CN1741328B - 二极管泵浦激光器 - Google Patents

二极管泵浦激光器 Download PDF

Info

Publication number
CN1741328B
CN1741328B CN2005100908972A CN200510090897A CN1741328B CN 1741328 B CN1741328 B CN 1741328B CN 2005100908972 A CN2005100908972 A CN 2005100908972A CN 200510090897 A CN200510090897 A CN 200510090897A CN 1741328 B CN1741328 B CN 1741328B
Authority
CN
China
Prior art keywords
laser
booster element
diode
laser device
wavelength
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2005100908972A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1741328A (zh
Inventor
雷刚
查尔斯·安迪·赫尔斯
文森特·伊谢
Jr. 理查德·A.·布拉德利
罗伯特·G.·瓦阿斯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Flex Products Inc
Viavi Solutions Inc
Original Assignee
Flex Products Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Flex Products Inc filed Critical Flex Products Inc
Publication of CN1741328A publication Critical patent/CN1741328A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1741328B publication Critical patent/CN1741328B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/0941Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
    • H01S3/09415Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/0602Crystal lasers or glass lasers
    • H01S3/0604Crystal lasers or glass lasers in the form of a plate or disc
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/0602Crystal lasers or glass lasers
    • H01S3/0612Non-homogeneous structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/0627Construction or shape of active medium the resonator being monolithic, e.g. microlaser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08018Mode suppression
    • H01S3/08022Longitudinal modes
    • H01S3/08031Single-mode emission
    • H01S3/08036Single-mode emission using intracavity dispersive, polarising or birefringent elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08054Passive cavity elements acting on the polarization, e.g. a polarizer for branching or walk-off compensation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/106Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/108Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using non-linear optical devices, e.g. exhibiting Brillouin or Raman scattering
    • H01S3/109Frequency multiplication, e.g. harmonic generation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/11Mode locking; Q-switching; Other giant-pulse techniques, e.g. cavity dumping
    • H01S3/1123Q-switching
    • H01S3/113Q-switching using intracavity saturable absorbers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

本发明提供一种直接边缘耦合的二极管泵浦激光器。所述激光器包括微晶片激光腔室,所述微晶片激光腔室由激光二极管进行光学泵浦,发射散光泵浦光束,所述光束在激光二极管输出面具有实质上为椭圆形的光束截面。所述微晶片激光腔室被设置于距离所述激光二极管泵浦超过25.4μm处,在此,所述散光泵浦光束的椭圆率被大大缩减,以提供高激光输出效率,而无需在所述激光腔室和激光二极管泵浦之间耦合透镜元件。该泵浦设置有利于单模激射。在一些实施例中,该激光腔室包括用于腔内SHG的非线性晶体,用于被动Q开关和锁模的饱和吸收器,和偏振棱镜。

Description

二极管泵浦激光器
本发明要求于2004年12月15日提出的,申请号为11/012,362,题目为“二极管泵浦激光器”的美国专利申请的优先权,所述美国专利申请要求于2004年8月23日提交的,申请号为60/603,802,题目为“具有对接耦合泵浦源的单频率二极管泵浦微晶片激光器/带有腔内偏光器的低噪声单片微晶片激光器”的美国临时专利申请的优先权,通过参考将上述两项专利申请合并到本发明中。
技术领域
本发明涉及一种二极管泵浦固体激光器,尤其涉及端泵浦微晶片固体激光器,所述二极管泵浦是在没有中间的光束聚焦或校准元件的情况下进行。
背景技术
二极管激光器作为泵浦源被广泛应用于固体激光器装置中。它们的特点是效率高,紧凑,并且可以得到几种红色和近红外波长。然而将二极管激光器作特殊用途时有很多困难。特别地,大多数高功率商业用泵浦二极管为边射型,且具有矩形波导,所述矩形波导具有相当高的纵横比;因此,这些二极管发射具有椭圆截面和伴随散光的高度发散的输出光束。激发光束的椭圆率和散光可能会损害泵浦效率,应用在具有近似高斯强度分布的圆对称输出激光光束中,这就特别突出。
因此,在大多数二极管泵浦固体激光器的应用中,各种各样的光束纠正透镜元件被广泛用来将二极管激光器光束耦合进入激光增益介质,以缩减或纠正散光,且将二极管的椭圆输出光束转变成具有圆形截面的准直或聚焦光束。这些透镜元件典型地包括GRIN透镜,非球面透镜,变形棱镜对,微圆柱透镜,单模光纤等中的至少一个。尽管使用这些耦合光学元件能够更好地使泵浦体积和主要激光模式符合,但是需要附加校准步骤,从而使制造过程变得复杂,且增加了激光器成本。因此,提供一种不使用透镜元件的二极管泵浦激光器将是有利的,所述透镜元件用于为激发光束定型和将激发光束耦合进入增益介质。
狄克逊(Dixon)的专利号为4,847,851的美国专利公开了一种单一横向模式的二极管泵浦激光器,其中半导体泵浦激光器被对接耦合到激光增益介质的输入端面,从而它们间隔“小于25.4μm”;所述增益材料具有小于500μm的小的吸收长度,并可以利用折射率匹配光学接合剂而结合到二极管泵浦的输出端面。如果所述泵浦激光器具有相对窄的波导,使得所述泵浦光束发射孔径足够小,那么这种结构可以提供充分小的泵浦模式体积,以支持单一横向模式并能够使单空间模式运行。
然而,因为增益材料的泵浦区域的椭圆截面不能与具有圆对称的主要激光模式匹配,这种结构的输出激光效率可能要减小.所述对接耦合泵浦设置也可能限制发射孔径范围和可以用于泵浦激光器二极管的单模运行的泵浦激光器二极管的纵横比;与激光晶体块对接耦合的具有又宽又薄的发射孔径的高功率激光二极管,可以激发充分宽的模式体积,从而引起在激光输出中出现高阶空间模式,或者导致非圆形的激光输出光束.所述对接耦合泵浦设置的另一个缺点是它要求泵浦二极管激光器和激光晶体块在装配期间要非常接近,这样就带来了损坏所述激光二极管输出端面的危险,同时降低了制造出良好的激光器的产量.
本发明的一个目的就是提供一种二极管泵浦激光器装置,所述装置具有优化的激射效率(lasing efficiency),而无需在增益元件和泵浦二极管之间配置透镜元件。
本发明的另一个目的是提供一种二极管泵浦激光器装置,所述装置发射具有基本上为圆对称形状的主要激光模式,而无需在增益元件和泵浦二极管之间配置透镜元件。
发明内容
根据本发明,提供一种激光器装置,包括:激光二极管,所述激光二极管具有输出光发射面,以沿着光轴方向以第一波长发射散光泵浦光束,所述散光泵浦光束在所述激光二极管的输出面处具有椭圆的非圆形截面,且在垂直于所述光轴方向的第一平面上具有圆形截面;和,具有第一端和第二端的增益元件,所述增益元件沿着所述光轴的方向而设置,用于通过第一端接收泵浦光束和通过第二端以第二波长发射激光光束,其中所述第一端距离所述激光二极管的输出光发射面至少25.4μm(0.001英寸),而无需在其间配置透镜元件;其中所述增益元件的第一端位于所述激光二极管和第一平面之间。
根据本发明的另一个方面,所述泵浦光束在其上具有基本上为圆形的截面的第一平面位于所述增益元件内。
根据本发明的另一个方面,所述激光二极管的输出面和所述增益元件的第一端之间的距离l在30μm和170μm之间。
根据本发明的另一个方面,所述激光器装置包括沿着所述光轴布置的第一和第二反射器,在所述第一和第二反射器之间设有增益元件,以形成的具有第二波长的激光器腔室,其中位于所述增益元件和所述激光二极管之间的所述第一反射器对于所述第一波长是透射的,对于所述第二波长是反射的。
根据本发明的另一个方面,所述激光器装置还包括非线性光学元件,所述非线性光学元件沿着所述光轴设置于所述增益元件和所述第二反射器之间,用于接收激光光束和提供次级光束,通过非线性频率转换,所述次级光束具有短于第二波长的第三波长,所述光学非线性元件和增益元件粘接在一起,以形成单块,其中第一和第二反射器包括薄膜镀膜,所述薄膜镀膜形成于所述增益元件的第一端和非线性元件的远端。
根据本发明的另一个方面,所述激光器装置包括饱和吸收器,所述饱和吸收器沿着光轴方向设置于所述增益元件和第二反射器之间,以激活所述激光器装置的被动的Q开关或者锁模和用于提供具有第二波长的脉冲光束。
根据本发明的另一个方面,所述非线性元件具有双折射功能,所述激光器装置还包括偏振棱镜,所述偏振棱镜设置于所述增益元件和非线性元件之间,以形成腔内利奥滤光器。
根据本发明的另一个方面,所述增益元件是Nd:YVO4晶体,所述非线性元件是KTP晶体。
根据本发明的另一个方面,所述泵浦光束的纵横比在激光二极管的输出面处为不小于20,在所述增益元件的输入端为不大于6。
根据本发明的另一个方面,所述增益元件的第一端与激光二极管的输出面的距离为至少25.4μm,选择所述距离以优化所述激光装置的输出效率和所述激光光束的形状中的至少其中之一,而无需在所述激光二极管和增益元件之间设置准直和聚焦元件.
附图说明
本发明的实施例将结合以下附图进行描述:
图1是本发明的激光器的示意图,所述激光器使用了腔内二次谐波发生技术。
图2是散光泵浦光束的示意图。
图3是曲线图,表示大和小泵浦光束直径相对传播长度的变化。
图4是一套图,表示泵浦光束的沿着光轴的截面形状。
图5是实验曲线,表示激光输出功率相对激光器-泵浦距离的变化。
图6是本发明包括偏振棱镜的二极管泵浦激光器的示意图。
图7是本发明包括饱和吸收器的二极管泵浦激光器的示意图。
具体实施方式
本发明是一种直接耦合的二极管泵浦激光器,利用高功率激光二极管泵浦发射散光和发散的泵浦光束,所述泵浦光束在激光二极管泵浦输出面具有椭圆截面,其中激光器晶体被设置于距所述激光二极管泵浦处超过25.4μm处,而无需在激光晶体和激光二极管泵浦之间耦合透镜元件,所述泵浦光束在此处就具有实质上圆形的截面。所述散光泵浦光束无需事先进行重新光束定型,就直接被耦合进入所述激光器晶体,以在激光器晶体中提供泵浦光束,这样所述散光泵浦光束就在空间上匹配于主要激光模式,从而得到最佳的激射效率和圆对称的输出激光光束。
如图1所示为本发明的直接耦合的二极管泵浦激光器的示例性实施例,并在下面进行描述。
具有第一端21和第二端22的增益元件20沿着光轴5而设置。非线性光学元件30按顺序位于增益元件20的后面,并且和所述增益元件20的第二端22光学结合在一起,以形成单片块230。在其他的实施例中,所述增益元件20和所述非线性光学元件30通过本领域熟知的技术彼此固定地粘结在一起,例如,它们可以通过光学接触和/或通过外部固定装置使彼此粘结或连接在一起。当所述增益元件20以波长λ1被光学泵浦时,其在波长λ2处表现出激光跃迁;所述两个波长λ1和λ2在以下被称为第一波长和第二波长,或者分别被称为泵浦波长和激光波长。在本实施例中,所述非线性元件30通过二次谐波产生技术(SHG)用于光学倍频,并且在激光频率λ2处是相位符合的。
所述增益元件20的第一端21和所述非线性光学元件30的远端31具有薄膜光学镀膜,在所述单片块230的两端分别形成两个反射器23和33,所述反射器23和33可以由本领域熟知的技术制成,两个反射器对于波长λ2都是反射的,从而在两者之间形成波长为λ2的激光腔室。所述第一反射器23对于第一波长λ1是透射的,使所述光学泵浦能够进行,而第二反射器33对于第三波长λ3是透射的,所述第三波长λ3小于第二波长λ2,在本实施例中为λ2/2。在其相对端具有第一反射器23和第二反射器33的所述单片块230形成微晶片激光腔室,以下也称为微晶片激光器230。
在以下的说明中,将集中介绍一个实施例,其中所述增益元件20为一小型Nd:YVO4激光晶体块,尺寸为1×1×0.5mm,其中0.5mm是它沿着光轴5的长度尺寸,所述非线性元件为KTP晶体块,尺寸为1×1×2mm,所述非线性元件是相位匹配的,以实现倍频。作为一个例子,所述材料的选择可以按照波长λ1~809nm,λ2~1064nm,λ3~532nm,最后一个波长为绿光的波长。其他的非线性材料,像MgO:LiNbO3,在其他实施例中可以用于非线性晶体30;类似地,其它掺杂的晶体可以用于所述增益元件20。
激光二极管泵浦10位于所述增益元件20的前面,与所述增益元件之间形成一定的距离,以光学泵浦所述增益元件。所述二极管泵浦10具有活性层15,和输出光发射面11,所述输出光发射面11被定位,使得所述增益元件20的第一端21面向泵浦二极管10的输出光发射面11,其间的缝隙13的宽度l>25.4μm。所述缝隙13的宽度在图1中没有按比例表示,在下面的叙述中将其称为泵浦一激光器距离。在本发明中所述距离的选择至关重要,后面将对其详细说明。根据本发明由所选的缝隙13分开的所述微晶片激光器230和所述二极管泵浦10,形成直接耦合的激光装置100。例如,所述泵浦二极管10为商业用高功率激光二极管SDL2360,这可以从JDS尤尼弗思公司获得。
在操作中,所述激光二极管泵浦10沿着光轴5发射散光泵浦光束18。所述散光泵浦光束18的光谱以第一波长λ1为中心而分布。所述泵浦光束18具有椭圆截面,在紧接着所述输出光发射面11并与所述输出光发射面同平面的平面上具有高纵横比。所述散光光束18投射在所述增益元件20的第一端21上,并通过所述第一端21耦合,而无需在所述激光二极管10和所述增益元件20之间设置任何聚焦或准直光学元件。所述光束18在所述增益元件20中被吸收,从而以第二波长λ2提供正的光学增益,通常称为光学泵浦。响应于所述散光光束18对所述增益元件的光学泵浦,激光光束28在所述增益元件20内产生,所述激光光束28具有以第二波长λ2为中心的光谱分布。所述激光光束28从所述增益元件20发射通过第二端22进入非线性元件30,朝向第二反射器33的方向传播,并且从那里被反射以提供对所述增益元件20的反馈,从而能够以第二波长发射激光。
在所述非线性光学晶体30中的传播期间,所述激光光束28以所述第三波长λ3激发二次光束38,其中λ3<λ2,所述激发可以利用已知的非线性频率转变机制比如SHG来实现。所述二次光束38从激光腔室输出,通过所述非线性元件30的远端31,形成激光输出。举一个例子,在本实施例中,所述微晶片激光器230通过非线性元件30的腔内SHG的方式,产生绿光,其波长λ3=λ2/2~532nm。
在另外的实施例中,所述非线性元件30可以被移除,所述输出激光反射器可以在所述增益元件20的第二端22处被形成,所述输出激光反射器对于波长λ1部分反射,从而以第一波长λ1输出激光光束28。
本发明的激光装置的一个主要区别特征就是所述激光二极管10和所述增益元件20的耦合排列,这与现有技术中相应的排列明显不同。现有技术中的具有边泵浦的二极管泵浦激光器,使用聚焦或者成像光学透镜元件以定型所述泵浦光束,并将所述泵浦光束其耦合进入增益介质,或者依靠下面将要介绍的对接耦合排列。在与现有技术的泵浦排列的重要区别中,根据本发明的二极管泵浦被设置于距离所述增益元件的位置l>25.4μm处,所述位置l实质上经过特别挑选,而无需在二极管泵浦与所述增益元件之间设置任何成像、聚焦或准直透镜元件,在这样的排列中,无需复杂的光学校准就能实现高泵浦效率和简化制造。
狄克逊的专利号为4,847,851的美国专利公开了一种二极管泵浦激光器,其中激光二极管和增益介质被对接耦合,其中,“对接耦合”意味着充分接近地耦合,即小于25.4μm,从而所述光学泵浦辐射的发散光束在具有充分小的横截面积的介质中光学泵浦模式体积,从而支持基本上为单一横向模式的激光运行,即TEM00模式运行。所述专利还公开了实施例,其中所述增益介质和所述激光二极管在各自面上粘合或以其他方式彼此结合在一起。
然而,使所述激光二极管和所述增益元件之间的距离超过25.4μm是有利的,理由如下:
第一,所述激光二极管和所述增益元件之间的距离超过25.4μm,可以有助于避免在所述激光器装配和制造过程中所述激光二极管面的意外损坏,同时简化大规模生产中激光器的装配。
第二,可以方便地用于光学泵浦的高功率激光二极管具有较宽的活性层,可以达到100μm甚至更宽,和又宽又薄的发射孔径。因此,高功率激光二极管可以发射宽的泵浦光束,所述泵浦光束在紧靠所述激光二极管的输出面附近具有高的椭圆度,或者称为纵横比。如果所述增益元件对接耦合于所述激光二极管,所述泵浦光束的大的宽度和高的纵横比使得所述泵浦光束在所述增益元件的第一部分内与主要的激光模式的匹配很差,所述主要激光模式具有圆形截面。如果所述增益元件的第一部分提供净光学增益的主要部分,则所述对接耦合结构可能负面地影响所述主要模式的光学增益系数。所述泵浦光束的高椭圆率也可以导致非圆形激光模式,所述非圆形激光模式具有与所述泵浦激光二极管相同方向上的模式体积延长,导致一定程度的激光输出光束的椭圆率,这在应用中可能是不可接受的。
然而,当所述二极管-激光器距离超过25.4μm时,所述泵浦光束变得更圆并且与主要激光模式更好地匹配,后面将对此进行详细介绍,并且对于典型的高功率激光二极管而言,最佳的能提供最好的激射效率和/或最好的椭圆率的二极管-激光器距离超过25.4μm,最佳距离的精确数值取决于所述激光二极管的发射特性。在大多数情况下,我们发现所述最佳距离在~30μm至170μm之间,然而,可能有某些特殊的激光器设计方案,其中所述最佳距离将会超出这一范围。
为了便于理解本发明的所述泵浦排列,下面将参照图1和图2所示的笛卡儿坐标系(x,y,z)对所述激光二极管发射的基本特征进行讨论。在所述坐标系下,z轴为沿着光轴5的方向,x轴沿着激光波导层15的方向,位于二极管输出面11所在的平面中,并垂直于图1所在的平面,y轴为垂直于所述波导层15的方向。所述x和y轴的方向一般被称为所述激光二极管波导的侧向和横向;后面的具体说明中,它们也分别被称为垂直和水平方向。所述二极管输出面11位于z=0时的(x,y)平面,或者用一个符号将z=z’所在的(x,y)平面记作(x,y)z’,则位于(x,y)0平面。在图1中,所述高功率的二极管泵浦10位于(y,z)x=0截面上,所述截面垂直于所述活性波导层15。
处于沿着光轴5的某个位置上的“光束形状”或者“光束截面”这两个术语,在此可以替换使用,意味着是在(x,y)z平面上的等强度轮廓所包围的形状,其中所述等强度轮廓表示在(x,y)z平面上的轮廓,沿着所述平面,所述光束强度为常数,并且构成该平面上的最大光束强度的某一特定部分ε<<1;在高斯光束的情况下,典型地,ε=1/e2
在高功率的边发射激光二极管10中,所述光发射由电流引起,所述电流经过又薄又宽的半导体波导层15,所述波导层一般包括活性量子井结构,图1示出所述波导层的垂直截面。在垂直方向所述波导层的高度h一般是1微米或更小,或者与所述泵浦波长λ2处于同一数量级,提供了垂直于所述波导层15的y方向上的单一横向模式导引。然而,所述波导层的宽度w,即沿着垂直于图1所在的平面的x方向的波导层的横向尺寸,一般大到几十甚至到几百微米。众所周知,由这样一种激光器发射的光束是高度散光的,即所述光束在活性层平面(x,z)0和垂直于所述活性层的(y,z)0平面上的发散是不同的,并且具有非球形的波阵面,所述波阵面在侧向平面(x,z)和横截平面(y,z)上有不同的焦点。
图2为所述泵浦光束18的3D示意图,所述泵浦光束由高功率的激光二极管10发射。矩形条105为激光二极管波导15的光束发射端,所述端位于所述激光二极管输出面11上;所述输出面11本身没有在图2中示出。由于在活性波导层15内的激光二极管的辐射泄漏进入周围的半导体中,所述泵浦光束18在所述二极管输出平面11上具有大致椭圆的截面,稍大于所述光束发射条105。所述光束截面在图2中通过阴影椭圆115表示,所述椭圆在侧向具有大直径dx0,在横向具有小直径dy0,其中dy0稍大于波导层厚度h,并且,dx0>>dy0~1...2λ1。在沿着光轴5的每一个(x,y)截面上,所述光束的形状大致为椭圆形状,所述椭圆形状沿着x方向和沿着y方向的直径分别为dx和dy,所述直径由相应的部分光束强度水平ε决定。所述发散光线对125,130和135,140分别代表所述在(z,y)x=0和(z,x)y=0平面上的光束边界,所述边界由相同的部分强度水平ε来定义。
沿着x和y方向的光束发散角分别为θx和θy,在图2中由箭头170和175示出。如前所述,在侧向和横向上的光束尺寸的大的差异使得光束发散,从而平面(y,z)中的光束发散角θy比平面(x,z)中的光束发散角θx大得多,如图2所示。
在垂直方向上所述泵浦光束典型地由单一主要横向模式构成,并具有近似高斯强度分布,所述横向发散角θy主要由横向y上的光束折射而确定。在侧向x方向,所述激光光束为多模式,可能具有非高斯的强度分布,并经常伴随侧向双波瓣远场结构。侧向光束发散角θx主要由于光束的侧向模式决定而不是由折射决定,不过在实质上小于θy
从而所述激光二极管10典型地产生单一横向模式和多个侧向空间模式,生成在横向具有近似高斯场分布的泵浦光束18,并且所述泵浦光束18在侧向具有更加复杂的多模形式,发散角θy>θx,在其它实施例中,所述泵浦光束可以有不同的模式结构,但是它仍然是在侧向和横向具有不同的发散角的散光。
当所述泵浦光束18沿着光轴5传播时,所述垂直光束直径dy比侧向光束直径dx以更快的速度增加,所述光束的形状从沿着x轴伸长的椭圆105,变化到沿着y轴伸长的椭圆145。在距离所述激光波导的光束发射端为lc的某一特定位置处,所述散光光束18具有近似圆形的截面120,所述截面在这里被称作是最小模糊圈(CLC)。
现在参照图3,直线1和直线2分别表示垂直光束直径dy和侧向光束直径dx沿着光轴作为坐标z的函数,或与所述激光二极管面21的距离,所述直线可用来估计用于空气中传播的商业用高功率激光二极管SDL2360,所述二极管可从JDS Uniphase公司获得。所述泵浦激光二极管具有发射孔径,尺寸为w=100μm,h=1μm,总的发散角度θx=12°,θy=32°。图3中的垂直直线4表示CLC的位置,即沿着光轴5的位置z=lc处,其中dx=dy,对于这种类型的激光二极管,如果所述泵浦光束18在自由空间中传播,所述位置与所述激光二极管面21的距离大约为lc~280μm。曲线3表示激光光束的椭圆因子e,也称作是光束纵横比,定义为e=max{dx,dy}/min{dx,dy},所述因子在z=lc=280μm处达到最小值1,对应于圆形光束截面。所述泵浦光束直径在CLC位置处约为158μm,对应于e=1。
所述曲线1,2和3被计算以假定所述泵浦光束直径与传播距离的线性关系,这与实际的自由空间光束传播特性近似。在横向,所述泵浦光束强度曲线大致可以用一个高斯函数描述,已知的高斯光束传播公式可以用来描述当光束沿着光轴5传播时光束直径dy的变化:
d y = d y 0 [ 1 + ( M 2 z z Ry ) 2 ] 1 / 2 - - - ( 1 )
其中,为所述光束在y方向的瑞利范围,M2为因子,以描述所述光束轮廓在y方向与单一模式的高斯光束的偏移。例如,对于SDL2360激光二极管,zRy~2μm。
所述瑞利范围广泛应用于高斯光束以区分激光光束传播中所谓的远场和近场区域;在远场区域,z>>zRy,这是本发明中所述泵浦-激光器距离l的感兴趣的范围,如计算如图3中所示的相关性时所假定的那样,所述光束直径dy大致与距离呈线性关系,且所述光束18在y方向根据折射所定义的发散角θy而产生发散,所述发散角θy满足下面的关系(2):
θ y = 4 M 2 λ π d y 0 - - - ( 2 )
其中,θy用弧度表示。
所述光束沿着x方向的轮廓与高斯形状相差很远,所述光束的侧向发散主要取决于它的侧向模态大小而不是折射,并且可以实质上独立于所述波导宽度w。对于前面提到的激光器参数dx0~w=100μm,dy0~h=1μm和λ~0.81μm,用在上文中的线性光束发散的远场近似值对于所有的距离所述激光端面z>10μm无论在侧向还是横向都是正确的,这一点在本发明中非常重要。
举例来说,图4表示出泵浦光束18的五种截面,所述光束由激光二极管SDL2360发射。在图4中所述光束的5个截面形状分别标记为S0,S1,S2,S3,和S4,所述截面利用一种商业用的光线跟踪轨迹计算软件Zemax计算得到;所述软件可以由已知的平面上的光线分布来计算沿着光轴的任意位置上的近似光线分布。图4中平面S0到S4位于5个与激光器端面的距离逐渐增加的位置处,所述距离分别为0μm,200μm,280μm,360μm和460μm,用S0标记在激光器端面处的近似的光线分布。根据图4所示的结果,所述激光二极管光束在平面S2处具有近乎严格的圆形截面,平面S2距离所述二极管端面大约280μm,这与图2所示的泵浦光束18的截面120相对应。大于这个距离,即z>lc,所述光束的截面又变成椭圆形状,但是大直径位于y方向。在以下叙述中,所述平面S2被称为第一平面或者CLC平面,它沿着光轴5所在的位置被称为第一位置或者CLC位置,所述距离lc为第一距离或者CLC距离。
再回到图1,所述图没有按比例画出,根据本发明,所述增益元件沿着光轴5,以使得所述增益元件20的第一端21位于所述激光二极管10的输出面11和所述CLC平面之间,并且与所述输出面11之间的距离l大于25.4μm:
25.4μm<l<lc    (3).
如前所述,在所述激光二极管和所述增益元件之间无需附加耦合光学元件的结构具有几个重要优势:
与现有技术中对接耦合的l<25.4μm的结构相比,激光二极管或增益元件在激光器装配中由于彼此碰撞而受损的可能性将大大降低,在最终的装配结构中,它们的距离超过25.4μm,或者大约为25μm,因此潜在地增加了良好的激光器的产量。
其次,将所述增益元件放置在远离激光二极管并更接近CLC的位置,在所述CLC位置泵浦光束具有圆对称形状,从而与现有技术中对接耦合的结构相比,本发明的结构能够提供更加圆对称的增益元件的泵浦,同时可以将激光模式与泵浦光束更好地空间匹配。这种空间匹配的对于下面两点非常重要:a)增加所述激光器100的泵浦效率,b)获得近似高斯单模激光光束28,所述光束具有关于所述光轴的圆对称性。
事实上,在图1所示的面-面结构中,其中所述激光腔室由两个平面反射器23和33形成,所述激光光束28受所述增益元件的光学增益的空间分布的影响,同时受所述增益元件中热透镜的影响,所述透镜的热效应由于所述泵浦光束的热源非辐射吸收而产生。所述两个因素为所述激光光束28提供折射率波导和增益波导的组合,并且两种波导元件都受所述泵浦光束的形状的影响。所述泵浦光束越圆对称,所述增益分布就越圆对称,在垂直于光束传播方向的(x,y)平面上的热透镜的就更加接近圆形,从而导致生成的激光光束28的形状越圆。
根据本发明提供的优选实施例,设置所述微晶片激光器230,使得所述CLC位置在所述增益元件20内的第一端21和第二端22之间。在这种结构中,沿着所述增益元件20的所述泵浦光束的形状变化被优化以限制所述泵浦光束在所述增益元件中的椭圆率,从而使所述泵浦光束沿着所述增益元件的大部分的形状近似为圆形。所述近似圆形的泵浦光束充满所述微晶片230的腔室模态体积,使得所述激光器具有更高的效率。本发明受益于激光器晶体Nd:YVO4的大的增益系数,允许所述增益元件足够小,从而限制所述泵浦光束在所述增益元件中的发散对光束椭圆率的影响。对于所述微晶片激光器230,所述泵浦光束的散光并不重要,此处,折射率波导和增益波导的组合占主导地位,因此根据本发明制成的激光器装置,无需在所述增益元件和所述激光二极管之间附加散光校正光学元件。
除了泵浦光束的形状,影响所述激光二极管10和所述微晶片激光器230之间的距离选择的另外一个因素是所述泵浦光束的大小,或者所述增益元件中所述泵浦光束的截面大小,所述泵浦光束的大小由于所述泵浦光束的发散而随着泵浦-激光器距离l的增加而增加。增加的距离超过瑞利范围,就会增加增益元件中所述泵浦光束的截面尺寸,从而减小此处的泵浦功率密度,当在所述增益元件的第一端21处的泵浦光束的尺寸至少在一个方向上超出此处的激光光束的尺寸时,所述泵浦功率密度可以负面地影响所述增益元件中的光学增益,并减弱所述热透镜。然而,潜在的增加所述泵浦-激光器距离l的负面影响可以通过有利地改进泵浦光束的圆形度来避免,这样得到超过25.4μm的最佳距离,或者对于典型的激光二极管优选距离为30μm到170μm之间。
所述增益元件和所述激光二极管之间的距离l的具体的选择,取决于所述泵浦光束的特性,所述增益元件的特性,以及所需的所述微晶片激光器的优化特性.在优选实施例中,所述激光二极管和所述微晶片激光器之间的间隙l通过选择以优化所述微晶片激光器的输出效率χ,其中,定义χ=Pout/Pump,这里Pump为泵浦功率,Pout为所述微晶片激光器的输出功率。在如图1所示的实施例中,Pout为次级SHG光束38的功率。在另一实施例中,所述激光光束28的输出没有经过非线性频率变换,Pout为所述激光光束28的输出功率。
在这个优化输出效率实施例中,所述激光二极管10和微晶片激光器230之间的最佳距离l,例如可以通过测量在逐渐增加微晶片激光器和激光二极管间的距离时的Pout来发现,同时维持所述输出泵浦功率恒定,记录测量值Pout,并确定对应于最大记录Pout值或者内插Pout值的距离l。或者,所述最佳距离也可以通过计算机模拟得到。
图5所示为所述次级光束38的输出功率P2相对距离l的实验曲线,所述距离l为所述激光二极管10的输出面11和所述增益元件20的输入端21之间的距离。所述次级光束38由非线性元件30中的激光光束28经过非线性倍频得到。上述实施例中的测量利用型号为SDL2360的激光二极管作为所述泵浦10,尺寸为1×1×0.5mm的小型Nd:YVO4激光晶体作为所述增益元件20,与所述激光晶体20光学结合的尺寸为1×1×2mm的KTP晶体作为所述非线性元件30。所述次级光束38的输出直径接近90μm,表明激光光束28在所述增益元件中具有大约为130μm的直径,由于SHG机构的非线性特性,所述激光光束28的直径大于次级光束的直径,并且与CLC平面中的直径约为158μm的泵浦光束近似匹配。所述泵浦光束的功率在测量中保持恒定为Pump=140mW。
图5清楚地表示所述激光器的输出效率依赖距离l的变化的峰值,所述距离l为所述微晶片激光器230和所述激光二极管10之间的缝隙13的宽度,在所述特定的结构下,当微晶片激光器230距离所述激光二极管10大约为l~130μm时出现所述峰值。作为优选方案,将缝隙13的的宽度从小于25μm增加到130μm将会提高所述激光输出效率χ约8-10%。当所述二极管-激光器距离l在大约50到150μm之间的范围时,所述激光输出效率与最佳值相差在5%以内。
在一些实施例中,所述距离l可以选择为稍微小于本实施例中的实验最佳值130μm,以解决在超出最佳值距离范围之外的激光器参数的变化和激光效率的相对急剧下降的问题,这从图5可明显看出。
根据图3和4,对于所述泵浦光束18在空气中的传播,所述CLC位置距离所述激光二极管的输出面11大约为280μm.然而,所述泵浦光束在进入所述增益元件20后根据斯涅尔定律而减小发散,或者近似与所述增益元件的相应的折射率成比例,从而将所述CLC位置偏移而进一步离开所述激光二极管.对于前述的最佳效率的实施例,其中所述泵浦-激光器缝隙13的宽度l约为130μm,所述CLC位置距离所述增益元件20的输入端21近似为300μm,并与第二端22更加接近.具有好处的是,在本实施例中,所述泵浦光束18的椭圆率e在所述激光二极管10的输入面11上超过20,到所述增益元件20的任意位置时减小到小于2,在增益元件20的超过80%的长度范围内小于1.5.在其它实施例中,所述激光光束的圆对称性非常重要,因此进一步增加距离l是有利的,从而所述CLC位置在所述增益元件20的前半部分内并更加接近第一端21,这样进一步减小了在所述增益元件中的所述泵浦光束的椭圆率.在其它的实施例中,我们发现,如果所述泵浦光束18的纵横比因而从所述激光二极管端面11处的至少20减小到所述增益元件20的第一端21处的最多不超过6,那么,将所述激光二极管10定位于远离所述增益元件20至少25.4μm就可以有利于所述激光输出效率的提高.
本发明中所述泵浦结构利用发散的而不是经准直或聚焦的泵浦光束18,这对于单一纵向模式运行是有利的,并且尤其适合在泵浦波长处具有非常高的吸收系数的激光器晶体,比如像Nd:YVO4晶体。本领域的一般技术人员将会发现,如果所述增益介质被牢固地定位于接近所述腔室的一个端而不是当它位于所述腔室的中心时,驻波激光器将典型地以单一纵向模式以更高的功率运行,这是典型由于在腔镜处所有共振腔模式的波腹相连结而产生的行为。
在本实施例中,能够获得单一模式运行的一个关键因素是较短的吸收深度而不是较短的腔室长度,相对较长的激光腔室在一些情况下可以用来在没有任何附加光学元件的情况下获得单一模式运行。因此本发明的泵浦设置对于在带有附加腔内元件的微晶片激光器中获得单一模式的运行方面具有优势,例如,具有如图1所示的腔内SHG的激光器装置,其中的所述微晶片激光器除了所述增益元件20之外,还包括所述非线性元件30,以用于二次谐波发生(SHG)。
参看图6,在另外个实施例中,所述单块230还包括饱和的吸收器250,所述吸收器位于所述增益元件20和所述非线性元件30之间,以用于被动Q开关或者被动锁模,此为本领域的现有技术。例如,所述饱和的吸收器250可以是掺铬的YAG晶体。
参看图7,另外一个实施例包括偏振棱镜260,如罗歇(Rochon)棱镜,所述偏振棱镜260插入所述增益元件20和所述非线性元件30之间,使用光学连接或其他上述的本领域的现有技术来将所述偏振棱镜固定在此处。由于所述实施例提供附加的腔内频率选择利奥滤光器,它有利于低噪声单模式发射激光,所述利奥滤光器由偏振棱镜和所述非线性元件30构成。本领域的技术人员将会看到,在本实施例中,所述非线性元件30具有光学双折射,用它的偏光轴与所述偏光器成45°角而定向。在本实施例的一个变化方案中,所述非线性元件30可以由线性的双折射波板代替,用于以第一波长λ1输出激光光束28。结合本发明特征的二极管泵浦激光装置的其他实施例可包括偏振棱镜和饱和吸收器两者,所述偏振棱镜和饱和吸收器串联设置于所述单块激光器腔室中,以能够实现被动Q开关或者锁模,和实现单模低噪运行。
如图1所示的和前面详细介绍过的实施例,利用一种特定型号的增益晶体和一种特定的非线性晶体。利用本领域熟知的其它型号的增益和非线性材料当然也是可以的。同时,利用具有不同的泵浦光束特性的激光二极管可能会改变所述最佳泵浦-激光器距离l。使用其它型号的激光二极管和增益元件可能具有范围为30μm至170μm的最佳的泵浦-激光器缝隙。在一些实施例中,透明间隔器可以被插入泵浦-二极管缝隙13中,以替代在所述激光二极管10和所述增益元件20之间具有宽度为l的空气缝隙作为缝隙13,例如,所述透明间隔器可以是一层具有零光学功率的透明材料,即,实质上具有无限的焦距长度,从而减少所述泵浦光束的发散,同时增加所述缝隙13的光学宽度。
在所有这些实施例中,通过减少所需的耦合光学元件,额外的准直步骤以及潜在地增加了产量,使得批量生产所述激光器的制造成本显著降低,同时提供具有最佳效率和圆对称的输出光束的二极管泵浦激光器。
当然,在不脱离本发明的精神和保护范围的前提下,可以得到很多其它的实施例。

Claims (14)

1.一种二极管泵浦激光器装置,包括:
激光二极管,所述激光二极管具有输出光发射面,以沿着光轴方向以第一波长发射散光泵浦光束,所述散光泵浦光束在输出面处具有椭圆的非圆形形状,且在沿着所述光轴的第一位置处具有实质上的圆形形状;
沿着所述光轴顺序设置的第一和第二反射器,在所述第一和第二反射器之间形成激光腔室;和
增益元件,所述增益元件径向沿着所述光轴而设置,位于所述第一和第二反射器之间,所述增益元件具有用于接收所述散光泵浦光束的第一端和以第二波长发射激光光束的第二端;
其中所述第一反射器包括薄膜镀膜,所述薄膜镀膜形成于所述增益元件的第一端,所述第一反射器对于所述第一波长是透射的,对于所述第二波长是反射的;
其中,从所述激光二极管发射出来的所述散光泵浦光束的纵横比在所述激光二极管的所述输出光发射面处为不小于20;并且,
其中所述增益元件的第一端位于所述激光二极管和所述第一位置之间,并且与所述激光二极管的输出光发射面间隔距离l在30μm至170μm之间,而无需在其间配置透镜元件,所述距离l使得所述散光泵浦光束的纵横比被缩减到在所述增益元件的第一端处为不大于6。
2.如权利要求1所述的激光器装置,其特征在于,所述第一位置位于所述增益元件的第一端和第二端之间。
3.如权利要求1所述的激光器装置,还包括非线性光学元件,所述非线性光学元件沿着所述光轴设置于所述增益元件和所述第二反射器之间,用于接收所述激光光束,和用于提供次级光束,通过非线性频率转换,所述次级光束具有短于第二波长的第三波长。
4.如权利要求3所述的激光器装置,其特征在于,所述第二反射器对于第二波长是反射的,对于第三波长是透射的。
5.如权利要求3所述的激光器装置,其特征在于,所述非线性光学元件和所述增益元件彼此固定地粘接在一起,以形成单块。
6.如权利要求3所述的激光器装置,其特征在于,所述非线性光学元件是双折射的,所述激光器装置还包括偏振棱镜,所述偏振棱镜沿着所述光轴位于所述激光腔室内,以与所述非线性光学元件一起形成腔内利奥滤光器。
7.如权利要求4所述的激光器装置,其特征在于,所述第二个反射器包括形成于所述光学非线性元件的远端的电介质镀膜。
8.如权利要求3至7中任意一项所述的激光器装置,其特征在于,所述非线性光学元件是KTP晶体。
9.如权利要求1至7中任意一项所述的激光器装置,其特征在于,还包括非线性吸收器,所述非线性吸收器沿着光轴设置于所述增益元件和所述第二反射器之间,用于激活所述激光器装置的被动Q开关和被动锁模的其中之一,并用于提供具有所述第二波长的脉冲光束。
10.如权利要求1至7中任意一项所述的激光器装置,其特征在于,还包括透明间隔器,所述透明间隔器位于所述激光二极管的输出面和所述增益元件的第一端之间。
11.如权利要求1至7中任意一项所述的激光器装置,其特征在于,所述增益元件是Nd:YVO4晶体。
12.如权利要求1至7中任意一项所述的激光器装置,其特征在于,所述散光泵浦光束在增益元件内发散,从而在第一反射器处提供最大光学增益,以支持所述激光光束具有单一径向模式。
13.如权利要求1至7中任意一项所述的激光器装置,其特征在于,所述距离l的范围为50μm到150μm之间。
14.如权利要求1至7中任意一项所述的激光器装置,
其特征在于,所述散光泵浦光束具有纵横比,所述纵横比从在所述激光二极管的输出面处的不小于20缩减到在所述增益元件的第一端处的不大于6;并且,
其中,选择所述距离l以优化所述激光器装置的输出效率和所述激光光束的形状两者中的至少一方面,而无需在所述激光二极管和所述增益元件之间设置准直和聚焦元件。
CN2005100908972A 2004-08-23 2005-08-19 二极管泵浦激光器 Expired - Fee Related CN1741328B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US60380204P 2004-08-23 2004-08-23
US60/603,802 2004-08-23
US11/012,362 US7260133B2 (en) 2004-08-23 2004-12-15 Diode-pumped laser
US11/012,362 2004-12-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1741328A CN1741328A (zh) 2006-03-01
CN1741328B true CN1741328B (zh) 2010-05-12

Family

ID=35447658

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2005100908972A Expired - Fee Related CN1741328B (zh) 2004-08-23 2005-08-19 二极管泵浦激光器

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7260133B2 (zh)
EP (1) EP1630911B1 (zh)
CN (1) CN1741328B (zh)
DE (1) DE602005014591D1 (zh)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2884651B1 (fr) * 2005-04-15 2007-11-30 Oxxius Sa Sa "dispositif laser lineaire monolithique monofrequence, et systeme comprenant un tel dispositif"
JP2008028379A (ja) * 2006-06-22 2008-02-07 Fujifilm Corp モードロックレーザ装置
EP1870972A1 (en) * 2006-06-22 2007-12-26 Fujifilm Corporation Mode-locked laser device
JP5177969B2 (ja) * 2006-07-12 2013-04-10 浜松ホトニクス株式会社 光増幅装置
KR100950277B1 (ko) * 2008-01-28 2010-03-31 광주과학기술원 녹색광원 생성장치 및 이를 이용한 레이저 프로젝션디스플레이를 구비하는 휴대용 전자기기
US8494021B2 (en) * 2008-08-29 2013-07-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Organic laser device
US20100189140A1 (en) * 2009-01-27 2010-07-29 United States Of America, As Represented By Secretary Of The Army Laser Diode End Pumped Monoblock Laser
US20100272135A1 (en) * 2009-04-28 2010-10-28 Dmitri Vladislavovich Kuksenkov Self-Seeded Wavelength Conversion
US9270086B2 (en) * 2009-07-29 2016-02-23 The Regents Of The University Of Michigan Organic laser
JP5662974B2 (ja) * 2011-07-29 2015-02-04 富士フイルム株式会社 レーザ光源ユニット、その制御方法、光音響画像生成装置及び方法
JP5662973B2 (ja) * 2011-07-29 2015-02-04 富士フイルム株式会社 レーザ光源ユニット、その制御方法、光音響画像生成装置及び方法
US9197027B2 (en) * 2012-07-05 2015-11-24 C2C Link Corporation Method for making laser module

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4847851A (en) * 1988-05-19 1989-07-11 University Of South Florida Butt-coupled single transverse mode diode pumped laser
US5164947A (en) * 1991-02-28 1992-11-17 Amoco Corporation Single-frequency, frequency doubled laser
US5265116A (en) * 1988-02-02 1993-11-23 Massachusetts Institute Of Technology Microchip laser
US5295146A (en) * 1992-04-10 1994-03-15 Polaroid Corporation Solid state gain mediums for optically pumped monolithic laser
US5414724A (en) * 1994-01-19 1995-05-09 North China Research Institute Of Electro-Optics Monolithic self Q-switched laser

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5181224A (en) * 1991-05-10 1993-01-19 University Of California Microoptic lenses
IT1256472B (it) 1992-12-10 1995-12-07 Italtel Spa Dispositivo laser monomodale
JP3560172B2 (ja) 1994-02-28 2004-09-02 ソニー株式会社 扉開閉機構
GB9404053D0 (en) * 1994-03-03 1994-04-20 Univ St Andrews High efficiency laser
JP2000028872A (ja) 1998-07-15 2000-01-28 Furukawa Electric Co Ltd:The 光モジュール
US6094445A (en) * 1998-09-08 2000-07-25 Simpatico Industries Co., Ltd. High-efficiency cavity doubling laser
US6665328B1 (en) * 1999-01-19 2003-12-16 Spectra Physics, Inc. Diode-pumped laser with funnel-coupled pump source
JP2000353846A (ja) 1999-06-11 2000-12-19 Toshiba Electronic Engineering Corp ステム型半導体レーザ装置
US6639921B1 (en) * 2000-01-06 2003-10-28 Raytheon Company System and method for providing collimated electromagnetic energy in the 8—12 micron range
US6834070B2 (en) * 2000-03-16 2004-12-21 The Regents Of The University Of California Edge-facet pumped, multi-aperture, thin-disk laser geometry for very high average power output scaling
JP3788249B2 (ja) 2001-02-23 2006-06-21 住友電気工業株式会社 発光モジュール
JP2002374028A (ja) 2001-06-15 2002-12-26 Kyocera Corp 配線基板
JP2003037329A (ja) 2001-07-24 2003-02-07 Hitachi Cable Ltd 光送信器
JP2003229629A (ja) 2002-02-04 2003-08-15 Opnext Japan Inc 光モジュール
JP2003332667A (ja) 2002-05-13 2003-11-21 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体レーザモジュール
JP4586337B2 (ja) 2002-08-26 2010-11-24 住友電気工業株式会社 半導体レーザモジュールおよび半導体レーザ装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5265116A (en) * 1988-02-02 1993-11-23 Massachusetts Institute Of Technology Microchip laser
US5365539A (en) * 1988-02-02 1994-11-15 Massachusetts Institute Of Technology Microchip laser
US4847851A (en) * 1988-05-19 1989-07-11 University Of South Florida Butt-coupled single transverse mode diode pumped laser
US5164947A (en) * 1991-02-28 1992-11-17 Amoco Corporation Single-frequency, frequency doubled laser
US5295146A (en) * 1992-04-10 1994-03-15 Polaroid Corporation Solid state gain mediums for optically pumped monolithic laser
US5414724A (en) * 1994-01-19 1995-05-09 North China Research Institute Of Electro-Optics Monolithic self Q-switched laser

Also Published As

Publication number Publication date
US7260133B2 (en) 2007-08-21
US20060039436A1 (en) 2006-02-23
EP1630911B1 (en) 2009-05-27
EP1630911A3 (en) 2007-03-28
EP1630911A2 (en) 2006-03-01
DE602005014591D1 (de) 2009-07-09
CN1741328A (zh) 2006-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1741328B (zh) 二极管泵浦激光器
US6785304B2 (en) Waveguide device with mode control and pump light confinement and method of using same
Laabs et al. Excitation of Hermite Gaussian modes in end-pumped solid-state lasers via off-axis pumping
JPH07507901A (ja) ハイパワー小型のダイオードポンプ型チューナブルレーザ
CN114336254B (zh) 一种高亮度主振荡功率放大皮秒激光系统
CN101981766A (zh) 具有高效率增益介质的激光
US4173001A (en) Laser apparatus
Ding et al. Rectangular Beam Pumped Raman Microchip Laser for Generating Multiwavelength High‐Order Hermite–Gaussian Lasers and Vortex Lasers
CN112615238A (zh) 一种大能量高效率全固态绿光激光器
CN102332676A (zh) 一种中红外光纤激光器
CN111585159A (zh) 一种用于保障微片激光器频率稳定性的装置及方法
EP0957546A2 (en) solid-state laser device and solid-state laser amplifier provided therewith
US7929585B2 (en) High brightness semiconductor laser diode arrays
US20040170205A1 (en) Laser device, method of exciting the same, and laser processing machine
CN113555761A (zh) 一种266nm脉冲固体激光器
CN117220122B (zh) 一种面向1.3um的平面波导激光增益模块、激光放大装置
CN218123957U (zh) 一种用于激光雷达光源的级联多波长可调谐激光器
CN112332206B (zh) 基于光纤光栅反馈的半导体光纤耦合单模激光器
CN216903713U (zh) 一种提高红外皮秒激光器单脉冲能量的装置
CN216390021U (zh) 一种266nm脉冲固体激光器
CN114050468B (zh) 一种光纤组件及其制备方法、波长锁定激光器系统
CN221006735U (zh) 一种光隔离器的隔离度测量装置
CN219123662U (zh) 一种皮秒紫外激光器
CN218070536U (zh) 高功率纳秒腔内五倍频激光器
CN210040865U (zh) 一种全固态v型腔单频激光器

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20100512

Termination date: 20100819