CN1498855A - 水处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种水处理装置，该装置用于在保持供水箱的密封性，并且防止气体的贮存的问题的同时，通过电解处理，有效地对大厦等的供水设备中的，从供水口供给的水进行杀菌，保持水的质量。该水处理装置，其带有下述功能，即，在与供水箱(2)连接的处理水路(100)中的，电解处理机构(11)的下游侧，连接有自动排气阀(13)，该自动排气阀(13)用于将通过电解处理产生的气体排到处理水路(100)之外，并且在运转过程中将其暂时地停止，由此，促进气体流向自动排气阀(13)。由于可在装置暂时停止时，通过本身的浮力，将通过电解处理产生的气体收集于自动排气阀(13)中，将其排到处理水路(100)之外，故可在保持供水箱(2)的密封性的同时，确实防止气体贮存于该供水箱(2)内。

Description

水处理装置

技术领域

本发明涉及水处理装置，该水处理装置用于对贮存于比如，设在大厦的屋顶等处的供水箱，或池，浴缸等的各种水槽中的水进行杀菌处理。

背景技术

比如，在办公楼，公寓等的大厦中，作为用于向设置于各层的多个供水口(供水龙头，热水器的供水部等)供水的供水设备，一般设置有供水通路，该供水通路将从自来水管获取的水，暂时地贮存于设在大厦的屋顶等处的供水箱中，然后，将其从供水箱，供给到各供水口。

在上述的供水设备中，在过去，保持水的质量依赖于在自来水处理厂中，添加于自来水中的氯的杀菌力。

但是，由于多数情况是疏忽定期地对供水箱的内部进行清扫等的维修，产生菌类，藻类等的繁殖造成的水质的恶化，故有义务保证水的质量。

于是，人们提出了下述方法和实施该方法用的装置(比如，参照专利文献1)，在该方法中，对应于残留氯浓度，从氯供给器，向贮存于供水箱中的水中，供给次氯酸钠水溶液等的氯剂，进行杀菌处理。

但是，上述文献公开的方法和装置具有必须将次氯酸钠水溶液等的具有刺激性的氯剂定期地补充到氯供给器中，花费工夫，运行成本增加的问题。

于是，本发明人对将在比如，专利文献2等中公开的，对水通电，进行杀菌处理用的水处理装置与这些设备进行组合的方式进行了研究。

在上述的水处理装置中，如果在电解处理机构中，对自来水等的具有氯的水，或根据需要添加了食盐等的水通直流电流，则产生下述的电化学反应。

(阳极侧)

(阴极侧)

(阳极侧+阴极侧)

另外，可通过在上述反应过程中产生的次氯酸，或其离子(HClO、ClO^-)，氯(Cl₂)，或在反应中，只存在极短时间的活性酸等的杀菌作用，对水进行杀菌处理。

专利文献1

日本第7897/1993号发明专利申请公开公报(第0016栏～第0020栏，图1)

专利文献2

日本第170638/2001号发明专利申请公开公报(第0025栏，第0027栏～第0028栏)

发明内容

在于供水箱式的供水设备组装水处理装置的场合，最好采用下述水处理装置，连续地，或间断地对供水箱内的水进行杀菌处理。其中，设置处理水路，该处理水路用于从供水箱，获取水，在对其进行处理后，使该水返回到供水箱中，并且在该处理水路的途中，设置循环泵，该循环泵用于通过处理水路，连续地使水循环到水槽中；电解处理机构，该电解处理机构用于对在处理水路中流动的水进行通电，连续地对其进行电解处理。

在此场合，必须将供水箱的一部分打开，以便不使在上述反应过程中产生的氢气，氧气贮存于供水箱的内部。

但是，通常，将完全密封型的供水箱的一部分打开的事情从安全卫生方面考虑不太理想，也不符合自来水管道法的规定。

另外，即使在保护敞开部，仍无法阻止某种程度的异物，灰尘，垃圾等的进入，而且存在因形成保护机构而排气性能降低或花费成本的问题。

此外，在供水箱式的供水设备较多的场合，由于象前述那样，设置于大厦的屋顶等处的，没有过多的人出入的场所，故在产生设置于相同场所的水处理装置的，比如，管，或过滤用的过滤器等发生堵塞等情况，水滞留于装置内部时，如果该情况的发现滞后，则具有混入到水中的菌类等在装置内部繁殖，其流入到供水箱中，使水质恶化的危险。

还有，同样，在于水处理装置的，管的连接部等处，产生漏水，或用于电解处理机构的电极的性能变差时，如果该情况的发现滞后，则也具有产生大厦内的浸水，处理效率降低造成的水质的恶化等的问题的危险。

再有，特别是对于设置于大厦的屋顶上等处的屋外的水处理装置，还具有因风雨，灰尘，垃圾等，容易发生故障的问题。

另外，在比如，池、公共澡堂的浴缸等的，容量较大的水槽中装配水处理装置的场合，最好形成下述方案，其中，通过稀释水，将饱和浓度或者接近该程度的高浓度的食盐水稀释到任意的浓度，将在贮存于电解槽中的状态，对其进行电解处理后，或对其进行电解处理后的水暂时地贮存于与电解槽形成一体的贮水槽，然后，将具有上述杀菌作用的水作为杀菌处理剂，采用泵，将其供给到水槽中。

在上述水处理装置中，在过去，为了应对各种设置场所的状态，将电解槽和泵分别设置，但是在此场合，电解槽的设置场所与泵的设置场所是必需的，反而，存在无法充分地应对设置场所的状态的问题。

此外，对于比如，具有多个池的游乐设施，具有多个浴缸的澡堂设施等地方，在针对每个池、浴缸，设置1台装置中，存在各装置的控制复杂，并且初期成本，运行成本增加的问题。

另外，在上述水处理装置中，还具有下述危险，即，虽然也与原料水的水质有关，但是，在接纳于电解槽内的电极中的，阴极侧的电极的表面，包含于水中的钙，镁等的矿物成分作为水垢析出，其从电极的表面上脱落，将泵堵塞，或流入到水槽内，使水混浊。

还有，如果在上述水处理装置中，发生空气冲击，则还存在泵发生故障或供给水槽的水混浊的危险。

再有，在将稀释水从比如，  自来水管，井，或设置于组件之外的水箱等的供水源，直接供给到电解槽中的场合，因组件与供水源的位置关系、供水源的水压等因素，存在稀释水的水量不稳定的情况。于是，人们考虑在向电解槽供水的管的途中，设置减压阀，在装置设置时，按照水从供水源，以一定的水量，供给到电解槽的方式，调整减压阀，但是，由于减压阀按照仅仅在设置时调整后固定的方式使用，故存在设备浪费，并且添加调整作业，设置作业麻烦的问题。

本发明的目的在于提供一种没有产生上述的各种问题的危险的，新型的水处理装置。

本发明第一方案的水处理装置，按照与水槽连接的方式使用，其中，设置有用于从水槽中获取水，在对其进行处理后，使其返回到水槽中的处理水路，在该处理水路的途中，设置有：循环泵，该循环泵用于将水通过处理水路，循环到水槽中；电解处理机构，该电解处理机构用于对在处理水路中流动的水通电，对其进行电解处理；自动排气阀，该自动排气阀具有在通过电解处理机构进行电解处理时所产生的气体的排出口，其用于将气体通过该排出口，自动地排到处理水路之外；另外设置有控制机构，该控制机构具有排气促进控制部，该排气促进控制部用于使上述各部分动作，使装置运转，并且在装置的运转过程中，使电解处理机构的电解处理，与循环泵的水的循环暂时停止，由此，促进气体流入到自动排气阀。

按照本发明的第一方案，在将供水箱内的水通过处理水路，循环到供水箱内的同时，通过设置于处理水路的途中的电解处理机构，对其进行电解处理，由此，可有效地对该水进行杀菌处理，保持水的质量。

另外，在通过控制机构的排气促进控制部的功能，使水处理装置暂时停止时，通常，可通过本身的浮力将在电解处理时产生的气体，自动地，并且有效地收集到设置于电解处理机构的下游侧的处理水路的较高处的自动排气阀。接着，可通过排出口，将该已收集的气体排到处理水路之外。

于是，按照本发明的第一方案，还可在保持供水箱的密封性的同时，确实防止气体贮存于供水箱内。

本发明第二方案的水处理装置，其特征在于在处理水路中的，至少自动排气阀的下游侧部分，设置于该自动排气阀的垂直方向下方。

按照本发明的第二方案，可在将水处理装置暂时地停止时，通过本身的浮力，自动地将流入处理水路中的，自动排气阀的下游侧的气体返回到自动排气阀，通过气体的排出口，将其排到处理水路之外。

于是，按照本发明的第二方案，可进一步确实防止气体贮存于供水箱内。

本发明第三方案的水处理装置，其特征在于在设置于处理水路中的，自动排气阀的下游侧的，垂直方向下方的部分的途中，设置有水通过，而气体中的细微的气泡不通过的过滤体。

按照本发明的第三方案，由于可通过过滤体的功能，可防止气体中的细微的气泡通过其下游侧，故可更加进一步确实地防止气体贮存于供水箱内。

本发明第四方案的水处理装置，其特征在于在处理水路的途中，设置有用于检测流过该处理水路的水的流量的流量传感器，与用于关闭该处理水路的开闭阀；

在控制机构中，设置有水流异常控制部，该水流异常控制部用于在通过流量传感器检测到的水的流量小于规定值时，停止电解处理机构的电解处理，与循环泵的水的循环，并且将开闭阀关闭，防止处理水路内的水流入到水槽中，同时进行异常通报。

按照本发明的第四方案，当比如，在管或过滤用的过滤器等中发生堵塞等情况，水滞留于装置内部时，早期地发现该情况，停止装置的运转，并且关闭开闭阀，由此，可防止装置内部的水流入供水箱中的情况。

另外，还可向装置的操作人员等，通报异常，早期地消除造成水流异常的堵塞等的故障。

于是，可防止在装置内繁殖的菌类等流入供水箱，使水质恶化的情况。

本发明第五方案的水处理装置，其特征在于在电解处理机构中，设置有电流传感器，该电流传感器用于测定向水通电的电流值，并且在处理水路的途中，设置有用于关闭该处理水路的开闭阀，在控制机构中，设置有电流异常控制部，该电流异常控制部用于在通过流量传感器检测的水的电流值小于一定值时，停止电解处理机构的电解处理，与循环泵的水的循环，并且将开闭阀关闭，防止水槽中的水流入到处理水路内，同时进行异常通报。

按照本发明的第五方案，比如，在于管的连接部等处，发生漏水，或用于电解处理机构的电极性能变差时，早期地发现该情况，停止装置的运转，并且关闭开闭阀，由此，可防止供水箱的水流入装置内部的情况。

另外，还可停止装置的运转，将异常通报给操作人员等，早期地消除造成电流异常的故障。

于是，即使在停止装置的情况下，仍可防止供水箱内的水连续地从管的漏水部等处流出，浸入大厦内部的情况。另外，还可防止伴随电极的性能的变差的处理效率的降低造成的水质的恶化。另外，如果后面将要描述的DSA电极的性能显著地变差，钛制的基材露出，则具有钛离子在水中析出的危险，但是按照本发明的第五方案，还可防止该问题的发生。

本发明第六方案的水处理装置，按照与水槽连接的方式使用，其包括：电解槽，该电解槽用于对水通电，对其进行电解处理；泵，该泵用于将通过电解槽电解处理的水供给水槽；从电解槽到泵的供水管；框架，该框架用于接纳上述这些部件，形成组件；将框架内分割为第1空间和其正下方的第2空间；电解槽接纳于第1空间内，并且泵与供水管接纳于第2空间内。

按照本发明的第六方案，由于通过按照沿上下重合的方式设置电解槽和泵，可将组件的框架的设置面积减小到比目前小的程度，故简化设置作业等，可灵活地应对设置场所的状态。

本发明第七方案的水处理装置，其特征在于改设泵的朝向和位置用的泵的设置位置设置于第2空间中的多个部位。

按照本发明的第七方案，由于通过改变泵的设置位置，不改变作为组件的框架的朝向、设置位置，能够任意地改变从泵，到水槽的管的朝向、位置，故可更加灵活地应对设置场所的状态。

本发明第八方案的水处理装置，其特征在于在供水管中，设置有与多个泵的设置位置相对应的多个管连接部。

按照本发明的第八方案，由于可采用1个水处理装置，将具有杀菌作用的水作为杀菌处理剂供给到多个水槽中，故可在具有比如，多个池的游乐设施或具有多个浴缸的澡堂设施等处，简化水处理装置的控制，并且还可减小初期成本，运行成本。

本发明第九方案的水处理装置，其特征在于在电解槽中，设置有用于贮存经电解处理的水的贮水槽，并且按照供水管中的水的入口从贮水槽的底面，朝向垂直方向上方突出的方式，将供水管与贮水槽连接。

按照本发明的第九方案，由于从电极上脱落的水垢留到贮水槽的底部，故可从供水管的水的入口，获取位于水垢上面的不包括水垢的水，将其送到池中。

于是，可确实防止水垢将泵堵塞，流入水槽内，使水混浊的情况。

本发明第十方案的水处理装置，其特征在于其具有水位传感器，该水位传感器用于检测贮水槽的水位到达预定的满水位，或枯水位，上述枯水位设定于供水管的水的入口的垂直方向的上方。

按照本发明的第十方案，由于可将作为停止泵而停止来自贮水槽的送水的基准的枯水位，设定在供水管的水的入口的垂直方向的上方，故可确实防止因空气冲击而使泵发生故障或供给水槽的水混浊的情况。

本发明第十一方案的水处理装置，其特征在于在第1空间的正上方，设置有用于贮存供到电解槽的稀释水的稀释水槽。

按照本发明的第十一方案，由于在暂时地将来自供水源的水贮存于稀释水槽中后，将其供给电解槽，故可在不设置减压阀等的情况下，经常地使稀释水的水量稳定。

附图说明

图1以简化方式表示将本发明的一个实施例的水处理装置，与设置于大厦或公寓的房顶上等处的饮用水用的供水箱连接，由此在水的杀菌和供水箱内的净化所使用的结构的图；

图2为图1的水处理装置的，实体管的主视图；

图3为表示上述实例的水处理装置中的，过滤器的内部结构的一个实例的剖视图；

图4(a)，图4(b)为表示上述实例的水处理装置中的，排气阀的内部结构的一个实例的剖视图；

图5为表示上述实例的水处理装置的，电气组成的方框图；

图6为表示上述实例的水处理装置的，普通运转时的流程的流程图。

图7(a)～图7(c)为表示图6的流程图中的，副程序的流程的流程图；

图8为表示用于接纳上述实例的水处理装置的，外部盖的一个实例的立体图；

图9(a)为表示将本发明的另一实施例的水处理装置用作供给源用的组成的主视图，该供给源将具有杀菌作用的水作为杀菌处理剂供给到池、浴缸等的水槽中，图9(b)为上述实例的水处理装置的左侧视图；

图10为表示上述实例的水处理装置中的，电解槽的内部结构的剖视图；

图11(a)，图11(b)为表示上述实例的水处理装置中的，第2空间的，泵的设置位置与供水管的位置关系的俯视图。

图12为表示在第1空间正上方，设置有用于贮存供向电解槽的稀释水的稀释水槽的变形实例的示意图。

具体实施方式

图1为以简化方式表示将本发明的一个实施例的水处理装置1，与设置于大厦、公寓的房顶上等处的饮用水用的供水箱2连接，由此在水的杀菌和供水箱2内的净化所使用的结构的图。另外，图2为上述水处理装置1中的实体管的主视图。

参照这些附图，该实例的水处理装置1具有处理水路100，该处理水路100用于从供水箱2，获取水w1，通过电解处理机构11，对其进行电解处理，然后，使其再次返回供水箱2。

在图1中，标号21表示将水从自来水管等的供水源，供向供水箱2用的管，标号22表示将水从供水箱2，供向大厦，公寓的各室用的管。另外，在管21中的，与供水箱2的连接部，设置有图中未示出的浮球阀，该浮球阀伴随与上述供水箱2的水位的上下的浮子24的上下运动而实现开闭，由此，使供水箱2的水位保持在一定范围内。

另外，标号23表示用于在上述浮球阀发生故障等情况下，供水箱2的水位大于预定的上限值时，将多余的水流入排放口D1中的溢流管。

电解处理机构11象图2所示的那样，包括筒状的壳体11a和多个电极11b，该壳体11a插入形成处理水路100的管100a的途中，其直径大于管100a的直径；该多个电极11b按照相互电绝缘的方式设置于该壳体11a的内部，在图中虽然仅仅示出靠近自己一侧的一个电极，但实际上为多个电极。

图中的标号11c表示从各电极11b，分别延伸到壳体11a之外的端子部，其同时具有作用于将布线与电极11b连接的端子的功能，以及作为固定部的功能，该固定部用于通过图中未示出的，绝缘体等固定于壳体11a上，用于将电极11b定位于壳体11a内的规定位置。在图示的实例中，分别在各电极11b上，各设置2个端子部11c，以便更加确实地实现所谓的定位和固定。

作为电极11b中的阳极侧的电极，采用具有通过前述的电化学反应，产生次氯酸等的功能的电极(DSA电极)。

作为该DSA电极，比如，可例举金(Au)、铂(Pt)、钯(Pd)、铂-钯(Pt-Pd)、铂-铱(Pt-Ir)等的，在由钛(Ti)等形成的基板的整个表面上，对电化学反应时用作催化剂的贵金属的薄膜通过电镀，烘焙处理等进行涂敷处理而形成的电极。

另外，作为阴极侧的电极，可照原样采用上述钛制的基板等。

此外，特别是为了抑制阳极侧的电极的性能的急速变差，或水垢附着于阴极侧的电极上等情况，由此延长两个电极的寿命，还考虑定期地将两个电极的极性反转，进行电解处理。在此场合，可将两个电极作为DSA电极。

还有，在此实例中，象图2实线的箭头所示的那样，形成处理水路100的管100a按照水从垂直方向下方流入，朝向垂直方向上方流出的方式设置于电解处理机构11上。

由此，由上述的电化学反应而产生的氢、氧等的气体不滞留于电解处理机构11的壳体11a内，可通过水流，顺利地使该气体流出到下游侧。

参照图1，2，在处理水路100中的，电解处理机构11的上游侧，依次设置有阀V1，该阀V1用于在水处理装置1或供水箱2的维修时等场合实现关闭，将两者之间断开；电磁阀(开闭阀)V2，该电磁阀(开闭阀)V2通过来自图中未示出的控制机构的控制信号，实现开闭；循环泵P1，该循环泵P1用于使水w1在处理水路100的内部循环。

另外，在处理水路100中的，电解处理机构11的下游侧，依次设置有矿物成分补充部M1，该矿物成份补充部M1向经电解处理的水中，补给矿物；水过滤用的过滤器12；作为流量传感器S1的流量开关，其用于检测在处理水路100内部流动的水的流量；逆流阀V3，该逆流阀V3防止特别是在管100a的连接部等处产生漏水，停止水处理装置1的运转，并且在关闭电磁阀V2时，防止水从供水箱2，连续流入到下游侧的管100a的内部，从漏水部流出的情况；阀V4，该阀V4在水处理装置1，或供水箱2的维修时等情况下，实现关闭，用于将两者之间断开。

此外，在处理水路100中，从矿物成分补充部M1与过滤器12之间的分支点J1分支，象图2所示的那样，朝向垂直方向上方，延伸设置分支水路101，自动排气阀13与其顶端连接。

还有，由此，处理水路100中的，自动排气阀13的前后的部分，具体来说，从矿物成分补充部M1，到过滤器12的部分设置于该自动排气阀13的垂直方向下方，可通过自身的浮力，将在处理水路100的内部流动的气体自动地收集于自动排气阀13中。

上述各部分中的矿物成分补充部M1使比如，颗粒状的麦饭石、珊瑚砂等的天然物，或陶瓷等的人工物等的，构成矿物成分的供给源的物质呈可与水接触的柱状等形状，将其接纳于图2所示的箱M1a的内部。另外，如果通过处理水路100，将水供给到箱M1a的内部，使其与这些物质接触，则在水中，矿物成分析出，实现补充，然后，将其送出到处理水路100的下游侧。

过滤器12象图3所示的那样，包括上下关闭的筒状的壳体12a，与设置于该壳体12a的内部的筒状的过滤体12b。

另外，形成处理水路100的管100a与壳体12a的顶部连接。

此外，过滤体12b的筒状的底端通过盖体12c关闭，并且其顶端与形成于壳体12a的顶面的分隔部12e，12f连接，由此，将框架12a的内部，分隔为处理水路100的上游侧(图中的左侧，和过滤体12b的筒的外侧)，与下游侧(图中的右侧，和过滤体12b的筒的内侧)。

过滤体12b由天然，化学纤维制的无纺布等的多孔质体，特别是由相对电解水，具有抵抗性的聚氯乙烯，聚烯烃(聚乙烯)制的多孔质体形成，并且其开口直径设定为下述值，即，按照该值，在通过使循环泵P1动作，在处理水路100中产生的，预定的水压作用于筒的外侧时，水通过筒的内侧，但是，不使混入到水中的气体中的微小气泡，与矿物成分补充部M1脱离的麦饭石，珊瑚砂等的碎片，或混入到从供水箱2获取的水w1的微小的固体等通过。

在上述的过滤器12中，如果象图中的实线的箭头所示的那样，从处理水路100的上游侧，供给经电解处理的水，则该水首先流入到壳体12a内的，通过过滤体12b分隔的筒的外侧的区域，然后，通过过滤体12b，流入到筒的内侧。

但是，混入到水的气体的微小气泡或固体，借助上述过滤体12b的功能，置留于筒的外侧。

由此，在处理水路100中的，过滤器12的下游侧，将气体中的细微气泡或固体去除掉的，没有混浊的干净的水送出。

自动排气阀13象图4(a)，图4(b)所示的那样，包括上方关闭的筒状的壳体13a，该壳体13a通过设置于将分支水路101的顶部关闭的顶板101a上的开口101b，与分支水路101的内部连接；浮子13b，该浮子13b以可上下运动的方式设置于该壳体13a的内部；气体的排出口13c，该气体的排出口13c形成于壳体13a的顶部；盖体13e，该盖体13e用于对应于浮子13b的上下运动，将排出口13c关闭(图4(a))，或打开(图4(b))，其带有连杆机构13d。

电解处理机构11的电解反应时所产生的气体的微小气泡的一部分在分支点J1与主流分开，在分支水路101中上升，然后直接到达开口101b。接着，在该开口101b的附近，或通过开口101b的自动排气阀13的壳体13a的内部等处，许多气泡汇成一个，与水分离，形成较大的气团。

另外，气体的剩余部分象前述那样，流入处理水路100的，分支点J1的下游侧，在过滤体12b中，阻止其通过，由此，置留于过滤体12b的筒的外侧。接着，已置留的许多气泡汇成一个，与水分离，形成更大的气团，滞留于框架12a的顶面附近，与其连接的上游侧的管100a内，但是，特别是在用于促进排气的暂时停止时，未滞留的剩余的气体在处理水路100中反向回流，通过本身的浮力，在分支水路101中上升，到达开口101b，通过该开口101d，流入自动排气阀13的内部。

接着，这些气体g的团，或在此刻，尚未与气体g的团接触而残留的微小的气泡通过壳体13a与浮子13b之间的间隙，移动到该壳体13a内的，浮子13b的上方的区域。

如果象图4(a)所示的那样，在浮子13b位于上升位置，盖体13e关闭排出口13c的关闭状态，气体g的流入，移动连续进行，则在该壳体13a内的，浮子13b的上方的区域，气体g慢慢地累积，其内部压力慢慢地上升，伴随该情况，浮子13b慢慢地开始下降。该下降特别是在因水处理装置1的暂时停止，水压降低的状态，急速地进行。

然后，如果浮子13b下降到图4(b)所示的位置，则通过连杆机构13d，盖体13e旋转，将排出口13c打开，处于打开状态。

如果在该状态，解除水处理装置1的暂时停止，再次开始运转，则此次，借助水w1的水压，浮子13b慢慢地开始上升，伴随该情况，积累于壳体13a内的，浮子13b上方的区域的气体g通过排出口13c，排到外面。

接着，如果气体g实现排出，浮子13b上升到图4(a)所示的位置，由于通过连杆机构13d，盖体13e旋转，将排出口13c，再次处于关闭状态，故开始气体g的积累。

自动排气阀13起通过反复进行以上的动作，自动地将气体g排到外部的作用。

再次参照图1，2，在处理水路100中，在循环泵P1与电解处理机构11之间的分支点J2形成分支，在经过阀V5，延伸到排放口D1的排水通路102，与分支点J1和过滤器12之间的分支点J3处形成分支，将上述排水通路102，与在阀V6的下游侧的合流点J4汇合的排水通路103连接。阀V5，V6在水处理装置1的运转时关闭，在维修时等情况下打开，用于将水处理装置1内的水排出。

此外，在图2中，仅仅针对在处理水路100中的，阀V1的下游侧，并且阀V4的上游侧的部分进行了描述，未对阀V1，V4进行描述。另外，对于排水通路102，也仅仅对延伸到排放口D1的途中的部分进行了描述。其原因在于将图示的部分接纳于后述的外壳中，形成组件。

阀V1，V4独立于该组件，预先安装于供水箱2上。接着，在组件的设置时，图中的组件中的，处理水路100的起端100b与和阀V1连接的管连接，并且末端100c与和阀V4连接的管连接，此外，延伸到排放口D1处的管与排水通路102的末端102a连接，构成水处理装置1。

如果象这样，在水处理装置1运转时，从供水箱2，水象图中空白箭头所示的那样，通过起端100b，流入处理水路100，通过上述各部分，进行处理，然后，同样象空白箭头所示的那样，通过末端100c，返回到供水箱2。另外，在维修时等场合，如果关闭阀V1，阀V4，打开阀V5，V6，水处理装置1内的水通过排水通路102，103，象图中的涂黑箭头所示的那样，通过末端102a，排到排放口D1。

图5为表示图1的水处理装置1的，电气组成的方框图。

象图5所示的那样，水处理装置1具有控制机构30，该控制机构30对电解处理机构11的电极11b进行通电控制，使上述各部分动作。

流量传感器S1，与上述各图中未示出的，用于测定电解处理机构11的水的通电的电流值的电流传感器S2的输出提供给控制机构30。在该控制机构30的内部，设置有计时器31，该计时器31规定各种动作的时刻；存储器32，在该存储器32中登记有构成各种动作的基准的初始值等。

控制机构30根据两个传感器S1，S2的输出，由计时器31规定的时刻，以及记录于存储器32中的初始值等，进行各种运算，根据该运算结果，将控制信号提供给驱动器33。接着，驱动器33根据所提供的信号，对电极11b进行通电控制，并且，进行循环泵P1的驱动控制，另外进行电磁阀V2的开闭控制。

图6表示控制机构30的，水处理装置1的运转时的控制的一个实例。

首先，在步骤SP1，操作人员等指示水处理装置1的运转开始，此时，控制机构30在步骤SP2，读取构成预先记录于存储器32中的动作的初始值。

作为该初始值，比如，可例举：

·在水处理装置1的运转开始后，到开始流量传感器S1的流量检测，与电流传感器S2的电流值测定时的等待时间T₁；

·用于规定为了在运转中促进排气，使水处理装置1暂时停止的间隔的时间T₂；

·用于规定上述暂时停止的长度的时间T₃；

·构成根据通过电流传感器S2测定的电流值C，判断管的漏水、电极11b的性能变差的有无的基准的阈值C₁；等等。

其中，规定等待时间T₁的目的在于从使循环泵P1动作，到处理水路100内的水流稳定，另外，从对电极11b通电，到上述电化学反应稳定，花费稍少的时间。

接着，控制机构30在步骤SP3，在将电磁阀V2关闭的场合，将其打开，并且驱动循环泵P1，使水在处理水路100的内部循环，并且对电极11b通电，使电化学反应开始，由此，开始水处理装置1的运转。另外，伴随该情况，重新设定计时器31(T＝0)，开始计时。

另外，在步骤SP4，计时器31的计时时间T等待到达上述的等待时间T₁的(T＝T₁)，然后，进行步骤SP5，开始流量传感器S1的，流过处理水路100的水的流量的检测。

此外，在本实例中，由于作为流量传感器S1，如上所述，采用检测流量是大于预先设定的规定值(开关接通)，还是小于规定值(开关断开)的流量开关，故流量的检测为上述流量开关是接通，还是断开的检测。

在处理水路100的管100a或过滤体12b等没有发生堵塞的正常状态，流量开关处于接通状态。由此，控制机构30接着进行步骤SP6，开始采用电流传感器S2的，电解处理机构11的水的通电的电流值C的测定。

在管100a的漏水或电极11b的性能变差没有发生的正常状态，电流值C表示大于上述阈值C₁(C≥C₁)的值。由此，控制机构30接着进行步骤SP7，判断计时器31的计时时间T是否到达用于规定使水处理装置1暂时停止的间隔的时间T₂，在未到达的场合(T＜T₂)，进行步骤SP8，通过操作人员等，判断是否选择了水处理装置1的运转结束。

接着，在未选择运转结束的场合，返回到步骤SP4，在反复进行步骤SP4～SP8的同时，连续进行水处理装置1的运转。

另一方面，管100a或过滤体12b等中发生堵塞，流过处理水路100的水的流量降低，作为流量传感器S1的流量开关处于断开状态，此时，控制机构30在步骤SP5，检测该情况，进行图7(a)的副程序的步骤SP10。

然后，在步骤SP10，停止循环泵P1，停止电极11b的通电，停止水处理装置1的运转，接着，在步骤SP11，关闭电磁阀V2，防止水处理装置1与供水箱2之间的自由的水的流通。即，防止虽然停止循环泵P1，对应于供水箱2内的水的增减等，水流仍发生于处理水路100的内部的情况。

由此，在操作人员等走到水处理装置1的设置场所，关闭阀V1，V4的期间，即使在水处理装置1内，菌类等繁殖的情况下，仍可防止其伴随上述的水流，流入到供水箱2中，使水质变差。

接着，在步骤SP12，控制机构30使设置于控制板等的异常检测机构(警报灯、警报蜂鸣器等)动作，开始向操作人员进行异常通报，在步骤SP13，在保持该状态的同时，连续等待，直至发现该情况的操作人员指示运转停止。

之后，在步骤SP13，如果为了维修，指示运转停止，则控制机构30进行步骤SP14，停止水处理装置1的全部运转。

另外，在图6的主程序，如果产生管100a的漏水或电极11b的性能变差，通过电流传感器S2测定的电流值C小于阈值C₁(C＜C₁)，则控制机构30在步骤SP6，检测该情况，进行图7(b)的副程序中的步骤SP15。

然后，在步骤SP15，停止循环泵P1，并且停止对电极11b的通电，停止水处理装置1的运转，接着，在步骤SP16，关闭电磁阀V2。

如果这样，特别是在发生漏水的场合，防止下述情况，即，对于上述电磁阀V2与逆流阀V3，在操作人员等到达水处理装置1的设置场所，关闭阀V1，V4的期间，如上所述，水从供水箱2，流入到管100a的内部，从漏水部，连续地流出。

接着，与上述的场合相同，即使在菌类在水处理装置1内部繁殖的情况下，仍也可防止其伴随上述的水流，流入到供水箱2中，使水质变差。

之后，在步骤SP17，控制机构30使异常通报机构动作，开始向操作人员等通报异常，在步骤SP18，保持该状态，同时连续进行等待，直至发现该情况的操作人员等指示运转停止。

此外，在步骤SP18，如果为了进行维修，指示运转停止，则控制机构30进行步骤SP19，停止水处理装置1的全部运转。

另外，如果在图6的主程序中，在步骤SP5和步骤SP6，未对上述这样的异常进行检测，连续地进行正常的运转，则不久，上述计时器31的计时时间T到达上述的时间T₂(T＝T₂)。

如果象这样，则控制机构30在步骤SP7，检测该情况，进行图7(c)的副程序的步骤SP20。

接着，在步骤SP20，停止循环泵P1，并且停止对电极11b的通电，暂时地停止水处理装置1的运转，并且重新设定计时器31，开始暂时停止的时间的计时。

然后，在步骤SP21，在计时器31的计时时间T到达规定前述的暂时停止的长度的时间T3之前，连续处于暂时停止状态，然后，进行步骤SP22，驱动循环泵P1，使水在处理水路100的内部循环，并且对电极11b进行通电，开始电化学反应，再次开始水处理装置1的运转。另外，伴随该情况，重新设定计时器31(T＝0)，开始计时，返回到图6的主程序的步骤SP4，处理水路100内的水流稳定，并且在从对电极11b进行通电，到电化学反应稳定的期间，在步骤SP4，进行等待，然后，反复进行步骤SP4～SP8，连续进行普通运转。

接着，如果在步骤SP8，操作人员等指示水处理装置1的运转停止，则控制机构30进行步骤SP9，停止循环泵P1，并且停止对电极11b的通电，结束水处理装置1的运转。

可通过进行以上的控制，对处理水路100的堵塞，漏水，电极11b的性能变差等的发生进行监视，同时，对供水箱2内的水进行杀菌处理。

图8为表示用于接纳上述实例的水处理装置1中的，图2所示的组件的，外壳4的外观的立体图。

图示的外壳4呈长方体形状，在其底板40上设置有图2的组件。标号41表示与上述底板40形成一体的背板。另外，标号42表示外壳主体，其构成长方体中的除了上述底板40和背板41这2个面以外的其它的4个面，并且象图中的黑色箭头和空白箭头所示的那样，沿前后相对底板40滑动而实现开闭。

在外壳主体42在从图中的半开状态，象黑色箭头所示的那样，向里部滑动，实现完全关闭的状态，通过螺钉N，将其与底板40和背板41固定。另外，也可在将锁头穿过在该固定状态相互重合的，背板41中的孔41a和外壳主体42中的孔42a的情况下实现锁定。这样，还可防止伴随该情况，操作人员以外的，未持握键的第3者与水处理装置1接触的情况，使安全性提高。

图9(a)为表示本发明的还一实施例的水处理装置1用作向池、浴缸等的水槽中，供给作为杀菌处理剂的，具有杀菌作用的水的供给源的组成的主视图，图9(b)为上述水处理装置1的左侧视图。

象在这些图中所看到的那样，本实例的水处理装置1将用于对水进行通电，对其进行电解处理的电解槽14；用于将经电解槽14电解处理的水供给图中未示出的水槽的泵P2；从电解槽14，到泵P2的供水管104接纳于框架15内，形成组件。

框架15分为接纳电解槽14的第1空间15a，与其正下方的，接纳泵P2和供水管104的第2空间15b，形成层状结构。由此，可使框架15的设置面积比目前小的程度，可灵活地对应设置场所的状态。

电解槽14在此实例的场合，象图10所示的那样，具有在顶面设有开口的壳体14a，与将上述开口封闭的盖体14b，并且通过分隔板14c将壳体14a的内部分为两个部分，其中一个部分为接纳电极16的电解槽区域14d，虽然图中只示出靠近自己一侧的一个，但是实际为多个，另一部分为用于储存通过电极槽区域14d电解处理的水w3。

图中的标号16a表示从各电极16，分别延伸到盖体14b上的端子部，其连接图中未示出的，电源的布线。另外，标号105为用于将按照规定的浓度将稀释水和食盐水混合而形成的水w2供给到电解槽区域14d中的管。

如果从管105，连续地，或间断地，向电解槽区域14d，供给水w2，同时对电极16进行通电，则水w2在该电解槽区域14d的内部，受到电解处理，形成具有杀菌作用的水w3，然后，从分隔板14c的部分溢出，供给、贮存到邻接的贮水槽区域14e。

在该贮水槽区域14e的底部，按照从该贮水槽区域14e的底面，朝向垂直方向上方突出尺寸h₁的方式，连接有供水管104的水的入口104a。由此，即使在水垢从电极16上脱落的情况下，仍可使其滞留于贮水槽区域14e的底部，可从供水管104的水的入口104a，获取位于其水垢上面的不包括水垢的水w3，将其送到泵P2。于是，可防止水垢将泵P2堵塞，流入水槽内，使水混浊的情况。

标号S3表示用于检测贮存于贮水槽区域14e的内部的水w3的水位的水位传感器。

该水位传感器S3具有从盖体14b的底面，朝向贮水槽区域14e的底面延伸的3个电极S3a～S3c。

其中，共用电极S3a按照其前端在贮水槽区域14e的底面附近的，供水管104的水的入口104a之下，即，经常具有水w3的高度延伸设置。另外，枯水位电极S3b的前端延伸到预先设定的贮水槽区域14e的枯水位的高度，满水位电极S3c的前端延伸到预先设定的贮水槽区域14e的满水位的高度。

水位传感器S3通过下述方式，检测枯水位，该方式为：贮水槽区域14e的水位下降，枯水位电极S3b的前端与水离开，该枯水位电极S3b与共用电极S3a的导通隔断，反之，通过下述方式，检测满水位，该方式为：水位上升，满水位电极S3c的前端与水接触，该满水位电极S3c与共用电极S3a导通。

接着，根据该检测结果，驱动控制泵P2，或后面将要描述的稀释水槽的泵、食盐水槽的泵等，在上述枯水位与满水位之间，调整贮水槽区域14e的水位。

具体来说，比如，基本上根据池等的水槽的，残留氯浓度的测定结果等对泵P2进行驱动控制，但是在通过水位传感器S3，检测到枯水位时，与上述驱动控制无关，强制地将其停止。另外，稀释水槽的泵或食盐水槽的泵在通过水位传感器S3，检测到枯水位时驱动，在检测到满水位时，使其停止。

由此，在通常状态，将贮水槽区域14e的水位调整到枯水位与满水位之间，而不在上述水位以下，也不在上述水位以上。另外，由枯水位电极S3b的前端的高度规定的枯水位以尺寸h₂设定于供水管104的水的入口104a的垂直方向上方处。

于是，水的入口104a在水面上露出，空气不浸入到供水管104内，由此，可防止发生空气冲击，由此使泵P2发生故障或供到水槽内的水混浊的情况。

标号106表示排放管，该排放管用于在供水管104堵塞，泵P2发生故障，贮水槽区域14e的水位超过满水位时，将剩余的水w3排到槽外。

参照图9(a)，图9(b)和图11(a)，供水管104按照依次将纵向管104b，2个弯管104c，104d与横向管104e连接的方式构成，该纵向管104b从电解槽14的底部，朝向垂直方向下方延伸，到达框架15中的，构成第2空间15b的底板15c的附近处，该横向管104e设置于呈矩形状的底板15c的，其中一个长边的附近。其中，纵向管104b的顶端构成上述的水的入口104a。

另外，在横向管104e的侧面，象图9(a)中的虚线所示的那样，设置有用于连接泵P2的管的，多个(在图中，为4个)管连接部104f，未连接管的管连接部104f在图中未示出，通过可拆下的水龙头关闭。

此外，在横向管104e的末端，通过弯管104g，连接有朝向垂直方向上方延伸的纵向管104h，上述纵向管104h的顶端与上述排放管106连接。

设置纵向管104h的目的在于将混入到供水管104的内部的空气，或上述气体等的微小气泡送到排放管106中，将其从供水管104a中去除。

还有，标号V7，V8表示阀，该阀用于在水处理装置1维修时等场合，关闭纵向管104b，104h，隔断电解槽14和供水管104。

上述供水管104可通过改变弯管104c、104d、104g和横向管104e的方向，象图11(b)所示的那样，将横向管104e，改设于图11(a)的相反侧的，底板15c的长边的附近。

再有，在底板15c上，将横向管104e设置于图11(a)的位置时，能够设置泵P2的设置位置A1按照其数量与管连接部104f相同的4个部位设置，并且将横向管104e设置于图11(b)的位置时能够设置泵P2的设置位置A2仍按照其数量与管连接部104f相同的4个部位设置。

由此，可将1台泵P2设置于8个设置位置A1，A2中的任何一个位置，进行水槽的管的铺设，由此，可在不改变作为组件的框架的朝向和设置位置的情况下，更加灵活地应对可任意地改变从泵到水槽的管的朝向和位置的，设置场所的状态。

另外，由于还可将2台以上的多台的泵P2设置于多个设置位置A1，A2，将水w3供给到多个水槽，故可简化具有比如，多个池的游乐设置或具有多个浴缸的澡堂设施等中的水处理装置的控制，并且还可降低初期成本，运行成本。

标号107表示用于在水处理装置1的维修时等情况下，电解槽14中的，将上述电解槽区域14d中的水排出的排水管，通常，其通过将设置于途中的阀V9关闭而实现封闭。另外，标号108同样表示用于排放贮水槽区域14e中的水的排水管，通常，其通过将设置于途中的阀V10关闭而实现封闭。

这些排水管107、108与排放管106连接，虽然这一点在图中未示出。另外，排放管106，排水管107，108的排水通过延伸到与上述排放管106的末端106a连接的排放口处的管而排出。

图12为表示在由上述各部分构成的水处理装置1的组件中的，第1空间15a的正上方，设置用于贮存供给到电解槽14的稀释水的稀释水槽17的变形实例的示意图。

标号109表示用于从自来水管等的供水源，向稀释水槽17供给稀释水w4的管，标号105a表示从稀释水管17，通过泵P3，将稀释水w4供给到电解槽14的管，标号105b表示用于从图中未示出的食盐水槽，将饱和浓度或接近该浓度的高浓度的食盐水供给电解槽14的管。在前面的图10的实例中，将2根管105a，105b汇集为1根，与电解槽14连接，但是，也可象本实例那样分别连接。

另外，在管109中的，稀释水槽17的连接部，设置有图中未示出的浮球阀，该浮球阀用于伴随对应于上述稀释水槽17的水位的上下的浮子17a的上下运动而实现开闭，由此，将稀释水槽17的水位保持在一定范围。

如上所述，在电解槽14上，设置稀释水槽17，暂时将稀释水w4贮存于该稀释水槽17中，然后，通过泵P3，将其供给电解槽14，在该场合，与组件与供水源的位置关系或供水源的水压等无关地，能够时常使稀释水w4的水量保持稳定。

本发明不限于以上描述的实施例，可在本发明的范围内，进行各种改变。

Claims (11)

1.一种水处理装置，该水处理装置按照与水槽连接的方式使用，其特征在于：

设置有用于从水槽中获取水，在对其进行处理后，使其返回到水槽中的处理水路，在该处理水路的途中，设置有：

循环泵，该循环泵用于将水通过处理水路，循环到水槽中；

电解处理机构，该电解处理机构用于对在处理水路中流动的水通电，对其进行电解处理；

自动排气阀，该自动排气阀具有在通过电解处理机构进行电解处理时所产生的气体的排出口，其用于将气体通过该排出口，自动地排到处理水路之外；

另外设置有控制机构，该控制机构具有排气促进控制部，该排气促进控制部用于使上述各部分动作，使装置运转，并且在装置的运转过程中，使电解处理机构的电解处理，与循环泵的水的循环暂时停止，由此，促进气体流入到自动排气阀。

2.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于在处理水路中的，至少自动排气阀的下游侧部分，设置于该自动排气阀的垂直方向下方。

3.根据权利要求2所述的水处理装置，其特征在于在设置于处理水路中的，自动排气阀的下游侧的，垂直方向下方的部分的途中，设置有水通过，而气体中的细微的气泡不通过的过滤体。

4.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于在处理水路的途中，设置有用于检测流过该处理水路的水的流量的流量传感器，与用于关闭该处理水路的开闭阀；

在控制机构中，设置有水流异常控制部，该水流异常控制部用于在通过流量传感器检测到的水的流量小于规定值时，停止电解处理机构的电解处理，与循环泵的水的循环，并且将开闭阀关闭，防止处理水路内的水流入到水槽中，同时进行异常通报。

5.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于在电解处理机构中，设置有电流传感器，该电流传感器用于测定向水通电的电流值，并且在处理水路的途中，设置有用于关闭该处理水路的开闭阀，在控制机构中，设置有电流异常控制部，该电流异常控制部用于在通过流量传感器检测的水的电流值小于一定值时，停止电解处理机构的电解处理，与循环泵的水的循环，并且将开闭阀关闭，防止水槽中的水流入到处理水路内，同时进行异常通报。

6.一种水处理装置，该水处理装置按照与水槽连接的方式使用，其特征在于其包括：

电解槽，该电解槽用于对水通电，对其进行电解处理；

泵，该泵用于将通过电解槽电解处理的水供给水槽；

从电解槽到泵的供水管；

框架，该框架用于接纳上述这些部件，形成组件；

框架内分割为第1空间和其正下方的第2空间；

电解槽接纳于第1空间内，并且泵与供水管接纳于第2空间内。

7.根据权利要求6所述的水处理装置，其特征在于改设泵的朝向和位置用的泵的设置位置设置于第2空间中的多个部位。

8.根据权利要求7所述的水处理装置，其特征在于在供水管中，设置有与多个泵的设置位置相对应的多个管连接部。

9.根据权利要求6所述的水处理装置，其特征在于在电解槽中，设置有用于贮存经电解处理的水的贮水槽，并且按照供水管中的水的入口从贮水槽的底面，朝向垂直方向上方突出的方式，将供水管与贮水槽连接。

10.根据权利要求9所述的水处理装置，其特征在于其具有水位传感器，该水位传感器用于检测贮水槽的水位到达预定的满水位，或枯水位，上述枯水位设定于供水管的水的入口的垂直方向的上方。

11.根据权利要求6所述的水处理装置，其特征在于在第1空间的正上方，设置有用于贮存供到电解槽的稀释水的稀释水槽。

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