CN102662247B - 制造构图延迟器的方法 - Google Patents
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Abstract
本公开涉及制造用于三维显示装置的构图延迟器的方法。本公开提出一种制造构图延迟器的方法，该方法包括：限定位于构图延迟器中的第一延迟器区域和第二延迟器区域；通过具有第一曝光能量的部分曝光过程在所述第一延迟器区域形成第一偏振图案；以及通过具有第二曝光能量的整体曝光过程在所述第二延迟器区域形成第二偏振图案。通过以低曝光能量制造所述构图延迟器，能够减少制造的整体花费时间，从而能够提高产品生产率并降低生产成本。
Description
技术领域
本公开涉及制造用于三维显示装置的构图延迟器的方法。具体地，本公开涉及在附接在显示3D图像的平板显示装置的表面上的构图延迟器上形成具有彼此不同的偏振方向的两个区域的方法。
背景技术
近来，得益于各种视频内容的发展，积极开发了能够选择性地再现2D图像和3D图像的显示装置。该装置使用立体技术或自动立体技术来再现3D图像。
立体技术利用由人类的双眼彼此分离而导致的双眼视差。存在两种典型类型：一种是眼镜型，另一种是无眼镜型。对于眼镜型，显示装置以不同的偏振方向或以时分方式来显示左眼图像和右眼图像。观众可使用偏振眼镜或液晶光闸眼镜观赏3D图像。对于无眼镜型，在显示屏的前面或后面安装有光学板，例如视差障壁，用于在左眼和右眼之间分离平行图像的光轴。
作为眼镜型的示例，存在一种3D显示装置，该装置具有位于显示面板上的构图延迟器。该3D显示装置利用构图延迟器和偏振眼镜的偏振特性显示3D图像。因此，左眼图像与右眼图像之间没有串扰问题，并且保证更亮的亮度，从而图像质量比其它类型的3D显示装置更好。
该3D显示装置是用于选择性地呈现2D图像和3D图像的装置。对于具有构图延迟器的3D显示装置，存在位于选择性地呈现2D和3D图像的显示面板的顶表面上的构图延迟器。因此，为了改进构图延迟器的制造方法，需要开发以低成本制造具有更好的显示质量的3D显示装置的方法。
发明内容
为了克服上述缺点，本公开的目的是提出一种制造构图延迟器的方法，在该方法中提高曝光能量效率。本公开的另一个目的是提出一种制造构图延迟器的方法，在该方法中显著减少制造时间。
为了实现上述目的，本公开提出一种制造构图延迟器的方法，该方法包括：限定位于所述构图延迟器中的第一延迟器区域和第二延迟器区域；通过具有第一曝光能量的部分曝光过程在所述第一延迟器区域形成第一偏振图案；以及通过具有第二曝光能量的整体曝光过程在所述第二延迟器区域形成第二偏振图案。
通过使用露出所述第一延迟器区域并遮挡所述第二延迟器区域的掩模，用具有所述第一曝光能量的第一偏振光曝光所述第一延迟器区域，来执行所述部分曝光过程；并且，通过用具有所述第二曝光能量的第二偏振光曝光所述第一延迟区域和所述第二延迟器区域，来执行所述整体曝光过程。
通过使用在所述第一延迟器区域具有第一偏振图案并在所述第二延迟器区域具有黑图案的第一掩模，用具有所述第一曝光能量的紫外光进行曝光，来执行所述部分曝光过程；并且，通过使用在所述第一延迟器区域和所述第二延迟器区域具有第二偏振图案的第二掩模，用具有所述第二曝光能量的紫外光进行曝光，来执行所述整体曝光过程。
所述第二曝光能量为所述第一曝光能量的60％或更小。
所述第一曝光能量是1～50mJ/cm2中的一个，所述第二曝光能量是1～30mJ/cm2中的一个，并且小于所述第一曝光能量。
在根据本公开的制造构图延迟器的方法中，首先执行部分曝光，然后执行整体曝光，从而能够以低曝光能量制造构图延迟器。此外，通过以低曝光能量制造构图延迟器，能够减少所述制造的整体花费时间，从而能够提高产品生产率并降低生产成本。
附图说明
附图被包括进来以提供对本发明的进一步理解，并结合到本说明书中且构成本说明书的一部分，这些附图例示了本发明的实施方式，并与文字描述一起用于解释本发明的原理。
在附图中：
图1是例示根据本公开的具有构图延迟器的显示装置的结构的立体图。
图2是示出根据本公开的构图延迟器的结构的截面图。
图3A至图3C示出根据本公开的第一实施方式的制造构图延迟器的步骤。
图4A至图4C示出根据本公开的第二实施方式的制造构图延迟器的步骤。
具体实施方式
在下文，参照附图来解释本公开的优选实施方式。图1是示出了根据本公开的具有构图延迟器的显示装置的结构的立体图。参照图1，根据本公开的显示装置包括显示面板DP、构图延迟器PR以及偏振眼镜PG，显示面板DP用于呈现2D图像或3D图像，构图延迟器PR附接在显示面板DP的前表面上。
显示面板DP可以包括液晶显示装置(或LCD)、场致发射显示器(或ED)、等离子体显示面板(或PDP)、以及电致发光装置(或EL，包括无机发光二极管和有机发光二级管(或OLED))中的任意一种。在下文，我们将针对显示面板DP为液晶显示面板的情况来解释本公开的实施方式。构图延迟器PR与偏振眼镜PG是用于通过分离左眼图像和右眼图像来表现双眼视差的3D显示系统的其它部件。
显示面板DP包括两个玻璃基板以及插入在这两个玻璃基板之间的液晶层LC。显示面板DP包括按照由数据线和选通线的交叉结构限定的矩阵形式布置的液晶单元。显示面板DP的下玻璃基板SL包括像素阵列，所述像素阵列包括数据线、选通线、薄膜晶体管、像素电极、以及存储电容器。显示面板DP的上玻璃基板SU包括黑底、滤色器、以及公共电极。每个液晶单元被在连接到薄膜晶体管的像素电极与公共电极之间形成的电场驱动。上玻璃基板SU和下玻璃基板SL各自的内表面分别具有配向层，该配向层用于建立液晶的预倾角。上玻璃基板SU和下玻璃基板SL各自的外表面分别具有上偏振膜PU和下偏振膜PL。对于诸如TN(扭曲向列)模式和VA(竖直对准)模式的垂直电场型LCD，公共电极可以形成在上玻璃基板SU上。另一方面，对于诸如IPS(面内切换)模式和FFS(边缘场切换)模式的水平电场型LCD，公共电极可以与像素电极形成在下玻璃基板SL上。在下玻璃基板与上玻璃基板之间，可以形成有列间隔体，以均匀地维持液晶单元的单元间隙。
显示面板DP可以是包括TN模式LCD、VA模式LCD、IPS模式LCD以及FFS模式LCD的LCD面板中的任意一种类型。此外，根据本公开的显示面板DP可以是包括透射式显示装置、反射式显示装置、以及透射-反射式显示装置的显示装置中的任何一种。对于透射式显示装置和透射-反射式显示装置，要求背光单元。背光单元可以为直下型和侧光型中的任意一种。
构图延迟器PR附接在显示面板DP的上偏振膜PU的外表面上。构图延迟器PR具有与在显示面板DP的水平方向上排列的每一行像素相对应的单位延迟器。例如，一个单位延迟器可限定为与共同连接到一个选通线的像素的区域相对应。具体地，第一延迟器RT1被形成为对应于构图延迟器PR的奇数行，第二延迟器RT2被形成为对应于构图延迟器PR的偶数行。第一延迟器RT1的光吸收轴与第二延迟器RT2的光吸收轴相互垂直。第一延迟器RT1可以透射第一偏振光(圆偏振光或线偏振光)，其中该光从像素阵列入射。第二延迟器RT2可以透射第二偏振光(圆偏振光或线偏振光)，其中该光线从像素阵列入射。例如，构图延迟器PR的第一延迟器RT1可以是透射左旋圆偏振光的偏振滤光片，构图延迟器PR的第二延迟器RT2可以是透射右旋圆偏振光的偏振滤光片。
偏振眼镜PG包括具有第一偏振滤光片P1的左玻璃窗口LG以及具有第二偏振滤光片P2的右玻璃窗口RG。第一偏振滤光片P1具有与构图延迟器PR的第一延迟器RT1的光透射轴相同的光透射轴。与此同时，第二偏振滤光片P2具有与构图延迟器PR的第二延迟器RT2的光透射轴相同的光透射轴。例如，偏振眼镜PG的第一偏振滤光片P1可以是左旋圆偏振滤光片，偏振眼镜PG的第二偏振滤光片P2可以是右旋圆偏振滤光片。
利用这个结构，通过在与第一延迟器RT1相关的像素上呈现左眼图像，并在与第二延迟器RT2相关的像素上呈现右眼图像，可以实现3D图像。例如，当第一延迟器RT1具有与左旋圆偏振滤光片相同的偏振图案时，左眼图像作为左旋圆偏振光辐射，使得左眼图像通过偏振眼镜PG的第一偏振滤光片P1仅可被观看者的左眼识别。与此同时，当第二延迟器RT2具有与右旋圆偏振滤光片相同的偏振图案时，右眼图像作为右旋圆偏振光辐射，使得右眼图像通过偏振眼镜PG的第二偏振滤光片P2仅可被观看者的右眼识别。
在下文，参照图2至图4C，将详细说明根据本公开的构图延迟器的制造方法。图2是示出根据本公开的构图延迟器的结构的截面图。图3A至图3C示出根据本公开的第一实施方式的制造构图延迟器的步骤。图4A至图4C示出根据本公开的第二实施方式的制造构图延迟器的步骤。
首先参照图2，将简要说明根据本公开的构图延迟器的结构。构图延迟器PR包括诸如PET或玻璃的基底基板SUB、以及布置在基底基板SUB上的感光配向层ALG。感光配向层ALG具有被紫外光硬化的特点。具体地，当用紫外光照射具有图案的掩模时，感光配向层ALG可以有该图案。例如，当沉积在构图延迟器PR上的感光配向层ALG被构图为具有左旋圆偏振图案时，透射过构图延迟器PR的光被偏振化成左旋圆偏振。
根据本公开的构图延迟器PR具有在水平方向上延伸的第一延迟器RT1和第二延迟器RT2，第一延迟器RT1和第二延迟器RT2沿着垂直方向交替排列。第一延迟器RT1具有左旋圆偏振图案，第二延迟器RT2具有右旋圆偏振图案。第一延迟器RT1对准呈现左眼图像的像素区域定位，第二延迟器RT2对准呈现右眼图像的像素区域定位。之后，左眼图像作为左旋圆偏振光辐射，右眼图像作为右旋圆偏振光辐射。
在下文，参照图3A至图3C说明根据本公开的第一实施方式的构图延迟器的制造方法。
在构图延迟器的感光配向层ALG中限定第一延迟器RT1的区域上布置遮挡UV光的掩模MA。之后，在构图延迟器PR上照射右旋圆偏振UV光。具体地，将曝光能量设置为小于50mJ/cm2。之后，如图3A所示，感光配向层ALG的不被掩模MA遮挡的第二延迟器RT2具有与右旋圆偏振图案一致的配向图案。
如图3B所示，去除掩模MA，接着在构图延迟器PR的整个表面上照射左旋圆构图UV光。之后，感光配向层ALG的第一延迟器RT1具有与左旋圆偏振图案一致的配向图案。此时，感光配向层ALG的具有右旋圆偏振图案的第二延迟器RT2可能尚未改变，或者可以改变为具有有左旋圆偏振图案。在本公开中，应不改变感光配向层ALG的已具有右旋圆偏振图案的第二构图延迟器RT2，以维持右旋圆偏振图案。为此，重要的是，将左旋圆偏振UV光的曝光能量设定为少于在之前过程中使用的右旋圆偏振UV光的能量。例如，左旋圆偏振UV光的曝光能量将优选地具有右旋圆偏振UV光的能量的60％的或更小。如果右旋圆偏振UV光的曝光能量被设定为50mJ/cm2，那么左旋圆偏振UV光的曝光能量将被优选地设置为30mJ/cm2或更少。
结果，如图3C所示，制成构图延迟器PR，其中第一延迟器RT1具有左旋圆偏振图案，第二延迟器RT2具有右旋圆偏振图案。
在下文，参照图4A至图4C说明根据本公开的第二实施方式的构图延迟器的制造方法。
在构图延迟器PR中的感光配向层ALG的第一构图延迟器RT1上布置遮挡UV光的黑图案PB，在第二延迟器RT2上布置具有右旋圆偏振图案RP的掩模MA。之后，在构图延迟器PR上照射UV光。具体地，将曝光能量设定为50mJ/cm2或更小。结果，如图4A所示，感光配向层ALG的被右旋圆偏振图案RP覆盖的第二延迟器RT2配向为具有右旋圆偏振图案。
之后，如图4B所示，将具有左旋圆偏振图案LP的掩模MA布置在感光配向层ALG的全部表面上。之后，在构图延迟器PR的全部表面上照射UV。结果，感光配向层ALG的第一延迟器RT1配向为具有左旋圆偏振图案。此时，为了不改变感光配向层ALG的第二延迟器RT2，优选地将UV光的曝光能量设定为图4A使用的UV光的曝光能量的60％或更小。如果用于形成右旋圆偏振图案的UV光的曝光能量被设定为50mJ/cm2，那么用于形成左旋圆偏振图案的UV光的曝光能量将被优选地设定为30mJ/cm2。
结果，如图4C所示，制成构图延迟器PR，其中第一延迟器RT1具有左旋圆偏振图案，第二延迟器RT2具有右旋圆偏振图案。
如本公开的第一和第二实施方式中所说明的，首先执行部分(或局部)UV曝光过程，然后执行整体UV曝光过程，从而能够在之后的曝光过程中使用比之前的曝光过程更低的曝光能量。通过与在后曝光过程需要的曝光能量高于在前的曝光过程需要的曝光能量的方法相比较，就曝光能量而言有高效率。此外，可以用更低曝光能量实现构图延迟器。因此，可以减少制造过程的时间并节约成本。
尽管参照附图详细描述了本发明的实施方式，但是本领域的技术人员可以理解的是，在不改变本发明的技术本质或实质特征的情况下可以以其它具体形式实施本发明。因此，应当注意的是，上述实施方式在所有方面只是示例性的，并且不理解为限制本发明。本发明的范围由所附权利要求限定而非由本发明的详细说明限定。在权利要求的含义和范围内作出的全部变化或修改或其它等同物都应当解释为落入本发明的范围内。
本申请要求2010年11月24日提交的韩国专利申请10-2010-117330号的优先权，通过引用将其结合于此用于一切目的，如同全面在此阐述一样。
Claims (4)
1.一种制造构图延迟器的方法，所述方法包括：
限定位于所述构图延迟器中的第一延迟器区域和第二延迟器区域；
通过具有第一曝光能量的部分曝光过程在所述第一延迟器区域形成第一偏振图案；以及
通过具有第二曝光能量的整体曝光过程在所述第二延迟器区域形成第二偏振图案，
其中，所述第二曝光能量为所述第一曝光能量的60％或更小。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，通过使用露出所述第一延迟器区域并遮挡所述第二延迟器区域的掩模，用具有所述第一曝光能量的第一偏振光曝光所述第一延迟器区域，来执行所述部分曝光过程；以及
其中，通过用具有所述第二曝光能量的第二偏振光曝光所述第一延迟器区域和所述第二延迟器区域，来执行所述整体曝光过程。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，通过使用在所述第一延迟器区域具有第一偏振图案并在所述第二延迟器区域具有黑图案的第一掩模，用具有所述第一曝光能量的紫外光进行曝光，来执行所述部分曝光过程；以及
其中，通过使用在所述第一延迟器区域和所述第二延迟器区域具有第二偏振图案的第二掩模，用具有所述第二曝光能量的紫外光进行曝光，来执行所述整体曝光过程。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一曝光能量是1～50mJ/cm2中的一个，以及
其中，所述第二曝光能量是1～30mJ/cm2中的一个，并且小于所述第一曝光能量。
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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Inventor after: Lu Xuanzong Inventor after: Jin Zhengao Inventor after: Lin Yingnan Inventor after: Jin Qingzhen Inventor before: Lu Xuanzong Inventor before: Jin Zhengao Inventor before: Lin Yingnan Inventor before: Jin Jingzhen |
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| CB03 | Change of inventor or designer information | ||
| COR | Change of bibliographic data |
Free format text: CORRECT: INVENTOR; FROM: WANG WENDONG YIN KESHENG YIN HONGYI LIU HONGLIANG TO: WANG WENDONG YIN KESHENG YIN HONGYI YIN JIANCHENG |
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant |