CN1695073A - 带非圆形光阑的微印刷用投影镜头 - Google Patents

带非圆形光阑的微印刷用投影镜头 Download PDF

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Abstract

一种用于微印刷的投影镜头包括一设置在该镜头的镜片(S2)的前方一定距离(D)处的光阑(BL)。该光阑具有一孔(28)，该孔具有根据主光线(34)的倾斜度并根据光阑(BL)和镜片(S2)之间的距离(D)以非圆形方式延伸 (28′)的边缘轮廓。

Description

带非圆形光阑的微印刷用投影镜头
技术领域
本发明涉及一种用于微印刷的投影镜头。
背景技术
在微印刷技术中，将镜片作为成像部件的投影镜头用于在短波UV和EUV范围内的投影光。例如，EP 1178356A2公开了一种具有六个同轴镜片的微印刷用投影镜头。这种已知的投影镜头有一个设置在镜头的六个镜片中的第二个镜片上的光阑。
由于光阑与其中一个镜片组合，故只改变光阑孔可能很困难：具有光阑的整个镜片必须被移动并且由一个具有另一光阑的光学等价镜片替换。这意味着必须重新调节透镜片，并且必须小心地在真空密封方式下重新关闭镜头并将镜头重新抽真空。
因此本发明的目的在于以一种可以较简单地改变光阑孔的方式进一步地改进上述类型的投影镜头。
发明内容
根据本发明通过一种具有多个成像部件的微印刷用投影镜头实现该目的，并具有与上述镜片相关且具有一孔以控制光通量的光阑，该多个成像部件包括至少一个镜片，主光线相对于该镜片的轴线倾斜地落在该镜片上，该投影镜头的特征在于，光阑设置在该至少一个镜片前方一定距离处，并且光阑孔的边缘轮廓为非圆形的以使得光场的两条相对于光场主光线对称设置的光线或者同时通过光阑孔或者同时被光阑阻挡。
在根据本发明的投影镜头中，光阑与与其相关的镜片在空间上分开。因此可以单独地更换光阑，而光路不受该更换的影响。因此光阑孔的改变不需要对镜头的成像部件的作任何调节。
从光阑的围绕孔的区域由入射的辐射加热这一事实来看，光阑与相关的投影镜头镜片在空间上分开也是有利的。如果该热量被传递至镜片，可能产生由温度导致的成像误差。在根据本发明的投影镜头中，光阑和光阑安装件的材料可以选择成确保光阑处良好的热消散。
然而，光阑设置在与其相关的镜片前方一定距离处本身就将导致由投影镜头产生的成像渐晕所带来的缺点。根据本发明可避免该渐晕，因为光阑孔有特殊的非圆形边缘轮廓，这确保两条相对于主光线以等距离设置的光线通过光阑以同样的方式被处理。对于在物场中心处的点，这意味着两条相对于主光线以等距离设置的光线或者可以同时通过或者同时被阻挡。
本发明因此产生一种首先易于调节光阑孔并且其次不会产生成像渐晕的投影镜头。
本发明的有利改进将在从属权利要求中说明。
本发明的一改进的特征在于，光阑孔的非圆形取决于上述镜片和光阑之间的距离。
这样，允许在位于距离镜片一定距离处的光阑平面内的反射光束的偏移。
本发明的一改进的特征在于，光阑孔的非圆形取决于包含在主光线的轴线和上述镜片的轴线之间的角度。
这样，允许光路相对于镜片光轴的倾斜角的影响。
本发明的一改进的特征在于，光阑孔的轮廓边缘选定为物场的轮廓边缘的函数。
通过这种方式确保对于对应于图案物体(例如标线片)的照亮部分的不同主光线来说，上述平行于主光线的光线可以被对称处理。
本发明的一改进的特征在于，光阑孔的边缘轮廓相对于一平行于扫描方向的轴线基本对称。
这有利于光阑中的孔的简单制造。
本发明的一改进的特征在于，光阑孔的边缘轮廓与一垂直于扫描方向的轴线基本对称。
该改进也有利于光阑的简单制造。
本发明的一改进的特征在于，孔的边缘轮廓对应于两个重叠的椭圆的生成线(母曲线)。
在光阑孔的这种构形为理想形式提供了非常好的结构的同时，光阑孔的几何形状仍然保持较简单，所以可以容易地制造光阑孔。
本发明的一改进的特征在于，光阑孔的边缘轮廓基本呈椭圆形。
光阑孔的这种几何形状是在理想的光阑孔几何形状和该光阑孔制造的简单性之间的一良好折衷方案。
本发明的一改进的特征在于，光阑孔的中心设置在距离镜片的公共轴线一定距离处。
这考虑到，在具有多个同轴镜片的投影镜头中镜片只在部分区域由光照亮。
本发明的一改进的特征在于，此光阑可拆卸地设置在上述镜片前方。
因此可以实现用具有不同孔的光阑简单地更换该光阑。
本发明的一改进的特征在于一组具有不同边缘轮廓和/或不同面积的孔的光阑。
该改进可以例如通过使用一个类似于已知的CD转换器的改变装置在短时间内从一组不同的光阑中获得适合于特殊情况的孔。
本发明的一改进的特征在于，其边缘轮廓的几何形状和/或其面积不同的多个光阑孔形成在一可动的光阑体部中。
本发明的这种改进使得可以用一具有不同几何形状和/或横截面积的孔替换一光阑孔而无需打开投影镜头。
本发明的一改进的特征在于，改光阑是可调节的。
这使得可以以一种特别的方式调节光阑孔尺寸以满足特殊要求。
本发明的一改进的特征在于，所述光阑在中心平面各侧具有两组设置成彼此平行且可相对于彼此移动的光阑杆。
该改进可以利用一阶梯曲线(stepped curve)逼近任何光阑孔边缘轮廓。这种光阑通常是可调节的。即使光场的横截面几何形状被大大改变，也可以无妨碍地继续使用根据该改进的投影镜头；只需根据所需的光阑孔面积和/或根据物场的不同横截面几何形状重新定位可调节的光阑元件。
本发明的一改进的特征在于，孔杆具有矩形或方形的横向横截面。
因此，可以实现光阑杆可以在希望的区域内以不透光的方式遮蔽整个光阑孔。此外，通过相邻光阑杆的相邻侧面和光阑框架的引导表面而实现在所有侧面上对光阑杆进行良好引导。
本发明的一改进的特征在于，光阑杆分别具有一横向致动销且一组光阑体部的致动销分别可移动地接纳在一定位叉中，该定位叉可以沿一平行于光阑杆纵向的方向依次移动。
光阑杆的这种调节模式可以利用一配合工作的单个驱动系统相继地完成不同光阑杆的不同设定。
本发明的一改进的特征在于，与两组光阑杆协同工作的两个定位叉形状配合地连接在一起以进行相等及相反方向的运动。
这样可以实现可以通过一种相对于其控制方式特别简单的机械方式获得相对于光阑的中心平面对称设置的光阑孔。
本发明的一改进的特征在于，定位叉在由光阑杆限定的平面内垂直于光阑杆的纵向移动。
这样将确保定位叉可以相继地释放不同光阑杆的致动销。
本发明的一改进的特征在于交替地控制作用在定位叉上的伺服马达的沿定位叉的两个调节方向的运动的控制单元。
这种控制系统以一种简单的方式确保光阑杆的定位和光阑杆的释放在相继的时间段内发生。
本发明的一改进的特征在于，光阑杆的相邻侧面以低摩擦彼此抵靠。
因而确保一个光阑杆的调节不会导致相邻光阑杆的位置变化。
本发明的一改进的特征在于，平行于光阑杆的运动平面设置的光阑杆的边界表面中的至少一个与一摩擦面协同工作。
因而确保光阑杆在已被设定在希望位置并且由定位叉释放后保持在曾经设定的位置中。
本发明的一改进的特征在于用于将摩擦面弹性压靠在上述与运动平面平行的光阑杆边界表面上的装置。
这样确保与温度变化无关地提供作用在光阑杆上的制动力。
本发明的一改进的特征在于与光阑杆协同工作弹性摩擦衬层。
因此可以实现与最小制造公差无关地确保所需的光阑杆上摩擦力。
附图说明
以下参考实施例和附图详细地说明本发明，其中：
图1是用于半导体芯片制造的投影照明系统的示意图；
图2是根据图1的投影照明系统的投影镜头的轴剖视图；
图3是根据图2的投影镜头的第二镜片和相关的光阑的示意性侧视图；
图4是成像在根据图1的投影照明系统中的晶片上的标线片的示意性俯视图，其中还示出用于扫描该标线片的物场；
图5是所获得的关于多个所选择的图4标线片上的照亮物点的理想光阑孔的示意图；
图6示出作为图5所示光阑孔边缘轮廓的生成线的光阑孔边缘轮廓；
图7是类似于图6的示意图，但是其中示出一横截面较小的光阑孔；
图8是类似于图7的视图，但是其中一明显较窄的物场带用于扫描该标线片；
图9是一可调节光阑的轴向俯视图；
图10是根据图10的可调节光阑的光阑杆引导机构的局部放大剖视图，和
图11是图9的可调节光阑的可移动光阑杆的侧视图。
具体实施方式
图1示意性地示出一个用于使标线片10的图案在晶片12的光敏层上成像的投影照明系统。
在以下的描述中，同样标识在图中的笛卡儿坐标系x、y、z用来表明方向和延长部分。该坐标系的z轴与标线片10的平面和晶片12的平面垂直。坐标系的y向设置在图1的水平方向上(扫描方向或标线片10的移动方向)而x向与上述两个方向垂直并因此垂直于图1的投影平面向后延伸。
当在光路中的其它点上使用该坐标系时，所述轴应该以平行、类似的方式随着移动而成像。
利用一整体上由参考标号14表示的照明单元照亮标线片10，该照明单元包括一EUV光源16、一聚光镜18、两个光栅元件镜片20、22和一聚焦镜24。
整个照明单元设计成在图1的标线片10的下表面上产生一限定物场的光斑，该光斑为一段环。
通过沿图1的水平方向(y向)移动标线片10而扫描该标线片的带有图案的下侧。
由标线片反射的光通过图1中仅示意性示出的投影镜头26在晶片12的上表面上成像。考虑到投影镜头26的成像范围，晶片12沿图1的水平方向(y向)与标线片10同时移动。
图2示出投影镜头26的具体结构。作为其成像部件，该镜头包括六个镜片S1、S2、S3、S4、S5和S6。所述镜片的镜面相对于一公共轴线A同轴设置。
不同的镜片S1-S6作为相对于轴线A旋转对称的元件在附图中被再现。现实中这些镜片只在光路实际利用的区域中获得而在其它区域不存在是不言而喻的。在图2中，光路的其余部分也需要这些区域。
镜片S1-S6设置在作用相连的基座元件B1-B6上。除了支承作用外，这些基座元件还可以有其它功能，例如提供对镜片的恒温控制以及获得用于这些功能的必要安装空间。
光阑BL设置在镜片S2前方一较短距离处。该光阑包括一限制通过投影镜头的光通量的孔28。
该光阑BL优选地采用可绕轴线30旋转的盘形并且可以通过步进马达32旋转以移动镜片S2前方的多个光阑孔28中的一个。
除了旋转光阑BL，也可以使用具有多个孔并可以垂直于图2的投影平面线性移动的光阑或只有单个孔28并可在引导件中移动的可更换光阑。
图3中以放大比例示出投影镜头26中镜片S2和光阑BL附近的光路。
首先假设光阑孔28具有圆形的边缘轮廓。
在图3中可以看到主光线34与光阑BL的平面在轴线A上相交。
此外，平行于主光线34、与主光线间隔一相等距离且射向光阑孔28的边缘的边缘光线由标号36、38表示。
如果光阑孔28直接在形成镜片S2的凹面上，此边缘光线36、38将由镜片S2以相同方式反射。然而，因为光阑BL设置在一位于距离光轴A相等半径的镜面上的一点的前方距离D处的平面内，故边缘光线38被光阑BL的后部挡住。图3中来自底部且与主光线34平行的最后光线由标号40表示，该最后光线由镜面反射后仍可通过光阑孔28。
由于光阑BL设置在镜面前方一定距离处，因此，如果光阑孔28具有圆形边缘轮廓，将如通常那样产生对边缘光线的非对称拦截。
对边缘光线的非对称拦截使得形成在晶片12上的标线片10图案的像产生渐晕。
为了抵消这种效应，光阑孔28具有非圆形边缘轮廓。在近似意义上，通过计算所有对应于所需光阑面积的边缘光线由镜片S2反射后与光阑BL平面相交的点而限定该轮廓。
这意味着将图3中的光阑孔28的最低点向下移动，如28’所示。
对于其它的边缘点，必要的降低幅度更小。如果假设边缘光线全部都与主光线相距一相等距离，这些边缘光线一起形成一圆柱形表面。光阑孔28将因此具有必须如刚才所述向下延伸的椭圆形边缘轮廓。
该延伸的边缘轮廓可以被简化地看作一具有延长的主轴且不再相对于轴线A对称的椭圆；如果以上所讨论的光阑孔28的最低点的下降幅度限定为2E，则其中心点从轴线A向下移动一距离E。
从图3中可以看出，距离E随着镜片S2和光阑BL之间距离D增加而线性增加(E＝Dtan(w))，并且椭圆的长轴随着主光线34和轴线A之间的角度w增加而增加1/cos(w)，同时椭圆的短轴对应于边缘光线与主光线的共同距离。
根据上述讨论，通过确定相应调节的适合于主光线34的不同方向的光阑孔边缘轮廓和叠加所有这样获得的可能与给定物场一致的边缘轮廓并将它们的生成线用做光阑的边缘轮廓而获得设置在镜片前方一定距离处的光阑BL的整个边缘轮廓
这将参考图4和5利用简化条件进行说明，在该简化条件下，对于主光线的每个方向光阑边缘轮廓是圆形的，但是光阑孔相对于光轴线A是偏心的。
在图4中，照明光在标线片10上产生的光斑由标号42表示。此光斑42为一段环。为了便于说明，图4中光斑42的半径尺寸被极度夸大。
图4中标出由“1”、“2”、“3”和“4”表示的四个物点。它们对应于光斑42的角。
在图5中，所获得的适合于这些物点且具有以上假设的圆形的光阑孔边缘轮廓被再现。
图6示出在连续考虑图5中所示的不同边缘轮廓圆和其它物场42边缘点时所获得的生成线，该生成线产生修改后的光阑孔28’。所述圆的中心与光阑孔28’的横向中心线的距离由2ey表示，而所述圆的中心与光阑孔28’的纵向中心线的距离由2ex表示。
图7示出与图6类似的关系，其不同之处在于用在根据图5的结构中的每个单独的圆的半径选择成较小(在同样的成像系统中的较小孔)。
图8示出与图7类似的关系，其不同之处在于距离2ex选择成明显较小，如实际中所用的在扫描方向上具有小尺寸且其形状为一段环的光斑42。在图8中，除了扁平的光阑孔28’之外，还示出可以用作扁平形式的近似形式的椭圆形光阑孔28”。
实际上，如上所述，在图5-8中应成像为椭圆而不是圆，因为较精确地说，沿不同方向倾斜的主光线的斜入射边缘光线与孔BL的平面的相交线分别为一椭圆而不是圆。
如果上述投影镜头26需要一个较小或较大的光阑孔，可以通过给等距分布在旋转轴线周围的多个光阑孔的步进马达32通电而将光阑转换至一不同的孔。
在使用被线性引导且具有多个孔的光阑BL的情况下，光阑BL可以相对于图2的投影平面垂直移动，并且如果使用只有一个孔的光阑BL，其可以由具有一不同孔的另一光阑替换。
可选地，多个光阑板BL可以储存在一盒子中，其中每个板具有多个不同尺寸的光阑孔。通过一个以类似于CD-转换器的方式操作的可控改变装置可以分别将所需孔移入光路中。
这样，可以在无需重新调节镜片S1-S6的情况下调节光阑孔。即使光斑42或物场的几何形状改变，也无需改变投影镜头26的光路。这足以用一适合于光斑的新形状的光阑替换光阑BL。
图9示出其孔的几何形状可调以使得可以非常灵活地适应孔的面积和边缘轮廓的光阑BL。
基板44支承一个整体上以标号46表示的框架，该框架在一位于基板44前方的平面中围绕基板44中的方形窗48。
框架46包括两个横向元件50和两个纵向元件52。该纵向元件52在它们的向图9中后侧定向且位于横向元件50之间的边界表面的区域中具有细长凹槽54，如图10中所示。
多个具有方形横截面的光阑杆56这样配合在凹槽54中，即它们全部都具有滑动间隙地配合在凹槽54的端壁之间。
由压盘60下侧支承的摩擦衬层58与光阑杆56的齐平上表面靠接。所述压盘通过弹簧62抵靠在位于凹槽54上方的纵向元件52的壁上。
在其竖直侧面和下边界表面上，光阑杆56具有与基板44、横向元件50和相邻光阑杆的侧面的表面特性相结合而确保可以容易地移动光阑杆的表面特性。
相比之下，光阑杆56的上边界表面具有这样的表面质量，即在与摩擦衬层58的下侧协同工作时产生大到足以使光阑杆56在投影镜头26a的操作状态下保持在曾经设定的纵向位置的制动力。
因为摩擦衬层58有点弹性，故它可以吸收少量的光阑杆56尺寸制造误差。
为了沿图9中水平方向(x向)进行调节，每个光阑杆56在其内端具有一致动销64。该销优选地例如通过磨去除了固定销64之外的光阑杆56顶层所有区域而一体形成。
在图9中基板44具有位于框架46下方的部分66，在该部分的自由端设置有一支承轨道68。引导杆70、72的第一端安装在该轨道上，而另一端安装在纵向元件52的端面上。
一支架74在引导杆70、72上行进，该支架支承在同样用轴颈支承在支承轨道68和框架46中的螺纹轴76上行进的螺母。该螺纹轴76由步进马达78驱动。
该支架74依次在其两端支承有其中用轴颈支承螺纹轴84的支承轨道80、82。该螺纹轴由一步进马达86驱动。
该螺纹轴84在其中心两侧具有两个分别设置有左手螺纹和右手螺纹的部分84L和84R。
位于图9中定位叉下方且设置在端部88上的紧合螺母在螺纹轴部分84L和84R上行进，该定位叉整体上以标号90表示。该端部88具有矩形横向截面并以滑动配合在支架74上表面上而行进。
定位叉90具有两个其间限定一引导槽96的平行元件92、94。所述引导槽96的宽度适于使其能够以紧合间隙接纳光阑杆56的致动销64。
位于图9中框架46上方的光阑BL盘状部98在其位于投影平面后方的边界表面上支承有一支承轨道100，并且两个引导杆104、106用轴颈支承在由基板44的后表面支承的支承轨道102和支承轨道100上。一同样位于基板44后侧的支架108在所述引导杆上行进。
支架108支承与由另一步进马达112驱动的螺纹轴110协同工作的螺母。
两个延伸至图9的投影平面并且还从该投影平面向上延伸至光阑杆56的路径的倾斜体114设置在支架108的朝图9前方定向的边界表面上。
可以看出，通过图9中支架108的向下运动并通过倾斜体114与光阑杆56后端的协同工作，全部光阑杆可以一起向内移动所以没有光阑孔是自由的。这样，可以获得一限定的关于所有光阑杆56的终端位置。
然后使不同光阑杆的致动销64以与图9中所示的两个最上端光阑杆类似的方式对齐。
在该光阑杆初始位置中，已通过给予步进马达86适当的电压而充分向内移动的定位叉90现在可以通过给步进马达78通电而向上移动直到所有致动销64都接纳在引导槽96中。
现在为了调节光阑杆56以获得具有所需边缘轮廓的光阑孔，采用下列步骤：
从上述初始位置开始，通过给予步进马达86相应的电压而首先设定最上端一对光阑杆的孔。然后给步进马达78通电直到定位叉96向图9中下方移动一光阑杆的宽度。随着该运动的产生，最上端一对光阑杆的致动销64被释放并且这些光阑杆不再受步进马达86的后续运动的影响。
相应的步骤也应用于第二和第三对光阑杆等。
图9中，光阑杆56的调节状态被重复，其中定位叉96已定位并释放光阑杆56的上半部分。光阑杆的下半部分仍然必须被定位。为此采用与上述类似的步骤，不同处在于现在每次以使定位叉96彼此移动一短距离的方式给步进马达86通电，该运动相对于框架44的纵向中心平面对称地进行。
由通过数据线116接收来自外部控制系统的指令的控制单元114完成对步进马达78和86的适当控制，该指令指定所需光阑孔的尺寸和轮廓类型(控制单元114自身根据该指令计算单个光阑杆的x坐标并从而计算必须给予步进马达86的电压)，或者已接收完成的光阑杆56参考位置。
控制单元114还确保单对光阑杆的定位和定位叉96的移位在随后的下一循环中发生。
最后，控制单元114还通过步进马达112的相应起动使所有光阑杆返回定位在它们的内侧终端位置，同时定位叉90已事先完全移动到图9的下侧并与所有致动销64脱离接合。
需要指出的是，支承倾斜体114的支架108不是绝对必需的。如果依靠光阑体部56以通过摩擦接合确定地保持在设定位置，可以通过从下方到控制单元114已知的致动销64位置以循环方式重新设定引导槽96并且随后通过由于给予步进马达78相应电压而完成的一杆的分离使定位叉96向上移动而将致动销64再次插入引导槽96中。
然而，包括支架106和倾斜体112的独立的返回定位装置有一个优点，即，即使光阑杆56在无意中被移动或者关于致动销64的位置的信息例如由于控制单元114的错误、系统供电的故障等已丢失，也可以在各种情况下重新确定一个限定的初始位置。
作为上述实施例的修改，也可以通过使螺纹轴部分84L和84R可独立于彼此而移动并提供除了步进马达86之外的如图9中虚线所示的另一步进马达86’来产生具有相对于图9的中心平面不对称的边缘轮廓的光阑孔。
在实践中，光阑杆56可以具有0.5mm×0.5mm或者1mm×1mm的横截面以便获得光阑孔边缘轮廓的精细分级。

Claims (23)

1.一种用于微印刷的投影镜头，包括多个成像部件(S1-S6)和一个具有用于控制光通量的光阑孔(28)并且与上述镜片(S2)相关的光阑(BL)，该多个成像部件包括至少一个镜片(S2)，主光线以相对于该镜片的轴线(A)倾斜的方式落在该镜片上，其特征在于，该光阑设置在该至少一个镜片(S2)前方一定距离处，并且该光阑孔(28)的边缘轮廓为非圆形的以使得光场(42)的两条相对于光场主光线(34)对称设置的光线得到同样的处理，例如对于物场中心而言，两条光线或者同时通过光阑孔(28)或者同被光阑(BL)阻挡。
2.一种根据权利要求1的投影镜头，其特征在于，所述光阑孔(28)的非圆形取决于上述镜片(S2)和光阑(BL)之间的距离。
3.一种根据权利要求1或2的投影镜头，其特征在于，所述光阑孔(28)的非圆形取决于包含在主光线(34)的轴线和上述镜片(S2)的轴线(A)之间的角度(W)。
4.一种根据权利要求1-3中任一项的投影镜头，其特征在于，所述光阑孔(28)的边缘轮廓选定为光场(42)的边缘轮廓的函数。
5.一种根据权利要求4的投影镜头，其特征在于，所述光阑孔(28)的边缘轮廓相对于横轴线基本对称。
6.一种根据权利要求4或5的投影镜头，其特征在于，所述光阑孔(28)的边缘轮廓相对于纵轴线基本对称。
7.一种根据结合权利要求5的权利要求6的投影镜头，其特征在于，所述边缘轮廓对应于两个重叠的椭圆的生成线。
8.一种根据结合权利要求5的权利要求6的投影镜头，其特征在于，所述光阑孔(28)的边缘轮廓基本呈椭圆形。
9.一种根据权利要求1至8中任一项的投影镜头，其特征在于，所述光阑孔的中心位于距离镜片表面的公共轴线(A)一定距离处。
10.一种根据权利要求1至9中任一项的投影镜头，其特征在于，所述光阑(BL)可拆卸地设置在上述镜片(S2)前方。
11.一种根据权利要求10的投影镜头，其特征在于一组具有不同的边缘轮廓和/或不同的光阑孔面积的光阑。
12.一种根据权利要求1至9中任一项的投影镜头，其特征在于，其边缘轮廓的几何形状和/或其面积不同的多个光阑孔(28)形成在一可动光阑(BL)中。
13.一种根据权利要求1至9中任一项的投影镜头，其特征在于，所述光阑孔(28)是可调节的。
14.一种根据权利要求13的投影镜头，其特征在于，所述光阑(BL)在中心平面各侧具有两组设置成彼此平行且可以相对于彼此移动的孔杆(56)。
15.一种根据权利要求14的投影镜头，其特征在于，所述光阑杆(56)具有矩形或方形横截面。
16.一种根据权利要求14或15的投影镜头，其特征在于，所述光阑杆(56)分别具有一横向致动销(64)，并且一组光阑体部的致动销(64)分别可移动地接纳在一定位叉(90)中，该定位叉可以沿一平行于光阑杆(56)纵向的方向依次移动。
17.一种根据权利要求16的投影镜头，其特征在于，与两组光阑杆(56)协同工作的两个定位叉(90)形状配合地连接以便进行相同程度的相反方向运动。
18.一种根据权利要求16或17的投影镜头，其特征在于，所述定位叉(90)可以在由光阑杆(56)限定的平面内垂直于光阑杆(56)的纵向运动。
19.一种根据结合权利要求16的权利要求18的投影镜头，其特征在于一交替地控制作用在定位叉(90)上的步进马达(78，86)的沿定位叉(90)的两个定位方向的运动的控制单元(116)。
20.一种根据权利要求14至19中任一项的投影镜头，其特征在于，所述光阑杆(56)的相邻侧面以低摩擦彼此抵靠而行进。
21.一种根据权利要求14至20中任一项的投影镜头，其特征在于，平行于该光阑杆的运动平面设置的所述光阑杆(56)的边界表面中的至少一个与一摩擦表面(58)协同工作。
22.一种根据权利要求21的投影镜头，其特征在于用于将所述摩擦表面(58)弹性压靠在上述平行于运动平面设置的光阑杆(56)的边界表面上的装置(60，62，58)。
23.一种根据权利要求21或22的投影镜头，其特征在于与光阑杆(56)协同工作的弹性摩擦衬层(58)。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102378935A (zh) * 2009-03-30 2012-03-14 卡尔蔡司Smt有限责任公司 成像光学部件以及具有此类型的成像光学部件的用于微光刻的投射曝光装置

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003292889A1 (en) * 2003-10-29 2005-06-08 Carl Zeiss Smt Ag Diaphragm changing device
CN1954406B (zh) * 2004-06-23 2011-07-06 株式会社尼康 投影光学系统、曝光装置以及曝光方法
US7312851B2 (en) 2004-06-23 2007-12-25 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method in which a reflective projection optical system has a non-circular aperture stop
US7274434B2 (en) * 2004-11-24 2007-09-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7253880B2 (en) * 2004-11-24 2007-08-07 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2007020004A1 (de) * 2005-08-17 2007-02-22 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv und verfahren zur optimierung einer systemblende eines projektionsobjektivs
US8208127B2 (en) 2007-07-16 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Combination stop for catoptric projection arrangement
CN101796460B (zh) 2007-08-30 2013-05-01 卡尔蔡司Smt有限责任公司 微光刻投射曝光设备中用于照明掩模的照明系统
JP5348127B2 (ja) * 2008-03-18 2013-11-20 旭硝子株式会社 Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランク
WO2010032753A1 (ja) 2008-09-18 2010-03-25 株式会社ニコン 開口絞り、光学系、露光装置及び電子デバイスの製造方法
US20110102915A1 (en) * 2009-10-30 2011-05-05 Michael Pham Device to create high definition photos
US9557548B2 (en) * 2009-11-24 2017-01-31 Nikon Corporation Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method
WO2011095209A1 (de) 2010-02-03 2011-08-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage
DE102011003145A1 (de) 2010-02-09 2011-08-11 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Optisches System mit Blendeneinrichtung
DE102010021539B4 (de) * 2010-05-19 2014-10-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv mit Blenden
DE102011076297A1 (de) 2011-05-23 2012-11-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Blende
JP5860494B2 (ja) * 2014-03-05 2016-02-16 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置においてマスクを照明するための照明システム
WO2016012426A1 (de) * 2014-07-22 2016-01-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum dreidimensionalen vermessen eines 3d-luftbildes einer lithografiemaske
DE102014223811B4 (de) 2014-11-21 2016-09-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik für die EUV-Projektionslithographie, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines strukturierten Bauteils
CN107179600B (zh) * 2017-07-04 2019-09-27 北京理工大学 一种非制冷红外折反射全景镜头

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58125033A (ja) * 1982-01-22 1983-07-25 Hitachi Ltd プロジエクシヨンアライナ−
US6225637B1 (en) * 1996-10-25 2001-05-01 Canon Kabushiki Kaisha Electron beam exposure apparatus
JP3728031B2 (ja) * 1996-10-25 2005-12-21 キヤノン株式会社 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光用マスク
CA2227920A1 (en) * 1998-01-27 1999-07-27 Chung-Shan Institute Of Science And Technology Method and device for eliminating edges of two projection pictures
JP2000100694A (ja) * 1998-09-22 2000-04-07 Nikon Corp 反射縮小投影光学系、該光学系を備えた投影露光装置および該装置を用いた露光方法
US6445442B2 (en) * 1998-12-08 2002-09-03 Carl-Zeiss-Stiftung Projection-microlithographic device
US6600552B2 (en) 1999-02-15 2003-07-29 Carl-Zeiss Smt Ag Microlithography reduction objective and projection exposure apparatus
EP1093021A3 (en) * 1999-10-15 2004-06-30 Nikon Corporation Projection optical system as well as equipment and methods making use of said system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102378935A (zh) * 2009-03-30 2012-03-14 卡尔蔡司Smt有限责任公司 成像光学部件以及具有此类型的成像光学部件的用于微光刻的投射曝光装置
CN102378935B (zh) * 2009-03-30 2013-11-06 卡尔蔡司Smt有限责任公司 成像光学部件以及具有此类型的成像光学部件的用于微光刻的投射曝光装置

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Publication number Publication date
US20050264787A1 (en) 2005-12-01
EP1565769A1 (en) 2005-08-24
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US7221516B2 (en) 2007-05-22
US20070188729A1 (en) 2007-08-16
JP2006507672A (ja) 2006-03-02
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WO2004046771A1 (en) 2004-06-03
KR100969056B1 (ko) 2010-07-09
AU2002368362A1 (en) 2004-06-15

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