CN1790067A - 透射式金属光栅及其制作方法 - Google Patents

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周翠花
李代学
梁跃兵
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Abstract

一种透射式金属光栅,包括金属基板、金属基板上下表面的光栅亮条纹和金属基板上的暗条纹,光栅亮条纹为金属基板上的缝隙,其透光率为100%,暗条纹为金属基板本身,不透光;金属基板为不锈钢、铜、铝的薄片或金属尺;透射式金属光栅的制造方法是:先对金属基板表面进行清洗,然后在基板上下两面涂上均匀厚度的光刻胶,前烘去除光刻胶中的稀释剂后,将基片上放置在两相同光栅母板间上下对准并进行曝光,再用显影液显影,烘烤坚膜后在FeCl3腐蚀液中腐蚀,最后去胶清洁基片表面。本发明具有重量轻、对比度好、线条稳定性好且抗冲击性、抗腐蚀性、抗辐射性好的优点。

Description

透射式金属光栅及其制作方法
技术领域
本发明涉及一种光学计量器件及莫尔条纹技术领域,具体地说涉及一种透射式金属光栅及其制作工艺。包括长、圆光栅领域。
背景技术
目前广泛使用的透射式光栅是将光栅线条制作在玻璃上,光栅暗条纹大多为玻璃表面上的三氧化二铬线条,亮条纹则为玻璃本身。这种光栅虽然广泛用于机床、仪器设备上,但它存在以下不足之处:抗冲击能力差、抗腐蚀能力差、抗辐射能力差,所以不能满足航空、航天的需要。
发明内容
本发明的技术解决问题:克服现有技术的不足,提供一种重量轻、对比度好、线条稳定性好且抗冲击性、抗腐蚀性、抗辐射性很好的透射式金属光栅及其制造方法。
本发明的技术解决方案:一种透射式金属光栅,包括长光栅和圆光栅,其特征在于:包括金属基板、金属基板上下表面的光栅亮条纹和暗条纹,光栅亮条纹为金属基板上的缝隙,其透光率为100%,暗条纹为金属基板本身,不透光。
上所述的透射式金属光栅的制造方法,其特征在于采用下述方法进行制造:先对金属基板表面进行清洗,然后在金属基板上下两面涂上均匀厚度的光刻胶,前烘去除光刻胶中的稀释剂后,将金属基板上放置在两相同光栅母板间上下对准并进行曝光,再用显影液显影,烘烤坚膜后在FeCl3腐蚀液中腐蚀,最后去胶清洁基片表面。
本发明与现有技术相比具有的优点:
①制作过程中不需镀膜,所以工序少、制作方便、成本低且适合于大批量生产;
②使用薄金属基板作为载体,重量轻;
③光栅亮条纹为金属基板上的缝隙,其透光率为100%,而暗条纹为金属基片本身,不透光,所以该光栅对比度非常好;
④光栅明暗条纹均为金属基板本身,所以其线条牢固度好;
⑤使用金属基板作载体,双面曝光、双面腐蚀,缩短了金属腐蚀时间、提高了蚀刻深度增大了光栅的强度;
⑥传统的光栅基板为玻璃,金属材料相对于玻璃材料来说抗冲击、抗腐蚀、抗辐射能力高,所以本发明抗冲击、抗腐蚀、抗辐射能力高,特别适合于航天、航空领域。
附图说明
图1为本发明的金属光栅的结构主示意图;
图2为图1的俯视图。
具体实施方式
如图1、图2所示,本发明包括金属基板1、金属基板1上下表面的光栅亮条纹2和暗条纹3,光栅亮条纹2为金属基板1上的缝隙,其透光率为100%,暗条纹3为金属基板1本身,其透光率为0%,金属基板1为不锈钢、铜、铝的薄片或薄尺。
下面以不锈钢片为例对本发明的制造方法进行详细说明:
①选取适当大小、厚度的不锈钢片经平整工艺平整后,用浓度9~11%的稀硝酸去除不锈钢片表面的氧化物,用10~20%浓碱液去除不锈钢片表面的油污;
②用HNO3溶液对不锈钢片进行深处理,即采用10~30%的HNO3溶液在60℃~70℃下浸泡15~20分钟;
③在不锈钢片上涂上均匀厚度的BP212正性光刻胶;
④将光刻胶中的稀释剂烘干;
⑤将不锈钢片放置于上下高精度对准的光栅母板之间,在高压汞灯光源下,双面曝光;
⑥在NaOH碱液中显影,显影液温度控制在20℃左右。
⑦在90~120℃温度下进行烘烤;
⑧放入10%~30%浓度的FeCl3腐蚀液中双面腐蚀,腐蚀时间根据所选用的不锈钢片厚度确定,一般为20~30分钟,FeCl3腐蚀液中需要加入0.1%~0.01%的HNO3和0.1%~0.01%的Ce(SO4)2,HNO3和Ce(SO4)2与金属基板中Cr、Ni杂质的化学反映方程式(1)和(2)
                            (1)
         (2)
⑨去胶清洁码盘表面,得到成品光栅,描述该成品光栅的结构,其光栅条纹为亮条纹及暗相条纹相间的一个环带,亮条纹为不锈纲片上被腐蚀掉的部分,暗条纹为不锈钢片上未被腐蚀的部分(基板本身)。

Claims (5)

1、一种透射式金属光栅,其特征在于:包括金属基板、金属基板上下表面的光栅亮条纹和暗条纹,光栅亮条纹为金属基板上的缝隙,其透光率为100%,暗条纹为金属基板本身,不透光。
2、根据权利要求1所述的透射式金属光栅,其特征在于:所述的金属基板为不锈钢、铜、铝的薄片或薄尺。
3、透射式金属光栅的制造方法,其特征在于采用下述方法进行制造:先对金属基板表面进行清洗,然后在金属基板上下两面涂上均匀厚度的光刻胶,前烘去除光刻胶中的稀释剂后,将基片上放置在两相同光栅母板间上下对准并进行曝光,再用显影液显影,烘烤坚膜后在FeCl3腐蚀液中腐蚀,最后去胶清洁基片表面。
4、根据权利要求3所述的透射式金属光栅的制造方法,其特征在于:所述的曝光方式为双面曝光,上下两面图案精确对准;或上下两面光源一致;或金属基板两面光刻胶均匀且厚薄一致。
5、根据权利要求3所述的透射式金属光栅的制造方法,其特征在于:所述的金属基板为不锈钢、或铜、或铝的薄片或薄尺。
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