CN103048822B - 一种基板涂布机的管路排泡方法、装置及相应的涂布机 - Google Patents

一种基板涂布机的管路排泡方法、装置及相应的涂布机 Download PDF

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Abstract

本发明实施例公开了一种基板涂布机的管路排泡方法，至少包括如下步骤：启动注射泵持续一第一时间，所述注射泵将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机管道中；驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动，进行一次排泡处理过程；在该次排泡处理过程结束后，关闭所述注射泵持续一第二时间；待所述涂布机管道中的小气泡在该第二时间积聚后，再次启动注射泵，重复排泡过程，直至所述涂布机管道中的所有小气泡排泡完成。本发明实施例相应公开了一种基板涂布机的管路排泡装置及涂布机。实施本发明实施例，可以提高管路的排泡效率，并能节省光阻。

Description

一种基板涂布机的管路排泡方法、装置及相应的涂布机
技术领域
本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display, TFT-LCD）的制程技术，特别涉及一种基板涂布机的管路排泡方法、装置及相应的涂布机。
背景技术
在现有的TFT-LCD产品的生产制程中，一般需要对上版及下版进行处理，下版为TFT阵列（TFT Array）制程玻璃，而上版则是彩色滤光片（Color Filter, CF）制程玻璃。在这两种玻璃上均需要进行涂布的过程，需要将光阻涂布于所述两种玻璃基板上。由于涂布机（Coater）的管路中或多或少会存在气泡，故首先需要进行排泡处理。
在现有涂布机中对管道进行排泡处理一般采用多次排泡和分段排泡的方式来完成，其中排泡次数通常由经验值进行确定，但是这两种方式通常可以将大颗气泡排出，但是微小气泡通常聚集与管路系统的接口和附着在管壁上无法排出。因此，在现有的方式中，会出现排泡不尽的情形或者需要很多次的排泡过程才能将气泡排尽，在第一种情形中，如果管道中排泡不尽通常会导致通过喷嘴向基板最终的涂布效果不均匀，使得产品品质发生异常，甚至导致产品失败，而处理这些异常无疑会导致产能下降；在另一种情形中，如果需而很多次的排泡过程，则需要进行多次的排泡过程，每次的排泡过程均需要光阻在管道中流动，故会导致光阻的浪费。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种基板涂布机的管路排泡方法、装置及相应的涂布机，可以在对基板涂布机的管路进行排泡时，提高光阻的利用效率。
为了解决上述技术问题，本发明的实施例的一方面提供一种基板涂布机的管路排泡装置，所述管路排泡装置包括：
注射泵，用于将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机管道中；
控制单元，用于启动注射泵持续一第一时间，驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动，进行一次排泡处理过程；以及在一次排泡处理过程结束后，关闭所述注射泵持续一第二时间；并在所述涂布机管道中的小气泡在该第二时间内积聚后，再次启动注射泵，重复排泡过程，直至所述涂布机管道中的所有小气泡排泡完成；
进一步包括：
振动装置，用于在所述第二时间内，为所述涂布机管道提供震动波；
所述控制单元进一步包括：
振动装置控制子单元，用于在所述控制单元中的判断处理子单元判断到所述排泡尚未完成时，驱动所述振动装置向所述涂布机管道提供震动波。
其中，所述控制单元进一步包括：
注射泵启动控制子单元，用于启动注射泵持续一第一时间，驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动；
注射泵关闭控制子单元，用于在一次排泡处理过程结束后，关闭所述注射泵持续一第二时间；
判断处理子单元，用于判断排泡是否完成，如果判断结果为排泡尚未完成，则在所述注射泵关闭控制子单元关闭所述注射泵并持续第二时间后，控制所述注射泵启动控制子单元重新启动所述注射泵。
其中，所述控制单元进一步包括：
设置子单元，用于设置所述第一时间和所述第二时间值。
本发明实施例的另一方面，提供一种基板涂布机，可以实现对管道的排泡，其至少包括涂布机管道以及连接在所述涂布机管道上的喷头，进一步包括前述的管路排泡装置。
本发明实施例的再一方面，提供一种基板涂布机的管路排泡方法，至少包括如下步骤：
启动注射泵持续一第一时间，所述注射泵将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机管道中；
驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动，进行一次排泡处理过程；
在该次排泡处理过程结束后，关闭所述注射泵并持续一第二时间； 在所述第二时间内，向所述涂布机管道提供震动波，使小气泡积聚；
待所述涂布机管道中的小气泡在所述第二时间内积聚后，再次启动注射泵，重复排泡过程，直至所述涂布机管道中的所有小气泡排泡完成。
其中，进一步包括：预先设置所述第一时间与所述第二时间。
其中，所述排泡过程包括分段排泡过程。
实施本发明实施例，具有如下有益效果：
本发明实施例中，通过在一次排泡完成后，增加一个第二时间的间隔设定，使微小气泡在此时间间隔内可以积聚为大颗气泡，之后再进行排泡的步骤，可在相同光阻用量下提高排泡效率，从而很好地将基板涂布机的管路中的气泡排尽，并能节省光阻，提高光阻的利用效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的一种涂布机第一实施例的结构示意图；
图2是图1中的控制单元的结构示意图；
图3为本发明的一种涂布机第二实施例的结构示意图；
图4是图3中的控制单元的结构示意图；
图5是本发明的一种基板涂布机的管路排泡方法的一个实施例的流程图；
图6是本发明中进行多次排泡过程的时间周期示意图。
具体实施方式
下面参考附图对本发明的优选实施例进行描述。
请参照图1和图2所示，示出了本发明的一种涂布机第一实施例的结构示意图。从中可以看出，本发明的涂布机1至少包括：
涂布机管道11，是供光阻通过的管道，其中会因各种原因残存有气泡；
喷头12，设置在所述涂布机管道11的端部，用于向待涂布的玻璃基板上均匀涂布光阻；
管路排泡装置10，与所述涂布机管道11相连，用于为所述涂布机管道11进行排泡，其包括：
注射泵100，用于将光阻从储存容器2中注射到涂布机1的涂布机管道11中；
控制单元101，用于启动注射泵持续一第一时间，驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动，进行一次排泡处理过程；以及在一次排泡处理过程结束后，关闭所述注射泵持续一第二时间；并在所述涂布机管道中的小气泡在该第二时间积聚后，再次启动注射泵，重复前述排泡过程，直至所述涂布机管道中的所有小气泡排泡完成。
其中，所述控制单元101进一步包括：
注射泵启动控制子单元102，用于启动注射泵100持续一第一时间，驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动；
注射泵关闭控制子单元103，用于在一次排泡处理过程结束后，关闭所述注射泵100持续一第二时间；
判断处理子单元104，用于判断排泡是否完成，如果判断结果为排泡尚未完成，则在所述注射泵关闭控制子单元103关闭所述注射泵100并持续第二时间后，控制所述注射泵启动控制子单元102启动所述注射泵，重新进行排泡；
设置子单元105，用于设置所述第一时间和所述第二时间值。
请参照图3和图4所示，示出了本发明的一种涂布机第二实施例的结构示意图。从中可以看出，与图1和图2示出的第一实施例相比，所述第二实施例中的涂布机的区别在于，其中，管路排泡装置10进一步包括有：
振动装置106，用于在所述第二时间内，为所述涂布机管道11提供震动波，以加快涂布机管道11中的小气泡的聚集，在一个实施例中，该震动波可以为诸如超声波。
相应地，所述控制单元101中进一步包括：
振动装置控制子单元107，用于在所述判断处理子单元104判断到所述排泡尚未完成时，驱动所述振动装置106向所述涂布机管道11提供震动波。
如图5所示，是本发明的一种基板涂布机的管路排泡方法的一个实施例的流程图；从图中可以看出，该方法至少包括如下步骤：
步骤S60，启动注射泵持续一第一时间，所述注射泵将光阻从储存容器中注射到涂布机的涂布机管道中；
步骤S61，驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动，进行一次排泡处理过程；
步骤S62，在该次排泡处理过程结束后，关闭所述注射泵并持续一第二时间；
步骤S63，判断排泡过程是否完成，如果判断结果为是，则流程结束；如果判断结果是否，则转至步骤S64；
步骤S64，使所述涂布机管道中的小气泡在该第二时间积聚，具体地，在所述第二时间内，静置所述涂布机管道，使所述小气泡积聚；或者在所述第二时间内，向所述涂布机管道提供震动波，使所述小气泡积聚。
转至步骤S60，再次启动注射泵，重复前述过程，直至所述涂布机管道中的所有小气泡全部被排出。
可以理解的是，需要首先预先设置所述第一时间与所述第二时间。
如图6所示，是本发明中进行多次排泡过程的时间周期示意图。在一个实施例中，假设需要对涂布机的管道进行多次排泡操作。在图6中的注射泵的启动时间周期图中，高位线段代表注射泵启动，低位线段代表注射泵关闭。在排泡的时间周期图中，高位线段代表排泡操作在进行中，低位线段代理排泡操作停止。
其中，时间T1代表注射泵单次启动的时间；时间T2代表在涂布机管路中进行一次排泡的时间，其开始时间与注射泵开始启动时间存在一定的时间差；时间T3代表注射泵一次启动完成至涂布机管路完成一次排泡的延迟时间，时间T4为两次排泡之间新增加的时间间隔（即前述提及的第二时间），在该新增的时间间隔中，通过对涂布机管道进行静置，或者向涂布机管道提供震动波，可以使在涂布机管道中残存的微小气泡有时间进行凝结增大体积，在下次进行排泡操作时，可以增加排泡的成功率。
实施本发明实施例，具有如下有益效果：
本发明实施例中，通过在一次排泡完成后，增加一个第二时间的间隔设定，使微小气泡在此时间间隔内可以积聚为大颗气泡，之后再次进行排泡的步骤，可在相同光阻用量下提高排泡效率，从而很好地将基板涂布机的管路中的气泡排尽，并能节省光阻，提高光阻的利用效率。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。

Claims (7)

1.一种基板涂布机的管路排泡装置，其特征在于，所述管路排泡装置包括：
注射泵，用于将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机管道中；
控制单元，用于启动注射泵持续一第一时间，驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动，进行一次排泡处理过程；以及在一次排泡处理过程结束后，关闭所述注射泵持续一第二时间；并在所述涂布机管道中的小气泡在该第二时间内积聚后，再次启动注射泵，重复排泡过程，直至所述涂布机管道中的所有小气泡排泡完成；
进一步包括：
振动装置，用于在所述第二时间内，为所述涂布机管道提供震动波；
所述控制单元进一步包括：
振动装置控制子单元，用于在所述控制单元中的判断处理子单元判断到所述排泡尚未完成时，驱动所述振动装置向所述涂布机管道提供震动波。
2.如权利要求1所述的管路排泡装置，其特征在于，所述控制单元进一步包括：
注射泵启动控制子单元，用于启动注射泵持续一第一时间，驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动；
注射泵关闭控制子单元，用于在一次排泡处理过程结束后，关闭所述注射泵并持续一第二时间；
判断处理子单元，用于判断排泡是否完成，如果判断结果为排泡尚未完成，则在所述注射泵关闭控制子单元关闭所述注射泵并持续第二时间后，控制所述注射泵启动控制子单元重新启动所述注射泵。
3.如权利要求2所述的管路排泡装置，其特征在于，所述控制单元进一步包括：
设置子单元，用于设置所述第一时间和所述第二时间值。
4.一种基板涂布机，可以实现对管道的排泡，其至少包括涂布机管道以及连接在所述涂布机管道上的喷头，其特征在于，进一步包括如权利要求1至3任一项所述的管路排泡装置。
5.一种基板涂布机的管路排泡方法，其特征在于，至少包括如下步骤：
启动注射泵持续一第一时间，所述注射泵将光阻从储存容器注射到涂布机的涂布机管道中；
驱动所述光阻在所述涂布机的涂布机管道中流动，进行一次排泡处理过程；
在该次排泡处理过程结束后，关闭所述注射泵并持续一第二时间；
在所述第二时间内，向所述涂布机管道提供震动波，使小气泡积聚；
待所述涂布机管道中的小气泡在所述第二时间内积聚后，再次启动注射泵，重复排泡过程，直至所述涂布机管道中的所有小气泡排泡完成。
6.如权利要求5所述的管路排泡方法，其特征在于，进一步包括：
预先设置所述第一时间与所述第二时间。
7.如权利要求6所述的管路排泡方法，其特征在于，所述排泡过程包括分段排泡过程。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103663995A (zh) * 2013-10-18 2014-03-26 浙江金陵光源电器有限公司 一种制作led灯管内水溶性光扩散涂层的装置和方法
CN106153842B (zh) * 2015-03-31 2020-04-28 株式会社岛津制作所 流路气体去除方法
CN115593115B (zh) * 2022-11-28 2023-03-14 季华实验室 打印喷头排泡方法及装置、计算机可读存储介质

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1498855A (zh) * 2002-10-31 2004-05-26 三洋电机株式会社 水处理装置
CN201188171Y (zh) * 2008-04-28 2009-01-28 慧竹开发有限公司 光阻供应系统

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09136052A (ja) * 1995-11-13 1997-05-27 Toray Ind Inc 保護層の形成方法および装置、および光記録媒体の製造方法および装置
CN1286150C (zh) * 2002-12-18 2006-11-22 旺宏电子股份有限公司 光刻胶供应系统及方法
JP2011238820A (ja) * 2010-05-12 2011-11-24 Toppan Printing Co Ltd 塗布装置
JP2013166086A (ja) * 2010-06-09 2013-08-29 Sharp Corp 塗布装置および塗布装置における気泡排出方法
CN102295259B (zh) * 2011-05-27 2013-02-13 公安部第一研究所 带有全自动排气泡功能的高压流体注射装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1498855A (zh) * 2002-10-31 2004-05-26 三洋电机株式会社 水处理装置
CN201188171Y (zh) * 2008-04-28 2009-01-28 慧竹开发有限公司 光阻供应系统

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