CN1797044A - 微透镜基板阵列、三维显示设备及微透镜基板的制造方法 - Google Patents

微透镜基板阵列、三维显示设备及微透镜基板的制造方法 Download PDF

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Abstract

一种制造微透镜基板的办法，包括在下基板上形成包括透镜阵列的光敏树脂的微透镜片；通过掩模将该微透镜片曝光，该掩模将该透镜阵列分成分别对应于多个单元的多个部分并限定多个单元中每个之间的边界；平面化对应于边界的微透镜片的部分；以及在所述平面化的边界上形成密封线以将下基板与相应的上基板组合。

Description

微透镜基板阵列、三维显示设备及微透镜基板的制造方法
技术领域
本公开涉及一种微透镜基板阵列、其制造方法和包括微透镜基板的三维(3D)显示设备，且更具体而言，涉及一种能在玻璃上采用形成在基板上的对准键(alignment key)而制造的微透镜基板阵列、其制造方法和包括微透镜基板的3D显示设备。
背景技术
三维显示器对观看者的左眼和右眼产生不同图像，因此提供了深度感觉和立体效果。显示立体图像允许观看者识别物体的3D排列。
自动立体装置(autostereoscopic device)通常用作直接观看显示器，其中观看者不用例如立体眼镜的特殊工具就能看到3D图像。其中透镜状透镜片(lenticular lens sheet)或隔片(barrier sheet)安装在显示面板上的自动立体装置通过分离在显示面板上产生的左眼和右眼图像而产生立体图像，使得左眼仅看到左眼图像且右眼仅看到右眼图像。
常规3D显示设备包括产生R、G和B图像信号的显示面板、具有安装在显示面板上并将R、G和B图像信号转换为3D图像的透镜状透镜片的微透镜基板、以及安装在该微透镜基板上并将2D图像转换为3D图像或者反之的开关面板。
其中具有透镜片的微透镜基板设置在显示面板上的常规3D显示设备采用偏振变换技术。3D显示器根据在透镜状透镜片上的彩色滤光片和透镜的排列而分类为人像型(portrait-type，PT)和风景型(landscape-type，LT)。
当单个像素中的RGB子像素的长边沿液晶面板的纵向延伸时，如此构造PT显示器，使透镜片的透镜沿子像素的纵向即沿屏幕的垂直方向平行排列。如此构造LT显示器，使透镜状透镜在透镜状透镜基板上沿子像素的横向即屏幕的水平方向平行排列。
PT显示器通常采用这样的结构，其中两个子像素对应于一个透镜，使得由六个相邻的子像素产生的三原色，即左眼和右眼数据信号分别到达左眼和右眼。
制造在常规3D显示器中的具有上述构造的微透镜基板的常规方法包括在下基板上涂敷树脂、将树脂放入用于透镜阵列的模具中以形成透镜形状，由此逐个单元地完成微透镜片，将微透镜片切割成单个单元，并在每个单个单元上安装上基板。
由于模具尺寸限制，采用逐个单元地制造微透镜片的常规方法，大批量生产微透镜基板是困难的。
发明内容
本发明的实施例提供了一种能在玻璃上大批量制造的具有优异的重复性的微透镜基板阵列、包括微透镜基板的三维(3D)显示设备和制造该微透镜基板的方法。
根据本发明的实施例，微透镜基板阵列包括上透明基板和面对该上透明基板的下透明基板，和形成在该上基板和下基板之间的光敏树脂的微透镜片，该微透镜片包括对应于设置在微透镜片表面上的多个单元的多个透镜阵列(lenticular lens array)和沿多个单元的每个的边缘形成的平坦表面。
根据本发明的实施例，微透镜基板阵列包括上透明基板和面对该上透明基板的下透明基板；由光敏树脂制成的微透镜片，包括多个形成在下基板与上基板之间并对应于多个单元的透镜阵列，该微透镜片还沿多个单元的每个的边缘暴露出下基板；以及直接接触暴露的下基板和上基板并将上基板与下基板组合的密封线。
根据本发明的实施例，三维显示设备包括产生图像的显示面板和微透镜基板，该微透镜基板包括设置在显示面板上并透射图像的上透明基板、面对该上透明基板的下透明基板、和形成在上基板和下基板之间并包括透镜阵列和沿透镜阵列的边缘形成的平坦表面的光敏树脂的微透镜片。
根据本发明的实施例，三维显示设备包括产生图像的显示面板和微透镜基板，该微透镜基板包括设置在显示面板上并透射图像的上透明基板；面对该上透明基板的下透明基板；包括在上基板和下基板之间形成在下基板上的透镜阵列、并沿透镜阵列边缘暴露下基板的由光敏树脂制成的微透镜片；和直接接触暴露的下基板和上基板并将上基板与下基板组合的密封线。
根据本发明的实施例，制造微透镜基板的方法包括在下基板上形成包括透镜阵列的光敏树脂微透镜片；将该微透镜片通过掩模曝光，该掩模将透镜阵列分为多个分别对应于多个单元的部分并限定了多个单元中每个之间的边界；平面化微透镜片对应于边界的部分；并在平面化的边界上形成密封线以将下基板与相应的上基板组合。
根据本发明的实施例，制造微透镜基板的方法包括：在下基板上形成包括透镜阵列的光敏树脂微透镜片；将该微透镜片通过掩模曝光，该掩模将透镜阵列分为多个分别对应于多个单元的部分并限定了多个单元中每个之间的边界；除去微透镜片对应于边界的部分以暴露下基板；并在形成于暴露的下基板上的边界上形成密封线以将下基板与相应的上基板组合。
附图说明
从结合附图的下面描述中，可以更详细地明白本公开的优选实施例，在附图中：
图1A是示出根据本发明实施例的三维(3D)显示设备功能块的透视图；
图1B是示出根据本发明另一实施例的3D显示设备的功能块的透视图；
图2是沿图1A或1B的3D显示设备的线AA’或BB’所取的截面图；
图3是根据本发明实施例的微透镜基板阵列的分解透视图；
图4A-4G是示出制造根据本发明实施例的微透镜基板的方法的截面图；
图5是根据本发明实施例的3D显示设备的截面图；
图6是根据本发明实施例的微透镜基板的分解透视图；
图7A-7G是示出制造根据本发明实施例的微透镜基板的方法的截面图；
图8A和8B示出了根据本发明实施例，形成在图3或6所示的下基板上的对准键。
具体实施方式
下面将参照附图详细描述本发明的优选实施例。然而，本发明可以实施为许多不同的形式，而且不应该理解为局限于此处提出的实施例。
图1A是示出根据本发明实施例的三维(3D)显示设备的功能块的透视图。图1B是示出根据本发明另一实施例的3D显示设备的功能块的透视图。图2是沿图1A或1B的3D显示设备的线AA’或BB’所取的截面图。
参照图1A和2，3D显示设备100包括显示面板25、微透镜基板30和开关面板40。
显示面板25可以为例如能产生红、绿和蓝色的液晶显示器(LCD)、等离子显示面板(PDP)、场发射器件(FED)或有机电发光显示器(OELD)。3D显示设备100此后描述为采用LCD。
显示面板25根据所施加的电压控制穿过液晶层15的光的透射率，因此显示例如各种字符、数字和图标(icon)的图像。显示面板25当显示普通2D图像时产生普通RGB图像。当显示3D图像时，在显示面板25中的相邻子像素产生包含视差(parallax)的图像。
显示面板25包括薄膜晶体管(TFT)基板10、面对该TFT基板10的彩色滤光片基板20、和设置在TFT基板10与彩色滤光片基板20之间的液晶层15。
虽然在图1A中未示出，TFT基板10包括多个栅极线、多个数据线和多个子像素。该多个栅极线沿行方向延伸并提供栅极信号，且多个数据线沿列方向延伸并提供数据信号。该多个子像素设置在由多个栅极线和多个数据线交叉所限定的矩阵中。子像素的短边沿显示面板25的横向延伸，且其长边沿纵向延伸。每个子像素包括开关器件、存储电容器和液晶电容器。
该开关器件形成在栅极线与数据线的交点并包括连接到存储电容器和液晶电容器端子的输出端子。存储电容器的另一端子可以连接到参考电极(分离线型，separate wire type)或者前一栅极线(previous gate line)(前一栅极型，previous gate type)。
彩色滤光片基板20设置在TFT基板10上并包括对应于子像素的红、绿和蓝彩色滤光片并显示相应颜色。参考电极采用透明导电材料例如铟锡氧化物(ITO)或铟锌氧化物(IZO)形成在彩色滤光片上。
具有介电各向异性的液晶层15填充在TFT基板10与彩色滤光片基板20之间。具有约5μm厚度的液晶层15具有扭曲向列(TN)排列结构。在液晶层15中的液晶的排列方向被外加电压改变以控制穿过液晶层15的光透射率。
当显示面板25是LCD时，显示面板25还可以包括位于LCD后面的具有光源的背光单元(未示出)。从背光单元向显示面板25发射的光穿过液晶层15透射进彩色滤光片基板20。透射的光量根据液晶层15中的液晶的排列方向而调整。
穿过显示面板25透射的光穿过设置在显示面板25上的微透镜基板30。微透镜基板30包括上透明基板37、下透明基板31和插入在上和下透明基板37与31之间的微透镜片32。微透镜基板30将子像素所产生的对应于左眼和右眼的三原色引导到适当的眼睛。
参照图2，微透镜片32设置在面对上基板37的下基板31上，并包括包含多个平行设置的透镜的透镜阵列33和沿透镜阵列33的边缘形成的平坦表面34。
透镜阵列33的节距(pitch)设为与沿显示面板25横向的子像素的水平节距具有恒定的关系。尽管3D显示设备100被构造为一个透镜对应于两个子像素，根据透视的数量(the number of perspectives)该透镜可以对应于三个或更多个子像素。
虽然3D显示设备100是风景型显示器，但可以采用图1B的人像型显示设备100’。如图2所示，微透镜片32包括凹透镜阵列33。作为选择，微透镜片32可以采用凸透镜阵列以实现同样的效果。
密封线35形成在微透镜片32的平坦表面34上，并将上基板37与下基板31组合。密封线35在上基板37与下基板31之间形成间隙以注入液晶并防止所注入的液晶从该间隙溢出。密封线35通过例如构图热固环氧树脂成期望形状而形成。
密封线35的高度为约几微米，且透镜阵列33的峰到谷的高度为约几十微米。由于密封线35的高度小于峰到谷的高度，如果透镜阵列33形成在形成密封线35的平坦表面上，则上下基板37与31之间不能实现充分的结合。因此，微透镜片33设计得使微透镜阵列33设置在中心且密封线35设置在沿透镜阵列33的边缘形成的平坦表面上，因此在上基板37与下基板31之间实现可靠的结合。
液晶层36形成在上基板37与下基板31之间的间隙中。
开关面板40设置在显示面板25上并与显示面板25隔开，并使得显示设备100响应于开关信号选择性地显示2D或3D图像。
例如，开关面板40在显示2D图像时透射所有来自TFT基板10的光，并包括对应于TFT基板10上的像素信息的结构。例如，当显示3D图像时，开关面板40包括能透光的有效图像显示区和围绕该有效图像显示区的选择阻隔区。该选择阻隔区响应于开关信号控制是否阻隔光。
开关面板40可以包括能根据开关信号将光打开或关闭的液晶面板。例如，开关面板40可以是超扭转向列(STN)液晶面板或扭转向列(TN)液晶面板。
图3是根据本发明实施例的微透镜基板阵列250的分解透视图。微透镜基板阵列250包括多个设置在同一表面上的微透镜基板30。参照图3，微透镜基板阵列250包括下透明基板31、面对该下基板31的上透明基板37、插入在上透明基板37与下透明基板31之间的微透镜片32、和对应于设置在微透镜片32表面的多个单元50的多个透镜阵列33。
上基板37与下基板31组合，从而以插入其间的微透镜片32覆盖下基板31的顶表面。
微透镜片32包括光敏树脂并包括对应于设置在微透镜片32表面上的多个单元50的多个透镜阵列33。沿多个单元50中每个的边缘形成平坦表面34。密封线(未示出)设置在平坦表面34上以在上基板37与下基板31之间实现充分结合，而不受透镜阵列33的不规则的影响。
这样，多个单元50限定在微透镜基板阵列250中的微透镜片32上。这样，微透镜基板阵列250可以切割成单个的单元50并分成多个微透镜基板30。
下面将参照图4A-4G描述制造根据本发明实施例的微透镜基板的方法。图4A-4G是示出制造方法的顺序工艺步骤的截面图。
参照图4A，制备用于形成透镜阵列的下基板31和模具膜300。模具膜300包括基膜310、形成在基膜310上并在一个表面上包括用于透镜阵列的图案的模具层320、和形成在模具层320上的微透镜片32。模具膜300和下基板31如此设置，使微透镜片32插入在其间。
模具膜300可以是例如辊型(roll-type)膜。该辊型膜300容易携带且能以均匀间距设置在玻璃块料(bulk glass)上。在定位模具膜300和下基板31之前，可以在下基板31面对微透镜片32的表面上形成对准键(未示出)。该对准键用于在多个微透镜基板同时形成在玻璃块料上时定位上基板和下基板。
参照图4B，在将模具膜300贴附到下基板31上之后，通过滚动模具膜300上温度约80℃到约150℃的辊330，将微透镜片32向下热压到下基板31上。
接着，如图4C所示，通过将下基板31上的透镜阵列逐个单元分割并限定单元之间的边界的掩模350，微透镜片32被曝光。光340可以是g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)或紫外(UV)光。单元之间的边界沿每个单元的边缘形成。当如图4C采用包括负型光敏树脂的微透镜片32时，掩模阻隔朝边界发射的光340。当微透镜片32包括正型光敏树脂时，掩模350可以具有相应图案。以下将微透镜片32描述为包括负型光敏树脂材料。
参照图4D，模具膜300被除去使得仅微透镜片32留在下基板31上。
然后，如图4E所示，热压到下基板31上的微透镜片32在约200℃到约250℃下被烘烤。透镜阵列33形成于在曝光过程中被光340照射的微透镜片32的部分A。没有被光340照射的微透镜片32的剩余部分B被熔化从而因为表面张力而形成平坦表面34。该平坦表面34在单元之间的边界处形成。
参照图4F，密封线35形成在平坦表面34上，且液晶层36形成在由密封线35所限定的每个单元50的液晶区上。然后，上基板37与下基板31通过密封线35组合，由此完成微透镜基板阵列250。
随后，如图4G所示，如此制造的微透镜基板阵列250被切割成单元50，由此完成多个微透镜基板30。
如上所述，当使用玻璃块料同时制造多个微透镜基板30时，对准键形成在上基板37和下基板31上用于正确定位。对准键可以用于实现上基板37与下基板31之间的结合或者用于在图4C所示的曝光过程中定位下基板31。对准键还可以用作用于形成密封线35(图4F)或用于在形成液晶层36之前形成取向层的引导键。
现在将参照图5-7G描述根据本发明实施例的3D显示设备和根据本发明实施例的微透镜基板阵列的制造方法。
图5是根据本发明实施例的3D显示设备的截面图。图5的3D显示设备可以是图1A的风景型显示器或者图1B的人像型显示器。这样，图5是沿图1A或1B的3D显示设备的线AA’或BB’所取的截面图。
参照图5，该3D显示设备包括与图2基本相同的结构，除了在微透镜基板530中的微透镜片532。例如，微透镜片532包括包含多个平行设置的透镜的透镜阵列33，并沿透镜阵列33的边缘被除去以通过位于透镜阵列33边缘的边界534而暴露出下基板31。
虽然微透镜片532被描述为具有凹透镜阵列33，它也可以采用凸透镜阵列以实现同样的效果。
密封线35形成在位于微透镜片532边缘处的边界534上，并用于将上基板37与下基板31组合。密封线35的高度大于微透镜片532的厚度。例如，密封线35具有约几十微米到约几百微米的高度。
图6是根据本发明实施例的微透镜基板阵列650的分解透视图。该微透镜基板阵列650包括多个微透镜基板530。
参照图6，微透镜基板阵列650包括下透明基板31、面对该下基板31的上透明基板37、彼此分隔开并插入于上透明基板37与下透明基板31之间的微透镜片532的多个部分、和对应于设置在微透镜片532的每个部分的表面上的多个单元50的多个透镜阵列33。
上基板37与下基板31组合以覆盖下基板31的顶表面，微透镜片532的部分插入在其间。
微透镜片532包括光敏树脂并包括对应于设置在下透明基板31表面上的多个单元50的多个透镜阵列33。下透明基板31沿每个单元50的边界534而暴露。密封线(未示出)形成在每个边界534上以实现上基板37与下基板31之间充分的结合。
多个单元50限定在微透镜基板阵列650中的微透镜片532上。这样，微透镜基板阵列650可以被切割成单个单元50并分为多个微透镜基板530。
现在将参照图7A-7G描述根据本发明实施例的微透镜基板530的制造方法。图7A-7G是示出该制造方法顺序工艺步骤的截面图。由于图7A-7D所示出的工艺步骤与图4A-4D所示的相同，将不给出其描述。参照图7E，形成在下基板31上的微透镜片32被显影。在显影步骤之后，对应于透镜阵列33的、用光340照射的微透镜片532的部分A保留。对应于每个单元之间的边界534的、在曝光过程(图7C)中未被光340照射的微透镜片532的剩余部分C被除去。即对应于边界534的、微透镜片532的部分C被显影溶液除去。
然后，热压在下基板31上的微透镜片532在约200℃到约250℃下被烘烤。透镜阵列33形成于在曝光过程中被光340照射的微透镜片532的部分A。未被光340照射的、微透镜片532的剩余部分C被除去以暴露下基板31。
参照图7F，密封线35形成在微透镜片532的边界534上，且液晶层36形成在由密封线35所限定的每个单元50的液晶区上。然后，上基板37通过密封线35与下基板31组合，由此完成微透镜基板阵列650。
接着，如图7G所示，如此制造的微透镜基板阵列650被切割成单元50，由此完成多个微透镜基板530。
如先前所述，当采用玻璃块料同时制造多个微透镜基板530时，在上基板37和下基板31上形成用于精确定位的对准键。该对准键可以用于实现上基板37与下基板31之间的结合或者用于在图7C所示的曝光过程中定位下基板31。该对准键还可以用作用于形成密封线35(图7F)或用于在形成液晶层36之前形成取向层的引导键。
图8A和8B示出了形成在图3或6所示的下基板31上并传送(transmitted)到上面的微透镜片32或532的对准键。如图8A和8B所示，形成在下基板31上并被微透镜片32或532覆盖的对准键的几何形状可以被看到。该对准键可以形成在下基板31或上基板37上的有源区边缘。
包括在玻璃块料上精确对准的多个单元的微透镜基板阵列可以使用该对准键而制造。
如上所述，本发明的实施例提供了一种微透镜基板阵列及其制造方法以及包括微透镜基板的3D显示设备，该微透镜基板阵列可以在玻璃块料上制造以允许大规模制造，并具有形成在基板上的对准键以提供优异的可重复性，并因此提高了制造产率。
虽然已经参照附图描述了本发明的优选实施例，但应该理解，本发明不局限于这些具体的实施例，而是本领域的技术人员可以在不脱离本发明的精神和范畴下进行各种变化和改进。所有这些变化和改进仍包括在由权利要求所限定的本发明的范畴内。
本申请要求于2004年12月31日提交的韩国专利申请No.10-2004-118010的优先权，其公开全文引入于此以作参考。

Claims (41)

1.一种微透镜基板阵列，包括：
上透明基板和下透明基板，其中所述下透明基板面对所述上透明基板；和
微透镜片，形成在所述上透明基板和下透明基板之间，其中所述微透镜片包括设置在微透镜片表面上的多个透镜阵列和沿多个单元的每个的边缘形成的平坦表面，且其中所述多个透镜阵列对应于所述多个单元。
2.如权利要求1所述的微透镜基板阵列，其中所述微透镜片包括光敏树脂。
3.如权利要求1所述的微透镜基板阵列，还包括形成在所述上透明基板与下透明基板之间的间隙中的液晶层。
4.如权利要求1所述的微透镜基板阵列，其中所述微透镜片形成在所述下透明基板上并且还包括插入在所述微透镜片的平坦表面与上透明基板之间并将所述上透明基板与所述下透明基板组合的密封线。
5.如权利要求1所述的微透镜基板阵列，其中所述微透镜基板阵列被切割成多个单元以形成多个微透镜基板。
6.一种微透镜基板阵列，包括：
上透明基板和下透明基板，其中所述下透明基板面对所述上透明基板；
微透镜片，包括形成在所述下透明基板上的多个透镜阵列，其中所述多个透镜阵列形成在所述上透明基板与下透明基板之间，并对应于多个单元，且所述下透明基板沿所述多个单元的每个的边缘暴露出来；和
密封线，接触所述暴露的下透明基板和上透明基板，并将所述上透明基板与所述下透明基板组合。
7.如权利要求6所述的微透镜基板阵列，其中所述微透镜片包括光敏树脂。
8.如权利要求6所述的微透镜基板阵列，还包括形成在所述上透明基板与下透明基板之间的间隙中的液晶层。
9.如权利要求6所述的微透镜基板阵列，其中所述微透镜基板阵列被切割成多个单元以形成多个微透镜基板。
10.一种三维显示设备，包括：
显示面板，产生图像；和
微透镜基板，包括设置在所述显示面板上并透射图像的上透明基板、面对所述上透明基板的下透明基板、和形成在所述上透明基板和下透明基板之间并包括透镜阵列和平坦表面的微透镜片，其中所述平坦表面沿所述透镜阵列的边缘形成。
11.如权利要求10所述的三维显示设备，还包括形成在所述上透明基板与下透明基板之间的间隙中的液晶层。
12.如权利要求10所述的三维显示设备，其中所述微透镜片在上下透明基板之间形成在下透明基板上，所述三维显示设备还包插入在微透镜片的平坦表面与上透明基板之间并将上透明基板与下透明基板组合的密封线。
13.如权利要求10所述的三维显示设备，还包括开关面板，其设置在所述显示面板上并控制所述三维显示设备以选择性地显示二维或三维图像。
14.如权利要求10所述的三维显示设备，其中所述透镜阵列包括多个凹透镜。
15.如权利要求10所述的三维显示设备，其中在所述下或上透明基板至少之一的边缘形成对准键。
16.一种三维显示设备，包括：
显示面板，产生图像；和
微透镜基板，包括：
上透明基板，设置在所述显示面板上并透射图像；
下透明基板，面对所述上透明基板；
微透镜片，包括透镜阵列，其中所述透镜阵列在所述上透明基板
与下透明基板之间形成于所述下透明基板上，且所述下透明基板沿所述透镜阵列的边缘暴露出来；和
密封线，接触所述暴露的下透明基板和上透明基板，并将所述上透明基板与所述下透明基板组合。
17.如权利要求16所述的三维显示设备，其中所述微透镜片包括光敏树脂。
18.如权利要求16所述的三维显示设备，还包括形成在所述上透明基板与下透明基板之间的间隙中的液晶层。
19.如权利要求16所述的三维显示设备，还包括开关面板，其设置在所述显示面板上并控制三维显示设备以选择性地显示二维或三维图像。
20.如权利要求16所述的三维显示设备，其中所述透镜阵列包括多个凹透镜。
21.如权利要求16所述的三维显示设备，其中在所述下透明基板或上透明基板至少之一的边缘形成对准键。
22.一种制造微透镜基板的方法，该方法包括：
在下基板上形成包括透镜阵列的微透镜片；
将所述微透镜片通过掩模曝光，该掩模将所述透镜阵列分成分别对应于多个单元的多个部分并限定所述多个单元的每个之间的边界；
平面化所述微透镜片对应于所述边界的一部分；和
在所述微透镜片对应于所述边界的平面化部分上形成密封线，以将下基板与相应的上基板组合。
23.如权利要求22所述的方法，其中所述微透镜片包括光敏树脂。
24.如权利要求22所述的方法，其中在所述下基板上形成微透镜片包括：
提供包括模具层的模具膜，所述模具层具有用于形成在模具层表面上的透镜阵列的图案；
在所述模具层上形成所述微透镜片；
在所述下基板与所述模具膜之间插入微透镜片；和
将所述模具膜热压到所述下基板上。
25.如权利要求24所述的方法，还包括除去所述模具膜使得仅所述微透镜片保留在所述下基板上。
26.如权利要求24所述的方法，其中将所述模具膜热压到所述下基板上包括：
设置所述模具膜使之面对所述下基板，所述微透镜片插入在其间；和
通过滚动所述模具膜上的具有约80℃到约150℃温度的辊将所述微透镜片热压到所述下基板上。
27.如权利要求22所述的方法，其中所述光是g线、h线、i线或紫外光中至少一种。
28.如权利要求22所述的方法，其中平面化所述微透镜片的所述部分包括在约200℃到约250℃下烘烤所述微透镜片。
29.如权利要求22所述的方法，还包括在所述下基板上形成所述微透镜片之前在所述下基板上形成对准键。
30.如权利要求22所述的方法，还包括在形成所述密封线之后在所述下基板上形成液晶层。
31.如权利要求22所述的方法，还包括在形成所述密封线后将微透镜基板阵列切割成多个单元。
32.一种制造微透镜基板的方法，该方法包括：
在下基板上形成包括透镜阵列的微透镜片；
通过掩模将所述微透镜片曝光，该掩模将所述透镜阵列分成分别对应于多个单元的多个部分并限定所述多个单元中每个之间的边界；
除去所述微透镜片对应于所述边界的部分以暴露出所述下基板；和
在所述暴露的下基板上形成密封线以将所述下基板与相应的上基板组合。
33.如权利要求32所述的方法，其中在所述下基板上形成所述微透镜片包括：
提供包括模具层的模具膜，所述模具层具有用于形成在模具层表面上的透镜阵列的图案；
在所述模具层上形成所述微透镜片；
在所述下基板与所述模具膜之间插入所述微透镜片；和
将所述模具膜热压到所述下基板上。
34.如权利要求33所述的方法，其中还包括除去所述模具膜，使得仅所述微透镜片保留在所述下基板上。
35.如权利要求33所述的方法，其中将所述模具膜热压到所述下基板上包括：
将所述模具膜设置为面对所述下基板，所述微透镜片插入其间；和
通过滚动所述模具膜上的具有约80℃到约150℃温度的辊将所述微透镜片热压到所述下基板上。
36.如权利要求32所述的方法，其中所述光是g线、h线、i线或紫外光至少之一。
37.如权利要求32所述的方法，其中在除去所述微透镜片的所述部分中，包括：
显影所述微透镜片；和
在除去所述微透镜片的所述部分之后，在约200℃到约250℃下烘烤所述微透镜片。
38.如权利要求32所述的方法，还包括在所述下基板上形成所述微透镜片之前，在所述下基板上形成对准键。
39.如权利要求32所述的方法，还包括在形成所述密封线之后在所述下基板上形成液晶层。
40.如权利要求32所述的方法，还包括在形成所述密封线之后，将所述微透镜基板阵列切割成多个单元。
41.如权利要求32所述的方法，其中所述微透镜片包括光敏树脂。
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