CN109081600A

CN109081600A - 采用盐类化学试剂刻蚀减反射玻璃的制备方法

Info

Publication number: CN109081600A
Application number: CN201811246348.3A
Authority: CN
Inventors: 郝霞; 吕皓; 赵会峰; 崔永红; 李军葛; 潘国治; 王�琦
Original assignee: Te Bo Science And Technology Ltd Of Hainan Air China
Current assignee: Te Bo Science And Technology Ltd Of Hainan Air China
Priority date: 2018-10-25
Filing date: 2018-10-25
Publication date: 2018-12-25

Abstract

本发明涉及玻璃表面处理技术，涉及一种采用盐类化学试剂刻蚀减反射玻璃的制备方法。涉及的采用盐类化学试剂刻蚀减反射玻璃的制备方法为：将玻璃原片用清洗剂清洗干净，然后再用去离子水冲洗干净；将冲洗干净的玻璃原片放入化学蚀刻液内进行刻蚀，化学蚀刻液为盐类化学制剂；玻璃原片在化学蚀刻液的刻蚀下在其表面形成规则的纳米尺寸的孔状结构，规则的纳米尺寸的孔状结构作为玻璃原片的减反射膜层；减反射膜层的厚度为100‑300 nm；然后将刻蚀完成后的玻璃取出洗净后放入烘箱内烘干得到减反射玻璃。本发明的有益效果为：成本低，玻璃的减反射性能好、透过率高，可见光透过率提高6%以上。

Description

采用盐类化学试剂刻蚀减反射玻璃的制备方法

技术领域

本发明涉及玻璃表面处理技术，具体涉及一种采用盐类化学试剂刻蚀减反射玻璃的制备方法。

背景技术

减反射玻璃因其能减少光线反射增加可见光透过率，具有防眩和高透过率的特点，广泛应用于建筑幕墙、温室墙体和装饰用玻璃，可以减少光污染、提高太阳光的利用率、增加视觉清晰度；采用磁控溅射法和溶胶凝胶技术等制备减反射玻璃的方法生产成本高而且工艺复杂。

发明内容

本发明的目的是提供一种采用盐类化学试剂刻蚀减反射玻璃的制备方法，使其能降低玻璃的反射率、提高透过率。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种采用盐类化学试剂刻蚀减反射玻璃的制备方法，所述的制备方法为：将玻璃原片用清洗剂清洗干净，然后再用去离子水冲洗干净；将冲洗干净的玻璃原片放入化学蚀刻液内进行刻蚀，所述化学蚀刻液为盐类化学制剂；刻蚀反应时间为1-15 h，刻蚀反应温度为50-100℃；所述的玻璃原片在化学蚀刻液的刻蚀下在其表面形成规则的纳米尺寸的孔状结构，规则的纳米尺寸的孔状结构作为玻璃原片的减反射膜层；所述减反射膜层的厚度为100-300 nm；然后将刻蚀完成后的玻璃取出洗净后放入烘箱内烘干得到减反射玻璃。

所述的盐类化学制剂为含有Na₂SiO₃溶液、Na₃PO₄溶液、Na₂HPO₄溶液、Na₄P₂O₇溶液或EDTA二钠溶液中的一种或几种。

所述盐类化学制剂的反应液浓度分别为：Na₂SiO₃ 1-10%、Na₃PO₄ 0.01-5%、Na₂HPO₄0.01-5%、Na₄P₂O₇ 0.1-5%、EDTA二钠 1-10%。

本发明的有益效果是：采用化学刻蚀法，利用玻璃的微观结构特点，利用化学蚀刻技术，玻璃原片经过化学溶液的蚀刻，在表面上形成较为规则的纳米尺寸的孔状结构，该结构等效于一层低折射率的膜层，光线经干涉消光后，减小了玻璃反射率，大幅提高了玻璃材料透过率，和其他玻璃表面镀膜增透技术相比化学刻蚀增透技术具有良好的性能与低成本优势，正逐步被市场认可，具有良好的经济效益与社会效益；玻璃表面形成较为规则的纳米尺寸的孔状结构，该结构等效于一层低折射率的膜层；在可见光波段内，玻璃增透处理后可见光透过率增加6%以上，成本低。

附图说明

图1所示为实施案例1经化学刻蚀处理的减反射玻璃表面扫描电镜图。

图2所示为实施案例1经化学刻蚀处理的减反射玻璃断面扫描电镜图。

图3所示为实施案例1减反射玻璃和未经处理玻璃的透过率和反射率曲线图。

具体实施方式

结合附图和具体实施例对本发明加以说明：

实施例1：

将需要做减反射处理的玻璃切割成所需尺寸，玻璃表面用清洗剂清洗干净，然后用去离子水冲洗干净；将玻璃原片放入含有3% Na₂SiO₃溶液的腐蚀槽内，设置温度为60℃，并在槽内放置6 h，取出后用去离子水冲洗干净，然后烘干，得到减反射玻璃。对得到的减反射玻璃进行扫描电镜测试，结果如图1和图2所示，图1为本发明实施例1制备得到的减反射玻璃表面SEM图，图2为本发明实施例1制备得到的减反射玻璃断面SEM图。

测量所得减反射玻璃透过率与反射率，见图3；图中“原片玻璃”即为未经减反射处理的玻璃原片，其在减反射处理前透过率为91%左右；采用本减反射方法处理后玻璃的可见光透过率增加6%。

实施例2：

将需要做减反射处理的玻璃切割成所需尺寸，玻璃表面用清洗剂清洗干净，然后用去离子水冲洗干净；将玻璃原片放入含有2% Na₂SiO₃，5% EDTA二钠溶液的腐蚀槽内，设置温度为80 ℃，并在槽内放置8 h，取出后用去离子水冲洗干净，然后烘干，得到减反射玻璃。

实施例3：

将需要做减反射处理的玻璃切割成所需尺寸，玻璃表面用清洗剂清洗干净，然后用去离子水冲洗干净；。将玻璃原片放入含有2% Na₃PO₄、2% Na₂HPO₄、1% Na₄P₂O₇，5% EDTA二钠溶液的腐蚀槽内，设置温度为90℃，并在槽内放置15h，取出后用去离子水冲洗干净，然后烘干，得到减反射玻璃。

实施例4：

将需要做减反射处理的玻璃切割成所需尺寸，玻璃表面用清洗剂清洗干净，然后用去离子水冲洗干净。将玻璃基体放入含有1% Na₃PO₄、1% Na₂HPO₄、2% Na₄P₂O₇溶液的腐蚀槽内，设置温度为90 ℃，并在槽内放置13 h，取出后用去离子水冲洗干净，然后烘干，得到减反射玻璃。

实施例5：

将需要做减反射处理的玻璃切割成所需尺寸，玻璃表面用清洗剂清洗干净，然后用去离子水冲洗干净；将玻璃原片放入含有2% Na₂SiO₃，1% Na₃PO₄、1% Na₂HPO₄，溶液的腐蚀槽内，设置温度为50 ℃，并在槽内放置5 h，取出后用去离子水冲洗干净，然后烘干，得到减反射玻璃。

实施例6：

将需要做减反射处理的玻璃切割成所需尺寸，玻璃表面用清洗剂清洗干净，然后用去离子水冲洗干净；将玻璃原片放入含有4% Na₂SiO₃，2% Na₄P₂O₇溶液的腐蚀槽内，设置温度为60℃，并在槽内放置3 h，取出后用去离子水冲洗干净，然后烘干，得到减反射玻璃。

实施例7：

将需要做减反射处理的玻璃切割成所需尺寸，玻璃表面用清洗剂清洗干净，然后用去离子水冲洗干净；将玻璃原片放入含有3% Na₄P₂O₇，5% EDTA二钠溶液的腐蚀槽内，设置温度为95℃，并在槽内放置15 h，取出后用去离子水冲洗干净，然后烘干，得到减反射玻璃。

实施例8：

将需要做减反射处理的玻璃切割成所需尺寸，玻璃表面用清洗剂清洗干净，然后用去离子水冲洗干净；将玻璃原片放入含有4% Na₂SiO₃、1% Na₃PO₄溶液的腐蚀槽内，设置温度为50 ℃，并在槽内放置6 h，取出后用去离子水冲洗干净，然后烘干，得到减反射玻璃。

实施例9：

将需要做减反射处理的玻璃切割成所需尺寸，玻璃表面用清洗剂清洗干净，然后用去离子水冲洗干净。将玻璃原片放入含有3% Na₃PO₄、3% Na₂HPO₄、5% EDTA溶液的腐蚀槽内，设置温度为90 ℃，并在槽内放置15 h，取出后用去离子水冲洗干净，然后烘干，得到减反射玻璃。

实施例10：

将需要做减反射处理的玻璃切割成所需尺寸，玻璃表面用清洗剂清洗干净，然后用去离子水冲洗干净。将玻璃原片放入含有4% Na₂SiO₃，1% Na₃PO₄、1% Na₂HPO₄、1% Na₄P₂O₇，3%EDTA二钠溶液的腐蚀槽内，设置温度为50℃，并在槽内放置4h，取出后用去离子水冲洗干净，然后烘干，得到减反射玻璃。

Claims

1.一种采用盐类化学试剂刻蚀减反射玻璃的制备方法，其特征在于：所述的制备方法为：将玻璃原片用清洗剂清洗干净，然后再用去离子水冲洗干净；将冲洗干净的玻璃原片放入化学蚀刻液内进行刻蚀，所述化学蚀刻液为盐类化学制剂；刻蚀反应时间为1-15 h，刻蚀反应温度为50-100℃；所述的玻璃原片在化学蚀刻液的刻蚀下在其表面形成规则的纳米尺寸的孔状结构，规则的纳米尺寸的孔状结构作为玻璃原片的减反射膜层；所述减反射膜层的厚度为100-300 nm；然后将刻蚀完成后的玻璃取出洗净后放入烘箱内烘干得到减反射玻璃。

2.如权利要求1所述的一种采用盐类化学试剂刻蚀减反射玻璃的制备方法，其特征在于：所述的刻蚀反应时间为1-15 h，刻蚀反应温度为50-100 ^oC。

3.如权利要求1所述的一种采用盐类化学试剂刻蚀减反射玻璃的制备方法，其特征在于：所述的盐类化学制剂为含有Na₂SiO₃溶液、Na₃PO₄溶液、Na₂HPO₄溶液、Na₄P₂O₇溶液或EDTA二钠溶液中的一种或几种。

4.如权利要求1所述的一种采用盐类化学试剂刻蚀减反射玻璃的制备方法，其特征在于：所述盐类化学制剂的反应液浓度分别为：Na₂SiO₃ 1-10%、Na₃PO₄ 0.01-5%、Na₂HPO₄0.01-5%、Na₄P₂O₇ 0.1-5%、EDTA二钠 1-10%。