CN1609147A - 光学涂布层合物及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种光学涂布层合物及其制造方法。包括：提供一基材，其上具有一预涂布面；以及形成一由一光硬化涂覆组合物所组成的膜层于该基材的预涂布面上，并以一光线照射该由光硬化涂覆组合物所组成的膜层，使在该基材的表面上形成一硬化层。其中，光硬化涂覆组合物所形成的硬化层具有低双折射率、高穿透率、低浊度等光学特性，并提供良好接着性与化学溶剂抗蚀性以及高耐候性等特性，极适用于所有光学组件的制造技术上。
Description
技术领域
本发明是关于一种光学膜层及其制法，尤其涉及一种光学涂布层合物及其制造方法，特别是关于一种具有低双折射率、高穿透率及高溶剂耐蚀性的光学涂布层合物及其制程方法。
背景技术
近年来，随着平面显示技术的快速发展，在显示器的改良上，也特别着重于体积小、重量轻的需求，其中像是液晶显示器(liquid crystaldisplay，LCD)及有机发光二极管(organic light emitting diode，OLED)最受注目，尤于其具有低电压驱动、低电力消耗、易携带、不占空间、品质及性质佳并可量产等优点，已广为应用在手机、PDA、计算器、桌上型或可携式计算机、数字相机、车用导航系统和其它型式的显示器产品。
在平面显示光学组件的制造技术上，不论是液晶显示器或是有机发光二极管显示器，在其制造过程中皆需使用到具备较佳光学性质及物理性质的光学膜层，以达到平面显示光学组件其特性上的要求。此光学膜层以具有高穿透率、低双折射率、低浊度等光学特性，并能同时提供良好的接着性、化学溶剂抗蚀性、适合以涂布的方式形成及高耐候性等物理特性者为佳。举例来说，目前的液晶显示器虽已可提供高品质的输出画面，但直视液晶显示器时，如果倾斜一个角度时，影像效果即明显变差，对比也较为下降，这些现象的主因在于具有异向性(anisotropic)的液晶呈现出双折射效应(birefringence effect)，由于液晶具有正双折射率(positive birefringence)，即平行光轴折射率(extraordinaryrefractive index：ne)大于垂直光轴折射率(ordinary refractiveindex：no)，使得光线通过时有相迟滞效应(phase retardation effect)。然而，若欲避免此问题的产生以使液晶显示器达到广视角(wide viewingangle)效果，可以利用具有负双折射率膜的光学膜层作为一广视角膜，使其与液晶显示器产生光学对称(optical symmetry)，而达到补偿对比和颜色的效果。目前已知可用来作为广视角膜的光学膜层，虽然具有可适用的光学性质，然而其化学溶剂抗蚀性不佳，且与光学组件表面的黏着性差，因此运用在光学组件技术上，需进一步配合表面处理的制程，往往使得光学组件的制程复杂化。
一般可用来作为光学薄膜的材量并不多，例如高耐热性的可塑性膜，虽然具有化学溶剂抗蚀性、适合以涂布的方式形成及高耐候性等物理特性，但其呈现高双折射率，使得其物理特性与其光学特性间不易达到协调；至于热固性树脂，一般已知其具有颜色，因此亦不适用于光学应用。
另一种用于形成光学薄膜的涂覆组合物亦被揭露出来，其主要目的是用来形成一膜层于光学组件的表面上，用来作为该光学组件的保护层。而该涂覆组合物的特征在于包含具有2至3个反应官能(functionality)的异辛基丙烯酸酯类衍生物、甲基丙烯酸酯反应单体及光起始剂。当该涂覆组合物涂覆于一光学组件表面上，经光固化后，便形成一可透光的薄膜。然而，虽然该涂覆组合物所形成的薄膜有不错的耐冲击性及低浊度等特性，但是由于其与光学制程所使用的基材之间的黏着性匹配度不高，易导致薄膜剥落，且对于有机溶剂的耐蚀性仍嫌不足；而且，该涂覆组合物所形成的薄膜的光穿透率不高且光学性质不佳，若该涂覆组合物作为光学薄膜，则会进一步限制住该光学组件的光学特性，降低组件效率。
为了符合目前市场上的需求，目前适用于光学组件中的光学薄膜仍有许多问题需要克服，像是与组件的黏着性、薄膜的穿透度及双折射率等方面。因此，发展出具有低双折射率、高穿透率、高溶剂耐蚀性及高黏着性的光学薄膜在光学组件技术上是一项亟待解决的课题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具有低双折射率、高穿透率及高溶剂耐蚀性的光学涂布层合物，而此光学涂布层合物具有一由一光硬化涂覆组合物经光硬化后所形成的硬化光学膜层，且此光硬化涂覆组合物所形成的光学膜层具有低双折射率、高穿透率、低浊度等光学特性，并提供良好接着性与化学溶剂抗蚀性以及高耐候性等特性，极适用于所有光学组件的制造技术上。
本发明的另一目的，是在于提供如本发明所述的具有低双折射率、高穿透率及高溶剂耐蚀性的光学涂布层合物的制造方法，以获至如本发明所述的光学涂布层合物。
为达上述目的，本发明所述的具有低双折射率、高穿透率及高溶剂耐蚀性的光学涂布层合物，是包括：
一具有一欲涂布面的基材。其中该基材可为任何光学组件或其部件，例如为热塑性可挠曲基材、液晶显示器的基材及具光学特性的热塑性基材；基材在选用上并无特别的限制，且该基材亦无需预先进行像是电晕处理(corona discharge)、上光处理(primer coating)、火焰处理(flametreatment)或是离子体处理(plasma treatment)等表面处理；以及
一形成于该基材涂布面的由一光硬化涂覆组合物经光硬化后所形成的硬化层，其中该硬化层具有一双折射率(birefringence)为5.0×10-4以下，而该光硬化涂覆组合物是由下列成份所构成：
(a)30至85重量百分比的丙烯酸酯类化合物，而其中该丙烯酸酯类化合物是包含：
(i)具有1至3反应官能(functionality)的第一丙烯酸酯类化合物；
(ii)具有4至6反应官能的第二丙烯酸酯类化合物；
其中成份(i)与成份(ii)的比例是由6∶1至1∶2；
(b)15至40重量百分比的至少一种含有1至15％(以重量计)羟基或氨基的反应性寡聚合物(oligomer)；以及
(c)0.1至10重量百分比的光起始剂(photoinitiator)；
其中上述该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量总和为基准。
根据本发明所述的具有低双折射率、高穿透率及高溶剂耐蚀性的光学涂布层合物，其中该光硬化涂覆组合物的丙烯酸酯类化合物其平均反应官能是为2.0至4.0之间，且其中该光硬化涂覆组合物的第一丙烯酸酯类化合物甲基丙烯酸酯类衍生物、乙基丙烯酸酯类衍生物、丁基丙烯酸酯类衍生物、异辛基丙烯酸酯类衍生物、甲基丙烯酸甲酯衍生物、丙烯酸-2-羟基乙酯衍生物、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基丙酯衍生物、丙烯醯胺、γ-甲基丙烯醯丙基三甲氧基硅烷、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯类衍生物、二甲基丙烯酸-1，6-己二醇酯、二丙烯酸-1，6-己二醇酯、二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯、二丙烯酸对新戊二醇酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯及三羟甲基丙烷季戊四醇三丙烯酸酯所组成的族群中。
根据本发明所述的具有低双折射率、高穿透率及高溶剂耐蚀性的光学涂布层合物，其中该光硬化涂覆组合物的第二丙烯酸酯类化合物是择自由季戊四醇四丙烯酸酯类衍生物、乙氧基季戊四醇四丙烯酸酯类衍生物、二季戊四醇五丙烯酸酯类衍生物及二季戊四醇六丙烯酸酯类衍生物所组成的族群中。
另一方面，该光硬化涂覆组合物的反应性寡聚合物是包括聚酯二丙烯酸脂、聚亚醯胺二丙烯酸酯、胺基甲酸二丙烯酸酯或环氧二丙烯酸酯，且该光硬化涂覆组合物其第一丙烯酸酯类化合物其重量百分比是为20至60及其第二丙烯酸酯类化合物其重量百分比是为10至35，其中该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量总和为基准。
在一较佳实施例中，本发明所述的具有低双折射率、高穿透率及高溶剂耐蚀性的光学涂布层合物，其中该光硬化涂覆组合物可更包括重量百分比是为0.1至10的添加剂，其中该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量总和为基准，而该添加剂是包括均化剂、填料及除沫剂。
在本发明所述的具有低双折射率、高穿透率及高溶剂耐蚀性的光学涂布层合物，其中该光硬化涂覆组合物其成份(b)反应性寡聚合物的极性官能基所占重量比(以该光硬化涂覆组合物总重为基准)是与该基材的表面极性成正比。
本发明亦关于一种形成具有低双折射率、高穿透率及高溶剂耐蚀性的光学涂布层合物的方法，包括：
提供一基材，其上具有一预涂布面；以及
形成一由一光硬化涂覆组合物所组成的膜层于该基材的预涂布面上，并以一光线照射该由光硬化涂覆组合物所组成的膜层，使在该基材的表面上形成一硬化层，其中该硬化层具有一双折射率(birefringence)为5.0×10-4以下，而该光硬化涂覆组合物是由下列成份所构成：
(a)30至85重量百分比的丙烯酸酯类化合物，而其中该丙烯酸酯类化合物是包含：
(i)具有1至3反应官能(functionality)的第一丙烯酸酯类化合物；
(ii)具有4至6反应官能的第二丙烯酸酯类化合物；
其中成份(i)与成份(ii)的比例是由6∶1至1∶2；
(b)15至40重量百分比的至少一种含有1至15％(以重量计)羟基或氨基的反应性寡聚合物；以及
(c)0.1至10重量百分比的光起始剂(photoinitiator)；
其中上述该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量为基准。
本发明所述的具有低双折射率、高穿透率及高溶剂耐蚀性的光学涂布层合物，主要是形成一由光硬化涂覆组合物所形成的硬化层于一基材，而该硬化层是具有一溶剂抗蚀性(solvent resistance)，使得具有该硬化层的基材表面对于包括酮类溶剂、醇类溶剂、酯类溶剂或芳香族类溶剂具有抗蚀的作用；且该具有该硬化层的基材表面耐候性(weatherability)是为1,000小时以上，且在80℃及90％相对湿度(relative humidity，RH)的条件下测得。
具体实施方式
实施例一：
光硬化涂覆组合物的制备：
首先，取一反应瓶，将二季戊四醇五丙烯酸酯(dipentaerythritolpentaacrylate)57.1mmol、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(trimethylolpropane triacrylate)59.2mmol、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯(2-Hydroxyethyl methacrylate)346mmol及光起始剂2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮(2，2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone，BDMK)19.5mmol置于该反应瓶中，接着，将上述化合物在室温下混合搅拌2小时，得到一淡黄色透明紫外线光硬化涂覆组合物。
光学涂布层合物的形成：
然后，将上述的紫外线光硬化涂覆组合物使用旋转涂布法(2000rpm，2min)涂布于塑料基材(如TAC)上，以聚光型高压水银灯(120W/cm)，照射能量为1712mJ/cm2，使其硬化作成塑料基材上的保护层，厚度5～8μm，而上述将紫外线光硬化涂覆组合物的形成方法亦可为喷雾涂布法、浸渍涂布法、线棒涂布法、流动涂布法、旋转涂布法、网印法或是卷带式涂布法。
实施例二：
光硬化涂覆组合物的制备：
首先，取一反应瓶，将二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritolhexaacrylate)51.9mmol、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(trimethylolpropanee triacrylate)74.0mmol、二甲基丙烯酸-1，6-己二醇酯(1，6-Hexanediol dimethacrylate)19.7mmol、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯(2-Hydroxyethyl methacrylate)242mmol、UE-11(德谦公司提供，主成份是为环氧双丙稀酸脂)4mmol及光起始剂Ciba Irgacure 184(主成份为羟基环已基苯基酮)17.2mmol置于该反应瓶中，接着，将上述化合物在室温下混合搅拌2小时，得到一淡黄色透明紫外线光硬化涂覆组合物。
光学涂布层合物的形成：
将上述的紫外线硬化型组成物使用旋转涂布法(2000rpm，2min)或线棒涂布法均匀涂布于塑料基材(如TAC)上，以聚光型高压水银灯(120W/cm)，照射能量为1460mJ/cm2，使其硬化作成塑料基材上的保护层，厚度3～5μm。
光学涂布层合物的评估方式：
接着，分别对实施例一及实施例二所制备而成的光学涂布层合物进行黏着性测试、耐溶剂测试、耐候测试、制品穿透度与浊度及制品位相差测试，结果是如表一所示，而测试方式是说明如下：
黏着性测试(胶带测试)：使用透明胶带(3M，#600)紧密贴合于上述层合物的光硬化涂布组合物硬化层上，数分钟后快速撕移胶带，以测式该硬化层是否未被破坏。以上述方式依CNS 10757 or JIS-K6801对本发明所述的光学涂布层合物进行百格附着性测试，达到0/100即通过测试。
耐溶剂测试：将欲评估的化学溶剂，像是MEK、MPK、甲苯(toluene)、乙酸乙醇(ethyl acetate)、环戊酮(cyclopentanone)、丙酮(acetone)等，滴数滴在光硬化涂布组合物硬化层上，静置10分钟后观察薄膜是否变形扭曲或是表面是否有白化或被侵蚀的现象。若无以上情况表示薄膜通过抗溶剂性测试。
耐候测试：将具有光硬化涂布组合物硬化层的塑料基材(TAC)层合物，取适当大小黏贴于玻璃上，置入高温高湿机(80℃，90％RH)以及80℃干燥空气进行500小时以上耐候测试。
制品穿透度(T％)及浊度(H％)测试：以浊度仪量测(Hazemeter ModelTC-HIII)对该光硬化涂布组合物硬化层进行测试。
制品位相差测试：是以Kobra-21ADH对该光硬化涂布组合物硬化层进行量测。所有制品均以0JI生产的Kobra birefriegnce analyzer依SOP执行量测，相同的机台在业界已被采用。
| 实施例一 | 实施例二 | ||||||||||
| 接着测试 | 耐溶剂测试 | 穿透度(％) | 浊度(％) | 位相差 | 接着测试 | 耐溶剂测试 | 穿透度(％) | 浊度(％) | 位相差 | ||
| 耐候测试80℃，dry | 测试前 | ◎ | ◎ | 92.6 | 0.1 | 0.7 | ◎ | ◎ | 92.6 | 0.2 | 0.7 |
| 测试后 | ◎ | ◎ | 92.4 | 0.1 | 1.0 | ||||||
| 耐候测试80℃，90％RH | 测试前 | ◎ | ◎ | 92.6 | 0.1 | 0.9 | |||||
| 测试后 | ◎ | ◎ | 90.7 | 3.2 | 1.6 | ||||||
*◎＝通过；TAC的穿透度＝92.8％，浊度＝0.4％，位相差＝0.3
表一：本发明实施例所得的光硬化涂布组合物硬化层其物理及光学性质评估结果
由表一可知，依据本发明实施例所得的具有光硬化涂布组合物硬化层的光学涂布层合物，其穿透度及浊度的值皆与未形成硬化层于其上的TAC塑料基材相差不大，也就是说于在基材上形成本发明所形成的光硬化涂布组合物硬化层并不会影响该基材的穿透度、浊度及位相差，且根据本发明所述的光学涂布层合物其亦具有极佳的高溶剂耐蚀性、附着性及耐候性。
再者，将本发明所述的光硬化涂布组合物硬化层形成于基材上，其制品位相差亦与未形成硬化层的基材相距不大。而所谓制品位相差，是为制品光学性质的一种度量，可以表示光通过制品时，在两互相垂直投影方向移动速度的快慢。其值等于制品双折射率(birefringence，Δn)与厚度(d)的相乘积。若相位差值越小，表示光通过制品前后特性影响越小。目前依本发明所得的制品其量测到的相位差均小于2nm，与习知技术相比，本发明所述的光硬化涂布组合物硬化层其双折射率是非常的低。
Claims (25)
1.一种光学涂布层合物，其特征在于所述光学涂布层合物是包括：
一基材；以及
一形成于该基材的由一光硬化涂覆组合物经光硬化后所形成的硬化层，其中该硬化层具有一双折射率(birefringence)为5.0×10-4以下，而该光硬化涂覆组合物是由下列成份所构成：
(a)30至85重量百分比的丙烯酸酯类化合物，而其中该丙烯酸酯类化合物是包含：
(i)具有1至3反应官能(functionality)的第一丙烯酸酯类化合物；
(ii)具有4至6反应官能的第二丙烯酸酯类化合物；
其中成份(i)与成份(ii)的比例是由6∶1至1∶2；
(b)15至40重量百分比的至少一种含有1至15％(以重量计)羟基或氨基的反应性寡聚合物(oligomer)；以及
(c)0.1至10重量百分比的光起始剂(photoinitiator)；
其中上述该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量总和为基准。
2.根据权利要求1所述的光学涂布层合物，其特征在于：该光硬化涂覆组合物的丙烯酸酯类化合物其平均反应官能是为2.0至4.0之间。
3.根据权利要求1所述的光学涂布层合物，其特征在于：该光硬化涂覆组合物的第一丙烯酸酯类化合物甲基丙烯酸酯类衍生物、乙基丙烯酸酯类衍生物、丁基丙烯酸酯类衍生物、异辛基丙烯酸酯类衍生物、甲基丙烯酸甲酯衍生物、丙烯酸-2-羟基乙酯衍生物、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基丙酯衍生物、丙烯醯胺、γ-甲基丙烯醯丙基三甲氧基硅烷、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯类衍生物、二甲基丙烯酸-1，6-己二醇酯、二丙烯酸-1，6-己二醇酯、二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯、二丙烯酸对新戊二醇酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯及三羟甲基丙烷季戊四醇三丙烯酸酯所组成的族群中。
4.根据权利要求1所述的光学涂布层合物，其特征在于：该光硬化涂覆组合物的第二丙烯酸酯类化合物是择自由季戊四醇四丙烯酸酯类衍生物、乙氧基季戊四醇四丙烯酸酯类衍生物、二季戊四醇五丙烯酸酯类衍生物及二季戊四醇六丙烯酸酯类衍生物所组成的族群中。
5.根据权利要求1所述的光学涂布层合物，其特征在于：该光硬化涂覆组合物的反应性寡聚合物是包括聚酯二丙烯酸脂、聚亚醯胺二丙烯酸酯、胺基甲酸二丙烯酸酯或环氧二丙烯酸酯。
6.根据权利要求1所述的光学涂布层合物，其特征在于：该光硬化涂覆组合物其第一丙烯酸酯类化合物其重量百分比是为20至60，其中该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量总和为基准。
7.根据权利要求1所述的光学涂布层合物，其特征在于：该光硬化涂覆组合物其第二丙烯酸酯类化合物其重量百分比是为10至35，其中该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量总和为基准。
8.根据权利要求1所述的光学涂布层合物，其特征在于：该光硬化涂覆组合物更包括：
(d)重量百分比是为0.1至10的添加剂，其中该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量总和为基准。
9.根据权利要求8所述的光学涂布层合物，其特征在于：该光硬化涂覆组合物其成份(d)的添加剂是包括均化剂、填料或除沫剂。
10.根据权利要求1所述的光学涂布层合物，其特征在于：该光硬化涂覆组合物其成份(b)反应性寡聚合物的极性官能基所占重量比(以该光硬化涂覆组合物总重为基准)是与该基材的表面极性成正比。
11.根据权利要求1所述的光学涂布层合物，其特征在于：该基材是为一热塑性基材。
12.根据权利要求11所述的光学涂布层合物，其特征在于：该热塑性基材是包括热塑性可挠曲基材、液晶显示器的基材或具光学特性的热塑性基材。
13.根据权利要求1所述的光学涂布层合物，其特征在于：该层合物的硬化层是具有一溶剂抗蚀性(solvent resistance)，使得具有该硬化层的基材表面对于包括酮类溶剂、醇类溶剂、酯类溶剂或芳香族类溶剂具有抗蚀的作用。
14.根据权利要求1所述的光学涂布层合物，其特征在于：具有该硬化层的基材表面耐候性(weatherability)是为1,000小时以上，是在80℃及90％相对湿度(relative humidity，RH)的条件下测得。
15.一种形成光学涂布层合物的方法，包括：
提供一基材，其上具有一预涂布面；以及
形成一由一光硬化涂覆组合物所组成的膜层于该基材的预涂布面上，并以一光线照射该由光硬化涂覆组合物所组成的膜层，使在该基材的表面上形成一硬化层，其中该硬化层具有一双折射率为5.0×10-4以下，而该光硬化涂覆组合物是由下列成份所构成：
(a)30至85重量百分比的丙烯酸酯类化合物，而其中该丙烯酸酯类化合物是包含：
(i)具有1至3反应官能(functionality)的第一丙烯酸酯类化合物；
(ii)具有4至6反应官能的第二丙烯酸酯类化合物；
其中成份(i)与成份(ii)的比例是由6∶1至1∶2；
(b)15至40重量百分比的至少一种含有1至15％(以重量计)羟基或氨基的反应性寡聚合物；以及
(c)0.1至10重量百分比的光起始剂(photoinitiator)；
其中上述该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量为基准。
16.根据权利要求15所述的形成光学涂布层合物的方法，其中该光硬化涂覆组合物的丙烯酸酯类化合物其平均反应官能是为2.0至4.0之间。
17.根据权利要求15所述的形成光学涂布层合物的方法，其中该光硬化涂覆组合物的第一丙烯酸酯类化合物是择自由甲基丙烯酸酯类衍生物、乙基丙烯酸酯类衍生物、丁基丙烯酸酯类衍生物、异辛基丙烯酸酯类衍生物、甲基丙烯酸甲酯衍生物、丙烯酸-2-羟基乙酯衍生物、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基丙酯衍生物、丙烯醯胺、γ-甲基丙烯醯丙基三甲氧基硅烷、1，4-丁二醇二甲基丙烯酸酯类衍生物、二甲基丙烯酸-1，6-己二醇酯、二丙烯酸-1，6-己二醇酯、二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯、二丙烯酸对新戊二醇酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯及三羟甲基丙烷季戊四醇三丙烯酸酯所组成的族群中。
18.根据权利要求15所述的形成光学涂布层合物的方法，其中该光硬化涂覆组合物的第二丙烯酸酯类化合物是择自由季戊四醇四丙烯酸酯类衍生物、乙氧基季戊四醇四丙烯酸酯类衍生物、二季戊四醇五丙烯酸酯类衍生物及二季戊四醇六丙烯酸酯类衍生物所组成的族群中。
19.根据权利要求15所述的形成光学涂布层合物的方法，其中该光硬化涂覆组合物的反应性寡聚合物是包括聚酯二丙烯酸脂、聚亚醯胺二丙烯酸酯、胺基甲酸二丙烯酸酯或环氧二丙烯酸酯。
20.根据权利要求15所述的形成光学涂布层合物的方法，其中该光硬化涂覆组合物其第一丙烯酸酯类化合物其重量百分比是为20至60，其中该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量为基准。
21.根据权利要求15所述的形成光学涂布层合物的方法，其中该光硬化涂覆组合物其第二丙烯酸酯类化合物其重量百分比是为10至50，其中该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量为基准。
22.根据权利要求15所述的形成光学涂布层合物的方法，其中该光硬化涂覆组合物更包括：
(d)重量百分比是为0.1至10的添加剂，其中该重量百分比是以成份(a)及(b)的重量为基准。
23.根据权利要求15所述的形成光学涂布层合物的方法，其中该基材是为一热塑性基材。
24.根据权利要求15所述的形成光学涂布层合物的方法，其中该热塑性基材是包括热塑性可挠曲基材、液晶显示器的基材或具光学特性的热塑性基材。
25.根据权利要求15所述的形成光学涂布层合物的方法，其中形成该光硬化涂覆组合物所组成的膜层于该基材上的方法是为喷雾涂布法、浸渍涂布法、线棒涂布法、流动涂布法、旋转涂布法、网印法或卷带式涂布法。
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