CN1663932A - 一种一次成型碳化硅发热元件的制造方法 - Google Patents

一种一次成型碳化硅发热元件的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种一次成型碳化硅发热元件的制造方法,包括传统工艺步骤,特征在于:碳化硅粉料、石油焦粉、石墨粉、活性炭粉、硅粉的质量分数分别为0.3~0.9、0.3~0.9、0~0.2、0~0.1、0~0.3;共经过包括传统工艺步骤的13道工序和特定工艺条件后可得到冷、热部电阻率电阻比分别为1∶35、1∶12、1∶20的发热元件。其优越性为发热元件物理性能逐步过渡,气孔率<1%,游离硅含量<2%,可控性好,均匀性高,抗氧化,强度高。

Description

一种一次成型碳化硅发热元件的制造方法
技术领域
本发明属于陶瓷产品制造技术领域,涉及一种一次成型碳化硅发热元件的制造方法。
背景技术
碳化硅发热元件是各种试验室和工业用电阻炉的关键部件。发热元件的端部称为冷端部,中段称为发热部。发热部为实际工作部分,要求具有一定的电阻且电阻均匀,以达到电流、电压的合理分配和加热的均匀性,同时具有优异的抗氧化性和强度;冷端部用于与导线的连接,要求具有低的电阻,以避免发热氧化造成与导线接触电阻的增加。冷端/发热部电阻比是衡量发热元件无用功率消耗的重要指标。
为了降低冷端/发热部电阻比,主要采用的方法有:1.在冷端部和发热部截面积相同和接近的情况下,提高冷端部中金属导电相和β-SiC的比例,降低冷端部的电阻率,发热部晶相则全部采用α-SiC,并保证适当的气孔率;2.在冷端部和发热部材料成分相同时,增大冷端部的截面积,降低冷端部的电阻;3.用金属作为冷端部,采用特殊的工艺与发热部连接。第2种方法近年来已被逐步淘汰,而第3种方法工艺技术上存在很大的难度。因此提高冷端部中金属导电相的比例是降低冷端部的主要方法。可以用作导电相的成分主要包括硅、铝,以及钼、钨、鉻、鉭、铌、钒、锆、钛的硅化物。
在本发明以前的现有技术中,碳化硅发热元件的工业制造过程中的冷端和发热部都是分别成型、烧结,最后通过焊接的方式将其连接在一起得到发热元件。
(日本专利昭56-54782)提出将含一定孔隙率的烧结好的碳化硅端部浸渍在钼、钨、鉻、鉭、铌、钒、锆、钛的硅化物超细粉末悬浮液中,经干燥脱水,在1500℃烧结10分钟,金属硅化物填充孔隙,制得相对致密的冷端部,冷端部电阻大幅度降低,未浸渍的部分具有较高的电阻成为发热部,是一种一次成型制造碳化硅发热元件的方法。
专利(95100397.6)给出了一种硅碳棒冷挤压成型带端部一次烧成的方法。它是将发热部的配料碳化硅、石墨粉、炭黑、聚乙烯醇、糊精、硼酸与冷端部的配料碳化硅、石墨粉、炭黑、聚乙烯醇、硅粉、硼酸按一定重量比例在常温下分别混匀,分别挤压成型后烘干,用水粘面将发热部和冷端部粘结在一起后进行烘干处理,再将烘干处理后的坯体浸渍沥青后在1800~1900℃的温度下一次烧成。
上述碳化硅发热元件的几种制造方法存在明显不足:
传统的焊接方法,存在明显的物理界面,焊接界面两侧材料的密度、气孔率、成分和显微组织存在地差异,导致界面两侧的物理性能(电阻率、导热系数、强度、弹性模量等)发生陡变,加之焊接界面结合的不完整,焊接界面处往往成为产品失效的主要区域。
粉末或熔融金属浸渍技术,要求首先制备得到多孔烧结碳化硅,在制备多孔碳化硅时,在成型配料时往往采用加入木屑或其它有机造孔剂,采用沥青作为结合剂,成型过程需蒸汽加热;挤压成形后的坯体需放置在填充碳粒的耐火材料筒中,在还原性条件下900~1000℃进行素烧,沥青在加热过程易变形;最后高温烧结。这种技术工序复杂、成本高、能量消耗大,使用沥青对环境和操作人员的身体健康有危害。在实施粉末浸渍时,要求金属硅化物粉末为微米级(一般小于5微米),悬浮液的制备技术难度大,需要采用特殊的设备进行浸渍,一般情况下只能浸渍填充与外表面相通的显气孔,浸渍物脱水高温干燥后不能达到对孔隙的完全填充,浸渍物与基体碳化硅结合不好,这种技术存在制造困难,使用性能不稳定的问题。采用铝或铝合金浸渍同样只能浸渍与外表面相同的显气孔,同时在使用过程中锅或铝合金的逐步氧化会使得冷端部电阻率增加,寿命降低,在冷端与发热部接触部位会由于高温造成金属铝或铝合金熔化、流失。采用粉末浸渍或铝、铝合金浸渍制备得到的碳化硅冷端部主晶相为α-SiC和浸渍物相。
而专利(95100397.6)所提出的硅碳棒冷挤压成型带端部一次烧成的方法不具有可操作性,采用聚乙烯醇和糊精作为挤压成型剂在工艺上是难以实现的,同时发热部和冷端部坯体粘结后仍需浸渍沥青,而后续的1800~1900℃一次烧成无法保证冷端部和发热部得到合适的电阻。此外提出发热部中加入硼酸的方法会使发热部材料氧化抗力降低。
发明的内容
针对上述几种制造方法存在的明显不足,本发明的目的在于提供一种无需焊接,一次成型的碳化硅发热元件的制造方法。
本发明制备工艺通过合理调整配方中碳化硅的颗粒组成以及碳化硅、石油焦、活性炭、硅与结合剂树脂的加入比例,通过合理调整一次与二次烧结工艺条件,使得碳化硅发热元件制备工序减少,冷端/发热部电阻比可控,得到的冷端部致密,气孔率低,其主晶相为α-SiC、β-SiC和游离硅,发热部主晶相为α-SiC和气孔。冷端部和发热部之间在显微组织和性能之间为逐步过渡。
制备工艺包括配料、干燥、碾压、造粒、过筛、挤压、烘干、一次烧结和二次烧结工艺步骤,其特征在于:具体工艺步骤为:
步骤1:将质量分数为0.3~0.9的碳化硅粉料、0.05~0.5的石油焦粉、0~0.2的石墨粉、0~0.1的活性炭粉、0~0.3的硅粉,在搅拌机或轮碾机上混合0.2~1小时;
步骤2:在上述混合均匀的粉料中另外添加质量分数0.05~0.25的醇溶性酚醛树脂、有机增塑剂和乙醇,在轮碾机上碾压0.5~1.5小时;
步骤3:将碾压料破碎成块状,常温放置或50~80℃温度下干燥处理;
步骤4:将干燥处理的原料碾压破碎,过8~120目筛造粒,待用;
步骤5:将待用原料加入质量分数0.01~0.20的水溶性酚醛树脂,混碾10~45分钟;
步骤6:将混碾好的原料密封,放置6~24小时;
步骤7:原料在螺旋挤压机或活塞挤压机上连续挤压出成形坯体,切割得到所需长度;
步骤8:坯体在室温静置干燥24小时以上;
步骤9:成形坯体放入烘窑中加热至150~200℃,保温1~3小时,随炉冷却至室温出窑,得到具有足够强度的碳化硅成形坯体;
步骤10:坯体进行切割等后加工工序,达到产品尺寸要求;
步骤11:坯体放入真空气氛烧结炉,周围填埋工业硅颗粒,升温至1450~1850℃,保温0.5~4小时烧结,随炉冷却,一次烧结后主晶相为α-SiC、β-SiC和游离硅;
步骤12:根据发热体规格要求,将发热部部分放置在管式真空气氛烧结炉,或在管式电阻(感应加热)真空气氛推进烧结炉中对发热部长度部分进行二次烧结,加热温度1850~2300℃保温,加热时间0.3~3小时;
步骤13:清理后,端部喷铝,得到发热元件产品。
本发明一次成型碳化硅发热元件制造方法的优越性在于:
(1)制备得到的碳化硅发热元件冷端部和发热部在材料密度、气孔率、成分和显微组织等方面没有明显几何界面,逐步过渡;
(2)碳化硅发热元件冷端部和发热部的物理性能(电阻率、导热系数、强度、弹性模量等)逐步过渡;
(3)冷端部主晶相为α-SiC、β-SiC和游离硅,气孔率<1%;
(4)发热部主晶相为α-SiC和气孔,游离硅含量<2%的发热元件发热部;
(5)碳化硅发热元件电阻可控性好,均匀性高;
(6)可使用大颗粒碳化硅作为原料,烧结产品晶粒大,抗氧化,强度高;
(7)适用于各种不同规格、不同形状发热元件的制造,性能均匀、稳定,远高于目前的技术。
具体实施方式
实施例1:
步骤1:将粒度号为30目,质量分数为0.35、粒度号为80目,质量分数为0.25的碳化硅粉料,质量分数为0.2的石油焦粉、0.10的石墨粉、0.10的硅粉,在搅拌机或轮碾机上混合0.5小时;
步骤2:在上述混合均匀的粉料中另外添加质量分数0.12的醇溶性酚醛树脂、有机增塑剂和乙醇,在轮碾机上碾压1小时;
步骤3:将碾压料破碎成块状,常温放置;
步骤4:将干燥处理的原料碾压破碎,过8目筛造粒,待用;
步骤5:将待用原料加入质量分数0.15的水溶性酚醛树脂,混碾30分钟;
步骤6:将混碾好的原料密封,放置6小时;
步骤7:原料在螺旋挤压机或活塞挤压机上连续挤压出φ25mm成形坯体,切割得到所需长度;
步骤8:坯体在室温静置干燥24小时以上;
步骤9:成形坯体放入烘窑中加热至180℃,保温2小时,随炉冷却至室温出窑,得到具有足够强度的碳化硅成形坯体;
步骤10:坯体进行切割等后加工工序,坯体长度900mm;
步骤11:坯体放入真空气氛烧结炉,周围填埋工业硅颗粒,升温至1650℃,保温2小时烧结,随炉冷却;
步骤12:根据发热体规格要求,将发热元件中段300mm部分放置在真空气氛条件下2000℃保温2小时二次烧结;
步骤13:清理后,端部喷铝。
得到的发热元件冷端部主晶相为α-SiC、β-SiC和硅,发热部主晶相为α-SiC和气孔,发热元件1000℃时电阻为1.41Ω,冷端部、发热部电阻率电阻比1∶35。
实施例2:
步骤1:将粒度号为60目,质量分数为0.65的碳化硅粉料,质量分数为0.2的石油焦粉、0.05的活性炭粉、0.10的硅粉,在搅拌机或轮碾机上混合0.5小时;
步骤2:在上述混合均匀的粉料中另外添加质量分数0.12的醇溶性酚醛树脂、有机增塑剂和乙醇,在轮碾机上碾压1小时;
步骤3:将碾压料破碎成块状,常温放置;
步骤4:将干燥处理的原料碾压破碎,过8目筛造粒,待用;
步骤5:将待用原料加入质量分数0.15的水溶性酚醛树脂,混碾30分钟;
步骤6:将混碾好的原料密封,放置6小时;
步骤7:原料在螺旋挤压机或活塞挤压机上连续挤压出φ25mm成形坯体,切割得到所需长度;
步骤8:坯体在室温静置干燥24小时;
步骤9:成形坯体放入烘窑中加热至180℃,保温2小时,随炉冷却至室温出窑,得到具有足够强度的碳化硅成形坯体;
步骤10:坯体进行切割等后加工工序,坯体长度900mm;
步骤11:坯体放入真空气氛烧结炉,周围填埋工业硅颗粒,升温至1650℃,保温2小时烧结,随炉冷却;
步骤12:根据发热体规格要求,将发热元件中段300mm部分放置在真空气氛条件下2100℃保温2小时二次烧结;
步骤13:清理后,端部喷铝。
得到的发热元件冷端部主晶相为α-SiC、β-SiC和硅,发热部主晶相为α-SiC和气孔,发热元件1000℃时电阻为1.27Ω,冷端部、发热部电阻率电阻比1∶20。
实施例3:
步骤1:将粒度号为120目,质量分数为0.60、粒度号为180目,质量分数为0.25的碳化硅粉料,质量分数为0.10的石油焦粉、0.05的活性炭粉,在搅拌机或轮碾机上混合0.5小时;
步骤2:在上述混合均匀的粉料中另外添加质量分数0.10的醇溶性酚醛树脂、有机增塑剂和乙醇,在轮碾机上碾压1小时;
步骤3:将碾压料破碎成块状,常温放置干燥处理;
步骤4:将干燥处理的原料碾压破碎,过40目筛造粒,待用;
步骤5:将待用原料加入质量分数0.08的水溶性酚醛树脂,混碾30分钟;
步骤6:将混碾好的原料密封,放置6小时;
步骤7:原料在螺旋挤压机或活塞挤压机上连续挤压出φ25mm成形坯体,切割得到所需长度;
步骤8:坯体在室温静置干燥24小时;
步骤9:成形坯体放入烘窑中缓慢加热至180℃,保温2小时,随炉冷却至室温出窑,得到具有足够强度的碳化硅成形坯体;
步骤10:坯体进行切割等后加工工序,产品长度900mm;
步骤11:坯体放入真空气氛烧结炉,周围填埋工业硅颗粒,升温至1650℃,保温2小时烧结,随炉冷却;
步骤12:根据发热体规格要求,将发热元件中段300mm部分放置在真空气氛条件下1950℃保温2小时二次烧结。
步骤13:清理后,端部喷铝。
得到的发热元件冷端部主晶相为<-SiC、-SiC和硅,发热部主晶相为α-SiC和气孔,发热元件1000℃时电阻为0.83Ω,冷端部、发热部电阻率电阻比1∶12。

Claims (4)

1、一种一次成型碳化硅发热元件的制造方法,包括配料、干燥、碾压、造粒、过筛、挤压、烘干、一次烧结和二次烧结工艺步骤,其特征在于:具体工艺步骤为:
步骤1:将质量分数为0.3~0.9的碳化硅粉料、0.05~0.5的石油焦粉、0~0.2的石墨粉、0~0.1的活性炭粉、0~0.3的硅粉,在搅拌机或轮碾机上混合0.2~1小时;
步骤2:在上述混合均匀的粉料中另外添加质量分数0.05~0.25的醇溶性酚醛树脂、有机增塑剂和乙醇,在轮碾机上碾压0.5~1.5小时;
步骤3:将碾压料破碎成块状,常温放置或50~80℃温度下干燥处理;
步骤4:将干燥处理的原料碾压破碎,过8~120目筛造粒,待用;
步骤5:将待用原料加入质量分数0.01~0.20的水溶性酚醛树脂,混碾10~45分钟;
步骤6:将混碾好的原料密封,放置6~24小时;
步骤7:原料在螺旋挤压机或活塞挤压机上连续挤压出成形坯体,切割得到所需长度;
步骤8:坯体在室温静置干燥24小时以上;
步骤9:成形坯体放入烘窑中加热至150~200℃,保温1~3小时,随炉冷却至室温出窑,得到具有足够强度的碳化硅成形坯体;
步骤10:坯体进行切割等后加工工序,达到产品尺寸要求;
步骤11:坯体放入真空气氛烧结炉,周围填埋工业硅颗粒,升温至1450~1850℃,保温0.5~4小时烧结,随炉冷却,一次烧结后主晶相为α-SiC、β-SiC和游离硅;
步骤12:根据发热体规格要求,将发热部部分放置在管式真空气氛烧结炉,或在管式电阻(感应加热)真空气氛推进烧结炉中对发热部长度部分进行二次烧结,加热温度1850~2300℃保温,加热时间0.3~3小时;
步骤13:清理后,端部喷铝,得到发热元件产品。
2、根据权利要求1所述的一次成型碳化硅发热元件的制造方法,其特征在于:具体工艺步骤还可为:
步骤1:将粒度号为30目,质量分数为0.35、粒度号为80目,质量分数为0.25的碳化硅粉料,质量分数为0.2的石油焦粉、0.10的石墨粉、0.10的硅粉,在搅拌机或轮碾机上混合0.5小时;
步骤2:在上述混合均匀的粉料中另外添加质量分数0.12的醇溶性酚醛树脂、有机增塑剂和乙醇,在轮碾机上碾压1小时;
步骤3:将碾压料破碎成块状,常温放置;
步骤4:将干燥处理的原料碾压破碎,过8目筛造粒,待用;
步骤5:将待用原料加入质量分数0.15的水溶性酚醛树脂,混碾30分钟;
步骤6:将混碾好的原料密封,放置6小时;
步骤7:原料在螺旋挤压机或活塞挤压机上连续挤压出φ25mm成形坯体,切割得到所需长度;
步骤8:坯体在室温静置干燥24小时以上;
步骤9:成形坯体放入烘窑中加热至180℃,保温2小时,随炉冷却至室温出窑,得到具有足够强度的碳化硅成形坯体;
步骤10:坯体进行切割等后加工工序,坯体长度900mm;
步骤11:坯体放入真空气氛烧结炉,周围填埋工业硅颗粒,升温至1650℃,保温2小时烧结,随炉冷却;
步骤12.:根据发热体规格要求,将发热元件中段300mm部分放置在真空气氛条件下2000℃保温2小时二次烧结;
步骤13:清理后,端部喷铝。
得到的发热元件冷端部主晶相为α-SiC、β-SiC和硅,发热部主晶相为α-SiC和气孔,发热元件1000℃时电阻为1.41Ω,冷端部、发热部电阻率电阻比1∶35。
3、根据权利要求1所述的一次成型碳化硅发热元件的制造方法,其特征在于:具体工艺步骤还可为:
步骤1:将粒度号为60目,质量分数为0.65的碳化硅粉料,质量分数为0.2的石油焦粉、0.05的活性炭粉、0.10的硅粉,在搅拌机或轮碾机上混合0.5小时;
步骤2:在上述混合均匀的粉料中另外添加质量分数0.12的醇溶性酚醛树脂、有机增塑剂和乙醇,在轮碾机上碾压1小时;
步骤3:将碾压料破碎成块状,常温放置;
步骤4:将干燥处理的原料碾压破碎,过8目筛造粒,待用;
步骤5:将待用原料加入质量分数0.15的水溶性酚醛树脂,混碾30分钟;
步骤6:将混碾好的原料密封,放置6小时;
步骤7:原料在螺旋挤压机或活塞挤压机上连续挤压出φ25mm成形坯体,切割得到所需长度;
步骤8:坯体在室温静置干燥24小时;
步骤9:成形坯体放入烘窑中加热至180℃,保温2小时,随炉冷却至室温出窑,得到具有足够强度的碳化硅成形坯体;
步骤10:坯体进行切割等后加工工序,坯体长度900mm;
步骤11:坯体放入真空气氛烧结炉,周围填埋工业硅颗粒,升温至1650℃,保温2小时烧结,随炉冷却;
步骤12:根据发热体规格要求,将发热元件中段300mm部分放置在真空气氛条件下2100℃保温2小时二次烧结;
步骤13:清理后,端部喷铝。
得到的发热元件冷端部主晶相为α-SiC、β-SiC和硅,发热部主晶相为α-SiC和气孔,发热元件1000℃时电阻为1.27Ω,冷端部、发热部电阻率电阻比1∶20。
4、根据权利要求1所述的一次成型碳化硅发热元件的制造方法,其特征在于:具体工艺步骤还可为:
步骤1:将粒度号为120目,质量分数为0.60、粒度号为180目,质量分数为0.25的碳化硅粉料,质量分数为0.10的石油焦粉、0.05的活性炭粉,在搅拌机或轮碾机上混合0.5小时;
步骤2:在上述混合均匀的粉料中另外添加质量分数0.10的醇溶性酚醛树脂、有机增塑剂和乙醇,在轮碾机上碾压1小时;
步骤3:将碾压料破碎成块状,常温放置干燥处理;
步骤4:将干燥处理的原料碾压破碎,过40目筛造粒,待用;
步骤5:将待用原料加入质量分数0.08的水溶性酚醛树脂,混碾30分钟;
步骤6:将混碾好的原料密封,放置6小时;
步骤7:原料在螺旋挤压机或活塞挤压机上连续挤压出φ25mm成形坯体,切割得到所需长度;
步骤8:坯体在室温静置干燥24小时;
步骤9:成形坯体放入烘窑中缓慢加热至180℃,保温2小时,随炉冷却至室温出窑,得到具有足够强度的碳化硅成形坯体;
步骤10:坯体进行切割等后加工工序,产品长度900mm;
步骤11:坯体放入真空气氛烧结炉,周围填埋工业硅颗粒,升温至1650℃,保温2小时烧结,随炉冷却;
步骤12:根据发热体规格要求,将发热元件中段300mm部分放置在真空气氛条件下1950℃保温2小时二次烧结。
步骤13:清理后,端部喷铝。
得到的发热元件冷端部主晶相为<-SiC、-SiC和硅,发热部主晶相为α-SiC和气孔,发热元件1000℃时电阻为0.83Ω,冷端部、发热部电阻率电阻比1∶12。
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