CN1953258A - 电化学电池结构及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

一种电化学电池结构包括限定了多个孔的导电基底和设置在该导电基底上的栅格层。多孔支撑层将栅格层至少部分渗透到导电基底或孔的至少一个。

Description

电化学电池结构及其制造方法
本发明涉及摘要(Docket)号为145463-2，序列号为11/235,552，名称为“用于沉积电化学电池结构的基底及其制造方法”的共同未决的美国专利申请以及摘要号为163855-1，序列号为11/235,555，名称为“固体氧化物燃料电池结构及相关的组件和工艺”的共同未决的美国专利申请，因此在此同时提出，这些申请在此引作参考。
技术领域
本发明通常涉及电化学电池结构，尤其是涉及改进的电化学电池结构和增强的装配以及相关的生产工艺。
背景技术
电化学电池是能量转换设备，其通常分为电解电池或燃料电池。电解电池可以用作氢发生器，其通过电解水产生氢气和氧气。燃料电池通过交换膜或电解质，由氢气和氧化剂电化学反应来发电并生成水。燃料电池，例如固体氧化物燃料电池，已经表明具有高效的潜能、污染低以及具有许多潜在的应用，包括大规模发电、分配动力和汽车中的使用。
与电化学电池进步相关的主要挑战之一是研发成本效率工艺来制造电极和电解质材料，特别是具有大表面积的电极和电解质材料。
因此，在本领域中需要改进电化学电池配置和相关装配工艺。
发明内容
电化学电池支撑结构包括限定多个孔的导电基底以及设置在导电基底上的栅格层。多孔支撑层至少部分将栅格层渗透到导电基底或孔的至少一个。
附图说明
参考附图，阅读以下详细描述的说明书，本发明的这些和其它特点、方面和优点会变得更好理解，其中在所有的附图中，相同的附图标记表示相同的部件，其中：
图1是本发明的一个实施例的部分除去的透视图。
图2是本发明的一个实施例的部分除去的另一个透视图。
图3是本发明的一个实施例的横截面侧视图。
图4是本发明的另一个实施例的部分除去的顶视图。
图5是本发明的一个实施例的示意图。
图6是描述与本发明的一个实施例相关的方法步骤的流程图。
图7是本发明的另一个实施例的横截面侧视图。
具体实施方式
如图1所示，电化学电池支撑结构10包括限定多个孔14的导电基底12，这些孔14穿过导电基底12，设置在导电基底12的栅格层16以及至少部分渗透栅格层16的多孔支撑层18。
如上所述，与电化学电池相关的挑战之一是相应的装配及其生产工艺，特别是对于大表面积的应用。在许多传统的电池设计中，利用传统的陶瓷加工技术来制造电池，这些陶瓷电池利用粘结剂与金属互连相结合。该粘结剂是电池结构中电阻损耗的来源。在可选工艺中，例如燃料电池的直接沉积，电解质的质量取决于下面电极(其上沉积电解质)中的粗糙度和瑕疵。电解质层中的波动可以产生电池装配中的瑕疵，尤其是在高速沉积工艺中。产生的瑕疵之一是贯穿电池的针孔漏洞。解决该问题的一种方法是沉积后磨光电极的表面。然而该解决方法产生另一个加工步骤，该加工步骤对大面积沉积不期望很强并在效率已经差的工艺中增加了低效率。
电化学电池支撑结构10解决所有上述问题。栅格层16设置在导电基底12上，多孔支撑层18渗透到栅格层12中。这样的设置不需要粘结剂，而且这些组件在使用过程中几乎不分离，因此结构比传统设置更稳定。另外，多孔支撑层18提供了一个相对平滑的表面以支持原子沉积工艺例如化学气相沉积(CVD)、等离子增强CVD(PE-CVD)、物理气相沉积(PVD)、电子束物理气相沉积(EB-PVD)、溅射沉积、离子束沉积、分子束外延(MBE)、喷射高温分解或微粒沉积工艺如等离子喷射、火焰喷射或高速氧燃料热喷射工艺(HVOF)或其它沉积工艺。
如图1-图3所示，导电基底12由盘型结构组成，该盘型结构包括一系列孔14，其允许通过流体流，例如燃料或氧化剂流，从导电基底12的一侧流到导电基底12的对侧。在一个实施例中，这些孔具有介于大约0.25英寸到大约0.50英寸之间的直径。如这里所述，术语“孔”指的是任何类型的空间、凹槽或其它允许流体从导电基底12的一侧流到对侧的洞结构。导电基底12典型地由金属制成，其在与固体氧化物燃料电池(SOFC)和固体氧化物电解质电池(SOEC)使用相关的运行条件下，即高温和高压下，氧化缓慢。导电基底12典型地是由铁、铬、镍、锡、它们的组合物或其它通常用作互连材料的材料，尤其是在SOFC和SOEC中使用的材料制成的金属互联。这些材料通常包括例如含铬合金，例如铁铬(FeCr)、镍铬(NiCr)或镍铁铬(NiFeCr)基合金。在一个实施例中，导电基底12由铁素体不锈钢制成。导电基底12和伴随的孔14可以主要依据应用要求和尺寸要求变化。在一个实施例中，导电基底12具有不具有孔14的外围，使得电解质或密封材料可以与外围重叠以密封流过其中的气体。
栅格层16设置在导电基底12上。该栅格层16典型地设置成覆盖包括孔14的导电基底12的顶面。该栅格层16典型地贴附到导电基底12以确保结构完整性，使用任何可以使用的工艺以确保贴附，例如用铜焊或焊接。为了便于讨论，在栅格层16中的每个敞开区域将用空隙20表示。栅格层16典型地为钢线栅、丝网、金属线栅、导电泡沫、铬模型栅或类似的材料。栅格层16典型地由金属制成，这些金属在与固体氧化物燃料电池(SOFC)和固体氧化物电解质电池(SOEC)相关的运行条件下，即高温和高压下，氧化缓慢。栅格层16典型地是由铁、铬、镍、锡、它们的组合物或其它通常用作互连材料的材料，尤其是在SOFC和SOEC中使用的材料制成的金属互联。这些材料通常包括例如含铬合金，例如FeCr、NiCr或NiFeCr基合金。在一个实施例中，栅格层由铁素体不锈钢制成。
栅格层16的功能性要求是其能够贴附到导电基底12以确保结构完整性并且提供开口或空隙20以促使流体流动以及和多孔支撑层18衔接，这在以下将详细描述。空隙20可以具有多种尺寸并且不需要具有统一的横截面。在一个实施例中，空隙20具有介于大约20到大约2500微米的范围内的宽度。
如图1-图3所示，多孔支撑层18设置在栅格层16上并且穿过或渗透过空隙20并覆盖栅格层16的顶面以产生一个平滑的外表面22。在一个实施例中，多孔支撑层18是电极材料。多孔支撑层18的功能性要求是其贯穿空隙20，促使流体流过其多孔结构并提供相对平滑的外表面22以可以进行沉积工艺。在一个实施例中，多孔支撑层18的热膨胀系数(CTE)基本上与栅格层16的CTE匹配以避免热循环过程中的开裂。
为完善电化学电池结构30，将浓稠的电解质24(图3)施加到多孔支撑层18，或者在这种情况下，就施加到第一电极18。在一个实施例中，用直接沉积法，例如物理气相沉积(PVD)或等离子喷射将电解质24沉积到多孔支撑层18的平滑外表面22上。典型地，浓稠的电解质24完全包覆第一电极18的平滑外表面22，使得平滑外表面22的每一部分都不暴露。最后，第二电极26施加到与第一电极18相对的电解质24中。在一个实施例中，用直接沉积法，例如PVD或可选择的用丝网印刷或用分散有液体的颗粒的油漆喷射将第二电极26沉积到浓稠的电解质24上。
在一个实施例中，通过首先利用传统工艺例如铜焊或焊接将金属栅格层16贴附到金属多孔导电基底12上来装配电化学电池结构10(图1)。接着，第一电极18(多孔支撑层)施加到金属栅格层16上。在一个实施例中，通过利用任何传统制造工艺例如丝网印刷将可变形的物质挤到栅格层16的空隙20来施加第一电极18。在另一个实施例中，通过将第一电极18的粉末形式粉浆浇铸到栅格层16中以及利用多孔支撑薄片除去水分，将第一电极18施加到金属栅格层16。在另一个实施例中，通过将金属栅格层16和导电基底12浸入粉浆并且在施加电压的情况下，微粒填充空隙20，利用electrcoheretic沉积将第一电极18施加到金属栅格层16。
在另一个实施例中，利用共同铸造工艺例如带铸造将第一电极18施加到金属栅格层16。然后在介于大约800℃和大约1200℃之间的温度加热金属栅16、基底板12以及第一电极18以在第一电极18的微粒之间产生强有力的结合。为提高第一电极18或第二电极26的催化活性，(图3)它们可以通过电极材料的液体前体或微粒的精细分布进行渗透以获得精细等级结构，这可以增加对催化活性有用的三倍的相边界区域。
如图4所示，在本发明的另一个实施例中，电极电池结构50由网格基底52和沉积并贯穿网格基底52的多孔电极材料54组成。
如上所述，与电化学电池相关的挑战之一是相关的装配和制造工艺，尤其是对于更大表面积的应用。在许多传统的电池设计中，利用传统的陶瓷加工工艺制造电池，并用粘结剂将这些陶瓷电池贴附到金属互连。与传统的陶瓷加工相关的一个问题是得到用来形成具有有利的微结构的电极材料厚度减小了。
电极电池结构50解决所有上述问题。网格基底52是一个丝网，典型地不锈钢或镍丝网或具有多个空隙56或开口的金属薄片。合适的电极材料54，例如镍(Ni)和氧化钇稳定氧化锆(YSZ)应用到网格基底52以在网格基底52的空隙56上产生具有大的柱形孔的微结构，并逐渐变细成更小的开口。这些柱形孔结构会促使流体渗透(燃料或氧化剂)到电极电池结构50中。在一个实施例中，电极材料54应用到网格基底52的顶部和底部。在该实施例中，网格基底52用作得到的电极的骨架以促使柱形孔的形成并在结构上支撑电极和限制开裂。
在本发明的一个实施例中，如图5所示，利用沉积系统58，例如电子束物理气相沉积系统(EB-PVD)或其它任何可以利用的沉积系统，将电极材料54沉积在网格基底52上。利用EB-PVD系统的一个优点是EB-PVD典型地导致具有亚微颗粒尺寸的精细微结构，这在电化学电池结构中是令人满意的。
在一个实施例中，用不锈钢丝网作网格基底52，其具有大约50μm的厚度和大约75μm或更小的空隙直径。空隙的间隔也很小，例如在中心处大约为150μm。通过EB-PVD工艺将电极材料54沉积在网格基底52上。在一个实施例中，使用两种源，例如镍和YSZ共同蒸发。在一个实施例中，沉积系统58相对于关于网格基底52的法线设置成θ角。在一个实施例中，θ角介于大约25°到大约65°之间，并优选是介于大约35°到大约55°之间。在这些角度中，产生阴影部分并允许空隙56慢慢闭合。
在可选实施例中，沉积前空隙56由易变的材料例如氯化钠覆盖。在空隙中该易变的材料减小了空隙的尺寸同时在这个位置提供了生长缺陷。氯化钠的蒸发还会产生电极内的高等级的多孔。
图6是描述与本发明相关的工艺流程图。在S1中，设置沉积用的网格基底52。接着，在S2中，将沉积源58相对于网格基底设置成角度θ。接着，在S3中，易变的材料选择性地施加到网格基底。最后，在S4中，多孔电极材料54沉积到网格基底52上。
在本发明的另一个实施例中，如图7所示，电化学电池结构100由诸如金属泡沫的多孔导电基底102和设置在多孔导电基底102上并部分渗透到多孔导电基底102中的支撑层104组成。在一个实施例中，该多孔导电基底102由镍泡沫组成。在另一个实施例中，支撑层104是电极材料。
支撑层104设置在多孔导电基底102上并渗透到多孔导电基底102中。这样的设置不需要粘结剂而且在使用过程中组件几乎不分离，因此结构比传统设置更稳定。另外，支撑层104提供了相对平滑的表面以支持原子沉积工艺例如化学气相沉积(CVD)、等离子增强CVD(PE-CVD)、物理气相沉积(PVD)、电子束物理气相沉积(EB-PVD)、溅射沉积、离子束沉积、分子束外延(MBE)，喷射高温分解或微粒沉积工艺如等离子喷射、火焰喷射或高速氧燃料热喷射工艺(HVOF)或其它沉积工艺。在一个实施例中，利用沉积工艺例如PVD或EB-PVD，将支撑层104设置在多孔导电基底102上。
如在此所讨论的，电解质材料可以由任何传统的电解质材料，包括，例如：氧化钇稳定氧化锆；镧五倍子酸盐；掺杂铈的氧化物；二氧化铈稳定氧化锆；稳定氧化锆类CaO-稳定氧化锆，MgO-稳定氧化锆，M2O3稳定氧化锆，其中M选自Y、Sc、Yb、Nd、Sm或Gd的组中；镧五倍子酸盐具有通常的组成La1-x-wSrx-wGa1-yMgy+ZO3-0.5(x+y+5w-2z)，其中0.3≥x≥0.1；0.3≥y≥0.1；0.04≥w≥0.01；0.15≥z≥0.03；掺杂铈的氧化物，其中CeO2用La2O3、Y2O3、Sm2O3、Gd2O3、其它稀土氧化物、Gd2O3+Pr2O3、CaO、SrO的一种或混合物一起掺杂；某些稳定的三氧化二铋，Bi2O3-MO，其中M是钙、锶或钡；通式为A2B2O7的烧绿石氧化物，尤其是Ln2Zr2O7，其中Ln是镧系元素如Gd2(ZrxTi1-x)2O7(GZT)以及Y2(ZrxTi1-x)2O7(YZT)；或者钙钛矿结构例如BaCe0.9Gd0.1O3，CaAl0.7Ti0.3O3，SrZr0.9Sc0.1O3或其组合物。
如在此所讨论的，电极材料可以由阳极材料和阴极材料组成。该阳极材料可以由任何传统的阳极材料制成，该阳极材料包括，例如：由电子传导材料，例如金属和随后会还原成金属的金属氧化物的至少一种和离子传导材料组成的混合物；镍、镍氧化物、铂基金属的至少一种；单相电子传导材料；包括Ni、Co、Pt、Pd或Ru的某些金属；包括ZrO2-Y2O3-TiO2体系的混合氧化物导体；或其组合物。阴极材料可以由任何传统阴极材料制成，该阴极材料包括，例如：由电子传导材料，例如金属和随后会还原成金属的金属氧化物的至少一种和离子传导材料组成的混合物；镍、镍氧化物或铂基金属的至少一种；镧锶亚锰酸盐；掺杂镧的辉钴矿；由铂基金属、镧锶亚锰酸盐、掺杂镧的铁酸盐以及掺杂镧的辉钴矿和电子传导材料的至少一种组成的混合物；掺杂镧的亚锰酸盐；由多种阳离子例如Ba、Ca、Cr、Co、Cu、Pb、Mg、Ni、K、Rb、Na、Sr、Ti或Y取代的LaMnO3；具有通式La1-xSrxMnO3的镧锶亚锰酸盐，其还可以掺杂Co或Cr；镧辉钴矿；掺杂Sr、Ca、Mn或Ni的LaCoO3以调节电导率或热膨胀；掺杂镧的铁酸盐，例如La0.8Sr0.2FexCoyO3或其组合物。
另外，在根据两个电极，阴极和阳极，设置在其中的电解质讨论本发明时，其它实施例可以包括另外的层。例如，某些实施例可以包括设置在电极和电解质之间的缓冲层。这些缓冲层可以为了多个原因，包括无限制，防止其它层之间的有毒的化学反应。例如，一些实施例可以包括铈-钆氧化物，或其类似物的中间层，其可以用来减小在YSZ层和镧辉钴矿层、镧锶铁酸盐或其混合物之间的相互扩散和化学反应。类似地，掺杂钐的铈氧化物(Ce1-xSmxO2-0.5x)的中间层可以用来降低在NiO：CeO2和LSGM(La1.8Sr0.2Ga1-yMgyO2.9-0.5y，其中0.05＜y＜0.3)的复合阳极之间的相互扩散和化学反应。
在本说明书中讨论的几个实施例提供了沉积，特别是大表面积沉积用的高孔率支撑体或基底，每个支撑体对耐气体传输低但对机械应力和热应力强。另外，这几个实施例提供了相对平滑的外表面，这对多种沉积方法来说是合适的。在本发明中讨论的导电基底通常内部连接，尤其是金属内部连接。多孔或微孔的支撑材料或基底材料可以由阴极材料或阳极材料组成，或可以选择，多孔或微孔的支撑材料可以由另一层例如气体扩散层组成。在许多实施例中，多孔或微孔的支撑材料是电极，并提供用于沉积剩余电池层的相对平滑的表面。另外，多个实施例涉及网格材料，例如贴附到导电基底的丝网的应用。典型地，该网格材料由与导电基底相同或相似的材料制成。在导电基底与网格材料的每个都由内部连接材料制成的情况下，该合成结构具有改进了的耐机械性，由于电流可以横向传输到网格材料然后传输到导电基底，电流通路对通常平行于电极/内部连接表面发展的开裂不敏感。另外，未支撑的电极和电解质层的尺寸被极大地减小到更小的网格材料的空隙尺寸，对得到的电池具有更多增加了的耐机械性。
虽然只是图示和描述了本发明的某些特征，但是，对本领域技术人员来说可以进行许多改进和改变。例如，已经根据燃料电池堆叠设置讨论了本发明的多个实施例，这并不是对本发明的限定，实际上，本发明旨在在其它燃料电池设置中使用，包括例如，管状燃料电池束或设置。即，因此，应该理解，附加权利要求旨在覆盖落入本发明的真实精神内的所有改进和改变。
元件列表
10电化学电池支撑结构
12导电基底
14孔
16栅格层
18多孔支撑层
20空隙
22外表面
24电解质
26第二电极
30电化学电池结构
50电极电池结构
52网格基底
54多孔电极材料
56空隙
58沉积系统
100电化学电池支撑结构
102多孔导电基底
104支撑层

Claims (42)

1、一种电化学电池支撑结构(10)，包括：
导电基底(12)，其限定了多个贯穿所述导电基底(12)的孔(14)；
设置在所述导电基底(12)上的栅格层(16)；以及
多孔支撑层(18)，其将栅格层(16)至少部分贯穿所述导电基底(12)和孔(14)的至少一个。
2、根据权利要求1的电化学电池支撑结构，其中所述导电基底包括金属互连，该金属互连由铁、铬、镍、锡或其组合物的至少一种制成。
3、根据权利要求1的电化学电池支撑结构，其中所述导电基底包括金属互连，该金属互连由铁素体不锈钢制成。
4、根据权利要求1的电化学电池支撑结构，其中所述多个孔的尺寸在大约5到大约13毫米范围内。
5、根据权利要求1的电化学电池支撑结构(10)，其中所述栅格层(16)包括不锈钢线栅。
6、根据权利要求1的电化学电池支撑结构(10)，其中所述栅格层(16)由丝网、金属线栅、导电泡沫、铬模型栅或其组合物的至少一种组成。
7、根据权利要求1的电化学电池支撑结构，其中所述栅格层由多个空隙组成。
8、根据权利要求7的电化学电池支撑结构，其中所述多个空隙的尺寸在介于大约20到大约2500微米的范围内。
9、根据权利要求1的电化学电池支撑结构，其中所述多孔支撑层包括电极。
10、根据权利要求9的电化学电池支撑结构，其中所述电极由合成材料构成。
11、根据权利要求1的电化学电池支撑结构，其中所述多孔支撑层提供了基本平滑的表面以支持其上的沉积。
12、根据权利要求11的电化学电池支撑结构，其中电极和电解质的至少一种沉积在所述多孔支撑层上。
13、根据权利要求12的电化学电池支撑结构，其中使用原子沉积工艺例如化学气相沉积(CVD)、等离子增强CVD(PE-CVD)、物理气相沉积(PVD)、电子束物理气相沉积(EB-PVD)、溅射沉积、离子束沉积、分子束外延(MBE)、喷射高温分解或微粒沉积工艺如等离子喷射、火焰喷射或高速氧燃料热喷射工艺(HVOF)的至少一种沉积所述电极或所述电解质。
14、电极电池结构(50)，其包括：
网格基底(52)；以及
沉积在所述网格基底(52)并渗透其中的多孔电极材料(54)。
15、根据权利要求14的电极电池结构，其中所述多孔电极材料是Ni和氧化钇稳定氧化锆。
16、根据权利要求14的电极电池结构，其中所述多孔电极材料使用物理气相沉积(PVD)进行沉积。
17、根据权利要求14的电极电池结构，其中所述多孔电极材料使用化学气相沉积(CVD)、等离子增强CVD(PE-CVD)、物理气相沉积(PVD)、电子束物理气相沉积(EB-PVD)、溅射沉积、离子束沉积、分子束外延(MBE)、喷射高温分解、等离子喷射、火焰喷射或高速氧燃料热喷射工艺(HVOF)沉积。
18、根据权利要求14的电极电池结构(50)，其中所述网格基底(52)是不锈钢丝网或镍丝网的至少一种。
19、根据权利要求14的电极电池结构，其中所述网格基底(52)是具有精细孔的金属薄片。
20、根据权利要求14的电极电池结构，其中所述网格基底具有介于大约25μm和大约75μm的范围内的厚度。
21、根据权利要求14的电极电池结构，其中所述网格基底由多个栅空隙组成。
22、根据权利要求21的电极电池结构，其中所述栅空隙在最宽点的尺寸为大约75μm以下。
23、根据权利要求21的电极电池结构，其中在中心处所述相邻栅空隙之间的间隔小于大约150μm。
24、根据权利要求21的电极电池结构，还包括设置在所述栅空隙的至少一部分中的易变材料。
25、根据权利要求24的电极电池结构，其中所述易变材料由盐组成。
26、根据权利要求25的电极电池结构，其中所述盐包括氯化钠。
27、一种电化学电池支撑结构(100)，包括：
多孔导电基底(102)；以及
组织在所述多孔导电基底(102)上并部分渗透到所述多孔导电基底(102)中的支撑层(104)。
28、根据权利要求27的电化学电池支撑结构(100)，其中所述多孔导电基底(102)包括金属泡沫。
29、根据权利要求28的电化学电池支撑结构，其中所述金属泡沫为不锈钢泡沫或镍泡沫的至少一种。
30、根据权利要求27的电化学电池支撑结构，其中所述支撑层材料使用化学气相沉积(CVD)、等离子增强CVD(PE-CVD)、物理气相沉积(PVD)、电子束物理气相沉积(EB-PVD)、溅射沉积、离子束沉积、分子束外延(MBE)、喷射高温分解、等离子喷射、火焰喷射或高速氧燃料热喷射工艺(HVOF)沉积。
31、根据权利要求27的电化学电池支撑结构，其中所述支撑层使用电子束物理气相沉积(EB-PVD)沉积。
32、根据权利要求27的电化学电池支撑结构，其中所述支撑层是电极。
33、根据权利要求27的电化学电池支撑结构，其中所述支撑层提供基本平滑的表面以支撑在其上的沉积。
34、根据权利要求33的电化学电池支撑结构，其中电极和电解质的至少一种沉积在所述支撑层上。
35、根据权利要求34的电化学电池支撑结构，其中所述电极或所述电解质使用原子沉积工艺例如化学气相沉积(CVD)、等离子增强CVD(PE-CVD)、物理气相沉积(PVD)、电子束物理气相沉积(EB-PVD)、溅射沉积、离子束沉积、分子束外延(MBE)、喷射高温分解或微粒沉积工艺例如等离子喷射、火焰喷射或高速氧燃料热喷射工艺(HVOF)的至少一种沉积。
36、一种电化学电池结构，包括：
限定多个贯穿所述导电基底的孔的导电基底；
设置在所述导电基底上的栅格层；
至少将栅格层部分渗透到导电基底或孔的至少一个的多孔支撑层；
第一电极层和第二电极层，以及插入在在两者之间的电解质。
37、一种电化学电池结构，包括：
限定多个贯穿所述导电基底的孔的导电基底；
设置在所述导电基底上的栅格层；将栅格层至少部分渗透到导电基底或孔的至少一个的多孔支撑层；
设置在所述多孔支撑层上的电解质；以及
设置在所述电解质上的电极。
38、根据权利要求37的电化学电池结构，其中所述多孔支撑层是电极。
39、根据权利要求38的电化学电池结构，其中所述电解质密封重叠所述多孔支撑层。
40、一种制造电化学电池支撑结构的方法，包括步骤：
提供由多个通孔组成的导电基底；
将栅格层贴附到所述导电基底以覆盖所述通孔；以及
沉积多孔支撑层以将所述栅格层部分贯穿所述导电基底或所述孔的至少一个。
41、根据权利要求1的电化学电池支撑结构，其中所述电化学电池是固体氧化物燃料电池。
42、根据权利要求1的电化学电池支撑结构，其中所述电化学电池是固体氧化物电解电池。
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