CN1753587A - 有机电致发光装置的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种有机电致发光装置的制造方法，包括利用配备有衍射光学元件的激光辐射设备将激光束辐射到所述施主基板的预定的区域，从而在所述基板上形成有机层图案。根据本发明的有机电致发光装置的制造方法具有的优点为：当通过LITI形成有机层图案时通过利用衍射光学元件改进了激光束的能量效率；和当形成具有各种形状的激光束来制造有机电致发光装置时，通过仅替换掩模来简化有机电致发光装置的制造工艺和减少有机电致发光装置的制造成本。

Description

有机电致发光装置的制造方法
技术领域
本发明涉及一种有机电致发光装置的制造方法，更具体而言，涉及一种当通过激光诱导热成像(LITI)形成有机层图案时利用配备有衍射光学元件的激光辐射设备来形成有机膜层图案的方法。
背景技术
一般地，作为平板显示器的有机电致发光装置包括阳极、阴极和设置于阳极和阴极之间的有机层。
有机层包括至少发射层，而且除发射层之外还包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层。根据组成有机层、特别是组成发射层的材料，有机电致发光装置被分为高分子有机电致发光装置和小分子有机电致发光装置。
发射层应被构图来实现有机电致发光装置的全色显示，其中一种用于构图发射层的方法包括，在小分子有机电致发光装置的情况中一种使用阴影掩模的光刻工艺，以及在高分子有机电致发光装置的情况中一种喷墨印刷方法或一种使用激光的激光诱导热成像(Laser Induced Thermal Imaging，LITI)方法。LITI方法具有能够精细地构图有机层的优点，其应用于大的面积，且有利于高分辨率，而且LITI方法是干法工艺，而喷墨印刷方法则是湿法工艺。
通过LITI方法来形成有机层的图案的方法需要至少激光发生器、有机电致发光装置的基板和施主基板。在所述基板上构图有机层的方法包括的步骤为：将由激光发生器出来的激光束吸收到施主基板的光-热转换层中，使得将激光束转换为热能；将组成转移层的材料通过热能转移到所述基板上。在韩国专利申请No.1998-51844和美国专利No.5,998,085、No.6,214,520、No.6,114,088中公开了在基板上构图有机层的方法。
图1是用于解释根据现有技术的有机电致发光装置的制造方法的示意图。
参考图1，提供其上形成像素电极的基板110。随后，将其上形成有机层130的施主基板120层叠在形成于基板110的像素电极上。
通过利用激光辐射设备100来将激光束150辐射到施主基板120上，从而在形成于基板110上的像素电极上形成有机层图案。
激光辐射设备100包括激光发生器140、构图的掩模160和投影透镜170。将激光发生器140所产生的激光束150通过形成于激光发生器140的下部上的构图的掩模160来形成为具有期望的形状，以将激光束150辐射到施主基板110上，从而在基板110上形成有机层图案。
不是所有的由激光发生器140产生的激光束150均透过了经构图的掩模160。即，虽然辐射到掩模160的构图的部分上的激光束通过掩模160被辐射到投影透镜170上，但是辐射到掩模160的未构图部分上的激光束被掩模160所阻断。因此，为形成有机层图案，需要大量的包括被掩模160阻断的激光束在内的激光束。这毕竟存在激光束效率低下的问题。
发明内容
因此，为了解决现有技术的前述问题，本发明的一个目的是提供一种有机电致发光装置的制造方法，其能够当通过LITI形成有机层图案时通过使用衍射光学元件来改善激光束的能量效率，而且能够通过仅在替换掩模的情况下形成具有各种形状的有机层图案来减小成本。
为了实现上述的目的，本发明提供了一种有机电致发光装置的制造方法，所包括的步骤为：提供其上形成有像素电极的基板；将施主基板层叠到所述基板的前面；利用配备有具有衍射光学元件的激光辐射设备将激光束辐射到所述施主基板的预定的区域，从而在所述基板上形成有机层图案。
所述激光辐射设备包括：激光发生器；衍射光学元件，形成于所述激光发生器以下来衍射从所述激光发生器产生的激光束；构图的掩模，形成于所述衍射光学元件以下；和投影透镜，形成于所述构图的掩模下。
在所述像素电极上形成有机层图案的步骤是在氮气(N2)的气氛或在真空环境中执行的。
有机层图案是单层或多层，其选自发射层、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层。
附图说明
参考附图，通过详细地描述其示范性实施例，本发明的以上和其它特征和优点对于本领域的一般技术人员将变得更加显而易见，在附图中：
图1是用于说明根据现有技术的有机电致发光装置的制造方法的示意图；和
图2是用于说明根据本发明的有机电致发光装置的制造方法的示意图。
具体实施方式
现将参考附图，结合优选实施例来详细描述本发明。作为参考，在全部视图中，相似的附图标记指示相应的部分。
图2是用于说明根据本发明的有机电致发光装置的制造方法的示意图。
参考图2，提供了其上形成像素电极的基板110。随后，将在其上形成有机层130的施主基板120层叠到形成于基板110的像素电极上。通过真空吸附或压力辊将形成于施主基板120上的有机层130层叠到基板110上。
接下来，利用配备有衍射光学元件的激光辐射设备200将激光束250辐射到施主基板120上，从而在形成于基板110的像素电极上形成有机层图案。
所述激光辐射设备200包括：激光发生器240、衍射光学元件280、构图的掩模260和投影透镜270。
衍射光学元件280形成于激光发生器240之下，且预先设计来形成期望形状的有机层图案。作为利用光的衍射现象的光学元件的衍射光学元件280通过对于相应相位的方法调整透镜的焦点，其中，作为具有薄厚度元件的衍射光学元件280具有激光束通过折射透镜中相同的光路的相同的效应，这因为激光束以相同的相位到达像点，尽管当从激光发生器产生的激光束到达像点时，通过各自的路径的激光束不具有相同的光路。在除了光学特性的方面外，与折射元件比较，衍射光学元件280由于厚度薄而具有减小的体积和重量，易于通过简单的方法制备，且使衍射光学元件280通过诸如挤压成形的方法来大规模生产从而减小了制造成本。
衍射光学元件280衍射从激光发生器240产生的入射激光束250到掩模260的图案部分。因此，通过衍射光学元件280来衍射激光束，以使衍射的激光束通过掩模被辐射到投影透镜270上，其状态为激光束没有被掩模阻断，不同于常规地激光束被掩模阻断的状态。即，通过形成有机层图案却没有从激光发生器240产生的激光束250的损失来改进了激光束的能量效率。
另外，因为衍射光学元件280应当相应于图案被再次制造来形成各种形状的有机层图案，所以衍射光学元件280的制造工艺变得复杂，且增加了衍射光学元件280的制造成本。但是，通过仅将掩模260制造为相应于期望图案而将衍射光学元件280保持为原状，根据本发明的有机电致发光装置280的制造方法简化了制造工艺且减少了制造成本。
在由衍射光学元件280衍射的激光束255通过形成于衍射光学元件280之下的投影透镜折射之后，通过将激光束辐射到施主基板110上，从而在基板110上形成有机层图案。
形成有机膜层的工艺可以在氮气(N2)气氛下执行。转移工艺可以在去除氧的氮气氛下执行，因为具有由于普通的气氛中存在由氧引起的氧化被转移的有机层图案的可能性。另外，可以在真空环境下执行转移工艺来抑制在前述的层叠工艺期间在施主基板和基板之间产生的气泡的效果。
在转移工艺中形成的有机层图案可以是单层或多层，其选自发射层、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层。
在执行形成有机层图案的转移工艺之后，通过在有机层图案上形成阴极来完成有机电致发光装置。
如上所述，根据本发明的有机电致发光装置的制造方法具有的优点为：当通过LITI形成有机层图案时，通过利用衍射光学元件改进了激光束的能量效率；和当形成具有各种形状的激光束来制造有机电致发光装置时，通过仅替换掩模来简化有机电致发光装置的制造工艺和减少有机电致发光装置的制造成本。
虽然参考其优选实施例具体地显示和描述了本发明，然而本领域的一般技术人员可以理解在不脱离本发明的精神和范围内，可以对形式和细节进行上述和其它变化。
本申请要求于2004年9月23日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.2004-76674的权益，其全部内容引入于此作为参考。

Claims (5)

1、一种有机电致发光装置的制造方法，包括：
提供其上形成有像素电极的基板；
将施主基板层叠到所述基板的前面；和
利用激光辐射设备将激光束辐射到所述施主基板的预定的区域，从而在所述基板上形成有机层图案。
2、根据权利要求1所述的方法，其中，所述激光辐射设备包括：激光发生器；衍射光学元件，形成于所述激光发生器以下来衍射从所述激光发生器产生的激光束；构图的掩模，形成于所述衍射光学元件以下；和投影透镜，形成于所述构图的掩模下。
3、根据权利要求1所述的方法，其中，在所述像素电极上形成所述有机层图案是在氮气的气氛下执行的。
4、根据权利要求1所述的方法，其中，在所述像素电极上形成所述有机层图案是在真空环境中执行的。
5、根据权利要求1所述的方法，其中，所述有机层图案是单层或多层，选自发射层、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层。
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