CN1606793A - 用于等离子沉积法处理物件的装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及用于等离子沉积法处理物件的一种装置，所述装置包括：减小压力下的密封处理室(1)，所述处理室的一壁(4)上有一可封闭通道(2)，所述通道可在处理室(1)内、外部之间传送需处理物件(3)；传送空间(5)，所述空间可通过所述通道(2)与处理室(1)相连，以使需处理物件(3)进入处理室(1)之前，先进入传送空间(5)内。本发明的特征在于传送空间(5)由非连续壁(6，7)限定，且相对于处理室(1)是活动的，以能通过处理室(1)的通道(2)。

Description

用于等离子沉积法处理物件的装置

技术领域

本发明涉及一用于等离子沉积法处理物件的装置。需处理物件例如为管件，如裙部、凸肩或塞子。

准确地说，它涉及一组件，所述组件由一处理室及和处理室相连的一传送空间构成。需处理物件进入处理室之前，需先导入传送空间里，处理是在减小压力下实施的。

背景技术

美国专利US 4 816 638中描述了用于等离子沉积法的一处理室。处理室与用作减压室的一传送室相连。

美国专利US 4 861 563中所描述了一组件，所述组件有一设置在传送室内的活动处理室。

目前技术状态下的装置，尽管可应用在自动化系统中，但实施相对复杂，处理物件的特征表现为步骤繁多，其中对某一物件的处理时间相对较长。

因此，最好能有一性能更出色的处理室—传送室系统。

发明内容

本发明恰可避免前面所述的相关不足，所述发明涉及用于等离子沉积法处理物件的一装置，所述装置包括：

——一减小压力下的密封处理室，所述处理室的一壁上有一可封闭通道，所述通道允许需处理的物件进出所述处理室，

——一传送空间，所述空间可通过所述通道与处理室相连，以使需处理物件进入处理室之前，先进入传送空间内，

本发明的特征尤其在于传送空间：

——由非连续壁限定，

——相对于处理室是活动的，以能通过处理室的通道。

如后文中所述的，传送空间具有双重功能：传送需处理物件时的支承功能，及处于特定位置上时的减压功能。

所述双重功能极大简化了装置的结构。另外，根据本发明的装置尤其适合自动化应用。

从本发明中还可发展出众多变型。

传送空间可被处理室外、其通道附近的一驱动系统移动。

还可设计可完全穿过处理室的驱动系统。

根据一最佳实施方式，限定传送空间的部分壁可用于封闭处理室的通道。

根据本发明的一特别优化变型，处理室的通道延伸至所述处理室之外，形成一空心体，如圆柱体，其侧壁是密封的。

选择限定传送空间的壁及规定其尺寸，以使传送空间移动时，能形成一临时的活动减压室。

限定传送空间的壁，例如可利用连接所述壁的一杆，彼此相互固定，整个又与一驱动系统如伸缩式系统连为一体。

最好，限定传送空间的壁彼此独立于驱动系统而固定，所述驱动系统例如由一框构成，所述框可沿平行于传送空间移动的方向滑移。所述配置可使传送空间完全释放开除需处理物件之外的任何物件。

根据本发明的一特别优化配置，限定传送空间的壁由两平行圆盘构成，传送空间即为两圆盘之间的容积。各圆盘的外表面固定在作为驱动系统一部分的一机件上。

如上所述，本发明的特征尤其在于，处理室和传送空间彼此相对活动的，这即意味着可有一配置，在所述配置中，处理室固定而处理空间是活动的，或反之，处理室是活动而处理空间是固定的。

附图说明

后文将参照以下附图，以更详细地描述本发明：

图1示出了本发明第一实施方式的正面视图。

图2示出了图1中所示实施方式的俯视图。

图3示出了本发明第二实施方式的正面视图。

图4示出了本发明第三实施方式在第一位置上的正面视图。

图5示出了图4中所示实施方式在第二位置上的正面视图。

图6示出了图4中所示实施方式在第三位置上的正面视图。

图7示出了图4至6中所示实施方式的俯视图。

具体实施方式

各图中各共同部件均用相同数字标号表示。

图1中所示装置包括密封处理室1，所述处理室内的部件(图中未示出)可在所述室内形成真空，通过等离子沉积法处理一个或多个物件3。处理室1的顶壁4上有一通道2，所述通道连通处理室的内外。

如图2所示，处理室1和其通道2的截面均为圆形。形成一空心圆柱体的通道2向处理室1内部延伸。

在处理室1外面、通道2的延长部分里，有一传送空间5，所述传送空间由两平行圆壁6、7确定，所述两壁通过杆11，中心彼此相对固定。上圆盘6固定在伸缩式轴9上，所述轴可被一马达(图中未示出)驱动。伸缩式轴9本身又固定在装置上方的转子12内。

图3中所示装置与图1、2中的相同，只除了伸缩式轴及其马达放在装置下方，伸缩式轴以密封方式穿过处理室的内壁。

图4至7中所示的装置与前面各图中的装置仍存在一些共同点。但其不同处在于，限定传送空间5的圆盘6、7彼此独立于滑动框10而固定，所述滑动框在处理室1两侧延伸。事实上，内圆盘7形成圆柱体12的顶部，而所述圆柱体为滑动框的一部分。处理室1的底壁14内有一孔13，所述孔的截面大致等于圆盘6、7的直径。空心或实心圆柱12的长度是如此的：当其移动时，它可长久封闭住处理室1底壁14上的孔13。

图4至7中所示装置运行如下：

如图4所示，在第一步中，需处理物件3，例如借助一自动臂，安放在传送空间5那侧的内圆盘7的表面上。然后，滑动框10下降至图5中所示的位置。此时，传送空间5完全由圆盘6、7及延长壁8限定。在所述特定位置上，传送空间5与限定它的壁形成一密封舱，所述密封舱具有减压功能。也可装配上装置15，以在减压室内形成全部或部分真空。

上述“减压”阶段可以动态方式进行，即无需中断滑动框10移向底部的运动。当减压室形成时，尤其如果想在减压室内形成真空，仍可随时中断滑动框10的下降。

图6中所示情况为：传送空间5完全包含在处理室1内。可看到，在所述阶段，上圆盘6与处理室1的顶壁4紧密接触，以保证完全密封住所述处理室。此时，可对物件3进行处理。安放在处理室内的装置(图中未示出)可产生等离子，给物件3的表面镀上一薄层，如防扩散层。

处理完物件3后，可实施与前面所述的相反的阶段，以使装置恢复到图4中所示的构型。于是，从传送空间5中取出已处理物件3，再代以新的需处理物件。因而可立即继续处理周期。

从上述实施例中可看出本发明有一特别有利的优点，即无论传送空间处于什么位置，施加在上下圆盘上的压力总能保持平衡。因此，移动传送空间所必需的能量最少，且当在压力大于环境压力的处理室内传送时，所述创造性理念仍有效。

但这并非意味着本发明只局限于上述实施例中。

如前所述，根据本发明的理念，可衍生出相当多变型。

尤其在以下方面：

—处理室通道的截面及其延长部分不一定非为圆形，如正方形截面，同样可实现相同目的。

—还可考虑这样一传送空间：其四周绝大部分被封闭，只留有一孔，所述孔的大小刚好足够保证需处理物件的插入及取出。因此可设计包含在一滑动圆柱体中的传送空间，所述滑动圆柱体的侧壁上可有一小尺寸孔。

—圆盘之间的距离必须可实施一“减压”阶段。最好，所述距离已减至最小，以降低由于传送空间与处理室内的空间相接触而产生的压力变化。

—可实施底圆盘的几何形状，以保证当传送空间接触到处理室时，传送空间内逐渐产生真空。获得所述特性的一种方式在于，使用其周边部分上的上表面朝底部倾斜的一圆盘。

Claims (8)

1、用于等离子沉积法处理物件的装置，所述装置包括：

-一减小压力下的密封处理室(1)，所述处理室的一壁(4)上有一可封闭通道(2)，所述通道允许需处理的物件(3)进出所述处理室(1)，

-一传送空间(5)，所述空间可通过所述通道(2)与所述处理室(1)相连，以使所述需处理物件(3)进入所述处理室(1)之前，先进入所述传送空间(5)内，

本发明的特征在于，所述传送空间(5)：

-由非连续壁(6，7)限定，

-相对于所述处理室(1)是活动的，以能通过所述处理室(1)的通道(2)。

2、按照上述权利要求所述的装置，其特征在于，限定所述传送空间(5)的至少部分壁(6，7)可用于封闭所述处理室(1)的通道(2)。

3、按照上述权利要求所述的装置，其特征在于，所述处理室(1)的通道(2)延伸至所述处理室(1)之外，以便当所述传送空间在延长部分(8)内移动时，所述延长部分(8)可使所述传送空间(5)转变为一减压室。

4、按照上述权利要求所述的装置，其特征在于，限定所述传送空间(5)的壁(6，7)彼此间相互固定，所述壁整个又独立于一驱动系统(9)而相互连成一体。

5、按照权利要求1至3中任一项所述的装置，其特征在于，限定所述传送空间(5)的壁(6，7)与一滑动框(10)连成一体。

6、按照上述权利要求任一项所述的装置，其特征在于，所述处理室(1)是固定的，而所述传送空间(5)是活动的。

7、按照上述权利要求任一项所述的装置，其特征在于，所述处理室(1)是活动的，而所述传送空间(5)是固定的。

8、按照上述权利要求中任一项所述的装置的使用方法，其特征在于以下各步骤：

-把一个或多个需处理物件(3)安放在所述限定传送空间(5)的非持续壁(6，7)之一上，

-使所述壁(6，7)及所述传送空间(5)向所述处理室(1)相对移动，

-当物件进入所述减压室时，可形成一真空，

-使所述壁(6，7)及所述传送空间(5)在所述处理室(1)内相对移动，

-处理物件(3)，

-使所述壁(6，7)及所述传送空间(5)向所述处理室(1)外相对移动，

-从所述传送空间(5)中取出物件(3)。

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