CN1924675A - 液晶显示器及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种液晶显示器，包括：第一和第二面板，彼此相对；密封剂，设置在第一与第二面板之间，并沿两个面板之一的周边形成；多个隆起，设置在形成密封剂的同一面板上，并沿密封剂所包围的显示区域的周边形成；以及液晶层，被密封剂包围，并设置在第一与第二面板之间。

Description

液晶显示器及其制造方法

相关申请交叉参考

本申请要求2005年9月2日提交的韩国专利申请第10-2005-0081632号的优先权，其全部内容结合于此作为参考。

技术领域

本发明涉及一种液晶显示器及其制造方法，具体地说，涉及一种具有均匀单元间隙的液晶显示器及其制造方法。

背景技术

液晶显示器(LCD)是一种广泛使用的平板显示器。LCD可以包括：两个面板，设置有诸如像素电极和共用电极的场致电极；以及插入两个面板之间的液晶(LC)层。通过向场致电极施加电压以在LC层中产生电场，LCD显示图像，该电场确定了LC层中LC分子的晶向(orientation)以调整入射光的偏振。LCD可以包括：多个像素电极，设置在一个面板上的矩阵中；以及共用电极，设置在另一面板上。通过向各个像素电极施加单独的电压，可以实现LCD的图像显示。为了施加单独的电压，将多个三维薄膜晶体管(TFT)连接至相应的像素电极，将用于传输控制TFT的信号的多条栅极线和用于将电压传输至像素电极的多条数据线设置在面板上。

LCD可以包括形成于两个面板之间的多个隔离件，用于支撑两个面板，从而形成两个面板之间的单元间隙(cell gap)。LCD还可以包括密封剂，用于结合两个面板并将液晶层密封在其中。

液晶，例如可以沿面板的周边，流动至两个面板的边缘，造成液晶的不均匀分布，从而单元间隙可能不均匀。在结合两个面板的组装过程中，液晶可能直接接触未硬化的密封剂而被污染。当密封剂通过紫外线硬化时，液晶可能被紫外线损坏。

因此，存在对于可以控制液晶流动以保持均匀间隙的液晶显示器及其制造方法的需求。还存在对于能够避免液晶污染的液晶显示器的需求。

发明内容

根据本发明的实施例，液晶显示器包括：第一和第二面板，彼此相对；密封剂，设置在第一与第二面板之间，并沿两个面板之一的周边形成；隆起(rising)，设置在形成密封剂的同一层上，并沿密封剂所包围的显示区域的周边的至少一部分而形成；以及液晶层，被密封剂包围，并设置在第一与第二面板之间。

隆起的高度可以小于密封剂的高度，而且隆起可以包括多个不连续的突起。

隆起可以包括第一隆起和形成在第一隆起与密封剂之间的第二隆起。

隆起可以包括以下之一：丙烯酸树脂、环氧树脂、丙烯酸环氧树脂、或酚醛树脂。

液晶显示器还可以包括设置在第一与第二面板之间的多个隔离件。

根据本发明的实施例，液晶显示器包括：第一和第二面板，彼此相向；密封剂，设置在第一与第二面板之间，并沿两个面板之一的周边形成；隆起，设置在形成密封剂的同一层上，并沿密封剂所包围的显示区域的周边的至少一部分而形成；多个球形隔离件，设置在第一与第二面板之间；以及液晶层，被密封剂包围，并设置在第一与第二面板之间。

隆起的高度可以小于密封剂的高度，而且隆起可以包括多个不连续的突起。

隆起可以包括第一隆起和形成在第一隆起与密封剂之间的第二隆起。

隆起可以包含热硬化材料或光硬化材料。

根据本发明的实施例，制造液晶显示器的方法包括：形成具有多个薄膜的第一和第二面板；在第一和第二面板之一上形成隆起；硬化隆起；形成包围第一和第二面板之一上的隆起的密封剂；组装第一和第二面板；以及硬化密封剂。

隆起的高度可以小于密封剂的高度，而且隆起可以包括多个不连续的突起。

该方法还可以包括，在形成隆起之前，在面板上形成校准层(alignment layer)。

隆起可以包括第一隆起和形成在第一隆起与密封剂之间的第二隆起，而且利用光照射和热辐射之一，可以执行隆起和密封剂的硬化。

形成第一面板可以包括：在第一基板上形成栅极线；在栅极线上形成半导体；形成与栅极线交叉的数据线和漏电极；以及形成连接至漏电极的像素电极。

该方法还可以包括，在形成第一面板之后，在第一面板上沉积液晶材料。

该方法还可以包括，在形成第一面板之后，在第一面板上分散多个隔离件。

形成第二面板可以包括：在第二基板上形成阻光件；在第二基板上形成滤色片(color filter)；以及在阻光件和滤色片上形成共用电极。

第一和第二面板可以在真空环境下组装。

附图说明

从下面与附图相结合的描述中，可以更详细地理解本发明的例示性实施例，附图中：

图1是根据本发明实施例的液晶显示器的透视图；

图2是根据本发明实施例的液晶显示器的设计图；

图3是沿图2中的III-III线截取的LCD的截面视图；

图4是用于示出根据本发明实施例的液晶显示器的制造方法的TFT阵列面板的设计图；

图5是沿图4中的V-V线截取的TFT阵列面板的截面视图；

图6是用于示出根据本发明实施例的液晶显示器的制造过程的TFT阵列面板的设计图；

图7是沿图6中的VII-VII线截取的TFT阵列面板的截面视图；

图8是用于示出根据本发明实施例的液晶显示器的制造过程的TFT阵列面板的设计图；

图9是沿图8中的IX-IX线截取的TFT阵列面板的截面视图；

图10是用于示出沉积液晶的过程的TFT阵列面板的截面视图；

图11至14是用于示出根据本发明实施例的液晶显示器的制造方法的共用电极面板的截面视图；以及

图15A至图15D是根据本发明实施例的液晶显示器的设计图。

具体实施方式

下面将参照附图对本发明的例示性实施例进行更详细的描述。但是，本发明可以以许多不同的形式来实施，而不应该将本发明理解为仅限于本文所述的实施例。

参照图1至图3描述根据本发明实施例的液晶显示器。

图1是根据本发明实施例的液晶显示器的透视图。图2是根据本发明实施例的液晶显示器的设计图。图3是沿图2中的III-III线截取的LCD的截面视图。

根据本发明实施例的LCD包括：TFT阵列面板100；共用电极面板200，与TFT阵列面板100相对；以及LC层3，具有设置在两个面板100与200之间的LC分子。LCD包括：显示区域A，用于显示图像；焊点区域B，其中，进行与外部驱动电路的连接。

参照图1至图3描述根据本发明实施例的TFT阵列面板100。

多条栅极线121和多条存储电极线131形成在由例如透明玻璃或塑料组成的绝缘基板110上。

栅极线121传输栅极信号，并大体上在横向上延伸。每一条栅极线121均包括：多个栅电极124，其向下突出；以及端部129，其具有足够大的面积与另一层或外部驱动电路相接触。用于产生栅极信号的栅极驱动电路(未示出)可以安装在柔性印刷电路(FPC)膜(未示出)上，该柔性印刷电路膜可以连接至基板110，或直接安装在基板110上，或与基板110集成为一体。栅极线121可以延伸，以连接至可以与基板110集成一体的驱动电路。

存储电极线131上供应有预定电压，每一条存储电极线131均包括：干线，其与栅极线121大体上平行地延伸；多对存储电极133a和133b，其从干线上分出来。每条存储电极线131设置在两条相邻栅极线121之间，而干线靠近两条相邻栅极线121中的一条。每一个存储电极133a和133b均具有连接至干线的固定端部和设置成相对的自由端部。存储电极133b的固定端部具有较大的面积，而其自由端部分叉形成线性分支和弯曲分支。根据本发明的实施例，存储电极线131可以具有不同形状和设置。

栅极线121和存储电极线131可以包含，例如，诸如Al和Al合金的含Al金属、诸如Ag和Ag合金的含Ag金属、诸如Cu和Cu合金的含Cu金属、诸如Mo和Mo合金的含Mo金属、Cr、Ta、或Ti。在本发明的实施例中，栅极线121和存储电极线131可以具有多层结构，其包括具有不同物理特性的两种导电膜(未示出)。两种膜之一可以包含低电阻系数金属，例如含Al金属、含Ag金属、以及含Cu金属，用于减少信号延迟或电压降。另一种膜可以包含，例如含Mo金属、Cr、Ta、或Ti，它们具有优良的物理、化学和与诸如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)等其它金属接触的电接触特性。这两种膜的组合实例可以是，下Cr膜和上Al合金膜，以及下Al膜和上Mo膜。根据本发明的实施例，栅极线121和存储电极线131可以包含不同金属或导体。

栅极线121和存储电极线131的侧边可以相对于基板110的表面而倾斜，且其倾斜角度在大约30度至大约80度的范围内。

包含例如氮化硅(SiN_x)或氧化硅(SiO_x)的栅极绝缘层140，可以形成在栅极线121和存储电极线131上。

包含例如氢化非晶硅(简写为“a-Si”)或多晶硅的多条半导体条151，可以形成在栅极绝缘层140上。半导体条151大体上在纵向上延伸，并在接近栅极线121和存储电极线131处变宽，从而半导体条151覆盖栅极线121和存储电极线131的较大面积。每一条半导体条151均包括朝着栅电极124分叉的多个突起154。

多个欧姆接触条和岛161和165形成在半导体条151上。欧姆接触条和岛161和165可以包含，例如掺杂较多诸如磷的N-型杂质的n+氢化a-Si。欧姆接触条和岛161和165可以包含例如硅化物。每一个欧姆接触条161均包括多个突起163。突起163和欧姆接触岛165可以成对地设置在半导体条151的突起154上。

半导体条151以及欧姆接触条和岛161和165的侧边相对于基板110表面而倾斜，且其倾斜角度可以在大约30度至大约80度的范围内。

多条数据线171和多个漏电极175形成在欧姆接触条和岛161和165以及栅极绝缘层140上。

数据线171传输数据信号，并大体上在纵向上延伸，以与栅极线121交叉。每一条数据线171还交叉存储电极线131，并可以设置在存储电极133a和133b的相邻对之间。每一条数据线171均包括向栅电极124突出的多个源电极173，并且，其中，多个源电极173弯曲成与月牙形相似。每条数据线171还包括端部179，其具有足够大的面积与另一层或外部驱动电路相接触。用于产生数据信号的数据驱动电路(未示出)可以安装在FPC膜(未示出)上，该FPC膜可以连接至基板110，或直接安装在基板110上，或与基板110集成为一体。数据线171可以延伸，以连接至可以与基板110集成为一体的驱动电路。

漏电极175与数据线171分离，并设置成，相对于栅电极124而言，与源电极173相对。

栅电极124、源电极173、和漏电极175，与半导体条151的突起154一起，形成具有通道的TFT，该通道形成于设置在源电极173与漏电极175之间的突起154中。

数据线171和漏电极175可以包含难熔金属，例如Cr、Mo、Ti、Ta或其合金。根据本发明的实施例，数据线171和漏电极175可以具有多层结构，其包括低电阻系数膜(未示出)和优良接触膜(未示出)。组合的实例是下Mo膜、中间Al膜、和上Mo膜。根据本发明的实施例，可以使用下Cr膜和上Al-Nd合金膜，或下Al膜和上Mo膜。根据本发明的实施例，数据线171和漏电极175可以包含不同金属或导体。

数据线171和漏电极175具有倾斜的边缘轮廓，并且其倾斜角度在大约30度至大约80度的范围内。

钝化层180形成在数据线171和漏电极175，以及半导体条151的暴露部分上。钝化层180可以包括例如无机或有机绝缘体，并且钝化层180可以具有平的顶面。无机绝缘体材料的实例包括氮化硅和氧化硅。有机绝缘体可以具有感光性和小于大约4.0的介电常数。钝化层180可以包括无机绝缘体的下膜和有机绝缘体的上膜，从而可以利用有机绝缘体的优良绝缘特性，防止半导体条151的暴露部分受到损坏。

钝化层180具有多个接触孔182和185，分别暴露数据线171的端部179和漏电极175。钝化层180和栅极绝缘层140具有：多个接触孔181，暴露栅极线121端部129；多个接触孔183a，暴露存储电极线131的接近存储电极133b固定端部的部分；以及多个接触孔183b，暴露存储电极133b自由端部的线性分支。

包括例如透明导体(如ITO或IZO)的或反射导体(如Ag、Al、Cr、或其合金)的多个像素电极191、多个天桥(overpass)83、以及多个接触助件(assistant)81和82，形成在钝化层180上。

像素电极191通过接触孔185物理且电连接至漏电极175，从而像素电极191接收来自漏电极175的数据电压。接收数据电压的像素电极191产生电场，该电场与相对的共用电极面板200的接收共用电压的共用电极270合作。所产生的电场确定设置在两个面板100与200之间的液晶层3的液晶300的晶向。像素电极191和共用电极270形成液晶电容器，存储TFT切断之后的外加电压。

像素电极191与包括存储电极133a和133b的存储电极线131重叠。像素电极191、与其连接的漏电极175、以及存储电极线131形成存储电容器，其提高了液晶电容器的电压存储能力。

接触助件81和82分别通过接触孔181和182连接至栅极线121的端部129和数据线171的端部179。接触助件81和82保护端部129和179，并提高端部129和179与外部设备之间的连接。

天桥83横跨栅极线121，并分别通过接触孔183a和183b，连接至存储电极线131的暴露部分和存储电极133b自由端部的暴露的线性分支。接触孔183a和183b设置成相对于栅极线121彼此相对。包括存储电极133a和133b的存储电极线131与天桥83一起，可以用来修正栅极线121、数据线171、或TFT中的缺陷。

第一校准层11形成在显示区域A的钝化层180上。第一校准层11可以包含诸如聚酰亚胺的绝缘材料。

参照图1至图3描述共用电极面板200。

用于防止光泄漏的被称为黑色矩阵的阻光件220形成在例如由透明玻璃组成的绝缘基板210上。阻光件220可以包括面向像素电极191的多个开口(未示出)，并且阻光件可以具有大体上与像素电极191相同的平面形状。阻光件220可以包括与数据线171和栅极线121对应的线性部分，以及与TFT对应的其它部分。

多个滤色片230形成在基板210上，并且大体上设置在由阻光件220所包围的面积中。滤色片230可以大体上沿像素电极191在纵向上延伸。滤色片230可以表示诸如红色、绿色、和蓝色的主要颜色之一。

共用电极270形成在滤色片230上。共用电极270可以由诸如ITO和IZO的透明导电材料组成。

第二校准层21形成在显示区域A的共用电极270上。第二校准层21可以包含诸如聚酰亚胺的绝缘材料。

多个隆起310形成在共用电极270上。隆起310包围显示区域A，并设置在显示区域A外部。根据本发明的实施例，隆起310可以具有各种形状，包括连续突起或多个不连续突起，并且多个隆起310可以是一个突起。

图15A至图15D是示出了隆起310的形状和排列的根据本发明实施例的液晶显示器的设计图。

参照图1和图15A至15D，隆起310包围设置在由密封剂320所限定的区域中的显示区域A，并且根据本发明的实施例，可以具有如图15C所示的连续突起，或如图15A和15B所示的多个不连续突起，或如图15D所示的连续和不连续突起的组合。隆起310包括包围显示区域A的内部隆起310a和设置在密封剂320与内部隆起310a之间的外部隆起310b。在本发明的实施例中，隆起310可以具有多个折(fold)，并且可以省去内部和外部隆起310a和310b中的一个。

由于隆起310的高度小于面板100与200之间的间隔(即，单元间隙)，所以隆起310与薄膜晶体管阵列面板100分开一预定间隙，而液晶300可以在其间流动。

隆起310可以由包含光硬化树脂或热硬化树脂组分的材料组成，例如丙烯酸树脂、环氧树脂、丙烯酸环氧树脂、和酚醛树脂。用于隆起310的材料还可以包括，例如光启始剂(photo initiator)、填料、和/或添加剂。

薄膜晶体管面板100和共用电极面板200互相粘附，并由密封剂320结合在一起。密封剂320沿显示区域A的周边形成，并设置在隆起310的外部。密封剂320可以具有环形曲线形状，并且具有与单元间隙相同的高度。密封剂320可以由包括光硬化树脂或热硬化树脂组分的材料组成，例如丙烯酸树脂、环氧树脂、丙烯酸环氧树脂、和酚醛树脂。

液晶300形成在由密封剂320包围的区域中。环绕显示区域A周边的所形成的隆起310控制液晶300从显示区域A向外流动的速度。因此，可以充分地防止液晶300流到两个面板100和200的边缘，从而单元间隙可以保持均匀。

在校准两个面板100和200之后，可以通过热或光对密封剂320进行硬化，并且隆起310可以防止液晶300与处于未硬化状态的密封剂320接触。因此，隆起310可以防止液晶300被处于未硬化状态的密封剂320污染。

偏振器(未示出)可以设置在面板100和200的外表面上，从而它们的偏振轴可以交叉。当LCD是反射型LCD时，可以省去偏振器中的一个。

液晶层3形成在两个面板100与200之间，并且包括具有正或负介电各向异性的向列型液晶。LC层3中的液晶300经过水平或垂直校准，其中，对液晶300进行调整，从而它们的长轴在无电场作用时大体水平或垂直于面板100和200的表面。

LCD还可以包括多个隔离件(未示出)，用于支撑两个面板100和200，以维持其间的均匀单元间隙。在本发明的实施例中，隔离件可以是例如珠形隔离件。

参照图4至图10，描述根据本发明实施例的LCD的TFT面板100的制造方法。

图4是用于示出根据本发明实施例的液晶显示器的制造方法的TFT阵列面板的设计图。图5是沿图4中的V-V线截取的TFT阵列面板的截面视图。图6是用于示出根据本发明实施例的液晶显示器的制造过程的TFT阵列面板的设计图。图7是沿图6中的VII-VII线截取的TFT阵列面板的截面视图。图8是用于示出根据本发明实施例的液晶显示器的制造过程的TFT阵列面板的设计图。图9是沿图8中的IX-IX线截取的TFT阵列面板的截面视图。图10是用于示出沉积液晶的过程的TFT阵列面板的截面视图。

参照图4和图5，对铝合金的导电膜进行溅射，并利用光致抗蚀剂图案的通过光蚀刻工艺(photo-etching)将其图案化，以形成包括多个栅电极124和多个端部129的多条栅极线121，以及包括多个存储电极133a和133b的多条存储电极线131。

在顺序沉积栅极绝缘层140、本征a-Si层、和非本征a-Si层之后，对非本征a-Si层和本征a-Si层进行光刻，以在栅极绝缘层140上形成多个非本征半导体和多个本征半导体154。

对铝合金的导电层进行溅射，并利用光致抗蚀剂膜(未示出)进行蚀刻，以形成包括多个源电极173和多个漏电极175的多条数据线171。

通过蚀刻除去未被数据线171和漏电极175覆盖的非本征半导体部分，以形成多个欧姆接触163和165，并暴露本征半导体154部分。

参照图6和图7，沉积或涂覆钝化层180，然后与栅极绝缘层140一起进行蚀刻，以形成多个接触孔181、182、183a、183b、和185。

通过例如溅射来沉积由诸如ITO和IZO等的透明材料组成的导电层，并利用光致抗蚀剂作为蚀刻掩膜进行蚀刻，以形成多个像素电极191、多个接触助件81和82、和多个天桥83。然后，在像素电极191上涂覆校准层11，以完成薄膜晶体管面板100。

在薄膜晶体管面板100上形成多个隔离件(未示出)。根据本发明的实施例，通过使用例如隔离件分散剂，隔离件可以是在薄膜晶体管面板100上均匀分布的珠形隔离件。

通过使用例如液晶沉积器10，将液晶300沉积在薄膜晶体管面板100上。液晶沉积器10连接至位置控制器15，并利用向上、下、右、左方向的移动将液晶300沉积在薄膜晶体管面板100上的预定位置。

参照图11至图14，描述制造根据本发明实施例的LCD的共用电极面板200的方法。

图11至14是用于示出根据本发明实施例的LCD的制造方法的共用电极面板200的截面视图。

参照图11，在包含诸如透明玻璃的材料的上绝缘基板210上形成有不透明材料组成的阻光件220。在绝缘基板210上形成多个滤色片230。可以在上绝缘基板210上涂覆具有色谱特征的感光颜料分散树脂，并且树脂层可以是光蚀刻的，或可以使用喷墨印刷方法以形成红色、绿色、和蓝色的滤色片230。

参照图12，在滤色片230和阻光件220上形成由诸如ITO等透明导电材料组成的共用电极270。然后，在共用电极270上涂覆第二校准层21。

然后，可以在共用电极面板200上的显示区域A的外部形成多个隆起310。通过使用例如分散剂，涂覆隆起310，以包围显示区域A的周边。根据分散剂的注入量，可以控制隆起310的高度和宽度。根据本发明的实施例，隆起310的高度可以小于LCD的单元间隙。因此，可以形成隆起310，而不用另外的掩膜。

使用例如紫外线照射，可以硬化隆起310。根据本发明的实施例，聚合物树脂通过隆起310的光启始剂的反应而硬化。根据本发明的实施例，除了紫外线照射之外，可以实施热硬化过程。热硬化过程在大约120℃温度下进行大约60分钟，以完全硬化隆起310的剩余聚合物树脂。

参照图14，在由隆起310所包围的区域外部形成密封剂320。通过使用分散剂，涂覆密封剂320，以包围隆起310的外周。根据分散剂的注入量，可以控制密封剂320的高度和宽度。根据本发明的实施例，考虑作用于两个面板100和200上的压力，密封剂320的高度可以等于或大于单元间隙。

根据本发明的实施例，可以在真空环境下组装薄膜晶体管面板100和共用电极面板200。

薄膜晶体管面板100与共用电极面板200之间的密封剂320可以通过紫外线照射硬化。根据本发明的实施例，可以实施热硬化过程。

在本发明的实施例中，液晶300沉积在薄膜晶体管排列面板100上，而隆起310和密封剂320形成在共用电极面板200上。在本发明的实施例中，液晶300可以沉积在共用电极面板200上，隆起310和密封剂320可以形成在薄膜晶体管面板100上。在本发明的实施例中，液晶300、隆起310、和密封剂320可以形成在同一面板上。

根据本发明的实施例，隆起310形成在密封剂320与显示区域A之间。因此，可以防止液晶300流动到两个面板100和200的边缘，从而可以保持单元间隙均匀。此外，隆起310，在结合两个面板100和200之前，防止液晶300与未硬化状态下的密封剂320相接触。因此，隆起310避免液晶300受到处于未硬化状态下的密封剂320污染。而且，隆起310可以以与形成密封剂320的工艺相同的工艺而形成，无需另外掩膜。

尽管已经参照附图描述了本发明的例示性实施例，对本领域技术人员来说可以理解，本发明并不限于这些明确的实施例，而是在不偏离本发明精神和范围的条件下，可以进行各种改变和修正。所有这些改变和修正都应包括在所附权利要求限定的本发明范围内。

Claims (21)

1.一种液晶显示器，包括：

第一和第二面板，彼此相对；

密封剂，设置在所述第一和第二面板之间，并沿所述第一和第二面板之一的周边形成；

隆起，设置在形成所述密封剂的同一面板上，并沿所述密封剂所包围的显示区域的周边的至少一部分而形成；以及

液晶层，被所述密封剂包围，并设置在所述第一和第二面板之间。

2.根据权利要求1所述的液晶显示器，其中，所述隆起的高度小于所述密封剂的高度。

3.根据权利要求1所述的液晶显示器，其中，所述隆起包括多个不连续的突起。

4.根据权利要求1所述的液晶显示器，其中，所述隆起包括第一隆起和第二隆起，所述第二隆起形成在所述第一隆起与所述密封剂之间。

5.根据权利要求1所述的液晶显示器，其中，所述隆起包含以下之一：丙烯酸树脂、环氧树脂、丙烯酸环氧树脂、或酚醛树脂。

6.根据权利要求1所述的液晶显示器，还包括设置在所述第一和第二面板之间的多个隔离件。

7.一种液晶显示器，包括：

第一和第二面板，彼此相对；

密封剂，设置在所述第一和第二面板之间，并沿所述第一和第二面板之一的周边形成；

隆起，设置在形成所述密封剂的同一面板上，并沿所述密封剂所包围的显示区域的周边的至少一部分而形成；多个球形隔离件，设置在所述第一和第二面板之间；以及

液晶层，被所述密封剂包围，并设置在所述第一和第二面板之间。

8.根据权利要求7所述的液晶显示器，其中，所述隆起的高度小于所述密封剂的高度。

9.根据权利要求7所述的液晶显示器，其中，所述隆起包括多个不连续的突起。

10.根据权利要求7所述的液晶显示器，其中，所述隆起包括第一隆起和第二隆起，所述第二隆起形成在所述第一隆起与所述密封剂之间。

11.根据权利要求7所述的液晶显示器，其中，所述隆起包含热硬化材料或光硬化材料。

12.一种制造液晶显示器的方法，包括：

形成具有多个薄膜的第一和第二面板；

在所述第一和第二面板之一上形成隆起；

硬化所述隆起；

形成包围所述第一和第二面板之一上的所述隆起的密封剂；

组装所述第一面板和所述第二面板；以及硬化所述密封剂。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述隆起的高度小于所述密封剂的高度。

14.根据权利要求12所述的方法，还包括：

在形成所述多个隆起之前，在形成所述隆起的同一面板上形成校准层。

15.根据权利要求12所述的方法，其中，所述隆起包括第一隆起和第二隆起，所述第二隆起形成在所述第一隆起与所述密封剂之间。

16.根据权利要求12所述的方法，其中，所述隆起和所述密封剂的硬化是通过利用光照射和热辐射之一执行的。

17.根据权利要求12所述的方法，其中，形成所述第一面板包括：

在第一基板上形成栅极线；

在所述栅极线上形成半导体；

形成与所述栅极线交叉的数据线和漏电极；以及

形成连接至所述漏电极的像素电极。

18.根据权利要求17所述的方法，还包括：

在形成所述第一面板之后，在所述第一面板上沉积液晶。

19.根据权利要求18所述的方法，还包括：

在形成所述第一面板之后，在所述第一面板上分散多个隔离件。

20.根据权利要求17所述的方法，其中，形成所述第二面板包括：

在第二基板上形成阻光件；

在所述第二基板上形成滤色片；以及

在所述阻光件和所述滤色片上形成共用电极。

21.根据权利要求12所述的方法，其中，所述第一和第二面板在真空环境下组装。

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