CN1769326A - 氧化铟锡透明导电玻璃及其生产工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明所述的氧化铟锡透明导电玻璃，包括有机玻璃基片，在该有机玻璃基片的表面镀有二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，二氧化硅镀膜层位于内层，氧化铟锡镀膜层位于外层。本发明所述的氧化铟锡透明导电玻璃的生产工艺流程为：选择合格的有机玻璃基片，进行清洗，把清洗好的有机玻璃基片送去镀二氧化硅膜和镀氧化铟锡膜，然后把镀好膜的合格产品包装入库。本发明具有较高的电导率和可见光透过率，十分适合在液晶显示器件和平板显示器件等光电子器件上应用。

Description

氧化铟锡透明导电玻璃及其生产工艺
                        技术领域
本发明涉及一种镀膜导电玻璃及其生产工艺，具体地说一种氧化铟锡透明导电玻璃及其生产工艺。
                        背景技术
在液晶显示器件和平板显示器件等光电子器件中，常要用到具有导电镀层的透明导电玻璃，但现有的透明导电玻璃，电导率和可见光的透过率相对较低，相应地影响了产品性能的提高。
                        发明内容
本发明的目的是研制出一种氧化铟锡透明导电玻璃及其生产工艺。
本发明要解决的是现有透明导电玻璃，电导率和可见光的透过率相对较低的技术问题。
本发明所述的氧化铟锡透明导电玻璃，包括玻璃基片，该玻璃基片为有机玻璃基片，在该有机玻璃基片的表面镀有二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，二氧化硅镀膜层位于内层，氧化铟锡镀膜层位于外层。
本发明所述的氧化铟锡透明导电玻璃的生产工艺流程为：选择合格的有机玻璃基片，进行清洗，把清洗好的有机玻璃基片送入到镀膜机内，先镀二氧化硅膜，再镀氧化铟锡膜，然后把镀好膜的成品从镀膜机内取出，并进行检验，合格的产品包装入库。
本发明具有较高的电导率和可见光透过率，十分适合在液晶显示器件和平板显示器件等光电子器件上应用。
                      具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步说明。
如图1所示，本发明所述的氧化铟锡透明导电玻璃，包括白色的有机玻璃基基片3，在该有机玻璃基片3的表面镀有二氧化硅镀膜层2和氧化铟锡镀膜层1，二氧化硅镀膜层2位于内层，氧化铟锡镀膜层1位于外层。
二氧化硅镀膜层2的主要组成成分为二氧化硅，氧化铟锡镀膜层1的主要组成分为氧化铟锡。
本发明所述的氧化铟锡透明导电玻璃的生产工艺，其生产流程为：选择合格的有机玻璃基片1，进行清洗，把清洗好的有机玻璃基片1送入到镀膜机内，采用射频溅射工艺先在有机玻璃基片3的表面镀二氧化硅膜。再用直流磁控溅射工艺，在有机玻璃基片1镀氧化铟锡膜，然后把镀好膜的成品从镀膜机内取出，并进行检验，最后把合格的产品包装入库。

Claims (5)

1、氧化铟锡透明导电玻璃，包括玻璃基片，其特征在于玻璃基片为有机玻璃基片，在该有机玻璃基片的表面镀有二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，二氧化硅镀膜层位于内层，氧化铟锡镀膜层位于外层。
2、根据权利要求1所述的氧化铟锡透明导电玻璃，其特征在于二氧化硅镀膜层的主要组成成分为二氧化硅，氧化铟锡镀膜层的主要组成分为氧化铟锡。
3、根据权利要求1所述的透明导电玻璃，其特征在于有机玻璃基片选用白片有机玻璃制作。
4、据权利要求1所述的氧化铟锡透明导电玻璃的生产工艺，其特征在于该工艺的生产流程为：选择合格的有机玻璃基片，进行清洗，把清洗好的有机玻璃基片送入到镀膜机内，先镀二氧化硅膜，再镀氧化铟锡膜，然后把镀好膜的成品从镀膜机内取出，并进行检验，合格的产品包装入库。
5、据权利要求1所述的氧化铟锡透明导电玻璃的生产工艺，其特征在于镀二氧化硅膜采用的是射频溅射工艺，镀氧化铟锡采用的是直流磁控溅射工艺。
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