CN1637534A - 反射型液晶显示装置的制造方法 - Google Patents
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Abstract
一种可在整个基板上形成均匀反射角度的压花的反射型液晶显示装置的制造方法。基包括如下工序：在形成含有薄膜晶体管的底层的玻璃基板上涂敷底片型有机绝缘膜的工序；软烘焙(soft bake)所述有机绝缘膜的工序；不使用曝光掩膜，将所述有机绝缘膜一次曝光的工序，以使所述有机绝缘膜的整个表面交联结合(cross linking)；使用具有开口部的曝光掩膜进行二次曝光的工序，以仅使曝光所述一次曝光的有机绝缘膜的局部交联结合；在快速烘焙(post bake)所述一次及二次曝光的有机绝缘膜并使其硬化同时，在所述未二次曝光的有机绝缘膜的局部通过产生存在于所述有机绝缘膜内的溶剂(solvent)的放气(out gassing)，形成压花的工序。
Description
技术领域
本发明涉及反射型液晶显示装置的制造方法，更具体地说，涉及利用溶剂(solvent)放气(out gassing)的压花(embossing)形成方法。
背景技术
众所周知，由于反射型液晶显示装置不必后照光，故在要求低耗电的携带用显示元件中是非常有用的，由于手机和携带设备的市场增大，其需求渐渐增加。
一方面，由于反射型液晶显示装置具有入射路径及反射路径，故与仅具有一个路径的通常的LCD相比，具有相对穿透度低，特别是在主视角方向的穿透度低的缺点。
对此，现有的反射型液晶显示装置为了补偿穿透度的不足，形成有具有表面凹凸的反射板，为了形成这样的反射板，在其下部层表面形成有凹凸，即压花。
现在，为形成所述压花，在涂敷有机绝缘膜后，完成与此相对的浓淡点图(half tone)曝光。在所述浓淡点图曝光时，未形成压花的部分被照射最佳曝光量“optimum energy：以下称Eop”以上的能量，有机绝缘膜完全和光反应而形成压花的部分通过照射Eop以下的能量，仅反应有机绝缘膜的规定部分。
但是，在通过浓淡点图曝光形成压花的现有方法中，由曝光时的照射能量调节入射光的反射角度，但是，由于通过细微的工序条件的变化所述反射角度的变化量大，故具有工序增多的制约。
特别是在基板的整个区域不能得到均匀的反射角度时，肯定招致反射型液晶显示装置的画面品质降低。
发明内容
本发明是为解决所述的问题而提出的，其目的在于，提供反射型液晶显示装置的制造方法，可在整个基板上形成均匀反射角度的压花。
为达到所述目的，本发明提供一种反射型液晶显示装置的制造方法，其包括如下工序：在形成含有薄膜晶体管的底层的玻璃基板上涂敷阴性型有机绝缘膜的工序；软烘焙所述有机绝缘膜的工序；不使用曝光掩膜，将所述有机绝缘膜一次曝光的工序，以使所述有机绝缘膜的整个表面交联结合；使用具有开口部的曝光掩膜进行二次曝光的工序，以仅使曝光所述一次曝光的有机绝缘膜的局部交联结合；在快速烘焙所述一次及二次曝光的有机绝缘膜并使其硬化的同时，在所述未二次曝光的有机绝缘膜的局部通过产生存在于所述有机绝缘膜内的溶剂的放气，形成压花的工序。
在此，所述有机绝缘膜的一次曝光利用最佳曝光量以下的能量完成，所述有机绝缘膜的二次曝光利用最佳曝光量完成。
有别于如上本发明目的的特征及优点等通过如下对本发明的最佳实施例进行说明明确。
附图说明
图1A～C是说明本发明实施例的反射型液晶显示装置的制造方法的工序剖面图。
具体实施方式
以下，参照附图详细说明本发明理想的实施例。首先，说明本发明的技术原理，本发明利用除去有机绝缘膜上的溶剂时产生的气体形成压花。
此时，在通过调节曝光能量调节反射角度的现有方法中，通过变化细微的工序条件，不仅反射角度变化，在整个基板上也不容易调节均匀的反射角度，但是，在利用所述溶剂放气形成压花的本发明的方法中，当工序条件的变化大时，不仅未受影响，在整个基板上业可形成均匀反射角度的压花。
图1A～图1C是说明本发明实施例的反射型液晶显示装置的制造方法的工序剖面图。如下进行说明。
参照图1，利用公知的工序，在玻璃基板1上形成含有薄膜晶体管的下层2。然后，在基板的整个面上涂敷大约2um厚度的有机绝缘膜3，以覆盖所述下层2，再将其软烘焙(soft bake)。
其次，不使用曝光掩膜，将所述有机绝缘膜3一次全面曝光。此时，所述一次曝光由Eop以下的能量完成，以仅在有机绝缘膜3的表面产生交联结合(cross linking)。在此，完成所述全面曝光的理由是，在进行后述的快速烘焙(post bake)时，不把存在于有机绝缘膜3内的溶剂抽出到表面之外。图面符号3a表示全面曝光形成交联结合的有机绝缘膜部分。
参照图1B，使用通过铬板图案限定开口部的曝光掩膜10，将一次曝光后的有机绝缘膜3利用适当Eop能量进行二次曝光。此时，在有机绝缘膜3上的不同区域产生曝光量差，特别是在曝光的有机绝缘膜的局部产生交联结合，使曝光的部分和未曝光的部分分开。图面符号3b表示二次曝光时交联结合的有机绝缘膜的部分。
参照图1C，将一次及二次曝光的有机绝缘膜3快速烘焙(post bake)。此时，由于所述有机绝缘膜2内残留有不能在软烘焙时除去的溶剂成分，故在所述快速烘焙时产生溶剂成分的放气，但由于二次曝光的有机绝缘膜的局部已经交联结合，故未对该部分进行放气。由此，由未二次曝光的部分集中放气。但是，由于所述有机绝缘膜3的上部表面也已经形成交联结合的状态，故也未对该部分进行放气。结果，溶剂气等不能抽出而产生在有机绝缘膜3的上部表面开设的空间膨胀的状态，即形成压花4。
在此，所述压花4各自通过热工序在未二次曝光的有机绝缘膜部分等形成，在整个基板上均匀地形成，特别是具有均匀的反射角度。
以后，未图示，在表面上形成压花4的有机绝缘膜3上形成反射板，然后，形成定向膜，完成下部基板。然后，将所述下部基板和利用公知的技术制造的上部基板与液晶层合并安装，完成本发明的反射型液晶显示装置的制造方法。
如上所述，在本发明的方法中，由于通过两次有选择地曝光有机绝缘膜及利用热工序产生的放气形成压花，故与通过曝光能量的调节形成压花的现有方法相比，可在基板的整个区域上形成均匀的反射角度，由此，可改善反射型液晶显示装置的低穿透度。
另外，本发明的方法具有可超越反射角度控制的难度的地方，可确保工序的安全系数。
在此，以上对本发明特定的实施例进行了说明和图示，但本领域技术人员可对此进行修正和变形。因此，只要属于本发明的范围中，本发明的主要构思和范围内，就可以理解为是含有全部的修正和变形内容。
Claims (2)
1、一种反射型液晶显示装置的制造方法，其包括如下工序：在形成含有薄膜晶体管的底层的玻璃基板上涂敷底片型有机绝缘膜的工序；软烘焙所述有机绝缘膜的工序；不使用曝光掩膜，将所述有机绝缘膜一次曝光的工序，以使所述有机绝缘膜的整个表面交联结合；使用具有开口部的曝光掩膜进行二次曝光的工序，以仅使曝光所述一次曝光的有机绝缘膜的局部交联结合；在快速烘焙所述一次及二次曝光的有机绝缘膜并使其硬化的同时，在所述未二次曝光的有机绝缘膜的局部通过产生存在于所述有机绝缘膜内的溶剂的放气，形成压花的工序。
2、如权利要求1所述的反射型液晶显示装置的制造方法，其特征在于，所述有机绝缘膜的一次曝光由最佳曝光量以下的能量完成，所述有机绝缘膜的二次曝光由最佳曝光量完成。
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