CN1464974A - 光稳定性试验装置 - Google Patents
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- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims abstract description 91
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 80
- 238000013112 stability test Methods 0.000 claims abstract description 77
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims abstract description 36
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 82
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 13
- KPHWPUGNDIVLNH-UHFFFAOYSA-M diclofenac sodium Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)CC1=CC=CC=C1NC1=C(Cl)C=CC=C1Cl KPHWPUGNDIVLNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 238000012430 stability testing Methods 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 7
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 235000014698 Brassica juncea var multisecta Nutrition 0.000 description 1
- 241000251184 Rajiformes Species 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/255—Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N17/00—Investigating resistance of materials to the weather, to corrosion, or to light
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- G01—MEASURING; TESTING
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
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Abstract
为了能够进行正确的紫外线照射和正确的可见光照射来实施正确的光稳定性试验,光稳定性试验装置中的光传感器包括测定可见光照射量的可见光测定用传感器(5)和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器(6),光学系统具有调节光源发出的光线的绝对量的全光调节装置(331)以及调节由全光调节装置调节过的光线中的紫外线照射量的紫外线调节装置(335),控制部具有根据来自可见光测定用传感器(5)的信号控制全光调节装置(331)的全光控制部和根据来自紫外线测定用传感器(6)的信号控制紫外线调节装置(335)的紫外线控制部。
Description
技术领域
本发明涉及一种为试验药品等的光稳定性的光稳定性试验装置。
背景技术
参照图8、图9、图10以及图11说明现有技术的光稳定性试验装置。
图8表示有关现有技术的第一光稳定性试验装置的主要部分的正视图。该光稳定性试验装置1是由光学系统3调节光源2发出的光线后照射载置在试料台4上的图中未画出的试料来试验试料的光稳定性的装置。光学系统3主要由第一反射镜31、光线调节装置33、作为光束控制装置的集成透镜35、第二反射镜37以及第3反射镜39构成。在将节流口状的石英棒捆成一束的上部贴上球面玻璃而构成集成透镜35。光线通过这里时石英棒成为一条一条小光源。这样,例如通过给定光阑的光束即使是长方形,也可以变成圆形的光束。
4是载置图中未画出的试料的试料台,在该试料台4上安装着为测定可见光照射量的可见光测定用传感器5和为测定紫外线的照射量的紫外线测定用传感器6。驱动装置7的驱动力可经转动轴71使试料台4转动。
在有关该现有技术的第一光稳定性试验装置1中,大类分为光源室8和试料室9,在上述构成中,光源2以及光学系统3中的第一反射镜31、光线调节装置33、光束控制装置的集成透镜35以及第二反射镜37设置在光源室8中,而光学系统3中的第3反射镜39以及试料台4设置在试料室9中。
图9表示具有上述构成的第一光稳定性试验装置1的详图。即,光学系统3中的光线调节装置33包括全光调节装置331的光阑以及紫外线调节装置333的紫外线限制滤光片。全光调节装置331的光阑对可见光和紫外线的全部光量均进行调节控制,而紫外线调节装置333的紫外线限制滤光片只控制光线中的紫外线(特别是远紫外线)。91是设置在试料室9中的石英玻璃制成的入射窗。使用氙灯作为光源2。
在具有上述构成的第一光稳定性试验装置1中,首先在试料台4上载置图中未画出的试料;然后,从光源2的氙灯发射出光线;该光线首先由第一反射镜35聚光,然后通过作为用来限制紫外线的紫外线调节装置333的紫外线限制滤光片;然后,通过作为用来调节整体光量的可见光及紫外线的全部光量的全光调节装置331的光阑;然后,由光束控制装置的集成透镜35调整光线的方向;然后,由第二反射镜37将光线方向变成大致水平方向,通过石英玻璃制成的入射窗91入射到试料室9;然后,由第3反射镜39向下方反射,照射载置在试料台4上的图中未画出的试料上。为了持续长时间照射,能具有良好的照射分布,照射中,驱动装置7经转动轴71使试料台4转动,进行试料的光稳定性试验。
在上述照射中,将来自可见光测定用传感器5和紫外线测定用传感器6的任一方的信号传送到图中未画出的控制部,在该控制部进行运算后控制光量和时间。
另一方面,图10表示有关现有技术的第二光稳定性试验装置的主要部分的正视图。该第二光稳定性试验装置1与上述第一光稳定性试验装置不同,光源2采用荧光灯那样的管形光源,并且不具备大规模光学系统,而只有反射镜31。即,在该第二光稳定性试验装置1中,从光源2发出的光线直接照射到试料上。333是固定式紫外线调节装置,调节来自光源的紫外线量。
5是可见光测定用传感器,6是紫外线测定用传感器,安装在试料台4上。驱动装置7可经转动轴71使试料台4转动。
照射中,按照来自可见光测定用传感器5的信号调节光源2的光量。而紫外线测定用传感器6的测定值被累计记录。
但是,在有关现有技术的光稳定性试验装置1中,存在如下的问题。
图11表示太阳光、氙灯以及D65灯(东芝制FLR20S·D-EDL-D65/M)的光谱分布图。横轴表示波长,纵轴表示强度的相对值。如图11所示,氙灯以及D65灯这样的所谓与太阳光近似的光源的光谱分布,与太阳光的光谱分布相比较,紫外线部分过剩。一般,可见光在380nm到780nm的范围,是人眼可以实际看见的光。紫外光波长在200nm到380nm的范围,肉眼看不见。严格讲,该波长范围的光称为近紫外光,100nm到200nm范围的光称为远紫外光(「光测量手册」第572页,田幸敏治、辻内顺平、南茂夫编辑,1997年1月20日第二版发行)。
另一方面,在作为试料的医药品等的光稳定性试验中的日本厚生省的基准确定以太阳光为基准,具体地说,把累计照射量规定为可见光在1200kLxhr以上,紫外线在200whr/m2以上。
因此,在有关现有技术的光稳定性试验装置1中,在氙灯那样的紫外线过剩的光源2中,作为紫外线调节装置333的紫外线限制滤光片为固定式滤光片,将紫外线量设定在上述规定值附近。
但是,在光稳定性试验长时间进行以及瞬时照射值选择1000Lx的情况下,也会达到1200小时。随着时间经过,光源2以及光学系统3出现劣化。而且,这种劣化倾向,与可见光相比,紫外线部分更严重,如果把上述紫外线调节装置333的紫外线限制滤光片中的减光量设计到极限值,在可见光到达1200kLxhr时,紫外线就有可能不足,其结果是不能正确实施光稳定性试验。
另一方面,在上述第二光稳定性试验装置中,光源2等的劣化倾向在多个光源2之间存在差异,预测很困难。因此,通常设定得稍微过剩,光源2为新品时,可见光的累计照射量达到1200kLxhr时,让紫外线达到220到280whr/m2。实际上,对于药品等试料,紫外线影响比较大的情况更多,其结果是不能正确实施光稳定性试验。
为此,本发明正是为了解决上述问题的发明,其目的在于提供一种可以进行正确的紫外线照射和正确的可见光照射来实施正确的光稳定性试验的光稳定性试验装置。
发明的公开
为了达到上述目的,按照本发明的光稳定性试验装置具有光源、调节该光源发出的光线的光学系统、用来载置经过该光学系统的光线照射的试料的试料台、安装在该试料台上的测定光线照射量的光传感器以及传送来自该光传感器的信号并控制上述光学系统的控制部;上述光传感器具有测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器;上述光学系统具有调节上述光源发出的光线绝对量的全光调节装置和调节光线中的紫外线照射量的紫外线调节装置;上述控制部具有根据来自上述可见光测定用传感器的信号控制上述全光调节装置的全光控制部和根据来自上述紫外线测定用传感器的信号控制上述紫外线调节装置的紫外线控制部。在此,所谓「光线绝对量」是指包括可见光以及紫外光的全部照射量。
上述光学系统最好具有调节上述光源发出的光线绝对量的全光调节装置和调节由上述全光调节装置调节过的光线的紫外线照射量的紫外线调节装置。
光学系统最好具有使紫外线路径与可见光路径不同的光线选别装置以及将紫外线与可见光合流的光线合流装置,上述紫外线调节装置调节经过上述光线选别装置的紫外线的照射量。
光线选别装置最好是分色镜。
光线合流装置最好是分色镜。
全光调节装置最好具有可以移动的多个滤光片。
多个滤光片最好是2个滤光片,并且可以对称地动作。
光学系统最好具有用来控制光线的光束的光束控制装置。
光束控制装置最好是集成透镜。
紫外线调节装置最好设置在调节经过上述光束控制装置的光线的紫外线照射量的位置上。
进一步,有关本发明的光稳定性试验装置具有光源、载置由该光源发出的光线照射的试料的试料台、安装在该试料台上的测定光线照射量的光传感器以及传送来自该光传感器的信号并控制上述光源的控制部;上述光源具有紫外线过多光源和紫外线过少光源。所谓「紫外线过多光源」是指与太阳光相比紫外线成分多的光源,所谓「紫外线过少光源」是指与太阳光相比紫外线成分少的光源。
上述光传感器最好具有测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器;在上述光源和试料台之间最好具有调节上述光源发出的光线中的紫外线照射量的紫外线调节装置;上述控制部最好具有根据来自上述可见光测定用传感器的信号控制上述光源的光源控制部和根据来自上述紫外线测定用传感器的信号控制上述紫外线调节装置的紫外线控制部;光传感器最好具有测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器;上述控制部最好具有根据来自上述可见光测定用传感器的信号控制上述紫外线过少光源的紫外线过少光源控制部和根据来自上述紫外线测定用传感器的信号控制上述紫外线过多光源的紫外线过多光源控制部。
光源控制部中的控制最好采用根据上述光源的逆变器调光进行的点亮熄灭控制。
光源控制部中的控制最好采用根据上述光源的相位控制进行的点亮熄灭控制。
试料台最好可以转动。
最好在上述试料台上设置可以转动的小试料台。
上述试料台和小试料台的转动比最好是7以上。上述控制部中的控制最好具有在来自上述光传感器的有关照射的信号的照射瞬时值中加上照射累积值进行校正的校正控制部。
附图的简要说明
图1是按照本发明第一实施例的光稳定性试验装置的光源以及光学系统的主要部位正视图。
图2是按照本发明第一实施例的光稳定性试验装置的光学系统中的紫外线调节装置的主要部位斜视图。
图3是按照本发明第一实施例的光稳定性试验装置的试料台的主要部位斜视图。
图4是按照本发明第二实施例的光稳定性试验装置的光学系统的主要部位正视图。
图5是按照本发明第三实施例的光稳定性试验装置的试料台的主要部位正视图。
图6是按照本发明第四实施例的光稳定性试验装置的主要部位正视图。
图7是表示按照本发明第四实施例的光稳定性试验装置的控制方式的图,(a)表示逆变器调光方式、(b)表示相位控制方式、(c)表示较长定时的ON/OFF控制方式。
图8是按照现有技术的第一光稳定性试验装置的主要部位正视图。
图9是按照现有技术的第一光稳定性试验装置的细节的主要部位正视图。
图10是按照现有技术的第二光稳定性试验装置的主要部位正视图。
图11是太阳光、氙灯以及D65灯的光谱分布图。
实施发明的最佳方式
以下参照附图根据实施例说明本发明的实施方式。
参照图1、图2以及图3说明本发明的第一实施例。图1是按照本发明第一实施例的光稳定性试验装置的光源以及光学系统的主要部位正视图。图2是按照本发明第一实施例的光稳定性试验装置的光学系统中的可动式紫外线调节装置的主要部位斜视图。图3是按照本发明第一实施例的光稳定性试验装置的试料台的主要部位斜视图。
2是光源,31是第一反射镜,33是光线调节装置,主要由可动式紫外线调节装置335、固定式紫外线调节装置333以及可动式全光量调节装置331构成。35是作为光束控制装置的集成透镜,37是第二反射镜。固定式紫外线调节装置333主要调节远紫外线,可动式紫外线调节装置335主要调节近紫外线。
如图2所示,可动式紫外线调节装置335在光路345上设置2条平行的轨道343、343,滤光片339、341在该轨道343、343上可对称动作。即,在轨道343上可以让滤光片339和341相互接近,或者相互离开。可动式全光量调节装置331按同样的原理构成。
图中未画出的控制部包括根据来自设置在试料台4上的可见光线测定用传感器5的信号控制上述可动式全光量调节装置331的全光控制部和根据来自紫外线测定用传感器6的信号控制上述可动式紫外线调节装置335的紫外线控制部。
以下说明具有上述构成的按照本发明第一实施例的光稳定性试验装置的作用、效果。
首先,将试料载置在试料台4上,光源2发出的光线由光学系统3调节后,照射到试料上。在照射中,为了改善照射分布,驱动装置7经转动轴71使试料台转动。
光源2发出的光线由第一反射镜31聚光;然后,由固定式紫外线调节装置333控制调节远紫外线;再由可动式全光量调节装置331控制全光量即可见光量和紫外光量。该全光量调节装置331由来自设置在试料台4上的可见光线测定用传感器5的信号控制调节。
由全光量调节装置331调节后的光线,由可动式紫外线调节装置335控制。即,根据来自设置在试料台4上的紫外线测定用传感器6的信号,通过控制轨道343上的滤光片339、341的开合,来控制调节紫外线量。
具体讲,光路345的α%由滤光片339、341遮蔽。在图2中,滤光片339、341的斜线部分被遮蔽。这时,如果使用紫外线的透射率为β%的滤光片339、341,光线量的(100-α)%的100%紫外线透过,光线量α%的透射率为β%。因此,整体上,紫外线透射率由下式表示。
紫外线透射率=(100-α)+αβ/100
=100-(100-β)α/100[%]
这样,紫外线透射率在100%到β%之间可变。即,当α=100时,紫外线透射率为β%,当α=0时,紫外线透射率为100%。例如,在光源2为氙灯的本实施例中,紫外线成分约为给定标准值的约3倍稍弱。因此,如果使用β=30%的滤光片,大致和给定标准值相等。在考虑到这些情况后,由图中未画出的全光控制部根据来自设置在试料台4上的可见光测定用传感器5的信号控制上述可动式全光量调节装置331;同时由图中未画出的紫外线控制部根据来自紫外线测定用传感器6的信号控制上述可动式紫外线调节装置335,由此来对照射量进行微调。结果,可以比现有技术进行更加准确的光稳定性试验。
在按照上述第一实施例的光稳定性试验装置中,虽然可动式紫外线调节装置335设置在全光量调节装置331之上,但也可以设置在作为光束控制装置35的集成透镜之上。
以下参照图4说明本发明第二实施例的光稳定性试验装置。图4是按照本发明第二实施例的光稳定性试验装置的光学系统的主要部位正视图。和上述本发明第一实施例相比较,按照该第二实施例的光稳定性试验装置的特征在于,在其光学系统中的光线调节装置33中,可动式紫外线调节装置335从全光量调节装置331在机构上分离出来,同时在使紫外线路径与可见光线路径不同的状态下调节紫外线量。
为了让紫外线路径与可见光路径不同,在光线调节装置33中,设置有光线选别装置以及作为光线合流装置的分色镜342、348。该分色镜342、348根据给定基准波长来选别光线,在本实施例中让可见光通过,而将紫外线反射;该分色镜342只改变光线中紫外线的路径。344和346分别是第四反射镜和第五反射镜,用于反射紫外线。
335是可动式紫外线调节装置,在构成上与上述的第一实施例相同,其它构成与按照上述第一实施例的光稳定性试验装置相同。
以下说明具有上述构成的按照本发明第二实施例的光稳定性试验装置的作用、效果。
光源2发出的光线由第一反射镜31聚光。然后,由可动式全光量调节装置331控制全光量即可见光量和紫外光量。即,与上述的第一实施例相同,根据来自设置在图中未画出的试料台上的可见光测定用传感器的信号,来控制调节全光量。
通过可动式全光量调节装置331后的光线由作为光线选别装置的分色镜342只将紫外线向约90°的方向反射,而可见光线原样直行前进。由光线选别装置的分色镜342向约90°的方向反射的紫外线由第四反射镜344向约90°的方向反射,在通过可动式紫外线调节装置335时,控制紫外线量。即,与上述的第一实施例相同,根据来自设置在图中未画出的试料台上的紫外线测定用传感器的信号控制调节紫外线量。
然后,经过可动式紫外线调节装置335后的紫外线由第五反射镜346向约90°的方向反射,由作为光线合流装置的分色镜348将其与可见光线合流。即,由作为光线合流装置的分色镜348把紫外线向约90°的方向反射后,与通过分色镜342的可见光线平行,并合流。
然后,由作为光束控制装置的集成透镜35使光束变成正圆,由第二反射镜37入射到试料室,照射试料,但其构成作用与按照上述第一实施例的光稳定性试验装置相同。
这样,在按照本发明第二实施例的光稳定性试验装置中,在光线调节装置33中,把可动式紫外线调节装置335从全光线调节装置331分离出来,同时在使紫外线路径和可见光线路径不同的状态下调节紫外线量,所以能够进行更准确的紫外线量控制,更加正确地测定试料的光稳定性。
在按照上述本发明的第一实施例以及第二实施例的发明中,因为使用可动滤光片作为全光线调节装置以及紫外线调节装置,所以必须更准确地控制光分布的均匀性。为此,可以设置图5所示的试料台。图5是按照本发明第三实施例的光稳定性试验装置的试料台的主要部位正视图。这样,在试料台4上进一步设置3个小试料台41,各小试料台41可以转动。其结果,驱动装置7的驱动力经转动轴71使试料台4转动,同时小试料台41也转动,可以改善光分布的均匀性。这时,载置在小试料台41上的试料按外摆线运动,特别是,转动比在7以上时更加有效。
在上述这些实施例中,光学系统虽然采用包括调节光源发出的光线的绝对量的可动式全光量调节装置和调节由该可动式全光量调节装置调节后的光线的紫外线照射量的可动式紫外线调节装置的构成,根据条件,用可动式全光量调节装置调节经过可动式紫外线调节装置的光线,也可以调节光线的绝对量。
以下参照图6说明按照本发明第四实施例的光稳定性试验装置。图6是按照本发明第四实施例的光稳定性试验装置的主要部位正视图。
按照本发明第四实施例的光稳定性试验装置1与上述按照本发明第一以及第二实施例的光稳定性试验装置不同,光源2采用荧光灯那样的管形光源,并且不具备大规模光学系统,而只有反射镜31。即,在按照本发明第四实施例的光稳定性试验装置1中,光源2发出的光线直接照射到试料上。
5是可见光测定用传感器,6是紫外线测定用传感器,安装在试料台4上。驱动装置7的驱动力经转动轴71使试料台4转动。
光源2由6个光源构成,其中21、23以及25为紫外线过少光源,22、24以及26为紫外线过多光源。在本实施例中,作为紫外线过少光源采用白色荧光灯,作为紫外线过多光源采用D65灯。其中紫外线过少光源21、23、25由来自可见光测定用传感器5的信号控制,紫外线过多光源22、24、26由来自紫外线测定用传感器6的信号控制。即,图中未画出的控制部包括由来自可见光测定用传感器5的信号控制紫外线过少光源21、23、25的紫外线过少光源控制部和由来自紫外线测定用传感器6的信号控制紫外线过多光源22、24、26的紫外线过多光源控制部。31是反射光线的第一反射镜。
以下说明具有上述构成的按照本发明第四实施例的光稳定性试验装置1的作用、效果。
首先,在试料台4上载置图中未画出的试料。然后,驱动装置7的驱动力经转动轴71使试料台4转动。在试料台4的转动中,光源2发出的光线直接以及由第一反射镜31反射后的光线照射图中未画出的试料。这时,图中未画出的紫外线过少光源控制部根据来自可见光测定用传感器5的信号控制紫外线过少光源21、23、25,图中未画出的紫外线过多光源控制部根据来自紫外线测定用传感器6的信号控制紫外线过多光源22、24、26。
通过该试验,具体的照射量如下:
瞬时值 累计值
可见光 10001x 1200klxhr
紫外线 16~17μw/cm2 202whr/m2
由上述试验结果可知,可以正确照射,即准确进行光稳定性试验。
在本实施例中,完全没有进行控制时的结果如下:
瞬时值 累计值
可见光 10001x 1200klxhr
紫外线 21~22μw/cm2 258whr/m2
这样,虽然紫外线量稍微有所增加,但是具有实用性。
在本实施例中,虽然采用图中未画出的紫外线过多光源控制部根据来自紫外线测定用传感器6的信号控制紫外线过多光源22、24、26,但是也可以在图10的333的位置,即光源2和试料台4之间设置可动式紫外线调节装置,根据来自紫外线测定用传感器6的信号控制该可动式紫外线调节装置。
作为光源2的控制方式,有如图7(a)所示的按照逆变器调光进行点亮熄灭控制,如图7(b)所示,按照相位控制进行点亮熄灭控制,以及如图7(c)所示,按较长时间进行点亮熄灭控制,等方式。
在控制部中,也可以不单根据来自传感器的信号的瞬时值进行控制,而是还加上照射累计值对瞬时值进行校正,这样可以更加正确地进行光稳定性试验。
如上所述,按照本发明的光稳定性试验装置,可以进行正确的紫外线照射和正确的可见光照射,实施正确的光稳定性试验。
产业上的利用可能性
按照本发明的光稳定性试验装置具有光源、调节该光源发出的光线的光学系统、载置经过该光学系统的光线照射的试料的试料台、安装在该试料台上的测定光线照射量的光传感器、传送来自该光传感器的信号控制上述光学系统的控制部;上述光传感器包括测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器;上述光学系统具有调节上述光源发出的光线的绝对量的全光调节装置以及调节光线中的紫外线的照射量的紫外线调节装置;上述控制部具有根据来自上述可见光测定用传感器的信号控制上述全光调节装置的全光控制部和根据来自上述紫外线测定用传感器的信号控制上述紫外线调节装置的紫外线控制部;由于可以进行正确的紫外线照射和正确的可见光照射,而实施正确的光稳定性试验,所以是非常有用的。
Claims (19)
1.一种光稳定性试验装置,具有光源、调节该光源发出的光线的光学系统、载置经过该光学系统的光线照射的试料的试料台、安装在该试料台上的测定光线照射量的光传感器以及传送来自该光传感器的信号并控制所述光学系统的控制部;其特征在于所述光传感器具有测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器;所述光学系统具有调节所述光源发出的光线绝对量的全光调节装置和调节光线中的紫外线照射量的紫外线调节装置;所述控制部具有根据来自所述可见光测定用传感器的信号控制所述全光调节装置的全光控制部和根据来自所述紫外线测定用传感器的信号控制所述紫外线调节装置的紫外线控制部。
2.一种光稳定性试验装置,具有光源、调节该光源发出的光线的光学系统、载置经过该光学系统后的光线照射的试料的试料台、安装在该试料台上的测定光线照射量的光传感器以及传送来自该光传感器的信号并控制所述光学系统的控制部;其特征在于所述光传感器具有测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器;所述光学系统具有调节所述光源发出的光线绝对量的全光调节装置和调节由所述全光调节装置调节后果的光线中的紫外线照射量的紫外线调节装置;所述控制部具有根据来自所述可见光测定用传感器的信号控制所述全光调节装置的全光控制部和根据来自所述紫外线测定用传感器的信号控制所述紫外线调节装置的紫外线控制部。
3.根据权利要求1或2所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述光学系统具有使紫外线路径和可见光线路径不同的光线选别装置以及将紫外线与可见光合流的光线合流装置,所述紫外线调节装置调节经过所述光线选别装置的紫外线的照射量。
4.根据权利要求3所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述光线选别装置是分色镜。
5.根据权利要求3或4所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述光线合流装置是分色镜。
6.根据权利要求1、2、3、4或5所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述全光调节装置具有可移动的多个滤光片。
7.根据权利要求6所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述多个滤光片是2个滤光片,可以对称动作。
8.根据权利要求1、2、3、4、5、6或7所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述光学系统具有控制光线的光束的光束控制装置。
9.根据权利要求8所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述光束控制装置是集成透镜。
10.根据权利要求8或9所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述紫外线调节装置设置在调节经过所述光束控制装置后的光线的紫外线照射量的位置上。
11.一种光稳定性试验装置,具有光源、载置由该光源发出的光线照射的试料的试料台、安装在该试料台上的测定光线照射量的光传感器以及传送来自该光传感器的信号并控制所述光源的控制部;其特征在于所述光源具有紫外线过多光源和紫外线过少光源。
12.根据权利要求11所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述光传感器具有测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器;在所述光源和试料台之间具有调节所述光源发出的光线中的紫外线照射量的紫外线调节装置;所述控制部具有根据来自所述可见光测定用传感器的信号控制所述光源的光源控制部和根据来自所述紫外线测定用传感器的信号控制所述紫外线调节装置的紫外线控制部。
13.根据权利要求11所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述光传感器具有测定可见光照射量的可见光测定用传感器和测定紫外线照射量的紫外线测定用传感器,所述控制部具有根据来自所述可见光测定用传感器的信号控制所述紫外线过少光源的紫外线过少光源控制部和根据来自所述紫外线测定用传感器的信号控制所述紫外线过多光源的紫外线过多光源控制部。
14.根据权利要求12或13所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述光源控制部中的控制采用根据所述光源的逆变器调光进行的点亮熄灭控制。
15.根据权利要求12或13所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述光源控制部中的控制采用根据所述光源的相位控制进行的点亮熄灭控制。
16.根据权利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14或15所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述试料台可以转动。
17.根据权利要求16所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述试料台上设置有可以转动的小试料台。
18.根据权利要求17所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述试料台和小试料台之间的转动比是7以上。
19.根据权利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17或18所述的光稳定性试验装置,其特征在于所述控制部中具有在来自所述光传感器的有关照射的信号的照射瞬时值中加入照射累计值进行校正的校正控制部。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP198878/01 | 2001-06-29 | ||
JP198878/2001 | 2001-06-29 | ||
JP2001198878 | 2001-06-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1464974A true CN1464974A (zh) | 2003-12-31 |
CN1247986C CN1247986C (zh) | 2006-03-29 |
Family
ID=19036241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN02802242.4A Expired - Fee Related CN1247986C (zh) | 2001-06-29 | 2002-05-20 | 光稳定性试验装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6870147B1 (zh) |
EP (1) | EP1400799A4 (zh) |
JP (1) | JPWO2003002983A1 (zh) |
CN (1) | CN1247986C (zh) |
WO (1) | WO2003002983A1 (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN1734250B (zh) * | 2004-08-03 | 2010-04-21 | 阿特莱斯材料检测技术有限公司 | 具有uv辐射源和辐射传感器的气候老化装置 |
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CN107690598A (zh) * | 2015-04-15 | 2018-02-13 | 雷蛇(亚太)私人有限公司 | 滤波装置及滤波方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005047326B3 (de) * | 2005-09-30 | 2006-11-02 | Binder Gmbh | Klimaschrank |
JP4827700B2 (ja) * | 2006-11-24 | 2011-11-30 | ナガノサイエンス株式会社 | 光安定性試験装置 |
JP5725437B2 (ja) * | 2010-09-07 | 2015-05-27 | ペクセル・テクノロジーズ株式会社 | 環境試験装置 |
CN101957235B (zh) * | 2010-09-17 | 2013-05-22 | 广州市光机电技术研究院 | 一种间歇性光照度检测装置 |
CN114166734A (zh) * | 2021-11-15 | 2022-03-11 | 中交第一公路勘察设计研究院有限公司 | 基于led紫外灯的沥青类材料智能加速老化环境试验装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57204424A (en) | 1981-06-11 | 1982-12-15 | Hakko:Kk | Artificial light source device |
JPS59218407A (ja) | 1983-05-26 | 1984-12-08 | Hakko:Kk | 擬似太陽光照射装置 |
JPS63157647A (ja) | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Tokuji Suzuki | 永久磁石による誘導電流の発生方法及びその応用方法及び装置 |
JPH0435795Y2 (zh) * | 1987-04-02 | 1992-08-25 | ||
JPH0572116A (ja) | 1991-09-09 | 1993-03-23 | Nagano Kagaku Kikai Seisakusho:Kk | 光試験装置 |
US5486701A (en) * | 1992-06-16 | 1996-01-23 | Prometrix Corporation | Method and apparatus for measuring reflectance in two wavelength bands to enable determination of thin film thickness |
JPH0792431B2 (ja) | 1993-06-30 | 1995-10-09 | スガ試験機株式会社 | 酸性雨腐食サイクル試験機 |
JP3031843B2 (ja) | 1995-07-14 | 2000-04-10 | ウシオ電機株式会社 | 光照射器のシャッター装置 |
JP3173357B2 (ja) | 1996-01-30 | 2001-06-04 | ウシオ電機株式会社 | 光安定性試験装置 |
JPH11132938A (ja) | 1997-10-31 | 1999-05-21 | Iwasaki Electric Co Ltd | 耐候性試験装置 |
EP1025429A1 (en) * | 1998-08-26 | 2000-08-09 | Q-Panel Lab Products Corporation | Materials test chamber with xenon lamp radiation |
JP3485839B2 (ja) | 1999-06-30 | 2004-01-13 | 日本アビオニクス株式会社 | 光照射装置 |
US6710351B2 (en) * | 2001-09-18 | 2004-03-23 | Euv, Llc | EUV mirror based absolute incident flux detector |
-
2002
- 2002-05-20 CN CN02802242.4A patent/CN1247986C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-05-20 JP JP2003509119A patent/JPWO2003002983A1/ja active Pending
- 2002-05-20 EP EP02728089A patent/EP1400799A4/en not_active Withdrawn
- 2002-05-20 WO PCT/JP2002/004841 patent/WO2003002983A1/ja active Application Filing
- 2002-05-20 US US10/363,271 patent/US6870147B1/en not_active Expired - Fee Related
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US10209515B2 (en) | 2015-04-15 | 2019-02-19 | Razer (Asia-Pacific) Pte. Ltd. | Filtering devices and filtering methods |
CN107690598B (zh) * | 2015-04-15 | 2020-03-27 | 雷蛇(亚太)私人有限公司 | 滤波装置及滤波方法 |
TWI719971B (zh) * | 2015-04-15 | 2021-03-01 | 新加坡商雷蛇(亞太)私人有限公司 | 頭戴式顯示器及濾波方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2003002983A1 (fr) | 2003-01-09 |
US6870147B1 (en) | 2005-03-22 |
EP1400799A1 (en) | 2004-03-24 |
EP1400799A4 (en) | 2011-10-26 |
JPWO2003002983A1 (ja) | 2004-10-21 |
CN1247986C (zh) | 2006-03-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20060329 Termination date: 20170520 |