等；作为酰基，可列举出烷基羰基、芳基羰基等；作为酰氧基，可列举出烷基羰基氧基等，作为氧基羰基，可列举出烷氧基羰基、芳氧基羰基等；作为卤代烷氧基可列举出α-卤代烷氧基等；作为卤代芳氧基，可列举出四氟芳氧基、五氟芳氧基等；作为吡咯基，可列举出1-吡咯基等；作为四唑基可列举出1-四唑基等各基团。
除了上述取代基，还优选使用三氟甲基、七氟异丙基、九氟叔丁基等各基团、和四氟芳基、五氟芳基等。另外，这些取代基也可以被其它的取代基取代。
本发明共聚物中的非环状单体含量从成型性的观点出发优选20重量％或更多，更优选25重量％-90重量％，进一步优选30重量％-85重量％。
本发明的聚合物或共聚物的玻璃化转变温度(Tg)优选为80-250℃，更优选90-220℃，最优选100-200℃的范围。数均分子量(Mn)以用凝胶渗透色谱法(GPC)测定的聚苯乙烯换算值计，优选10000-1000000，更优选20000-500000，最优选50000-300000的范围。分子量分布用上述Mn和同样用GPC测定的聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)的比(Mw/Mn)表示时，优选小于等于2.0。
Mw/Mn如果过大，则成型体的机械强度和耐热性下降。尤其要想提高机械强度、耐热性、成型加工性时，Mw/Mn更优选为1.8或更低，特别优选1.6或更低。
聚合时的温度选自0-200℃、优选50-150℃的范围，压力选自大气压-100气压的范围。另外，通过使聚合物区域存在氢，可易于调整生成的聚合物的分子量。
本发明的烯烃类树脂可以是由一种成分的环状单体合成的高分子，但优选使用二种或更多成分的环状单体、或环状单体和非环状单体合成的共聚物。对于该共聚物，虽然也可以使用100种或更多成分的单体进行制造，但是从生产效率聚合稳定性出发，单体的混合优选10种成分或更少。更优选5种成分或更少。
另外，得到的共聚物无论是结晶性高分子还是非结晶性高分子均可，但优选非结晶性高分子。
作为将本发明的聚合物和共聚物的碳-碳不饱和键(包括芳环)进行加氢的方法，可以使用公知方法，其中，为了提高加氢率，而减少加氢反应同时引起的聚合物链断链反应，优选在有机溶剂中使用含有至少一种选自于镍、钴、铁、钛、铑、钯、铂、钌和铼的金属的催化剂进行加氢反应的方法。氢化催化剂可采用非均相催化剂、均相催化剂中的任一种。非均相催化剂可采用金属或金属化合物本身，也可以把它们担载在合适的载体上来使用。作为载体，可列举出例如，活性炭、氧化硅、氧化铝、碳化钙、氧化钛、氧化镁、氧化锆、硅藻土、碳化硅等，催化剂的担载量以相对于催化剂总量的金属含量计，通常为0.01～80重量％、优选0.05～60重量％的范围。均相催化剂可以使用镍、钴、钛或铁化合物与有机金属化合物(例如，有机铝化合物、有机锂化合物)组合的催化剂或铑、钯、铂、钌、铼等有机金属配合物催化剂。这些加氢催化剂可以各自单独使用，或把两种或两种以上组合起来使用，其用量相对于聚合物100重量份，通常为0.01～100重量份，优选0.05～50重量份，更优选0.1～30重量份。
加氢反应温度通常是0-300℃的温度，优选室温-250℃，特别 优选50-200℃的温度范围。
另外，加氢压力通常为0.1MPa-30MPa，优选1MPa-20MPa，更优选2MPa-15MPa。所得加氢物的加氢率从耐热性和耐候性的观点出发，在1H-NMR测定中，通常在主链碳-碳不饱和键的90％或更多，优选95％或更多，更优选97％或更多。加氢率低时，降低了所得到的聚合物的透过率、低双折射性、热稳定性等光学特性。
作为在本发明的聚合物和共聚物的加氢反应中使用的溶剂，只要是溶解本发明的聚合物和共聚物且溶剂自身不被氢化即可为任意溶剂，可列举出例如类；苯、甲苯、二甲苯、乙苯等芳烃；戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烃；环戊烷、环己烷、甲基环己烷、二甲基环己烷、萘烷等脂肪族环状烃；二氯甲烷、二氯乙烷、二氯乙烯、四氯乙烷、氯苯、三氯苯等卤代烃等，这些也可以两种或两种以上混合使用。
本发明的聚合物或共聚物的氢化物的制造可以将聚合物或共聚物从聚合物溶液中分离后，再次溶解于溶剂中，也可以采用不进行分离，通过加入由上述有机金属配合物和有机铝化合物组成的氢化催化剂进行氢化反应的方法。氢化反应结束后，可以用公知方法除去残存在聚合物中的氢化催化剂。例如，可列举出用吸附剂的吸附法；向良好溶剂的溶液中加入乳酸等有机酸和弱溶剂和水，对该系统在常温下或加热下进行萃取除去的方法；或者将良好溶剂的溶液或聚合物浆料在氮气或氢气的气氛下用三亚甲基二胺、苯胺、吡啶、乙二胺(ethanediamide)、氢氧化钠等碱性化合物进行接触处理后，或在接触处理同时对乙酸、柠檬酸、苯甲酸、盐酸等酸性化合物进行接触处理，然后进行洗涤除去的方法等。
从本发明的聚合物或共聚物的氢化物溶液回收聚合物氢化物的方法没有特别限制，可以使用公知方法。例如，可列举出用在搅拌下向弱溶剂中排出反应溶液使聚合物氢化物凝固的过滤法、离心分离法、倾滗法等进行回收的方法、向反应溶液中吹入蒸汽而使聚合物氢化物析出的汽提法、通过加热等直接由反应溶液中除去溶剂的方法等。
使用本发明的加氢方法，氢化率易于达到90％或更多，可以为95％或更多，特别是99％或更多，这样得到的聚合物或共聚物的氢化物不易被氧化，从而成为优异的聚合物或共聚物的氢化物。
(树脂组合物的制备方法)
对本发明的树脂组合物的制备方法进行说明。
本发明的树脂组合物优选在成型步骤(成型工艺)之前进行特定的加工处理，也可以在加工处理的阶段加入通常向树脂中加入的增塑剂、抗氧化剂、其它的添加剂。
作为本发明的树脂组合物的制备方法，优选的制备方法可列举出混炼工艺或将混合物溶解于溶剂、除去溶剂、经过干燥获得组合物的方法等，更优选的制备方法是混炼工艺。另外，作为混炼工艺，可以使用通常用于配合树脂的工艺。例如，可以使用辊、密炼机、双轴混炼机、捏合机等，优选列举密炼机、双螺杆混炼机、捏合机等。为了防止树脂氧化，优选使用可在密闭系统中混炼的装置，更优选希望在氮气或氩等惰性气体中进行混炼工艺。
在本发明的树脂组合物制备时或树脂组合物的成型工序中，可以根据需要加入各种添加剂(也称为混合剂)。作为添加剂，没有特别限制，可列举出抗氧化剂、热稳定剂、光稳定剂、耐候稳定剂、紫外吸收剂、近红外吸收剂等稳定剂；润滑剂、增塑剂等树脂改性剂；染料或颜料等着色剂；防静电剂、阻燃剂、填料等。这些混合剂可以单独使用，或两种或两种以上组合使用，其混合量在不损害本发明记载效果的范围内适当选择。
《抗氧化剂》
对本发明中使用的抗氧化剂进行说明。
作为抗氧化剂，可列举出酚类抗氧化剂、磷类抗氧化剂、硫类抗氧化剂等，其中以酚类抗氧化剂、特别是烷基取代酚类抗氧化剂为优选。由于配合了这些抗氧化剂，透明性、耐热性等没有下降，而且可以防止由成型时氧化老化等导致的透镜的着色或强度下降。这些抗氧化剂可以各自单独使用，或把两种或两种以上组合起来使用，其配合 量可在不损及本发明目的的范围内适当选择，相对于本发明的聚合物100质量份，优选为0.001-5质量份，更优选0.01-1质量份。
作为酚类抗氧化剂，可以使用以往公知的抗氧化剂，可列举出例如，丙烯酸2-叔丁基-6-(3-叔丁基-2-羟基-5-甲基苄基)-4-甲基苯基酯、丙烯酸2，4-二叔戊基-6-(1-(3，5-二叔戊基-2-羟苯基)乙基)苯基酯等在特开昭63-179953号公报和特开平1-168643号公报中所记载的丙烯酸酯类化合物；丙酸十八烷基-3-(3，5-二叔丁基-4-羟苯基)酯、2，2’-亚甲基-双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、1，1，3-三(2-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基)丁烷、1，3，5-三甲基-2，4，6-三(3，5-二叔丁基-4-羟苄基)苯、四(亚甲基-3-(丙酸3’，5’-二叔丁基-4’-羟苯基酯)甲烷、(季戊四醇基甲基-四(3-(丙酸3，5-二叔丁基-4-羟苯基酯))、三甘醇双(丙酸(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)酯)等烷基取代酚类化合物；6-(4-羟基-3，5-二叔丁基苯胺基)-2，4-双辛基硫代-1，3，5-三嗪、4-双辛基硫代-1，3，5-三嗪、2-辛基硫代-4，6-双(3，5-二叔丁基-4-氧苯胺基)-1，3，5-三嗪等含三嗪基的酚类化合物等。
作为磷类抗氧化剂，只要是在一般的树脂工业中通用的物质，就没有特别限制，可列举出例如，磷酸三苯酯、磷酸二苯基异癸酯、磷酸苯基二异癸酯、磷酸三(壬苯基)酯、磷酸三(二壬苯基)酯、磷酸三(2，4-二叔丁苯基)酯、10-(3，5-二叔丁基-4-羟苄基)-9，10-二氢-9-氧杂-10-磷菲-10-氧化物等单磷酸酯类化合物；4，4’-亚丁基-双(磷酸3-甲基-6-叔丁基苯基二(十三烷基)酯)、4，4’-亚异丙基双(磷酸苯基二烷基(C12～C15)酯)等二磷酸酯类化合物等。其中，优选单磷酸酯类化合物，特别优选磷酸三(壬基苯基)酯、磷酸三(二壬基苯基)酯、磷酸三(2，4-二叔丁基苯基)酯等。
作为硫类抗氧化剂，可列举出例如，二月桂基3，3-硫代二丙酸酯、二肉豆蔻基3，3’-硫代二丙酸酯、二硬脂基3，3-硫代二丙酸酯、月桂基硬脂基3，3-硫代二丙酸酯、季戊四醇四(β-月桂基硫代丙酸酯)、3，9-双(2-十二烷基硫代乙基)-2，4，8，10-四氧杂螺[5，5]十一烷等。
《光稳定剂》
对本发明使用的光稳定剂进行说明。
作为光稳定剂，可列举二苯甲酮类光稳定剂、苯并三唑类光稳定剂、受阻胺类光稳定剂等，本发明中，从透镜的透明性、耐着色性等观点考虑，优选使用受阻胺类光稳定剂。在受阻胺类光稳定剂(下面称为HALS)中，优选由THF为溶剂经GPC测定的以聚苯乙烯换算的Mn为1000～10000，更优选2000～5000，特别优选2800～3800。Mn过小时，在把该HALS与嵌段共聚物加热熔融混炼进行配合时，或是由于挥发而不能按预定的量进行配合，或是在注塑成型等加热熔融成型时产生发泡或银条等而加工稳定性下降。还有，在灯点亮的状态下长时间使用透镜的场合，从透镜出来的挥发性成分会变成气体。反之，Mn过大时，在嵌段共聚物中的分散性下降，透镜的透明性下降，耐光性的改善效果下降。所以，本发明中，通过把HALS的Mn设定为上述范围而得到了加工稳定性、低气体产生性、透明性均优异的透镜。
作为这样的HALS的具体例子，可列举出N，N’，N”，N’”-四[4，6-双{丁基-(N-甲基-2，2，6，6-四甲基哌啶-4-基)氨基}三嗪-2基]-4，7-二氮杂癸烷-1，10-二胺、二丁胺与1，3，5-三嗪和N，N’-双(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)丁胺的缩聚物、聚[{(1，1，3，3-四甲基丁基)氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二基}{(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚氨基}六亚甲基{(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚氨基}]、1，6-己二胺-N，N’-双(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)与吗啉-2，4，6-三氯-1，3，5-三嗪的缩聚物、聚[(6-吗啉代-s-三嗪-2，4-二基)(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚氨基]六亚甲基[(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚氨基]]等通过三嗪骨架把多个哌啶环键合起来的高分子HALS；琥珀酸二甲酯与4-羟基-2，2，6，6-四甲基-1-哌啶乙醇的聚合物、1，2，3，4-丁烷四羧酸与1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶醇与3，9-双(2-羟基-1，1-二甲基乙基)-2，4，8，10-四氧杂螺[5，5]十一烷的混合酯化物等通过酯键把哌啶环键合起来的高分子HALS等。
其中，优选二丁胺与1，3，5-三嗪和N，N’-双(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)丁胺的缩聚物、聚[{(1，1，3，3-四甲基丁基)氨基-1，3，5-三嗪 -2，4-二基}{(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚氨基}六亚甲基{(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚氨基}]、琥珀酸二甲酯与4-羟基-2，2，6，6-四甲基-1-哌啶乙醇的聚合物等Mn在2000～5000范围的HALS。
相对于本发明树脂的上述配比量，相对100质量份聚合物，优选0.01～20质量份，更优选0.02～15质量份，特别优选0.05～10质量份。添加量过少时，耐光性的改善效果不充分，在室外长时间使用等的场合，会带色。另一方面，HALS的配比量过多时，或者其中一部分变成气体，或者在树脂中的分散性降低，使透镜的透明性下降。
并且，在本发明树脂组合物中，通过配合最低的玻璃化转变温度在30℃或30℃以下的化合物，使透明性、耐热性、机械强度等诸特性没有降低，并可以防止在长时间的高温高湿环境下的白浊。
即本发明中，提供了含有本发明的树脂组合物与选自(1)软质聚合物和(2)醇性化合物的至少1种配合剂而形成的树脂组合物。由于配合了这些配合剂，使透明性、低吸水性、机械强度等诸特性没有下降，而且可以防止在长时间的高温高湿环境下的白浊。
其中，(1)软质聚合物和(2)醇性化合物在高温高湿环境下防止白浊的效果优异，所得到的树脂组合物的透明性优异。
(1)软质聚合物
本发明中使用的软质聚合物通常是具有30℃或低于30℃的Tg的聚合物，当存在多个Tg时，优选至少最低的Tg在30℃或低于30℃。
作为这些软质聚合物的具体例子，可列举出例如，液态聚乙烯、聚丙烯、聚1-丁烯、乙烯-α-烯烃共聚物、丙烯-α-烯烃共聚物、乙烯-丙烯-二烯共聚物(EPDM)、乙烯-丙烯-苯乙烯共聚物等烯烃类软质聚合物；聚异丁烯、异丁烯-异戊二烯橡胶、异丁烯-苯乙烯共聚物等异丁烯类软质聚合物；聚丁二烯、聚异戊二烯、丁二烯-苯乙烯无规共聚物、异戊二烯-苯乙烯无规共聚物、丙烯腈-丁二烯共聚物、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物、异戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物、苯乙烯-异戊二烯- 苯乙烯嵌段共聚物等二烯类软质聚合物；二甲基聚硅氧烷、二苯基聚硅氧烷、二羟基聚硅氧烷等含硅软质聚合物；聚丙烯酸丁酯、聚甲基丙烯酸丁酯、聚甲基丙烯酸羟乙酯、聚丙烯酰胺、聚丙烯腈、丙烯酸丁酯-苯乙烯共聚物等α，β-不饱和酸构成的软质聚合物；聚乙烯醇、聚乙酸乙烯、聚硬脂酸乙烯酯、醋酸乙烯-苯乙烯共聚物等不饱和醇和胺或其酰基衍生物或缩醛构成的软质聚合物；环氧乙烷、聚环氧丙烷、环氧氯丙烷橡胶等环氧类软质聚合物；偏氟乙烯类橡胶、四氟乙烯-丙烯橡胶等氟类软质聚合物、天然橡胶、多肽、蛋白质、聚酯类热塑性弹性体、氯乙烯类热塑性弹性体、聚酰胺类热塑性弹性体等其它的软质聚合物等。这些软质聚合物可以具有交联结构，也可以通过改性反应引入官能团。
在上述软质聚合物中，以二烯类软质聚合物为优选，特别是对该软质聚合物的碳-碳不饱和键加氢的氢化物在橡胶弹性、机械强度、柔软性、分散性方面具有优势。
(2)醇性化合物
另外，醇性化合物是分子内至少有1个非酚性羟基的化合物，优选有至少1个羟基和至少1个醚键或酯键。作为这样的化合物的具体例子，可列举出例如，二元或二元以上的多元醇，更优选三元或三元以上的多元醇，进一步优选具有3～8个羟基的多元醇中的1个羟基被醚化或酯化的醇醚化合物或醇酯化合物。
作为二元或二元以上的多元醇，可列举出例如，聚乙二醇、丙三醇(甘油)、三羟甲基丙烷、季戊四醇、二甘油、三甘油、二季戊四醇、1，6，7-三羟基-2，2-二(羟甲基)-4-氧基庚烷、山梨糖醇、2-甲基-1，6，7-三羟基-2-羟甲基-4-氧基庚烷、1，5，6-三羟基-3-氧己烷季戊四醇、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯等，特别以三元或三元以上的多元醇、进而以具有3～8个羟基的多元醇为优选。还有，当得到醇酯化合物时，优选可以合成含α，β-二醇的醇酯化合物的甘油、二甘油、三甘油等。
作为这样的醇性化合物，可列举出例如，甘油单硬脂酸酯、甘油单月桂酸酯、甘油单山萮酸酯、二甘油单硬脂酸酯、甘油二硬脂酸酯、 甘油二月桂酸酯、季戊四醇单硬脂酸酯、季戊四醇单月桂酸酯、季戊四醇单山萮酸酯、季戊四醇二硬脂酸酯、季戊四醇二月桂酸酯、季戊四醇三硬脂酸酯、二季戊四醇二硬脂酸酯等多元醇酯化合物；3-(辛氧基)-1，2-丙二醇、3-(癸氧基)-1，2-丙二醇、3-(月桂氧基)-1，2-丙二醇、3-(4-壬基苯氧基)-1，2-丙二醇、1，6-二羟基-2，2-二(羟甲基)-7-(4-壬基苯氧基)-4-氧基庚烷、对壬基苯基醚和甲醛的缩合物与缩水甘油反应得到的醇醚化合物、对辛基苯基醚和甲醛的缩合物与缩水甘油反应得到的醇醚化合物、对辛基苯基醚和二环戊二烯的缩合物与缩水甘油反应得到的醇醚化合物等。这些多元醇性化合物可以单独或两种或两种以上组合使用。对于这些多元醇性化合物的分子量没有特别限制，通常为500～2000，优选800～1500，其透明性下降也少。
(3)有机或无机填料
作为有机填料，可以使用通常的有机聚合物粒子或交联有机聚合物粒子，可列举出例如，聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃；聚氯乙烯、聚偏氯乙烯等含卤乙烯类聚合物；由聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯等由α，β-不饱和酸衍生的聚合物；由聚乙烯醇、聚乙酸乙烯等不饱和醇衍生的聚合物；由聚环氧乙烷或二缩水甘油醚衍生的聚合物；聚苯醚、聚碳酸酯、聚砜等芳香族缩聚物；聚氨酯；聚酰胺；聚酯；酚醛类树脂；天然高分子化合物等的粒子或交联粒子。
作为无机填料，可列举出例如，氟化锂、硼砂(硼酸钠含水盐)等1族元素的化合物；碳酸镁、磷酸镁、碳酸钙、钛酸锶、碳酸钡等2族元素的化合物；二氧化钛(氧化钛)、一氧化钛等4族元素的化合物；二氧化钼、三氧化钼等6族元素的化合物；氯化锰、乙酸锰等7族元素的化合物；氯化钴、乙酸钴等8～10族元素的化合物；碘化亚铜等11族元素的化合物；氧化锌、乙酸锌等12族元素的化合物；氧化铝、氟化铝、硅铝酸盐(硅酸铝、高岭土、高岭石)等13族元素的化合物；氧化硅(二氧化硅、硅胶)、石墨、炭、石墨、玻璃等14族元素的化合物；光卤石、钾盐镁矾、云母(云母、金云母)、软锰矿等天然矿物的粒子。
上述(1)～(3)的化合物的配合量由脂环烃聚合物与所配合的化合物的组合共同决定，一般来说，配合量过多时，组合物的玻璃化转变温度和透明性大幅度降低，不适于用作光学材料。而配比量过少时，有在高温高湿下成型物产生白浊的情况。作为配合量，相对于脂环烃类共聚物100质量份，通常以0.01～10质量份，优选0.02～5质量份，特别优选0.05～2质量份的比例来配合。配合量过少时，不能得到在高温高湿下防止白浊的效果；配比量过多时，成型物的耐热性、透明性下降。
《其它配合剂》
在本发明的树脂组合物中，可以根据需要配合紫外吸收剂、光稳定剂、近红外吸收剂、染料或颜料等着色剂、润滑剂、增塑剂、防静电剂、荧光增白剂等作为其它的配合剂，它们可以单独使用，或两种或两种以上混合使用，它们的配合量可在不损及本发明的目的的范围内适当选择。
在如上所述的基材30的至少一个光学面、本实施方式中2个光学面上，如图2所示，设置防反射膜31。
防反射膜31是通过将多个高折射率层和低折射率层进行交替层叠而形成，优选共由7-9层形成。
本实施方式中，用真空蒸镀法对防反射膜31进行制膜，但制膜方法不限于此，可以用常规方法进行制作。例如，除了真空蒸镀法外，还可列举出溅射法、旋镀法、浸涂法、CVD法和大气压等离子体法等。
高折射率层的折射率相对于波长450nm光束为1.8-2.2。另外，作为高折射率层的材料，可以使用氧化铪、氧化锆、氧化钛、氧化镁、氧化镧、钛酸锆、氧化钽、氧化硅、氧化钍、氧化钇、氧化镨和氧化钪中任意单体或混合物，优选使用氧化锆。
低折射率层的折射率相对于波长450nm光束为1.4-1.6。在这么多个低折射率层中，至少2个低折射率层、优选介于一个上述高折射率层而相邻的一对低折射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同，更优选各低折射率层与通过一个上述高折射率层相邻的其它低折 射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同。本实施方式中，多个低折射率层的副成分的含有比率取大小2个值，且含有比率取大值的层(下面成为第1低折射率层)与含有比率取小值的层(下面成为第2低折射率层)介于高折射率层交替进行层叠。此外，作为低折射率层的主成分，可以使用二氧化硅，作为副成分，可以使用氧化铝。
其中，把最接近基材30一侧的层设定为第1层，把第2接近基材30一侧的层设定为第2层，把第n(n为整数)接近基材30一侧的层设定为第n层，当把奇数号的层设定为上述第1低折射率层或第2低折射率层，偶数号的层设定为上述高折射率层时，作为如上所述的防反射膜31的一个例子，有第1层的膜厚为100-130nm，第2层的膜厚为10-14nm，第3层的膜厚为28-36nm，第4层的膜厚为46-60nm，第5层的膜厚为13-17nm，第6层的膜厚为44-55nm，第7层的膜厚为75-95nm的膜。
另外，此时，作为防反射膜31的另一个例子，有第1层的膜厚为85-105nm，第2层的膜厚为11-15nm，第3层的膜厚为30-38nm，第4层的膜厚为54-68nm，第5层的膜厚为20-25nm，第6层的膜厚为34-43nm，第7层的膜厚为85-108nm的膜。
另外，此时，作为防反射膜31的另一个例子，有第1层的膜厚为100-130nm，第2层的膜厚为13-17nm，第3层的膜厚为42-52nm，第4层的膜厚为50-63nm，第5层的膜厚为13-17nm，第6层的膜厚为52-65nm，第7层的膜厚为85-108nm的膜。
另外，此时，作为防反射膜31的另一个例子，有第1层的膜厚为80-100nm，第2层的膜厚为10-14nm，第3层的膜厚为46-58nm，第4层的膜厚为10-14nm，第5层的膜厚为14-18nm，第6层的膜厚为33-42nm，第7层的膜厚为27-35nm，第8层的膜厚为35-45nm，第9层的膜厚为94-117nm的膜。
在图8、9中，示出了由7层组成的防反射膜31的一例剖面图、由9层组成的防反射膜31的一例剖面图。图中，H表示高折射率层，L1-L3分别表示主成分相同、而副成分含有比率不同的低折射率层。
另外，本实施方式中，是对由7层和9层构成的防反射膜31进行的说明，但是防反射膜31也可以由8层构成。图10中示出了由8层组成的防反射膜31的一例剖面图。
此时，把最接近基材30侧的第1层设定为高折射率层，把第8层设定为低折射率层，通过使之间的奇数号的层为高折射率层、偶数号的层为低折射率层，可以获得具有与上述7层和9层相同效果的防反射膜。
通过以上的物镜3，当环境条件变化时，即使因该变化在防反射膜31的各层上产生膜应力的情况下，就至少2个低折射率层来说，由于副成分的含有比率不同，因而该膜应力的大小和方向在这2个低折射率层间变得不同。因此，由于可以缩小在低折射率层上产生的膜应力的叠加作用程度，所以与以往相比，可以防止在防反射膜31中产生裂缝或剥离，即能够提高耐环境性。
另外，通过以上的物镜3，可获得相对于波长350-450nm波长区域的光的良好的透过率，在光拾取装置中，可用作使由波长350-450nm中至少特定波长的单色光构成的光束汇聚在信息记录介质上的物镜。
另外，上述实施方式中，以物镜3对本发明的光学元件进行说明，但是也可以为准直镜22和射束放大器等。
此外，虽然仅对物镜3只具有一片基材30的情况进行了说明，但物镜3也可以具有2片或更多的基材。
另外，虽然对物镜3具有基材30和防反射膜31的情况进行了说明，但也可以在基材30和防反射膜31之间插入衬底层以提高防反射膜31的粘附性。另外，在防反射膜31的表面，既可以设置用于防止污染等的防污层，也可以设置疏水性的防水层，还可以设置用于防止因静电造成的灰尘、尘埃等粘着的防静电层。其中，“衬底层”优选由例如硅烷偶合处理层构成。此外，“防污层”、“防水层”优选由氟类有机化合物或硅类有机化合物构成，其膜厚通常优选为小于等于7nm。当由氟类有机化合物构成“防污层”、“防水层”时，例如，优 选通过真空蒸镀形成以WR1(商品名，Merck(株)制)为蒸镀材料的全氟烷基硅烷的薄膜，或优选由氟类涂布液L-182560(商品名，住友3M(株)制)的涂布处理形成。另一方面，当由硅类有机化合物构成“防污层”、“防水层”时，优选用大气压等离子体法形成二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)的薄膜(参见特开平2003-161817号公报)。“防静电层”优选由透明导电性的薄膜构成，其膜厚通常优选为小于等于10nm。“防静电层”具体地讲优选用真空蒸镀法或溅射法由氧化锡、氧化铟、氧化锌的任一种单体或这些化合物的2种或更多种的混合物形成。
[实施例1]
下面，通过列举实施例和比较例，更加具体地说明本发明。
<物镜的结构>
作为上述实施方式中物镜的实施例(1)-(5)和比较例(1)-(3)，形成了在基材30的光学面上设置了表1所示层结构的防反射膜的光学元件。
[表1]
材料 物镜结构 低折射率 层的结构 耐光性 耐环境性 综合评价
比较例(1) 表7 只有L1 B C C
比较例(2) 表8 只有L3 C D D
比较例(3) 表9 只有L2 B C C
实施例(1) 表2 L1和L3 B A B
实施例(2) 表3 L2和L3 B B B
实施例(3) 表4 L1和L2 B B B
实施例(4) 表5 L1和L3 B B B
实施例(5) 表6 L1和L3 B B B
更加详细地讲，在实施例(1)-(5)的物镜中，使用下面表2-表6所示层构成的防反射膜。这些防反射膜中，第“1”层、第“3”层、第“5”层和第“7”层是本发明的低折射率层，第“2”层、第“4”层和第“6”层是本发明的高折射率层。
另外，在比较例(1)-(3)的物镜中，使用下面表7-9所示层结构的防反射膜。
[表2]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L1 1.49 85
2 ZrO2 1.98 50
3 L3 1.52 15
4 ZrO2 1.98 55
5 L3 1.52 32
6 ZrO2 1.98 12
7 L1 1.49 113
基材 APEL
[表3]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L2 1.5 85
2 ZrO2 1.98 50
3 L3 1.52 15
4 ZrO2 1.98 55
5 L3 1.52 32
6 ZrO2 1.98 12
7 L2 1.5 113
基材 APEL
[表4]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L1 1.49 85
2 ZrO2 1.98 50
3 L2 1.5 15
4 ZrO2 1.98 55
5 L2 1.5 32
6 ZrO2 1.98 12
7 L1 1.49 113
基材 APEL
[表5]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L3 1.52 97
2 ZrO2 1.98 38
3 L1 1.49 22
4 ZrO2 1.98 61
5 L3 1.52 34
6 ZrO2 1.98 12
7 L1 1.49 95
基材 APEL
[表6]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L3 1.52 97
2 ZrO2 1.98 59
3 L1 1.49 15
4 ZrO2 1.98 57
5 L3 1.52 47
6 ZrO2 1.98 15
7 L1 1.49 112
基材 APEL
[表7]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L1 1.49 85
2 ZrO2 1.98 50
3 L1 1.49 15
4 ZrO2 1.98 55
5 L1 1.49 32
6 ZrO2 1.98 12
7 L1 1.49 113
基材 APEL
[表8]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L3 1.52 85
2 ZrO2 1.98 50
3 L3 1.52 15
4 ZrO2 1.98 55
5 L3 1.52 32
6 ZrO2 1.98 12
7 L3 1.52 113
基材 APEL
[表9]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L2 1.5 85
2 ZrO2 1.98 50
3 L2 1.5 15
4 ZrO2 1.98 55
5 L2 1.5 32
6 ZrO2 1.98 12
7 L2 1.5 113
基材 APEL
另外，表2-9中，折射率(refractive index)是指相对于波长450nm光束的折射率。
此外，“L1”、“L2”和“L3”是以二氧化硅为主成分的材料，并含有大于等于0％的氧化铝作为各自副成分。更加详细地讲，如下面表10所示，“L1”是指副成分的含有比率大于等于0％且小于1％的材料。另外，“L2”是指副成分的含有比率大于等于1％且小于4％的材料，“L3”是指副成分的含有比率大于等于4％且小于6％的材料。
这些“L1”、“L2”和“L3”的折射率可以通过改变低折射率层的制膜速度和制膜时的真空度、基材温度等制膜条件使之控制在1.4-1.6的范围内，当在同一制膜条件下进行制膜时使之按照“L1”<“L2” <“L3”的顺序变大。本实施方式中，把低折射率层的制膜速度设定为约制膜真空度设定为1×10-3Pa或更低、制膜时的基材温度设定为约90℃，相对于波长450nm光束的折射率设定为：“L1”为1.49，“L2”为1.50，“L3”为1.52。
[表10]
材料 副成分的比率(X) 折射率(λ0＝450)
L1 0％≤X<1％ 1.49
L2 1％≤X<4％ 1.50
L3 4％≤X<6％ 1.52
另外，本实施方式中，高折射率层由氧化锆形成，但也可以由氧化铪、氧化锆、氧化钛、氧化镁、氧化镧、钛酸锆、氧化钽、氧化硅、氧化钍、氧化钇、氧化镨和氧化钪中任意单体或混合物形成。通常，这些化合物相对于波长450nm光束的折射率的值显示出了氧化铪为2.05，氧化锆为1.98，氧化钛为2.2，氧化镁为1.8，氧化镧为1.88，钛酸锆为2.1，氧化钽为2.1，氧化钍为2.1，氧化钇为1.96，氧化镨为2.0的值。即，高折射率层由相对于波长450nm光束的折射率为1.8-2.2的材质形成。
另外，基材30由APL5014DP(三井化学社制。本说明书中也称为APEL)形成，是由以下述通式(III)表示的环状烯烃共聚物组成的树脂。
式中，n＝m。
<反射率特性的评价>
测定如上所述形成的实施例(1)-(5)，比较例(1)-(3) 的物镜的反射率特性，获得了如图4的结果。同样地，测定实施例(4)、和实施例(5)的物镜的反射率特性，分别获得了如图6、7的结果。由此可知，即使在任何物镜中，均可相对于350-450nm、620-680nm和750-810nm波长区域的光获得良好的透过率。另外，在图4中，只简单图示出了实施例(2)、(3)的物镜的反射率特性，但是在其它的实施例中也得到相同的反射率特性。
<耐光性的评价>
此外，对实施例(1)-(5)，比较例(1)-(3)的物镜，以峰强度120mW/mm2照射波长405nm的光束，在经过168小时，336小时的时间点进行观察，获得如上述表1的结果。
由此可知，就实施例(1)-(5)，比较例(1)，(3)的物镜与比较例(2)的物镜相比，耐光性提高。此外，在表1中的耐光性的评价中，“B”表示经过336小时时既没有在防反射膜上产生剥离或裂缝，也没有观察到光学面的变化。另外，“C”表示经过168小时虽没有观察到防反射膜的剥离等，但经过336小时的时候观察到了剥离等。
<耐环境性的评价>
此外，对实施例(1)-(5)，比较例(1)-(3)的物镜进行耐热试验、高温高湿试验后，在室温环境下进行外观观察，获得了如上述表1的结果。此处，耐热试验是在温度为80℃，85℃，90℃的干燥状态的环境下对物镜进行168小时的放置试验。另外，高温高湿试验是在温度60℃、湿度90％的环境下对物镜进行168小时的放置试验。
由此可知，实施例(1)-(5)的物镜与比较例(1)-(3)的物镜相比，耐环境性提高，尤其是实施例(1)的物镜耐环境性良好。予以说明，在表1的耐环境性评价中，“A”表示在温度90℃的耐热试验和高温高湿试验的2个试验中，防反射膜上不产生剥离或裂缝。此外，“B”表示在温度85℃的耐热试验和高温高湿试验的2个试验中，防反射膜上不产生剥离或裂缝，而在温度90℃的耐热试验中产生剥离或裂缝。另外，“C”表示在温度80℃的耐热试验和高温高湿试验的2个试验中，防反射膜上不产生剥离或裂缝，而在温度85℃的耐 热试验中产生剥离或裂缝。此外，“D”表示在温度80℃的耐热试验和高温高湿试验的2个试验中产生剥离或裂缝。
<综合评价>
根据以上结果，着眼于是否最适合作为光拾取装置用的物镜，对实施例(1)-(5)和比较例(1)-(3)的物镜进行综合评价，获得了如上述表1的结果。
由此可知，实施例(1)-(5)的物镜与比较例(1)-(3)的物镜相比，更适合作为光拾取装置的物镜。另外，在表1的综合评价中，“B”示耐光性和耐环境性的评价结果为“B”或“A”，最适合作为光拾取装置的物镜。另外，“C”表示耐光性和耐环境性的评价结果为好于等于“C”，适合作为光拾取装置的物镜。此外，“D”表示在耐光性和耐环境性的任何的评价结果为“D”，不适合作为光拾取装置的物镜。
[实施例2]
下面，通过列举实施例和比较例，更加具体地说明本发明。
<物镜的结构>
作为上述实施方式中物镜的实施例(6)-(9)和比较例(4)-(6)，形成在基材30的光学面上设置表11所示层结构的防反射膜的光学元件。
[表11]
材料 物镜结构 低折射率层 的结构 耐光性 耐环境性 综合评价
比较例(4) 表16 只有L1 B D D
比较例(5) 表17 只有L3 B C C
比较例(6) 表18 只有L2 C D D
实施例(6) 表12 L1和L3 B A B
实施例(7) 表13 L2和L3 B B B
实施例(8) 表14 L1和L2 B B B
实施例(9) 表15 L1和L2和L3 B A B
更加详细地讲，在实施例(6)-(9)的物镜中，使用下面表12-表15所示层结构的防反射膜。这些防反射膜中，第“1”层、第“3”层、第“5”层、第“7”层和第“9”层是本发明的低折射率层，第“2”层、第“4”层、第“6”层和第“8”层是本发明的高折射率层。
另外，在比较例(4)-(6)的物镜中，使用下面表16-18所示层结构的防反射膜。
[表12]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L1 1.49 106
2 ZrO2 1.98 40
3 L3 1.52 31
4 ZrO2 1.98 38
5 L1 1.49 16
6 ZrO2 1.98 12
7 L3 1.52 53
8 ZrO2 1.98 12
9 L1 1.49 90
基材 APEL
[表13]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L2 1.5 106
2 ZrO2 1.98 40
3 L3 1.52 31
4 ZrO2 1.98 38
5 L2 1.5 16
6 ZrO2 1.98 12
7 L3 1.52 53
8 ZrO2 1.98 12
9 L2 1.5 90
基材 APEL
[表14]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L1 1.49 106
2 ZrO2 1.98 40
3 L2 1.5 31
4 ZrO2 1.98 38
5 L1 1.49 16
6 ZrO2 1.98 12
7 L2 1.5 53
8 ZrO2 1.98 12
9 L1 1.49 90
基材 APEL
[表15]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L1 1.49 106
2 ZrO2 1.98 40
3 L3 1.52 31
4 ZrO2 1.98 38
5 L2 1.5 16
6 ZrO2 1.98 12
7 L3 1.52 53
8 ZrO2 1.98 12
9 L1 1.49 90
基材 APEL
[表16]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L1 1.49 106
2 ZrO2 1.98 40
3 L1 1.49 31
4 ZrO2 1.98 38
5 L1 1.49 16
6 ZrO2 1.98 12
7 L1 1.49 53
8 ZrO2 1.98 12
9 L1 1.49 90
基材 APEL
[表17]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L2 1.5 106
2 ZrO2 1.98 40
3 L2 1.5 31
4 ZrO2 1.98 38
5 L2 1.5 16
6 ZrO2 1.98 12
7 L2 1.5 53
8 ZrO2 1.98 12
9 L2 1.5 90
基材 APEL
[表18]
层 材料 折射率 厚度
介质 空气 1
1 L3 1.52 106
2 ZrO2 1.98 40
3 L3 1.52 31
4 ZrO2 1.98 38
5 L3 1.52 16
6 ZrO2 1.98 12
7 L3 1.52 53
8 ZrO2 1.98 12
9 L3 1.52 90
基材 APEL
另外，表12-18中，折射率(refractive index)是指相对于波长450nm光束的折射率。
本实施例中，高折射率层由氧化锆形成，但也可以由氧化铪、氧化锆、氧化钛、氧化镁、氧化镧、钛酸锆、氧化钽、氧化硅、氧化钍、氧化钇、氧化镨和氧化钪中任意单体或混合物形成。此外，“L1”、“L2”和“L3”、APEL分别是与上述实施例1相同的材料。
<反射率特性的评价>
测定如上所述形成的实施例(6)-(9)、比较例(4)-(6)的物镜的反射率特性，均获得了如图5所示的结果。由此可知，在任何物镜中，均可相对于350-450nm、620-680nm和750-810nm波长区域的光获得良好的透过率。
<耐光性的评价>
此外，对实施例(6)-(9)、比较例(4)-(6)的物镜，以峰强度120mW/mm2照射波长405nm光束，在经过168小时，336小时的时间点进行观察，获得了如上述表11的结果。
由此可知，实施例(6)-(9)、比较例(4)，(5)的物镜与比较例(6)的物镜相比，耐光性提高。
<耐环境性的评价>
此外，对实施例(6)-(9)、比较例(4)-(6)的物镜，与上述实施例1相同地进行耐热试验、高温高湿试验后在室温环境下进行外观观察，获得了如上述表9的结果。
由此可知，实施例(6)-(9)的物镜与比较例(4)-(6)的物镜相比，耐环境性提高，尤其是实施例(4)，(7)的物镜耐环境性良好。
<综合评价>
根据以上结果，着眼于是否最适合作为光拾取装置用的物镜，对实施例(6)-(9)和比较例(4)-(6)的物镜进行综合评价，获得了如上述表11所示的结果。
由此可知，实施例(6)-(9)的物镜与比较例(4)-(6)的物镜相比，更适合作为光拾取装置的物镜。

Claims (16)

1.光学元件，具有基材和在该基材表面上形成的防反射膜，其特征在于，上述防反射膜具有多个折射率相对于波长450nm的光束为1.4-1.6的低折射率层、和多个折射率相对于波长450nm的光束为1.8-2.2的高折射率层，同时上述多个低折射率层和上述多个高折射率层交替层叠形成，并且在多个上述低折射率层中，至少2个低折射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同，其中，主成分是指含量在80％或更高的成分，
上述高折射率层由氧化铪、氧化锆、氧化钛、氧化镁、氧化镧、钛酸锆、氧化钽、氧化硅、氧化钍、氧化钇、氧化镨和氧化钪中任意单体或混合物形成，
上述低折射率层的主成分是二氧化硅，上述低折射率层的副成分是氧化铝。
2.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，该元件被设置在使用由光源出射的光束进行信息记录和/或再现的光拾取装置的光路上。
3.权利要求2记载的光学元件，其特征在于，是使由波长350-450nm中至少特定波长的单色光组成的光束汇聚在信息记录介质上的物镜。
4.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，彼此主成分相同，且副成分的含有比率不同的至少一对上述低折射率层介于一层上述高折射率层相邻。
5.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，各低折射率层与通过一个上述高折射率层相邻的其它上述低折射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同。
6.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，上述高折射率层由氧化锆形成。
7.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，上述防反射膜以7-9层形成。
8.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，在上述防反射膜所含有的层中，最接近上述基材侧的第1层的膜厚为100-130nm，第2接近上述基材侧的第2层的膜厚为10-14nm，第3接近上述基材侧的第3层的膜厚为28-36nm，第4接近上述基材侧的第4层的膜厚为46-60nm，第5接近上述基材侧的第5层的膜厚为13-17nm，第6接近上述基材侧的第6层的膜厚为44-55nm，第7接近上述基材侧的第7层的膜厚为75-95nm。
9.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，在上述防反射膜所含有的层中，最接近上述基材侧的第1层的膜厚为85-105nm，第2接近上述基材侧的第2层的膜厚为11-15nm，第3接近上述基材侧的第3层的膜厚为30-38nm，第4接近上述基材侧的第4层的膜厚为54-68nm，第5接近上述基材侧的第5层的膜厚为20-25nm，第6接近上述基材侧的第6层的膜厚为34-43nm，第7接近上述基材侧的第7层的膜厚为85-108nm。
10.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，在上述防反射膜所含有的层中，最接近上述基材侧的第1层的膜厚为100-130nm，第2接近上述基材侧的第2层的膜厚为13-17nm，第3接近上述基材侧的第3层的膜厚为42-52nm，第4接近上述基材侧的第4层的膜厚为50-63nm，第5接近上述基材侧的第5层的膜厚为13-17nm，第6接近上述基材侧的第6层的膜厚为52-65nm，第7接近上述基材侧的第7层的膜厚为85-108nm。
11.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，在上述防反射膜所含有的层中，最接近上述基材侧的第1层的膜厚为80-100nm，第2接近上述基材侧的第2层的膜厚为10-14nm，第3接近上述基材侧的第3层的膜厚为46-58nm，第4接近上述基材侧的第4层的膜厚为10-14nm，第5接近上述基材侧的第5层的膜厚为14-18nm，第6接近上述基材侧的第6层的膜厚为33-42nm，第7接近上述基材侧的第7层的膜厚为27-35nm，第8接近上述基材侧的第8层的膜厚为35-45nm，第9接近上述基材侧的第9层的膜厚为94-117nm。
12.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，上述基材由具有由α-烯烃与环状烯烃的共聚物组成的树脂和光稳定剂的树脂组合物组成，上述环状烯烃用下述通式(I)或(II)表示，
Figure FSB00000369902700031
式中，n是0或1，m是0或正整数，k是0或1，R1-R18以及Ra和Rb分别独立地表示氢原子、卤原子或烃基；
Figure FSB00000369902700041
式中，p和q分别独立地是0或正整数，r和s分别独立地是0、1或2，R21-R39分别独立地表示氢原子、卤原子、烃基或烷氧基。
13.权利要求12记载的光学元件，其特征在于，上述光稳定剂是受阻胺类光稳定剂。
14.光拾取装置，其具有射出第1光束的第1光源、包括将由上述第1光源射出的上述第1光束汇聚在信息记录介质上的物镜的聚光光学系统、和设置在由上述光源射出的上述第1光束的光路上的光学元件，
且上述光学元件具有基材和在该基材表面上形成的防反射膜，其特征在于，上述防反射膜分别具有多个折射率相对于波长450nm光束为1.4-1.6的低折射率层、和折射率相对于波长450nm光束为1.8-2.2的高折射率层，同时上述多个低折射率层和上述多个高折射率层交替层叠形成，并且在多个上述低折射率层中，至少2个低折射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同，其中，主成分是指含量在80％或更高的成分，
上述高折射率层由氧化铪、氧化锆、氧化钛、氧化镁、氧化镧、钛酸锆、氧化钽、氧化硅、氧化钍、氧化钇、氧化镨和氧化钪中任意单体或混合物形成，
上述低折射率层的主成分是二氧化硅，上述低折射率层的副成分是氧化铝。
15.权利要求14记载的光拾取装置，其特征在于，上述光学元件是上述物镜。
16.权利要求14记载的光拾取装置，其特征在于，上述第1光源射出由波长350-450nm中特定波长的单色光构成的光束。
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