CN1940122A - 一种镁合金表面镀膜方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种镁合金表面镀膜方法,该方法是采用真空镀膜技术在镁合金表面镀覆一层或多层金属薄膜,其中的真空溅镀工艺条件是:本底真空<2.0e~4mbar,工作真空1-3e~3mbar,靶材数量1~3,工作功率12~15KW,链速15Hz。可以用作靶材的金属是铝、铜、铬、镍、钛、钴、锌、钒或不锈钢中的一种或多种。采用该方法对镁合金进行镀膜处理,抛弃了传统的化学镀膜方法,过程中没有用到六价铬离子,对环境友好,是一种绿色环保的新工艺。
Description
技术领域
本发明涉及金属表面的处理技术,具体涉及一种采用真空溅镀工艺在镁合金表面镀覆金属薄膜层的方法。
背景技术
镁合金具有很高的比强度、比刚度、比弹性模量和良好的导热导电性,同时具有良好的阻尼减震和电磁屏蔽功能,广泛应用于汽车制造、航空航大、电子通讯领域等,被誉为“二十一世纪的绿色工程材料”。然而由于镁合金本身的化学活性较高,在空气中很容易氧化,极易在各种环境条件下发生腐蚀,从而阻碍了镁合金的广泛应用。
对镁合金进行表面处理,特别是在镁合金表面上镀覆一层金属膜,是提高镁合金耐腐蚀性能的有效途径之一。传统的对镁合金进行表面处理的方法是,将表面洁净的待处理件用铬酸进行钝化,从而通过化学电镀的方法(浸锌法或直接化学电镀法),在镁合金表面镀覆一层金属膜。
传统的化学电镀法因电镀溶液中含有对环境不友好的物质,如氰化物或六价铬离子,容易对环境造成污染,增加了工艺的后处理工序,同时也对操作人员的身体健康造成极大威胁,在工业上的应用受到极其严格的限制。
发明内容
本发明的目的在于提供一种镁合金表面镀膜方法,有效地解决镁合金的耐腐蚀性问题,且不存在传统化学电镀方法中可能的对环境的污染。
本发明提供的镁合金表面镀膜方法,是采用真空镀膜技术在镁合金表面镀覆一层或多层金属薄膜。
本发明的镁合金表面镀膜方法,包含如下步骤:
1)将待镀的镁合金件进行表面清洁整理;
2)将整理后的镁合金件放置于真空溅镀槽内进行金属薄膜的溅镀。
其中所采用的真空溅镀工艺条件为:
本底真空 <2.0e~4mbar
工作真空 1-3e~3mbar
靶材数量 1~3
工作功率 12~15KW
链速 12~18Hz
其中可以用作靶材的金属是铝(Al)、铜(Cu)、铬(Cr)、镍(Ni)、钛(Ti)、钴(Co)、锌(Zn)、钒(V)、硅(Si)或不锈钢中的一种或多种。
采用本发明提供的镁合金表面镀膜方法的有益效果在于,抛弃了传统的化学镀膜方法,过程中完全没有应用到六价铬离子,不会对环境和操作人员造成不良影响,是一种绿色环保的新工艺。
具体实施方式
实施例1
将待镀的镁合金件进行表面清洁整理之后,放置于真空溅镀槽内进行铜金属薄膜的溅镀工程,其中真空溅镀的工艺条件为:本底真空<2.0e~4mbar,工作真空1-3e~3mbar,靶材数量2,工作功率15KW,链速15Hz,趟数1。
得到的铜金属镀层表面致密,膜厚均匀,附着性好,经用3M胶纸进行镀层的剥离测试,没有掉镀现象的发生,达到与化学电镀同样的效果。
实施例2
将待镀的镁合金件进行表面清洁整理之后,放置于真空溅镀槽内进行不锈钢薄膜的溅镀工程,其中真空溅镀的工艺条件为:本底真空<2.0e~4mbar,工作真空1-3e~3mbar,靶材数量2,工作功率12KW,链速15Hz,趟数1。
得到的铜金属镀层表面致密,膜厚均匀,附着性好,经用3M胶纸进行镀层的剥离测试,没有掉镀现象的发生,达到与化学电镀同样的效果。
实施例3
将待镀的镁合金件进行表面清洁整理之后,放置于真空溅镀槽内进行铜金属薄膜的溅镀工程,其中真空溅镀的工艺条件为:本底真空<2.0e~4mbar,工作真空1-3e~3mbar,靶材数量1,工作功率13KW,链速12Hz。
得到的铜金属镀层表面致密,膜厚均匀,附着性较好,经用3M胶纸进行镀层的剥离测试,无掉镀现象的发生,达到与化学电镀同样的效果。
实施例4
将待镀的镁合金件进行表面清洁整理之后,放置于真空溅镀槽内进行铜金属薄膜的溅镀工程,其中真空溅镀的工艺条件为:本底真空<2.0e~4mbar,工作真空1-3e~3mbar,靶材数量3,工作功率15KW,链速18Hz。
得到的铜金属镀层表面致密,膜厚均匀 ,附着性好,经用3M胶纸进行镀层的剥离测试,没有掉镀现象的发生,达到与化学电镀同样的效果。
以上具体实施方式,是对本发明所作的详细说明。注意这些实施方式并非用以限定本发明,对于本领域的熟练技术人员,在不背离本发明精神的情况下所做出的改进和补充,应该视为在本发明的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种镁合金表面镀膜方法,其特征在于,采用真空溅镀的方式在镁合金表面镀覆一层或多层薄膜。
2.根据权利要求1所述的镁合金表面镀膜方法,其特征在于,包含如下步骤:
3)将待镀的镁合金件进行表面清洁整理;
4)将整理后的镁合金件放置于真空溅镀槽内进行金属薄膜的溅镀。
3.根据权利要求2所述的镁合金表面镀膜方法,其特征在于,其中所述真空溅镀的工艺条件是,本底真空<2.0e~4mbar,工作真空1-3e~3mbar,靶材数量1~3,工作功率12~15KW,链速15Hz。
4.根据权利要求1或2所述的镁合金表面镀膜方法,其特征在于,其中用作镀层的靶材是选自铝、铜、铬、镍、钛、钴、锌、钒、硅或不锈钢中的至少一种。
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