CN1432874A - 曝光装置以及曝光方法 - Google Patents

Abstract

一种曝光装置，包括一光源(1)以及一照明光学系统IL，使当从该光源(1)的光照射于一罩幕M，利用通过该罩幕M的光而照射于一感旋光性基板P上，而形成于该罩幕M的一图案DP在该曝光装置中，转印到该感旋光性基板P。该照明光学系统IL包括对应于该感旋光性基板P上的感光特性，有切换照射于该罩幕M的光的波长幅度的一波长幅度切换装置(6、7)。

Description

曝光装置以及曝光方法

技术领域

本发明是有关于半导体元件，液晶显示元件，射像元件，薄膜磁气头，及其它微元件的制造工程，其所用的曝光装置以及曝光方法，以及使用曝光装置以及曝光方法的微元件的制造的制造方法。

背景技术

微元件之一的液晶显示元件，其通常在玻璃基板上的透明薄膜电极(thin film transistor，TFT)，是利用微影方法定义出所希望的形状，而形成薄膜晶体管等的开关元件以及电极配线，而制造所成。此用于工艺上的微影方法，于罩幕上形成与原画相同的图案，通过光学系统，光阻等的感光剂涂布于一平板上，而经曝光装置进行投影曝光。因此，进行罩幕与平板的相对的位置对准后，被形成的罩幕的图案，设定于平板上，而由一次拍摄(shoot)领域，而整体转印。转印后的平板，被移动到另一步(step)拍摄领域，而进行曝光，如此以步进与重复的方式的投影曝光装置(所谓，步进机)，已有多方面的应用。

近年来，液晶显示件在要求大面积化时，其伴随微影工艺所使用的投影曝光装置，希望扩大曝光范围。为了使投影曝光装置可扩大曝光范围，其要使投影光学系统大型化，而又要极力降低存留的像差，对于大型的投影光学系统的设计与制造，其成本高。因此，为了极力避面投影光学系统的大型化，一狭口状照明光会照射罩幕，其靠近光学系统的物体面侧(罩幕侧)，在长的方向的长度，设定使与光学系统的有效孔径大约相等，而通过罩幕的狭口状光，通过光学系统而照射到一平板上。相对于光学系统，罩幕与平板相对移动而扫描。罩幕所形成的图案的一部分，顺次在被设定的平板上，经一次的拍摄而转印。转印后的平板，被移动到另一步(step)拍摄领域，而进行相同的曝光，如此所谓步进与扫描的方式的投影曝光装置已被提出。

又，近年来，更希望使曝光领域扩大，而不使用一大型投影光学系统，有所谓具备有多镜头方式的投影光学系统的投影曝光装置，已被提出(例如，美国专利US 5,729,331)，其为小型的部分投影光学系统，其在与扫描方向垂直的方向上(非扫描方向)，由多个配列以一设定间隔所构成的第一配列，于此部分投影光学系统的配列之间又配置有部分投影光学系统，而构成第二配列，其配至于扫描方向。

以上使用投影曝光装置，而于制造液晶显示元件时，所需要影像解像度，由制造TFT所得到的解像度，例如3微米程度。近年来，由于平板的大型化，造成平板的弯曲等，使平板表面的平坦性有恶化的倾向。经变更平台(stage)的构成，而改善平坦性仍有其限度。因此，对于曝光装置，虽然其平板表面的平坦性恶化，也可以得到3微米程度的解像度，投影光学系统的焦点深度，也可以设计成更深一些。

关于液晶显示元件的制造，平板上涂布光阻，使用以上任何的投影曝光装置，以形成罩幕图案，而转印到平板上。利用光阻的显影，蚀刻，以及光阻的移除等工艺的重复操作，TFT等的开关元件以及电极配线的元件可形成于基板上。且，此元件基板与具有由其它工艺形成的彩色虑光片的一对向基板伸张结合，于其间挟持有液晶材料，而制造成液晶显示器。

更，传统的液晶显示器，由上述形成有TFT的元件基板，与具有彩色虑光片的对向基板，利用张合制造而成。近年来，伴随液晶显示器的构造的变化，在形成有TFT的元件基板上一并形成彩色虑光片的液晶显示器，以已被提出。有关于此结构的液晶显示器的工艺，其TFT被形成于基板上，而涂布树脂阻料，其为分散的着色颜料。使用投影曝光装置，树脂光被曝光显影，而形成彩色虑光片，而达到结合工艺。

于此，于形成TFT等之际，相对于所使用的光阻的敏感度约为15～30mJ/cm²，树脂光阻的敏感度约为50～100mJ/cm²。树脂光阻的曝光能量通常为光阻的数倍到数十倍。于树脂光阻曝光之际，其必要的影像解像度，由液晶显示器的各像素之间，所配置形成的遮光层的良好解像度而定。例如5微米的程度已足够。又，使用通常的光阻所形成的TFT的情形下，因为光阻的敏感度高，曝光能量少也可以，但是3微米的程度仍为必要。另一方面，若使用树脂光阻，而形成彩色滤光片，其必要使用较高的曝光能量，但是解像度在5微米的程度已足够。

前述，步进与扫描的方式中的投影曝光装置以及具有多镜头方式的投影光学系统的曝光装置，为了曝光而移动平板，其曝光能量取决于曝光功率与平板移动速度。所使用的平板移动速度，决定光阻的适当曝光量。在曝光功率固定的情形下，使用高敏感度的光阻，平板可高速移动，而使用低敏感度的光阻，平板则必要低速移动。但是，在载置平板的情形下，因为使移动的平台大型化，由控制性能的观点上曝光中的速度须有限定。又，低速移动与产能，为低下的要因。于此，光阻的敏感度为E，曝光功率为P，曝光区域的扫描方向的宽度为L，平台的速度为S，以下以(1)关系式为：(1)    S＝L(P/E)。

又，平台的最高速度假定为300mm/sec，其速度是在考虑光阻与树脂光阻在曝光的情形下。而，光阻的敏感度为20mJ/cm²，而树脂光阻的敏感度为60mJ/cm²。又，以下，曝光区域的扫描方向的宽度为L＝20mm，做为步进的说明。

以下，是决定光阻的曝光功率的说明。由于光阻的敏感度为20mJ/cm²，根据上述(1)式，曝光功率为300mW/cm²，平台的最高速度达到300mm/sec。换言说，由于平台的最高速度的限制，曝光功率不可以比300mW/cm²大。在曝光功率为300mW/cm²下，对树脂光阻曝光时，由于树脂光阻的敏感度为60mJ/cm²，根据上述(1)式，平台的速度必要设定为100mm/sec。由此，在决定光阻的曝光功率的情形下，于树脂光阻曝光时，产能会大幅降低。

其次，适合于树脂光阻的曝光功率的决定情形，如下说明。因为树脂光阻的敏感度为60mJ/cm²，根据上述(1)式，其曝光功率必要为900mW/cm²，而对光阻曝光时，由于光阻的敏感度为20mJ/cm²，根据上述(1)式，其，平台的速度必要设定为900mm/sec，其超过平台的最高速度。而，树脂光阻的曝光功率的决定情形下，对光阻曝光时，其平台的最高速度设定为300mm/sec，而不得不减光使照明光约为1/3曝光功率，因此浪费曝光功率。

如上所述，当对光阻曝光时，为确保3微米程度的解像度并且不达到平台的最高速度，其必要设定曝光功率。当对树脂光阻曝光时，为确保5微米程度的解像度与不使产能低下，必须设定成高曝光功率。又，任何的光阻，在曝光情形时，由于平板的大型化，其由于考虑平坦性的恶化，其必要确保有深的焦点深度。

发明内容

因此本发明的第一目的就是提供对应于在感旋光性基板上形成感旋光性基板的感光特性或是图案上，其必要的解像度而言，曝光功率，平台速度，以及焦点深度等的曝光条件，可以设定成最适当条件的曝光装置与方法。并且，使利用此装置或方法，而形成微细图案而制造微元件的制造方法。

又，使用通常的光阻形成TFT的情形下，光阻的感度高时，曝光能量可以少一些，但是仍必要有3微米的解像度。另一方面，若使用树脂光阻，而形成彩色滤光片，其必要使用较高的曝光能量，但是解像度在5微米的程度已足够。因此，由于涂布于基板上的光阻的感度，其必要的曝光能量会不同，其曝光能量可由对应的光阻的感度值，而必要控制照射在基板上的照明光的照度。

又，关于投影曝光装置，由灯炮所构成的射出照明光的光源其经时的劣化，或是供给灯炮的电力的变动等，其也就是通过投影光学单元，照射在基板上的照明光照度的变动。此照明光照度的变动，于步进与重复方式的投影曝光装置上，因为由拍摄的开闭时间的控制，而控制其曝光量，曝光量会产生斑点，而导致曝光量控制的精度的低下。又，于步进与扫描方式的投影曝光装置上，在扫描曝光中，明光照度的变动也会产生曝光斑点。

因此，本发明的第二目的就是，提供在基板上涂布的感光材料有最适当的分光特性，且可用于有固定照度的照明光而进行曝光的曝光装置，以及用于曝光装置的曝光方法。

为达成上述第一目的，本发明的第一观点在于，曝光装置，包括一光源1以及一照明光学系统IL，使当从该光源1的光照射于一罩幕M。利用通过该罩幕M的光而照射于一感旋光性基板P上，形成于该罩幕M的一图案DP，于该曝光装置，而转印到该感旋光性基板P。该照明光学系统IL包括对应于该感旋光性基板P上的感光特性，有切换照射于该罩幕M的光的波长幅度的一波长幅度切换装置6、7。

根据本发明，对应于感旋光性基板的感光特性，利用切换照射于罩幕的光的波长幅度，而改变曝光功率。在曝光上，由于曝光功率可对应于感旋光性基板的感光特性，感旋光性基板有种种的感光特性，而可适当的曝光。

又，上述之感旋光性基板的感光特性，最好含有感旋光性材料。

为达成上述第一目的，本发明的第2观点在于，曝光装置，包括一光源1以及一照明光学系统IL，当从该光源1的光照射于一罩幕M。利用通过该罩幕M的光而照射于一感旋光性基板P上，形成于该罩幕M的一图案DP，于该曝光装置，而转印到该感旋光性基板P。该照明光学系统IL包括对应于该感旋光性基板P上的转印的该图案DP的解像度，有切换照射于该罩幕M的光的波长幅度的一波长幅度切换装置6、7。

根据本发明，对应于转印于感旋光性基板的图案解像度，由于切换照射于罩幕的光的波长幅度，于转印要求高解像度的微细图案或是不需要高解像度的图案，的任何情形下，其皆又足够的解像度而可转印。又，切换照射于该罩幕的光的波长幅度，曝光功率可改变。例如，有不要求高曝光功率的感光特性，而当有必要形成高解像度图案于感光基板上时，以及有要求高曝光功率的感光特性，而当要形成不需要高解像度图案于感光基板上时，其任何情形皆可形成良好所要的解像度的图案。

又，根据上述第1观点或第2观点的曝光装置，又较佳包括一存储装置23，以存储对应于该感旋光性基板P的处理与显示处理顺序的一处理数据；以及一控制装置20，根据该处理数据，可控制该波长幅度切换装置。

更，该存储装置23，存储一照明光学特性数据，其显示利用该波长幅度切换装置6、7，而切换每一个波长幅度，转印该图案DP于该感旋光性基板P的适当的该照明光学系统IL的光学特性，该控制装置20，于控制该波长幅度切换装置6、7，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，根据该存储装置23所存储的该照明光学特性数据，而调整该照明光学系统IL的光学特性。

又更，可包括一照明光学检出装置29，用以检出该照明光学系统IL的光学特性。该控制装置20控制该波长幅度切换装置6、7，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，一面参照该照明光学检出装置29的检出结果，而调整该照明光学系统IL的光学特性。

为达成上述的第一目的，本发明的第3观点的曝光装置，包括一光源1，以及一照明光学系统IL，当从该光源1的光照射于一罩幕M，利用通过该罩幕M的光而照射于一感旋光性基板P上，形成于该罩幕M的一图案DP，于该曝光装置，而转印到该感旋光性基板P。该照明光学系统IL包括：一波长幅度切换装置6、7，切换照射于该罩幕M的光的波长幅度。一存储装置，存储一照明光学特性数据，其显示利用该波长幅度切换装置6、7，切换每一个波长幅度，转印该图案DP于该感旋光性基板P的适当的该照明光学系统的光学特性，以及一控制装置，控制该波长幅度切换装置6、7，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，根据该存储装置所存储的该照明光学特性数据，而调整该照明光学系统IL的光学特性。

关于本发明，预先求出照明光学特性数据，而显示照射于该罩幕的光的每一个波长幅度，适用于将该罩幕的图案转印于该感旋光性基板上的照明光学系统的光学特性。当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，根据该存储装置所存储的该照明光学特性数据，而调整该照明光学系统的光学特性，因此可得到照射于该罩幕的光的每一个波长幅度，之最适当照明条件。也因此，罩幕的图案可忠实被转印于感旋光性基板上。

为达成上述第一目的，本发明的第4观点的曝光装置，包括一光源1，以及一照明光学系统IL，当从该光源1的光照射于一罩幕M，利用通过该罩幕M的光而照射于一感旋光性基板P上，形成于该罩幕M的一图案DP，于该曝光装置，而转印到该感旋光性基板P。该照明光学系统IL包括：一波长幅度切换装置6、7以切换照射于该罩幕M的光的波长幅度。一照明光学检出装置29，用以检出该照明光学系统IL的光学特性。一控制装置，系控制该波长幅度切换装置6、7，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，根据该照明光学检出装置29的检出结果，而调整该照明光学系统IL的光学特性。

关于本发明，当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，根据该照明光学检出装置的检出结果，而调整该照明光学系统的光学特性，其对应于实际检出的光学特性，而最适当调整照明光学系统的光学特性，也因此罩幕的图案可忠实被转印于感旋光性基板上。

又，于上述第1-4观点的曝光装置，该照明光学系统IL，有为了形成于该罩幕上的多个照明领域的多个照明光路，而该控制装置，调整每一个该些照明光路，而达到该照明光学系统的光学特性。

又更，于上述第1-4观点的曝光装置，该照明光学系统IL，具有一感侧器17b，以检出照射于该罩幕M的光的强度，而该控制装置20控制该波长幅度切换装置6、7，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，调整对应于该波长幅度的该感侧器的特性。

为达成上述第一目的，本发明的第5观点的曝光装置，包括一光源1，以及一照明光学系统IL，当从该光源1的光照射于一罩幕M，利用通过该罩幕M的光而照射于一感旋光性基板P上，形成于该罩幕M的一图案DP，于该曝光装置，而转印到该感旋光性基板P。该照明光学系统IL包括：一波长幅度切换装置6、7，切换照射于该罩幕的光的波长幅度。一感侧器17b，用以检出照射于该罩幕M的光的强度；以及一控制装置20，控制该波长幅度切换装置6、7，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，调整对应于该波长幅度的该感侧器17b的特性。

又，于上述第1-5观点的曝光装置，该照明光学系统IL，有为了形成于该罩幕M上的多个照明领域的多个照明光路，而最好又包括多个感侧器，以检出每一该些照明光路的光的强度。

又，于上述第1-5观点的曝光装置，又包括一投影光学系统PL，将该罩幕M的图案DP，投影于该感光基板P上；一罩幕平台MS以载置该罩幕M；以及一基板平台PS以载置该感旋光性基板P。该罩幕平台MS与该基板平台PS的至少一方，最好使构成可以沿着该投影光学系统PL光轴的方向移动。

更，该存储装置23预先存储一投影光学特性数据，其显示利用该波长幅度切换装置6、7，切换每一个波长幅度，用于转印该图案DP于该感旋光性基板P的适当的该投影光学系统PL的光学特性，以及该控制装置20，控制该波长幅度切换装置6、7，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，根据该存储装置23所存储的该投影光学特性数据，而最好调整该投影光学系统PL的光学特性，该沿着该光轴方向的罩幕M的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板P的位置等至少其一。

又更，包括一投影光学特性检出装置24，以检出该投影光学系统PL的光学特性，该控制装置20，控制该波长幅度切换装置6、7，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，一起参照该投影光学检出装置24的检出结果，而最好调整该投影光学系统PL的光学特性，该沿着该光轴方向的罩幕M的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板P的位置等至少其一。

又，该存储装置23，预先存储一变动数据，其显示利用该波长幅度切换装置6、7，而切换每一个波长幅度，对应于该投影光学系统PL的照射时间与该投影光学系统PL的光学特性的变动量的关系，该控制装置20，根据对于罩幕M的照射履历与该变动数据，最好调整该投影光学系统PL的光学特性，该沿着该光轴方向的罩幕M的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板P的位置等至少其一。

为达成上述的第一目的，本发明之第6观点的曝光装置，包括一光源1；一照明光学系统IL，使从该光源1的光照射于一罩幕M；以及一投影光学系统PL，根据该照明光学系统IL的光，将形成于该罩幕M的一图案DP，投影到该感旋光性基板P。其中又包括，一罩幕平台MS以载置该罩幕M；一基板平台PS以载置该感旋光性基板P；一波长幅度切换装置6、7，以切换照射于该罩幕M的光的波长幅度；一存储装置，存储一投影光学特性数据，其显示利用该波长幅度切换装置6、7，切换每一个波长幅度，转印该图案DP于该感旋光性基板P的适当的该投影光学系统PL的光学特性；以及一控制装置20，控制该波长幅度切换装置6、7。该罩幕平台MS与该基板平台PS的至少其一，使构成可以沿着该投影光学系统PL光轴的方向移动。该控制装置20，控置该波长幅度切换装置6、7，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，根据该存储装置23所存储的投影光学特性数据，调整该投影光学系统PL的光学特性，该沿着该光轴方向的罩幕M的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板P的位置等至少其一。

于本发明，预先求投影光学特性数据，其显示出照射于该罩幕M的光的每一波长幅度，适用于转印该罩幕上的图案于该感旋光性基板上的投影光学统的光学特性，于照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，根据该投影光学统的光学特性，沿着该光轴方向投影光学统的位置，沿着该光轴方向的罩幕的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板的位置等至少其一，以得到转印该罩幕上的图案于该感旋光性基板上的最适当投影条件，而也因此罩幕的图案可忠实被转印于感旋光性基板上。

为达成上述的第一目的，本发明的第7观点的曝光装置，包括一光源1；一照明光学系统IL，使从该光源1的光照射于一罩幕M；以及一投影光学系统PL，根据该照明光学系统IL的光，将形成于该罩幕M的一图案DP，投影到该感旋光性基板P。其中又包括，一罩幕平台MS以载置该罩幕M；一基板平台PS以载置该感旋光性基板P；一波长幅度切换装置6、7，以切换照射于该罩幕M的光的波长幅度；一投影光学特性检出装置24以检出该投影光学系统PL的光学特性；以及一控制装置20控制该波长幅度切换装置6、7。该罩幕平台MS与该基板平台PS的至少其一，使构成可以沿着该投影光学系统PL光轴的方向移动。该控制装置20，控置该波长幅度切换装置6、7，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，根据该投影光学特性检出装置24的检出结果，调整该投影光学系统PL的光学特性，该沿着该光轴方向的罩幕M的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板P的位置等至少其一。

于本发明，于照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，检出该投影光学统的光学特性，根据检出结果，调整投影光学统的光学特性，沿着该光轴方向投影光学统的位置，沿着该光轴方向的罩幕的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板的位置等至少其一，以得到转印该罩幕上的图案于该感旋光性基板上的最适当投影条件，而也因此罩幕的图案可忠实被转印于感旋光性基板上。

为达成上述的第一目的，本发明的第8观点的曝光装置，包括一光源1；一照明光学系统IL，使从该光源1的光照射于一罩幕M；以及一投影光学系统PL，根据该照明光学系统IL的光，将形成于该罩幕M的一图案DP，投影到该感旋光性基板P。其中又包括，一罩幕平台MS以载置该罩幕M；一基板平台PS以载置该感旋光性基板P；一波长幅度切换装置6、7，以切换照射于该罩幕M的光的波长幅度；一存储装置23，以存储一变动数据，其显示利用该波长幅度切换装置6、7，而切换每一个波长幅度，对应于该投影光学系统PL的照射时间与该投影光学系统PL的光学特性的变动量的关系；以及一控制装置，控制该波长幅度切换装置6、7。该罩幕平台与该平板平台的至少其一，使构成可以沿着该投影光学系统PL光轴的方向移动。该控制装置20，控置该波长幅度切换装置6、7，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，根据该存储装置23所存储的该变动数据，调整该投影光学系统PL的光学特性，该沿着该光轴方向的罩幕M的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板P的位置等至少其一。

于本发明，预先求出显示每一切换波长幅度所对应于该投影光学系统的照射时间与该投影光学系统的光学特性的变动量的关系的变动数据，于照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，根据该变动数据，调整该投影光学系统PL的光学特性，该沿着该光轴方向的罩幕M的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板P的位置等至少其一，以得到转印图案于该感旋光性基板上的照射于罩幕的光的每一波长幅度，其最适当的投影条件，而也因此罩幕的图案可忠实被转印于感旋光性基板上。

又，于上述第1-8观点的曝光装置，该投影光学系统PL的光学特性包括该投影光学系统PL的焦点位置，倍率，像位置，像旋转，像面弯曲像差，非点像差，以及歪曲像差的至少其一。

又，该像位置包括投影光学系统的光轴方向的位置及与光轴直交的面内(物体面内、像面内)的位置二者。又，上述的投影光学系统的光轴，设于投影光学系统内的偏向部，利用此偏向部，当曲折投影光学系统内的光轴时，也包含此光轴曲折。

又，投影光学系统的像旋转，包括于该投影光学系统的光轴上旋转以及于与光轴垂直的方向的轴上旋转。

又，于上述第1-8观点的曝光装置，该投影光学系统PL，包括个别投影于该感旋光性基板P上的罩幕M的多个投影光学系统。该控制装置20对每一该些投影光学系统调整投影光学系统的光学特性。

又，于上述第1-8观点的曝光装置，包括一位置计测装置27a、27b，较佳是使用利用该波长幅度切换装置6、7切换波长幅度的光，测定形成于该平板平台PS上的基材部28的位置，以及形成于该感旋光性基板P上的标记，根据各各测定结果，而求出载置于平板平台PS上的感旋光性基板P的位置。该位置计测装置27a、27b控制波长幅度切换装置6、7，而切换照设于罩幕的光的波长幅度，计测基材部28的位置而求出平板平台PS的基准位置。

更，又包括一第1测定装置24，以测定形成该罩幕M的图案DP的投影位置。一第2测定装置70a～70d，以测定形成于载置于平板平台PS上的该感旋光性基板P的标记。一位置计算装置20，根据该第1测定装置24与该些第2测定装置70a～70d的测定结果，相对于投影该图案DP的位置，求出该感旋光性基板P的位置。该第1测定装置24较好为，该控制装置20控制该波长幅度切换装置6、7而切换照射于光罩M的光的波长幅度，测定被投影的该图案DP的位置。

为达成上述第一目的，本发明的第9观点的曝光装置，包括一光源1；一照明光学系统IL，使从该光源1的光照射于一罩幕M；以及一投影光学系统PL，根据该照明光学系统IL的光，将形成于该罩幕M的一图案DP，投影到该感旋光性基板P。其中又包括，一罩幕平台MS以载置该罩幕M；一基板平台PS以载置该感旋光性基板P；一波长幅度切换装置6、7，以切换照射于该罩幕M的光的波长幅度；一控制装置20控制该波长幅度切换装置6、7；一位置计测装置27a、27b，较佳是利用该波长幅度切换装置6、7以切换波长幅度的光，测定形成于该平板平台PS上的基材部28的位置，以及形成于该感旋光性基板P上的标记，根据各各测定结果，而求出载置于平板平台PS上的感旋光性基板P的位置。该位置计测装置27a、27b为控制波长幅度切换装置6、7，而切换照设于罩幕的光的波长幅度，计测基材部28的位置而求出平板平台PS的基准位置。

于本发明，于当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，使用此光而计测载置于基板平台上的感旋光性基板的位置的该位置计测装置，为决定设于基板平台的基板平台的基准位置，计测基准部的位置，而求出基板平台的基准位置，如此切换照射于罩幕的光的波长幅度，可正确计测于基板平台上的感旋光性基板的位置。

为达成上述的第一目的，本发明的第10观点的曝光装置，包括一光源1；一照明光学系统IL，使从该光源1的光照射于一罩幕M；以及一投影光学系统PL，根据该照明光学系统IL的光，将形成于该罩幕M的一图案DP，投影到该感旋光性基板P。其中又包括，一罩幕平台MS以载置该罩幕M；一基板平台PS以载置该感旋光性基板P；一波长幅度切换装置6、7，以切换照射于该罩幕M的光的波长幅度；一控制装置20控制该波长幅度切换装置6、7；一第1测定装置24，以测定形成该罩幕M的图案DP的投影位置；一第2测定装置70a～70d，以测定形成于载置于平板平台PS上的该感旋光性基板P的标记。一位置算出装置27a、27b，根据该第1测定装置与该第2测定装置的测定结果，对于被投影的该图案的位置，求出该感旋光性基板的位置。该第1测定装置24，是于该控制装置控制该波长幅度切换装置6、7而切换照射于光罩M的光的波长幅度之际，测定被投影的该图案DP的位置。

于本发明，于当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，利用该测定装置24，以测定形成该罩幕M的图案DP的投影位置，于照射在罩幕M的光的波长幅度改变时，由第1测定装置的测定结果，与设置于投影光学系统的侧边的第2测定装置，对感光基板上的标计的测定结果，可求出对于图案DP的投影位置的感光基板的正确位置值。

又，于上述第1-10观点的曝光装置，波长幅度切换装置中，照射于该罩幕M的波长幅度，不只是断续(discrete)可变的，波长幅度也可以连续可变的，然而由于使用光源限制的诸等原因，较佳为波长幅度是断续可变的。

于上述第1-10观点的曝光装置，于光源波长的差异，光谱中存有辉线的光才会射出，该波长幅度切换装置较佳是利用切换照射于罩幕的光的波长幅度，改变含有照射于罩幕的光的该光谱的辉线。

又，该波长幅度切换装置是利用切换该光的波长幅度，该含有照射于罩幕的光，该光谱的辉线的数目较佳是可改变。更又，该波长幅度切换装置较佳为包含一波长选择滤波器，从该光源的光的波长幅度，选择一部份而使可穿通过。

为达成上述的第一目的，本发明的第1观点的曝光方法，包括使用上述的曝光装置的任一，照明该罩幕M的一照明步骤；以及形成于该罩幕M上的图案DP，而转印于该感旋光性基板上的一曝光步骤。

为了解决上述课题，本发明的第2观点的曝光方法是由光源1来的光照射于罩幕M，于形成于该罩幕M上的图案DP，而转印于该感旋光性基板上的该曝光步骤中，有一切换步骤S11对应于该感旋光性基板的感光特性，切换照射于罩幕M的光的波长幅度。

又，于上述第2观点的曝光方法，于该切换步骤S11中，更包括较佳对应于转印子感旋光性基板P上的图案DP的解像度，切换照射于罩幕M的光的波长幅度。

又，随着实行该切换步骤S11，又包括一补正步骤S13、S15，以补正由于切换该波长幅度所引起的光学特性变化。

又，为达成上述的第二目的，本发明的第11观点的曝光装置，于曝光装置，在基板上涂布感旋光性材料在罩幕上的图案，包括一光源，一照度检出装置，以检出从光源的光的照度。根据包含从该照度检出装置的检出值与该感旋光性材料的分光特性的数据与成分数据，从光源的光控制使有一定的照度的一照明装置，与利用从该照明装置来的光，照明于罩幕上的该图案，而投影到该基板上的一投影光学系统。

于第2观点的曝光装置，利用包括有照明装置的照度检出装置，检出从光源来的光的照度，根据含检出值与该感旋光性材料的分光特性的相关数据与成分数据，控制使有一定的照度。因此，使用对应于涂布于基板上的感旋光性材料的最适合分光特性，且有一定照度的照明光，可进行感旋光性材料的曝光。

又，于第11观点的曝光装置，该照明装置，更包括一波长域变更装置，可变更从光原来的光的波长域。根据含感旋光性材料的分光特性的相关数据的该成分数据与由该照度检出装置的检出值，利用该波长域变更装置，变更波长的光控制使有一定的照度。

于上述结构，利用照明装置检出从光源的光的照度，利用波长域变更装置而变更从光源来的光的波长。又，根据利用各照度检出装置的检出值与含感旋光性材料的分光特性的相关数据的该成分数据，于从光源来的光中，利用波长域变更装置，变更波长的光的照度，控制使有一定的照度。因此，使用对应于涂布于基板上的感旋光性材料的最适合分光特性，且有一定照度的照明光，可进行感旋光性材料的曝光。

又，于第11观点的曝光装置，该照明装置，更包括多个光源，多个照度检出装置以检出各光源照度，与多个波长域变更装置，可变更从各光原来的光的波长域。根据由该照度检出装置的检出值，利用该波长域变更装置，变更波长的光控制使有一定的照度。

于上述结构，利用包括于照明装置的多个照度检出装置，检出从每一该些光源的光的照度，利用各波长域变更装置而变更从光源来的光的波长。又，根据利用各照度检出装置的检出值与含感旋光性材料的分光特性的相关数据的该成分数据，于各从光源来的光中，利用各波长域变更装置，变更波长的光的照度，控制使有一定的照度。因此，使用对应于涂布于基板上的感旋光性材料的最适合分光特性，且有一定照度的照明光，可进行感旋光性材料的曝光。

又，于上述结构，该照度检出装置，分别检出有不同波长分布的多个波长域的光的照度。

于上述结构，利用照明装置有相互有异的波长分布的多个波长域的光的照度，而分别检出照度，根据此检出值与含有感旋光性材料的分光特性的相关数据的该成分数据，于从光源来的光中，利用波长域变更装置，变更波长的光的照度，控制使有一定的照度。因此，使用对应于涂布于基板上的感旋光性材料的最适合分光特性，且有一定照度的照明光，可进行感旋光性材料的曝光。

又，于上述结构，该照度检出装置包括一反射镜位于该罩幕侧，反射由该光源来的照明光。该照度检出装置较佳根据该从反射镜的漏光，检出从该光源来的光的照度。

于上述结构，用从反射镜的漏光，检出从该光源照射的照明光的照度，根据检出的照度，控制从该光源照射的照明光的一定照度。因此，不会导致照明光的损失，也可以检出从光源的照明光的照度。

又，于第11观点的曝光装置，该较佳又包括一照度传感器，以检出该基板上的照度。又，于第11观点的曝光装置，该检出该基板上的照度的一照度传感器，较佳载置于该基板平台。

于上述结构，例如根据利用载置于基板平台的照度传感器，检出基板上的照度，对应于涂布于基板上的感旋光性材料的分光特性的照明光照度，控制使有最适当的一定照度。

又，于上述结构，较佳检出该基板上的照度的该照度传感器，也可检出位于该基板与光学的耦合地方的照度。

于上述结构，利用检出基板平台与耦合地方的照度的传感器，于曝光时也可检出基板上的照度。因此，根据检出基板平的照度，对应于涂布于基板上的感旋光性材料的分光特性的照明光照度，控制使有最适当的一定照度。

又，于第11观点的曝光装置，该照度传感器，较佳可检出相互有异的波长分布的多个波长域的光的照度，而分别检出照度。

于上述结构，利用照度传感器，于基板上检出相互有异的波长分布的多个波长域的光的照度。因此，根据检出基板平的照度，对应于涂布于基板上的感旋光性材料的分光特性的照明光照度，控制使有最适当的一定照度。

又，于上述结构，较佳又包括一调光装置，以调整从该光源来的光的照度。根据利用照度传感器检出相互有异的波长分布的多个波长域的光的照度，控制该光源或该调光装置。

于上述结构，利用照度传感器检出相互有异的波长分布的多个波长域的光的照度，而控制该光源或该调光装置，特定的波长域的光在基板上照度，对应于涂布于基板上的感旋光性材料的分光特性，控制使有最适当的一定照度。

又，利用本发明第3观点的曝光方法，包括使用上述任一的曝光装置的曝光方法，使用该照明装置，照明于罩幕的一照明步骤，与使用该投影装置，投影于罩幕的图案到该基板上的一投影步骤。

于该曝光方法，利用照明步骤，根据于涂布于基板上的感光度，而照明于罩幕的照度，对应于最适合的涂布于基板上的感旋光性材料的分光特性，且有一定照度的照明光，可进行感旋光性材料的曝光。

又，未达成上述的目的，本发明的为元件的制造方法，包括使用上述任何之一的曝光装置或上述任何之一的曝光方法，以形成于罩幕M的图案DP，而曝光于该感旋光性基板P的曝光方法S44，与将被曝光的该感旋光性基板P显影的显影步骤S46。

附图说明

图1为依据本发明的第一实施例，曝光装置的全体结构斜视图。

图2为照明光学系统IL的侧视图。

图3为穿通过波长选择滤波器6，7的光的光谱。

图4为照明光学系统IL的远心(telecentricity)与照度分布的关系图，其中图4a为复眼集成器(fly-eye integrator)的入射面的光强度的照度分布图，而图4b为照射于平板P的光的照度分布图。

图5a-图5b为改变光导器9的出射端9b的角度，而调整光学照明系统的远心的样子的示意图。

图6为于平板P上产生照度的一例示意图。

图7为照明光学系统IL的变形例的斜试图。

图8为投影光学系统PL的一部，为投影光学单元PL1的结构示意图。

图9为图8的罩幕侧倍率补正光学系统35a的结构，以及平板侧倍率补正光学系统35b的概略示意图。

图10为图8的聚焦补正光学系统38，概略示意图。

图11为曝光的光线，含有g线、h线、与i线的波长幅度的曝光光线，其MTF示意图。

图12a为照度测定部29的概略结构与测定照度方法说明图，以及图12b与12c图为利用图12a的方法，所得到的照度分布图。

图13为空间像计测装置24的概略结构斜视图。

图14为使用空间像计测装置24的投影光学单元PL1～PL5的光学特性检出方法说明示意图。

图15为利用本发明第1实施例，其曝光装置的动作的一例的流程图。

图16为依据本发明的第二实施例，曝光装置的全体结构斜视图。

图17为平板对准感侧器70a～70d的光学系统结构示意图。

图18为依据本发明的第三实施例，曝光装置的投影光学系统PL的一部份，即投影光学单元PL1的结构侧视图。

图19为图18的聚焦补正光学系统58的结构概略示意图。

图20为本发明的第4实施例，关于曝光装置的全体结构斜视图。

图21为本发明的第4实施例，关于照明系统的侧视图。

图22为本发明的实施例，关于吸光板与吸热器的形状示意图。

图23为本发明的实施例，关于穿通过波长选择滤波器的光谱说明图。

图24为本发明的第5实施例，关于曝光装置的照明系统的结构图。

图25为本发明的第5实施例，关于照明系统的光源单元的结构图。

图26为本发明的第6实施例，关于曝光装置的照明系统的结构图。

图27为本发明的第7实施例，关于曝光装置的照明系统的结构图。

图28为本发明的第7实施例，关照明系统的光源单元结构图。

图29为本发明实施例，关于微元件的半导体元件制造方法的流程图。

图30为本发明实施例，关于微元件的液晶显示元件制造方法的流程图。

1，101，140a-c.光源    17b.集成传感器

2，102：椭圆镜

18，19，21b，22b，39a，41-50，119：驱动部3，103：反射镜             20，120：主控制系统4：快门                    23，123：存储装置5，112a-112f：准直透镜     24：光学特性检出装置6，7，106a，106b：波长选择滤波器25，26，122：移动镜8，88，105，110：传递透镜  30a，30b：成像光学系统9，111：光导器             31a，31b：棱镜10：刀片                   32a，32b：曲折光学系11b：准直透镜              33a，33b：凹面反射镜12b：复眼集成器            34a，34b：反射曲折光学系统13b：开口阻隔              35a，35b：反射曲折光学系统14b：分光器                36，37：平行面板15b，81，83，85：集光透镜部38：聚焦补正光学系统16：集光透镜               29a：线传感器80：卤灯                   82：二色性滤光镜86：指针板                 87：标记90，91：物镜               92：影像元件104a：开口板               104b：遮蔽板109a：吸热器               130：光感侧器136：电源装置              138a，138b：滤光器115b-f：复眼集成器         116b-f：视野档板124，129a，b：照度传感器

具体实施方式

图1为依据本发明的第一实施例，曝光装置的全体结构斜视图。关于第1实施例，对于由多个反射屈折形的投影光学单元PL1～PL5所构成的投影光学系统PL，罩幕M与做为感旋光性基板的平板P的相对移动时，被形成罩幕M的液晶显示器的图案DP的像，被转印于平板P上，此为步进与扫描方式的曝光装置的适用情形，例如举例说明。又，本实施例中，平板P上涂布有光阻(感度：20mJ/cm²)或是树脂光阻(感度：60mJ/cm²)。

又，于以下说明，各图中所示设定为xyz直交坐标系统。一面参照此xyz直交坐标系统，而其它各部份的相关位置进行说明。xyz直交坐标系统设置平板P相对平行于x轴与y轴，而设定z轴垂直于平板P的方向。图中的xyz直交坐标系统，实际上设定xy平面与水平面平行，而z轴设定于垂直向上方向。又，本实施例罩幕M与平板P向互移动的方向(扫描方向)，设定为x轴方向。

本实施例的曝光装置，于罩幕平台(未示于图1)上通过罩幕支撑器(未示)，在平行于xy平面上支撑，具有使得可以在罩幕上均一照明的照明光学系统。图2为照明光学系统IL的侧视图。与图1相同号码的对象代表相同对象。请参照图1与图2，照明光学系统例如是有由超高压水银灯所构成的光源1。光源1配置于椭圆镜2的第1焦点的位置。由光源1发出的照明光束，通过二色性镜3(dichroic-mirror)，在椭圆镜2之第2焦点的位置形成光源像。

又，本实施例，由光源1射出的光，利用于椭圆镜2的内面所形成的反射膜与二色性镜3的反射，由含有g线(436nm)的光，h线(405nm)的光，及i线(365nm)的光的波长领域的光，在椭圆镜2的第2焦点的位置形成光源像。最后，曝光上不必要，而在含有g线(436nm)的光，h线(405nm)的光，及i线(365nm)的光的波长领域之外的成分，被椭圆镜2与二色性镜3于反射之际而被移除。

于椭圆镜2的第2焦点的位置，配置有快门4。快门4相对于光轴AX1倾斜配置，为一开口板4a(见图2)，与用于之遮蔽或开放所形成的开口的一遮蔽板4b(见图2)。在椭圆镜2的第2焦点的位置的快门4，其配置使由光源1射出的照明光束被集束，而由遮蔽板4b的少许移动，而遮蔽开口板4a上所形成的开口。利用通过开口的照明光束的光量可突然改变，可得到脉冲式的照明光束。

由在椭圆镜2的第2焦点的位置上形成的发散光束，利用准直透镜5，使改变成约略平行光束，而入射于波长选择滤波器6。波长选择滤波器6使所要的光束通过，其相对于光路(光轴AX1)可进退自在。又，有与波长选择滤波器6相同，相对于光路(光轴AX1)可进退自在的波长选择滤波器7。波长选择滤波器7与波长选择滤波器6共同设置。其波长选择滤波器6，7内的任一个，配置于光路上。图2的主控制系统20，利用由驱动装置18控制，使波长选择滤波器6，7的任一个配置于光路上。

于本实施例，波长选择滤波器6使含i线的波长域的光通过，波长选择滤波器7使含g线光，h线光与i线光(365nm)的波长域的光通过。于此，于本实施例，利用波长选择滤波器6、7的任一配置于光路上，而切换照射于罩幕的光的波长幅度。又，波长选择滤波器相当于本发明的波长幅度切换装置。

又，穿通过波长选择滤波器的光的光谱如以下说明。图3为穿通过波长选择滤波器6，7的光的光谱。如图3所示，由光源1射出含有大约波长200～600nm的波长域的多个辉线(peak)的光谱的光。于光源1射出的光内，于进行曝光之际，用前述椭圆镜2与反射镜3的反射将曝光不要的波长成份移除。曝光不要的波长成份被移除，入射于配置在光路上的波长选择滤波器6，如图3所示，使含波长幅度Δλ1的i线光通过。另一方，的波长选择滤波器7，使含波长幅度Δλ2的g线，h线，i线光通过。

又，通过波长选择滤波器6的光的功率，是由波长幅度Δλ1内的光谱的积分所得，或是波长幅度Δλ2内的光谱的积分所得。于此，如图3所示，为各g线，h线，i线的光谱分布。通过波长选择滤波器6与波长选择滤波器7功率比约1比3。

于此，如前述，本实施例的平板P上假设涂布感度为20mJ/cm²的光阻，或是感度为60mJ/cm²的树脂光阻，其感度约1比3。因此，平板P上涂布高感度的光阻时，可配置低透光率的波长选择滤波器6于光路上，而涂布高感度的光阻时，可配置低透光率的波长选择滤波器7于光路上。载置于平板P上平板平台PS的移动速率一定(300mm/sec)下，可进行曝光。如此，本实施例中，对应于被涂布于平板P的光阻感度(感光特性)，配置于光路上的波长选择滤波器，利用切换可通过的波长幅度，变更照射于平板P的光的功率。

类似图1，通过波长选择滤波器6或是波长选择滤波器7的光，通过传递透镜8(relay lens)的再成像。于此再成像位置的附近，配置于光导器9的入射端9a。光导器9例如由多个随意光纤束所构成随机光导器光纤。光源1的数量(图1为1个)与入射端9a的数量相同。构成投影光学系统PL的投影光学单元的数量(图1为五个)与出射端9b～9f的数量相同(如图2的出射端9b所示)。就此，由光导器9的入射端9a的入射光，于其内部传播后，分五个出射端9b～9f射出。

如图2所示，光导器9的入射端9a，可以是连续可变的位置所构成的刀片10。此刀片10，可利用于光导器9的入射端9a的将一部份光遮蔽，光导器9五个出射端9b～9f，因此各别射出连续可变的强度的光。刀片10对于光导器9的入射端9a以控制遮光量，图2中主控制系统20，用于进行控制一驱动装置19。

如前述，本实施例，考虑平板P上涂布感度为20mJ/cm²的光阻，或是感度为60mJ/cm²的树脂光阻的情形，利用刀片10，而利用调整从光导器9的出射端9b～9f的各射出光的强度，上述的光阻与感度不同的光阻(例如50mJ/cm²的光阻)被涂布的情形，对应光阻的感度，可设定适当的照射于光阻的光功率。如此，平板平台PS的移动速度从最高到最低皆可曝光。

光导器9的出射端9b与罩幕M之间，准直透镜11b(collimatelens)，复眼集成器12b(未示于图1)，开口阻隔(aperture stop)13b(未示于图1)，分光器14b(未示于图1)，以及集光透镜部15b(condense lens)顺续配置。同样，光导器9之各出射端9b～9f与罩幕M之间，准直透镜11c～11f，复眼集成器12c～12f，开口阻隔13c～13f，分光器14c～14f，以及集光透镜部15c～15f，也顺续配置。于此，为简单说明，光导器9的出射端9b～9f与罩幕M之间，设置有光学部结构，光导器9的出射端9b与罩幕M之间，设置有准直透镜11b，开口阻隔13b，分光器14b，以及集光透镜部15b做为代表说明。

从光导器9的出射端9b射出的发散光束，利用准直透镜11b，将光转变为平行光后，入射于复眼集成器12b。复眼集成器12b是由多个正透镜元件其中心轴线沿着光轴AX2，而横向密合延伸配列所构成。因此，复眼集成器12b的入射光束，利用多个透镜元件，而分割波面，其后侧焦点面(即，射出面附近)，有与透镜元件的个数相同的光源像，而形成二次光源。即是，复眼集成器12b的后侧焦点面，形成实质上的面光源。

复眼集成器12b的后侧焦点面，被形成的由多个二次光源的光束，利用于复眼集成器12b的后侧焦点面的附近所设置的开口阻隔13b而被限制后，通过分光器14b，而入射于集光透镜部15b，又，开口阻隔13b，于对应于投影光学单元PL1的朣面与光学的约略耦合位置而配置。为了使所要的照明可规定二次光源的范围，其有可变的开口部。开口阻隔13b，利用其变化可改变开口部的开口径，而决定照明条件的σ值(构成投影光学系统PL的各投影光学单元PL1～PL5的朣面的开口径，对应于朣面上的二次光源的口径比)而设定所希望的值。

通过集光透镜部15b的光束，被形成图案DP的罩幕M，重叠照明。从光导器9之其它出射端9c～9f射出的发散光也相同，顺续通过准直透镜11c～11f，复眼集成器12c～12f，开口阻隔13c～13f，分光器14c～14f，以及集光透镜部15c～15f，与罩幕M，个别重叠照明。即是，照明光学系统IL，于罩幕M上的y轴方向合并有多个(图1合计五个)的台形状的照明领域。

一方面，通过照明光学系统IL分光器14b的光，通过集光透镜16b，使由能量传感器的光电转换元件所构成的集成传感器17b(integrate-sensor)受光。此集成传感器17b的光电转换信号，通过未示的锋值维持器(peak hold)回路与A/D转换器，而供给主控制系统20。集成传感器17b的输出，与平板P表面(像面)上，照射光的单位面积的相当能量(曝光量)的相关系数，于主控制系统20预先求出，而存储其内。

主控制系统20，控制载置于平板平台PS的平板P与载置于罩幕平台MS的罩幕M，从未示于图的平台控制器的平台系统的动作数据，同时控制快门4的开闭动作。由集成传感器17b的输出，所对应的光电转变信号，对驱动装置19输出控制信号。从照明光学系统的照明光照射于罩幕M，控制时间与照明强度。又，集成传感器17b的感度，是于光路上对应配置波长选择滤波器6或是配置波长选择滤波器7，利用控制装置20而变更而得。于此，传感器17b的感度因此有波长依存性。

又，光导器9的出射端9b，对应于光轴AX2，为了变更出射端9b的角度，其设置有驱动装置21b。此驱动装置21b为了调整照明光学系统IL的远心(telecentricity)而设计。于此，照明光学系统IL的远心与赵度分布的关系作说明。图为照明光学系统IL的远心与照度分布之关系图。又，图4aw复眼集成器(fly-eye integrator)的入射面的光强度的照度分布图，而图4b照射于平板P的光的照度分布图。

假设，照明光学系统IL的各部材，于制造时有制造误差，且，照明光学系统IL于组合时有组合误差的情形，入射于复眼集成器12b的光的照度分布，如图4a中，符号PF10的曲线所示，其对应于光轴回转对称，为凸型的照度分布。得到有此照度分布的光的情形下，照射于罩幕M上的照明领域的照明光的照度分布或投影于平板P的投影领域的投影光的照度分布，如图4b中，符号PF20的曲线所示，没有不均匀的照度分布。

由此，照明光学系统IL的各部材的制造误差以及组合误差，由于有些微存在，入射于复眼集成器12b的光的照度分布，如图4a中符号PF11的曲线所示。其对应于光轴倾斜而回转不对称，而产生照度不均。此结果，照射于罩幕M上的照明领域的照明光的照度分布或投影于平板P的投影领域的投影光的照度分布，因此为倾斜分布。又，本实施例中，利用波长选择滤波器6、7的任一，配置于光路上，通过照明光学系统IL的光的波长幅度会变化。由此，例如，波长选择滤波器6配置于光路上的情形，得到如图4b的照度分布PF20。利用波长选择滤波器7替代波长选择滤波器6配置于光路上，投影于平板P的投影领域的投影光的照度分布，会有倾斜分布。

此倾斜分布(照度不均)，造成照明光学系统IL的远心的恶化，为了改善远心，而包括有为了使对于光轴AX2的射出端9b角度变更的驱动装置21b。图5，改变光导器9的出射端9b的角度，而调整光学照明系统的远心的样子的示意图。又，利用波长选择滤波器7替代波长选择滤波器6配置于光路上，图5a所示，对于复眼集成器12b的入射光角度(入射角约略不为0)。由于入射角约略不为0，控制系统20对于驱动装置21b输出控制信号，调整射出端9b的角度。如图5b所示，驱动装置21b利用于射出端9b的端部压向与光轴AX2直交的一方向，使光轴AX2对射出端9b倾斜，而形成如图4b所示的没有照度不平均的照度分布PF20。

又，上述含有照明光学系统IL的各部材于制造时的制造误差与组合误差，有一些存在的情形下，或是，波长选择滤波器6、7交换的情形下，如图6的符号PF22的区线所示，罩幕M上的照明领域或是平板P上的投影领域，对于光轴回转对称，而产生照度不均。图6是于平板P上产生照度不均的一例绘示图。为了补正照度不均，由集光透镜部15b所构成的至少一个的光学元件(透镜)，设置驱动装置22b使沿着光轴AX2方向移动。控制装置20通过驱动装置22b，使含有集光透镜部15b的光学元件沿着光轴AX2方向移动，如图6的照度分布PF22，利用使反向回转对称，而发生照度不均，而形成如图6无照度不均的照度分布PF20。

又，照明光学系统IL，利用调整被设置的光学部材的位置，照明光学系统IL的照明光学特性(远心与照度不均)，其调整方法详述于下。例如参照日本特开平2001-305743号公报，特开平2001-313250号公报(以及对应的美国于2001年2月23日申请的申请号09/790,616)，以及美国专利5,867,319。又，于照度不均的调整，如罩幕面(平板面)近旁或罩幕面(平板面)与光学的耦合面，或是其扫描方向近旁的开口的幅度是与扫描方向直交的方向(非扫描方向)，利用配置不同的视野挡板，以作可能的补正。其详细补正方法，参照例如欧洲特许633506等。又，于补正方法，不必有相异视野挡板的开口的幅度，而于非扫描方向的穿透特性上，也可以设置有浓度分布过滤器，使补正照度不均的分布。

控制装置20，与硬盘等的存储装置23连接，于存储装置23内存有曝光数据文件。曝光数据文件存储于进行平板P曝光时的处理与处理顺序。每一处理，为相关于在平板P上涂布光阻的数据(例如光阻感度)，必要的解像度，使用的罩幕M，使用的波长选择滤波器，照明光学系统IL的补正量(照明光学数据)，投影光学系统PL的补正量(投影光学数据)，以及基板的平坦性到关数据(所谓成分recipe)。于此，照明光学系统IL的补正量，波长选择滤波器6、7可个别于光路上配置。罩幕M的图案DP，于适当的照明光学系统IL的光学特性的补正量(确保于远心时，不会产生罩度不均的状态)，将罩幕M的图案DP转印于平板P。

上述控制装置20，根据其存储装置23所存储的曝光远心，利用进行控制驱动装置18，19，21b，22b，切换波长选择滤波器，刀片10的位置调整，光导器9的射出端9b的角度调整，以及集光透镜部15b的光轴AX2方向的位置调整，而调整照明光学系统IL的照明条件。又，于后详述，于本实施例，控制装置20，与存储装置23所存储的照明光学系统IL的补正量一起，使用照射于平板P的光的照度不均等的照明光学系统IL的照明光学特性的检出结果，以补正照明光学系统IL的光学特性。

又，如以上说明的照明光学系统IL，从一光源1的光，通过光导器9等分割成五个照明光，光源1的数量与投影光学单元所限定的数量不同，而可有类似的变形例。图7为照明光学系统IL的变形例的斜试图。如图7所示，为2个以上光源之设计。由此2个光源的照明光，通过随机(random)性良好的光导器9，可等分割成五个照明光。关此结构，可因应于在一个光源的曝光量不足的情形。又，光导器9的分割数量不限于五个，其可对应于投影光学单元的数量而设定分割数量。

由罩幕M上的照明领域的光，对应于每个照明领域，沿着y轴方向配列影光学单元(图1中为五个)PL1～PL5所构成的投影光学系统PL，而入射。其次，本发明的投影光学系统PL的结构如以下说明。图8绘示投影光学系统PL的一部，投影光学单元PL1的结构示意图。又，投影光学单元PL2～PL5的结构约略与投影光学单元PL1的结构相同，而仅以投影光学单元PL1做说明，投影光学单元PL2～PL5的说明省略。

图8所示的投影光学单元PL1，有根据从罩幕M来的光，而形成图案DP的一次像的第一成像光学系统30a，与根据此一次像的光的图案DP的正立正像(二次像)，于平板P上形成有第二成像光学系统30b。又，图案DP的一次像的形成位置近旁，于罩幕M上的投影光学单元PL1的视野领域(照明领域)以及于平板上P的投影光学单元的投影领域(曝光领域)，依设定而设置一视野挡板AS。

第1成像光学系统30a包括一第1棱镜31a，有一第1反射面，与罩幕面(xy平面)有45度倾斜角度，使从罩幕M沿着z轴方向而入射的光，在x轴方向反射。又，第1成像光学系统30a包括一第1曲折光学系32a，其于一第1棱镜31a顺向的一边，有正向曲折功能；与一第1凹面反射镜33a，其凹面朝向于一第1直角棱镜31a。第1曲折光学系32a与第1凹面反射镜33a沿着x轴配置，而全部构成一第1反射曲折光学系统34a。从第1反射曲折光学系统34a沿着x轴+方向，入射于第1棱镜31a的光，相对于罩幕面(xy平面)有45度倾斜角度，设置有一第2反射面，朝向z轴反射。

另一方面，第2成像光学系统30b，包括一第2棱镜31b，有一第2反射面，与罩幕面(xy平面)有45度倾斜角度，使从第1直角棱镜31a沿着z轴方向而入射的光，在x轴方向反射。又，第2成像光学系统30b包括一第2曲折光学系32b，其于一第2直角棱镜31b顺向的一边，有正向曲折功能；与一第2凹面反射镜33b，其凹面朝向于一第2直角棱镜31b。第2曲折光学系32b与第2凹面反射镜33b沿着x轴配置，而全部构成一第2反射曲折光学系统34b。从第2反射曲折光学系统34b沿着x轴+方向，入射于第2棱镜31b的光，相对于罩幕面(xy平面)有45度倾斜角度，设置有一第2反射面，朝向z轴反射。

又，于本实施例中，于第1反射曲折光学系统34a与第1直角棱镜31a之间的第2反射面之间的光路中，于罩幕侧设置有一倍率补正光学系35a；于第2反射曲折光学系统34b与第2直角棱镜31b之间的第2反射面之间的光路中，于罩幕侧设置有一倍率补正光学系35b。又，罩幕M与第1直角棱镜31a之间的第1反射面的光路中，设置有像偏移的第1平行面板36与第2平行面板37。更，第2直角棱镜31b的第2反射面与平板P之间的光路中设置有一聚焦补正光学系统38。

以下，罩幕倍率补正光学系35a与平板侧倍率补正光学系35b的结构与作用进行说明。图9为图8的罩幕侧倍率补正光学系统35a的结构，以及平板侧倍率补正光学系统35b的概略示意图。又，如图8所示，第1反射曲折光学系统34a的光轴以AX1表示，第2反射曲折光学系统34b的光轴以AX2表示。又，视野文件板AS的规则，从罩幕M上的照明领域的中心的z轴方向行进，而通过视野档板AS的中心，同时，依视野文件板AS的规则，达于平板P上的曝光领域的中心的光线的路径，以光轴A10表示。

如图8与图9所示，罩幕侧倍率补正光学系统35a，是于第1曲折光学系32a与第1直角棱镜31a的第2反射面的光路中，从第1曲折光学系32a顺向，在第1曲折光学系32a侧边，有对向为平面的一平凸镜51与面对于第1直角棱镜31a的第2反射面，为平面的一平凹镜52所构成。即是，罩幕侧倍率补正光学系统35a的光轴，与轴线AX11一致。平凸镜51的凸面与平凹镜52的凹面大约有相同的曲率，而相对间隔一距离。

又，平板侧倍率补正光学系35b，是于第2曲折光学系32b与第2直角棱镜31b之第2反射面的光路中，从第2曲折光学系32b顺向，在第2曲折光学系32b侧边，有对向为平面的一平凹镜53与面对于第2直角棱镜31b的第2反射面，为平面的一平凸镜54所构成。即是，平板侧倍率补正光学系统35b的光轴，与轴线AX12一致。平凹镜53的凹面与平凸镜54的凸面大约有相同的曲率，而相对间隔一距离。

较详细而言，罩幕倍率补正光学系35a与平板侧倍率补正光学系35b，沿着轴线AX11，AX12方向而变化，而互相有类似的结构。且，构成罩幕倍率补正光学系35a的平凸镜51与平凹镜52的间隔，以及构成平板侧倍率补正光学系统35b的平凹镜53与平凸镜54的间隔之中，当至少有一方的间隔有微量变化时，投影光学单元PL1的投影倍率也会微量变化。沿着其像面的合焦方向(沿着光轴AX10方向)，，聚焦位置也会些微变化。又，罩幕倍率补正光学系35a，其由第1驱动部39a所驱动，平板侧倍率补正光学系35b其由第2驱动部39b所驱动，而所构成。

其次，像偏移器的第1平行平面板36及第2平行平面板37的说明。第1平行平面板36，于基准状态的平行面，设定与光轴AX10垂直，而使可以在x轴微量转动。第1平行平面板36在x轴微量转动会使形成于平板P上的像，在xy平面的y方向微动(像偏移)。又，第2平行平面板37，于基准状态的平行面，设定与光轴AX10垂直，而使可以在y轴微量转动。第2平行平面板37在y轴微量转动会使形成于平板P上的像，在xy平面的x方向微动(像偏移)。又，第1平行平面板36由第3驱动端口40所驱动，第2平行平面板37由第4驱动部41所驱动，而构成。

其次，聚焦补正光学系38进行说明。图10为图8的聚焦补正光学系统38，概略示意图。聚焦补正光学系38，第2直角棱镜31b的第2反射面与平板P的光路中，沿着光轴AX10，从第2直角棱镜31b的第2反射面顺向，于第2直角棱镜31b的第2反射面侧，为平面的平凹镜55，与双凸镜56，与在平板P为平面的平凹镜57所构成。平凹镜55的凹面与双凸镜56的凸面，以及平凹镜57的凹面，其率大约相同，而向互对向有一间隔。

构成聚焦补正光学系38的平凹镜55与双凸镜56的间隔以及双凸镜56与平凹镜57的间隔之内，至少有一方的间隔微量变化，会使，投影光学单元PL1的影像沿着聚合方向有微量变化，其会使投影倍率微量变化。此聚焦补正光学系38，由第5驱动部42所驱动而构成。

又，本实施例中，第2直角棱镜31b有像转动器的机能所构成。即是，第2直角棱镜31b于基准状态第1反射面与第2反射面的交差线(棱线)沿着y轴方向设定，使光轴AX10可以微量回转(z轴回转)。第2直角棱镜31b可随光轴AX10微量回转而回转。于平板P上形成的像，于xy平面上，随光轴AX10微量回转(z轴回转)而回转(像回转)。第2直角棱镜31b是由第6驱动部43所驱动而构成。又，第2直角棱镜31b由第1直角棱镜31a所取代，也可以有像转动器的功能。第2直角棱镜31b与第1直角棱镜31a双方构成像转动器的功能。

以下，各投影光学单元的基本的构成的简单说明。首先，以第1平行平板36，第2平行平板37，罩幕倍率补正光学系35a，平板侧倍率补正光学系35b，以及聚焦补正光学系38的状态进行说明。如前述，形成于罩幕M的图案DP，利用从照明光学系统IL的光(曝光的光)，以大约均匀的照度而照射。罩幕M上各照明领域所形成的图案DP，由沿着z轴方向行进的光，利用第1直角棱镜31a的第1反射面，于90度偏向后，沿着x轴方向而入射于第1反射曲折光学系统34a。入射于第1反射曲折光学系统34a的光，通过第1曲折光学系32a，而到达第1凹面反射镜33a。被第1凹面反射镜33a反射的光再通过第1曲折光学系32a，沿着+轴方向入射于第1直角棱镜31a的第2反射面。第1直角棱镜31a的第2反射面做90度偏折，而沿着-z轴方向行进的光，于视野档板AS的近旁，而形成图案DP的一次像。又，一次像的x轴方向的横倍率为+1倍，y轴方向其横倍率为-1。

从图案DP的一次像，沿着-z轴方向行进的光，利用第2直角棱镜31b的第1反射面，而90度偏向后，沿着-x轴方向行进，入射于第2反射曲折光学系统34b。入射于第2反射曲折光学系统34b的光，通过第2曲折光学系统32b，而到达第2凹面反射镜33b。被第2凹面反射镜33b反射的光，再通过第2曲折光学系统32b，使沿着+x轴方向而入射于第2直角棱镜31b的第2反射面。被第2直角棱镜31b的第2反射面偏向90度，而沿着-z轴方向行进的光，于平板P上对应曝光领域，而形成图案DP的二次像。于此，于二次像的x轴方向横倍率与y轴方向横倍率皆为+1倍。即是，通过各投影单元PL1～PL5，于平板P上形成的图案DP的像为等倍正立正像，各投影光学单元PL1～PL5构成等倍正立系统。

又，上述的第1反射曲折光学系统34a，于第1曲折光学系32a的后侧焦点位置近旁，由于配置有第1凹面反射镜33a，于罩幕M侧与视野档板AS侧为远心的。又，第2反射曲折光学系统34b，于第2曲折光学系32a的后侧焦点位置近旁，由于配置有第2凹面反射镜33b，于罩幕M侧与视野档板AS侧为远心的。结果，各投影光学单元PL1～PL5，大约两侧(罩幕M侧与平板P侧)成为远心光学系统。

如此，通过从多个投影光学单元PL1～PL5所构成的投影光学系统PL的光，平板平台PS(未示于图1)上，通过未示于图的平板支撑器，平行支持于xy平面，而形成图案DP的像于平板P上。即是，如上述，各投影光学单元PL1～PL5导所构成的正立系统，做为感旋光性基板的平板P上，对应于各照明领域，于y轴方向并列的多个台形状的曝光领域，其形成图案DP的等备正立像。

本实施例的曝光装置，如前述，利用波长选择滤波器6、7的交换，进行照射于平板P的光的波长幅度的切换。因此，交换波长选择滤波器6、7，因为穿通过投影光学单元PL1～PL5的波长幅度的变化，各投影光学单元的焦点位置，倍率，像位置(xy平面内的位置与z方向的位置)，以及像旋转量可以变化。又，利用穿通过投影光学单元PL1～PL5的光的波长幅度的变化，使投影光学单元PL1～PL5的个别像差(例如，像面弯曲像差，非点像差，歪曲像差)等变化。

以上，由于穿通过投影光学单元PL1～PL5的波长幅度的变化而补正光学特性的变化，每个投影光学单元PL1～PL5，罩幕倍率补正光学系35a与平板侧倍率补正光学系35b，像偏移器的第1平行平面板36及第2平行平面板37，以及设置聚焦补正光学系统38，使第2直角棱镜31b，构成有旋转器的机能。

控制装置20，为了补正投影光学单元PL1～PL5的光学特性的变化，根据存储装置23所存储的包含投影光学系统PL的补正量(投影光学特性数据)的曝光数据文件，控制第1驱动部39a～第6驱动部43。于此，投影光学系统PL的补正量，为了配置于各各光路的波长选择滤波器6、7，罩幕M的图案DP被转印于平板P上，因而有适当的投影光学系统PL的特性(由投影光学单元PL1～PL形成图案DP的像，而产生像偏移等，像如同设计值而配列，且投影光学单元PL1～PL5的像差尽量减低的状态)的补正量。

又，如图8所示，各投影光学单元PL1～PL5，是为了构成反射曲折系统，穿通过各投影光学单元PL1～PL5中的照明光(曝光的光)，曲折光学元件，吸收曝光的光的一部份而产生发热膨胀或是曲折率所引起的像差(球面像差，非点像差，歪曲像差，像面弯曲像差以及)。更，有聚焦位置的变化以及倍率的变化的产生。本实施例，对应于投影光学单元PL1～PL5，其显示曝光的照射时间与像差等的发生量(光学特性的变动量)的关系的每一个照射曝光的波长幅度的变动数据，预先求出，而存储于存储装置23。于平板P曝光之际，考虑用于波长选择滤波器6的曝光时间与用于波长选择滤波器7的曝光时间以显示曝光光的照射历程，与存储装置23所存储的变动数据，而驱动第1驱动部39a～第6驱动部43。又，依此变动数据，如上述的曝光光的照射时间与像差的发生量之间的关系，以对应化(map)的方式表示，特定的演算式(曝光光的照射时间与像差的发生量之间的关系的适量(fitting)系数)而表示。更也可以利用离散值与内插方式的形式表示(曝光光的照射时间与像差的发生量之间的关系以离散方式表示，离散的表示关系，较佳是以内插为特定的内插方式表示(曝光光的照射时间与像差的发生量之间的关系，为适量(fitting)关系式))。而适合的内插法也有多种方式可采用。

又，如以上所示，控制装置20利用控制设于各投影光学单元PL1～PL5的第1驱动部39a～第6驱动部43，而补正投影光学单元PL1～PL5的光学特性，此补正方法，合并投影光学单元PL1～PL5在z方向的可能移动而所构成。利用投影光学单元PL1～PL5与平板P在z方向的象队位置的变动，例如较佳为调整聚焦位置。又，详细情形如后述，于本实施例，控制装置20合并存储装置23所存储的投影光学系统PL的补正量，被照射平板P的图案DP的光学像的焦点位置，倍率，像位置，以及像的转动量，并且使用各种的像差等的投影光学系统PL的投影光学特性的检出结果，而补正投影光学系统PL的光学特性。

于此，本实施例的平板P上所图部的光阻或是树脂光阻，当对光阻曝光时其要求3微米的解像度，而对树脂光阻曝光时其要求5微米的解像度。又，利用平板P的大型化，波长选择滤波器6、7的任一配置于光路上的情形下，有确保尽量深的焦点深度的必要。以下对波长幅度的切换时，解像度与焦点深度的关系做说明。

一般而言，投影光学单元PL1～PL5的残留像差小的情形下，其解像度R与焦点深度DOF，以(2)与(3)表示。(2)    R＝kλ/NA(3)    DOF＝λ/(NA)²

上述(2)与(3)式，λ为通过各投影光学单元PL1～PL5的光的中心波长，NA为通过各投影光学单元PL1～PL5的数值孔径。又，(2)式中，k为光阻所设定的感旋光性，为一操作常数。此操作常数k，在一般液晶显示器的制造情形为约0.7。

接着，考虑使用i线(365nm)的曝光光，而得到3微米L/S的解像度的情形。又，3微米L/S的解像度，于3微米内，形成一条线与一间隔形成周期的图案(L/S图案)，其通过投影光学单元PL1～PL5的投影而达成，其周期的图案的解像，成为解像度。又，当各投影光学单元PL1～PL5的数值孔径为0.8时，投影光学单元PL1～PL5的焦点深度DOF，根据(3)式，约为50.5微米。

一方面，使用曝光光g线(436nm)，h线(405nm)，与i线(365nm)的情形，曝光光的中心波长λ为402nm，投影光学单元PL1～PL5的个别数值孔径NA，从上述(1)式，必要为0.094。又，当投影光学单元PL1～PL5的个别数值孔径为0.094时，投影光学单元PL1～PL5的焦点深度DOF，根据(3)式，约为45.5微米。由上，必要的解像度的取决于投影光学单元PL1～PL5的数值孔径的设定，而焦点深度DOF，与含有g线，h线，与i线的波长幅度的情形相比，使用仅含i线的波长幅度的曝光光，其约有10％较深的焦点深度。

次之，投影光学单元PL1～PL5的数值孔径设定为0.085的状态，其为考虑使用i线的情形下，或是使用g线、h线、与i线的情形下。于曝光光使用i线的情形下，可得到上述3微米L/S的解像度，而其焦点深度DOF为45.5微米。另一方面，曝光光使用g线、h线、与i线的情形下，中心波长为402nm，其可得到3.3微米L/S的解像度，而焦点深度DOF，根据(3)式，约为55.6微米。由上，于投影光学单元PL1～PL5的数值孔径设为固定时，与含i线的波长幅度的曝光光相比，使用含g线、h线、与i线的波长幅度，其解像度为约10％低下，而焦点深度有10％较深。

于本实施例，涂布感度低的树脂光阻于平板P，在曝光的情形下，使用含g线、h线、与i线的波长幅度的曝光光的情形下，可得到的必要的曝光功率，也可得到必要的解像度5微米。因此，随着所需要的解像度的减低，可确保所要的焦点深度。图11为曝光的光线，含有g线、h线、与i线的波长幅度的曝光光线，其调变传达函数(modulation transfer function，MTF)示意图。于图11，投影光学单元PL1～PL5的数值孔径设定为0.085，含g线、h线、与i线的波长幅度的曝光光的中心波长为402nm，δ值设定为1。

如图11所示，有符号CF1的曲线为以3.3微米L/S转印图案时的MTF曲线，有符号CF2的曲线为以5.0微米L/S转印图案时的MTF曲线。当以3.3微米L/S转印图案时，利用前(2)式，得到55.6微米的焦点深度。于图11此焦点深度以DOF1表示之。如图11的分布，于焦点深度DOF1内，对比为0.43以上。于此，对比为0.43以上的领域为焦点深度，其解像度为5微米L/S的焦点深度，如图11所示的DOF2，由图11读出焦点深度DOF2约为96微米。

又，5.0微米L/S转印图案，与3.0微米L/S转印图案相比时，其焦点深度更深约为45微米。因此，必要约5.0微米L/S的解像度的工艺(曝光于被涂布树脂光阻的平板P)，由于使用的罩幕M的平坦性，可以容忍约为45微米的恶化，因此可得到降低制造成本的优点。

于此，由于曝光功率，解像度，以及焦点深度的关系，在曝光光路上配置波长选择滤波器6而使用仅含i线波长幅度的光的情形下，得到约3微米的分辨率以及约50.5微米的焦点深度。在曝光光路上配置波长选择滤波器7而使用含g线、h线与i线波长幅度的光的情形下，而得到比在曝光光路上配置波长选择滤波器6三倍的曝光功率，约5微米的分辨率以及约96微米的焦点深度。

类似于图1，前述罩幕平台MS，设置有为使罩幕平台MS的扫描方向沿着x轴方向移动的长来回(stroke)的扫描驱动系统(未示于图)。又，罩幕平台MS所扫描的垂直方向，沿着y轴方向微量移动与为使在z轴微量旋转，设置有一对的对准驱动系统(未示于图)。又，罩幕平台MS的位置坐标，使用移动镜25，利用激光干涉仪(未示于图)计测，控制位置所构成。更，罩幕平台MS，在z方向的位置为可变的结构。

同样的驱动系统，也设置于平板平台PS。即是，设置有为使平板平台PS的扫描方向沿着x轴方向移动的长来回(stroke)的扫描驱动系统(未示于图)，罩幕平台MS所扫描的垂直方向，沿着y轴方向微量移动与为使在z轴微量旋转，设置有一对的对准驱动系统(未示于图)。且，平板平台PS的位置坐标，使用移动镜26，利用激光干涉仪(未示于图)计测，控制位置所构成。更，平板平台PS与罩幕平台MS，同样在z方向的位置为可变的结构。平板平台PS与罩幕平台MS在z方向的位置利用控制装置20而控制。

更，罩幕M与平板，为使能沿着xy平面的相对位置配合的装置，一对的对准系统27a，27b，配置于罩幕M上方。对准系统27a，27b，是使用利用通过投影光学单元PL1～PL5，以计测基准部材28的位置(设定平板平台PS的基准位置的部材)，与形成于平板P上的平板对准标记位置，求出平板P的位置的方式的对准系统(所谓，通过透镜(through the lens，TTL)方式的对准系统)，或是，利用形成于罩幕M上的罩幕对准标记与形成于平板P上的平板对准标记的相对位置，由画像处理而求出的方式的对准系统(所谓，通过标记(through the mask，TTM)方式的对准系统)。本实施例中，以TTL方式的对准系统而设置。

又，本实施例的曝光装置，于平板平台PS上，固定有照度测定部29，其通过投影光学系统PL，为了测定照射于平板P上的光的照度。又，此照度测定部29可相当于本发明的光学特性检出装置。如图12，照度测定部29的概略结构与测定照度方法说明图。如图12b所示，于上述扫描方向(x方向)为细长狭缝状的受光部，持有CCD型的线传感器29a。其传感器29a的检出信号由主控制装置20供给。又，于照度测定部29上面，设置有照度不均传感器(未示于图)，其为有针孔状的受光部的一般光电传感器。

于此，参照图12，针对使用线传感器29a，其狭缝状的曝光领域EA的扫描方向(y方向)，而说明照度不均的测定方法。又，照度不均的测定方法例如是固定的或是由照明光学系统IL内的波长选择滤波器6、7每次切换而实行。又，于图12a，为驱动平板平台PS而移动照度测定部29上的线传感器29a到投影光学系统PL的曝光领域EA的非扫描方向的侧面，的状态，其曝光领域EA的扫描方向SD(x方向)的照度分布F，大约是台形状。如12c图所示，其照度分布F的底边的扫描方向的幅度以DL表示，线传感器29a的受光部的扫描方向的幅度设定使比DL大很多。

之后，驱动平板平台PS，如图12a所示，于曝光领域EA于扫描方向完全覆盖，而线传感器29a于非扫描方向(y方向)，依设定的时间间隔，移动一连的计测点，从线传感器29a输出的检出信号，顺序取读出，如图12b所示，算出曝光领域EA的非扫描方向(Y方向)的照度分布E(Y)。此照度分布E(Y)与非扫描方向的位置Y的关系如下式(4)表示。(4)    E(Y)＝a·(Y-b)²+c·Y+d

上述式(4)，二次系数a，与位置Y的关系为凸状(a＞0)或凹状(a＜0)的照度不均，偏移系数b为从照度不均的对称轴的光轴的Y方向的偏移量，一次系数c即所谓倾斜不均，系数d为与y位置无关的固定得照度(offset)，各别表示之。

这些系数a-d之值，例如，从时测数据，利用最小自乘法而求得。如上，利用二次系数a，由回转对成于光轴的照度的成分而得到。一次系数c由倾斜不均成分而得到。

更，于本实施例，如图1所示，设置有安装于平板平台PS，做为投影光学检出装置的空间像计测装置24。空间像计测装置24，包括设置于与投影光学系统PL的像面大约相同高度的位置(沿着z轴方向位置)的一指针板60，以及沿着与扫描方向垂直的方向即y轴方向的间隔，而相隔配置的多个检出单元61(于后述实施例为6个)。图13为空间像计测装置24的概略结构斜视图。如图13所示，每个检出单元61更包括，通过投影光学单元PL1～PL5，为了扩大形成于指针板60的指针面61a上的光学像的二次像的一传递(relay)光学系62，以及为了检出藉此传递光学系62而形成的二次像的CCD二次取像元件63。

因此，形成于指针面61a上的指针60b的扩大像，通过传递光学系62，于二次取像元件63的检出面上形成。又，传递光学系62插设有为了整合二次取像元件63的分光度与涂布于平板P上的光阻的分光感度，为感度补正之用的滤波器64。从多个检出单元61的二次取像元件63的输出供给主控制装置20(参照图2)。

次之，使用空间像计测装置24，投影光学单元PL1～PL5的光学特性(照射于平板P的图案DP的光学像的焦点位置、倍率、像位置、以及像的旋转量，以及各种像差等)的检出方法说明。图14为使用空间像计测装置24的投影光学单元PL1～PL5的光学特性检出方法说明示意图。为了检出投影光学单元PL1～PL5的光学特性，并且移动形成于罩幕平台MS的基准图案到照明领域，在投影光学系统PL的投影领域的设定位置，配置有空间像计测装置24的检出单元61。又，空间像计测装置24有6个检出单元61。于图14，分别以符号61a～61f表示其间的区别。

于此，以各检出单元61a～61f，与投影光学单元PL1～PL5的位置关系，进行说明。如图14所示，各检出单元61a～61f的间隔，于图中以实现表示，6个检出单元61a～61f在y轴上直线状并列，成为3个像Im1，Im3，Im5(个别为投影光学单元PL1，PL3，PL5的投影像)，而沿着x轴方向使整列的状态下。检出单元61a与检出单元61b，通过投影光学单元PL1，所形成像Im1的一对三角形状领域而各别覆盖之，检出单元61c与检出单元61d，通过投影光学单元PL3，所形成像Im3的一对三角形状领域而各别覆盖之，检出单元61e与检出单元61f，通过投影光学单元PL5，所形成像Im5的一对三角形状领域而各别覆盖的而设置。

因此，从6个检出单元61a～61f与3个像Im1，Im3，Im5所整列的状态，平板平台Ps沿着x轴方向被移动的所定的距离，图中以虚线表示，可以使6个检出单元61a～61f与2个像Im2，Im4所整列的状态。于此状态，检出单元61b与检出单元61c，通过投影光学单元PL2，所形成像Im2的一对三角形状领域而各别覆盖之，检出单元61d与检出单元61e，通过投影光学单元PL4，所形成像Im2的一对三角形状领域而各别覆盖之。此时，检出单元61a与检出单元61f，不进行检出动作。

当计测投影光学单元PL1～PL5的光学特性时，首先使平板平台PS在x方向移动，检出单元61a～61f的x方向位置与被投影像Im1，Im3，Im5在x方向的位置整合而进入，通过投影光学单元PL1，PL3，PL5照射于基准图案的像，检出单元61a～61f个别计测之。次之，使平板平台PS在x方向移动，检出单元61a～61f的x方向的位置，与像Im1，Im3，Im5在x方向的位置整合而进入，通过投影光学单元PL2，PL4照射于基准图案的像，而检出单元61b～61e个别计测之。主控制装置20，相对空间像计测装置24的计测结果，而施行各种画像处理，从各投影光学单元PL1～PL5的各个，而求出投影于基准图案的像Im1～Im5的配列，大小，位置，以及旋转量，以及各种像差。利用上述，投影光学单元PL1～PL5的光学特性可以被检出。

以上，以本发明的第1实施例，进行说明曝光装置的结构，接下对曝光时的动作说明之。图15为利用本发明第1实施例，其曝光装置的动作的一例的流程图。如图15所示的流程图，对多个平板进行一次曝光步骤(例如，于形成薄膜晶体管TFT之际的曝光步骤，或是，形成色滤光片之际的曝光步骤)之际，曝光装置的动作，而说明之。

步骤开始，首先，主控制装置20读进入存储装置23所存储的曝光数据文件(S10)。利用此步骤主控制装置20，如图15所示的步骤，取得曝光涂布于平板P上的光阻的数据(例如光阻感度)，必要的解像度，使用的罩幕M，使用的波长选择滤波器，照明光学系统IL的补正量，投影光学系统PL的补正量，以及基板的平坦性等相关数据。

次之，主控制装置20，对应于步骤s10读出曝光数据文件的内容，进行切换波长选择滤波器(步骤s11，切换光阻)。例如，多个曝光数据文件，可以是光阻感度20mJ/cm²，而必要解像度在3微米的情形下，配置波长选择滤波器6于光路上，以及光阻感度60mJ/cm²，而必要解像度在5微米的情形下，配置波长选择滤波器6于光路上。又，于此，对应光阻感度与必要解像度，切换配置于光路上的波长选择滤波器，也可以根据光阻感度，切换波长选择滤波器，以可以根据必要解像度，切换波长选择滤波器。

于上述的步骤后，光源1使射出光，从光源1的投影光学系统PL与通过每个投影光学单元PL1～PL5，照射于平板平台PS的状态，使用照度测定部29，如图12所示的方法，测定照射于平板平台PS的光(s12)。此步骤，对应于配置于光路的任一波长选择滤波器6、7，为了改变照明光学系统PL的照明光的光学特性(例如，远心或是罩度不均)，因此进行照明光的光学特性的变化量测量。

次之，主控制装置20对应于步骤s10读出照明光学系统IL的补正量与步骤s12的测定结果，调整照明光学系统IL的照明光学特性(步骤s13：补正步骤)。又，使用照明光学系统IL的补正量，可对应配置波长选择滤波器于光路上。具体的调整方法，如图2所示，控利用控制驱动装置21b使相对于光导器9的射出端9b的光轴AX2，变化倾斜角度，以补正相对于光轴AX2非对称的照度不均的倾斜成分。又，光导器9的射出端9c～9f进行相同的补正。又，利用控制驱动装置22b，使含有集光透镜部15b的光学元件，沿着光轴AX2使移动，而补正照度不均成分而使相关于光轴AX2对称。又，图中省略，对应于光导器9的射出端9c～9f进行对含有集光透镜部的光学元件相同的补正。

含于曝光数据文件的照明光学系统IL的补正量，是于曝光装置的制造时的补正量，主控制装置20根据基本的照明光学系统的补正量进行补正。然而，于本实施例，为了考虑经年变化，而伴随照明光学系统IL的光学特性的变化量而进行补正，一面参照曝光数据文件含有照明光学系统IL的补正量，与照度测定部29的测定结果，而补正照明光学系统IL的照明光学特性。

又，仅根据含于曝光数据文件的照明光学系统IL，也可以补正照明光学系统IL的照明光学特性，仅根据照度测定部29的测定结果也可以补正照明光学系统IL的照明光学特性。又，上述的照明光学系统IL的照明光学特性的一并调整，对应被配置光路的波长选择滤波器，较佳变更集成传感器17b的感度。又，于变更集成传感器17b的感度之际，较佳也变更照度测定部29的感度。因为，于上述的步骤s13，通过投影光学单元PL1～PL5，测定于平板平台PS上，被照射投影光的照度分布，不必要照度的绝对值，于求出曝光量之际，照度的绝对值则为必要。

次之，移动形成有基准图案的罩幕平台MS到照明领域，且设置于空间像计测装置24的检出单元61与投影光学单元PL1，PL3，PL5的投影领域(像Im1，Im3，Im5的投影领域)，在x轴方向整列。其中，曝光光照射基准图案的像，而各个检出单元61检出基准图案。同样地，检出单元61与投影光学单元PL2，PL4的投影领域(像Im2，Im4的投影领域)，在x轴方向整列，而计测出基准图案。主控制装置20对应于空间像计测装置24的计测结果，而进行画像处理等的各种处理，从各个投影光学单元PL～PL5所投影基准图案的像Im1～Im5的配列、大小、位置、及回转量，而求出各种像差。由上，可检出投影光学单元PL～PL5的光学特性。

得到投影光学单元PL～PL5的光学特性后，主控制装置20对应于步骤s10读出投影光学系统PL的补正量与步骤s14的测定结果，调整各个投影光学单元PL～PL5的光学特性(步骤15：补正步骤)。又，于此，使用于投影光学系统PL的补正量，相对于配置光路的波长选择滤波器。具体的调整方法为通过第1驱动部39a或为第1驱动部39b，利用驱动罩幕侧倍率补正光学系统35a或是平板侧倍率补正光学系统35b，调整(补正)于投影光学单元PL～PL5的备率变动。因应必要，通过第3驱动部40或为第4驱动部50，利用驱动做为像偏移的第1平面板36或是第2平面板37，补正于各个投影光学单元PL～PL5的像位置的变动。

又，主控制装置20，因应必要，利用通过第5驱动部42，调整聚焦补正光学系统38，而调整各个投影光学单元PL～PL5的像面侧(平板P侧)的焦点位置。又更，因应必要，通过第6驱动部41，利用驱动像旋转器的第2直角棱镜31b，补正各个投影光学单元PL～PL5的像旋转。又更，主控制装置20，因应必要，使透镜沿着光轴方向或是光轴垂直方向移动，而使有效的各项差补正，利用使与光轴倾斜，而补正回转对称像差与非回转对称像差。又，主控制装置20，因应必要，利用视野挡板AS沿着z轴回转而移动XY平面，而补正视野挡板的像位置的变动以及向回转。又，如上述，各个投影光学单元PL～PL5，由于曝光中的光照射，利用透镜的热变形或是偏向部材的热变形，聚焦位置，与倍率也可能变动像差。为了补正此变动量，考虑由存储装置23所存储的变动数据，其表示过去使用波长选择滤波器6的曝光时间与使用波长选择滤波器7的曝光时间的曝光光履历，也可以驱动前述第1驱动部39a～第6驱动部43。

又，于调整各个投影光学单元PL～PL5的光学特性，利用调整投影光学单元PL～PL5的各个z方向位置，罩幕平台MS的z方向位置，或是平板平台PS，投影光学单元PL～PL5的聚焦位置，如上配置罩幕M以及平板P。

于以上步骤s13，调整照明光学系统IL的照明光学特性与调整投影光学系统PL的投影光学特性之后，配置对准系统27a，27b于照明光学系统IL的照明领域内，而计测各个对准系统27a，27b的基准部28的位置(步骤s16)。于此，对准系统27a，27b，通过投影光学系统PL利用计测基准部28的位置，与形成平板P的平板对准标记的位置的相对关系，求出于平板平台PS上被载置平板P的位置。当进行计测对准系统27a，27b之际，具有相同波长幅度的曝光光，为了使用通过配置于光路的波长选择滤波器的光，交换光路上的波长选择滤波器，基部基28的位置不拘于不变，而检出不同的位置。为了解消此不便，于切换配置于光路的波长选择滤波器的情形下，设定平板平台PS的基准位置，计测基准部材28的位置。

以上的步骤结束后，主控制装置20，从曝光数据文件，罩幕M送入平板平台PS上而载置(步骤s17)。接着，使用对准系统27a，27b，而计测平板平台PS的位置后，根据此计测结果，进行罩幕M与平板P的相对位置进行结合(步骤s18)。又，由于预先设定平板P有数个拍摄领域，主控制装置20的罩幕M的图案被转印到拍摄领域，配置于曝光领域的近旁如结合位置上。又，从照明光学系统IL射出的曝光光照射罩幕M的一部份，罩幕M与平板P再x轴方向移动，形成于罩幕M的图案DP的一部份，通过投影光学系统PL，顺次转印到平板P的拍照领域(步骤s19：照明步骤，曝光步骤)。

一个的拍照领域的曝光结束后，主控制装置20根据曝光数据文件的内容，接着判断有拍照领域要曝光的情形(判断结果是的情形)，交换载置于罩幕平台MS的罩幕(步骤s21)，利用步骤s18、s19，进行其它的拍照领域的曝光。一方面，于步骤s20，判断没有要曝光的拍照领域(判断结果否的情形)，对应于全部的平板判断是否曝光结束(步骤s22)。对于全部的平板曝光尚未结束的情形(判断结果否的情形)，一面交换罩幕平台MS上的罩幕M，曝光终了时，搬出平板P，而搬入新的平板P(步骤s23)，而回到步骤s18。一方面，当对于全物平板曝光终了，结束一连续的处理。第2实施例

图16为依据本发明的第二实施例，曝光装置的全体结构斜视图。如第1实施例，有相同符号的对象，代表相同部材，其说明省略。图16为本发明第2实施例的曝光装置，其与第1实施例的不同点在于，于投影光学系统PL的侧方设置有偏轴(off axis)方式的平板对准传感器70a-70d。此平板对准传感器70a-70d，可以测定形成于平板P的平板对准标记的位置。

于第1实施例，使用通过投影光学系统PL的光利用对准系统27a，27b，测定形成于平板P的平板对准标记的位置，而求出基准部材28的位置。于本实施例，使用做为第1测定装置的空间像计测装置24，而形成于罩幕M的图案DP，测定其投影位置(投影中心)，利用做为第2测定装置的平板对准传感器70a-70d，而测定平板对准标记的位置，由此测结果求出平板P的位置。又，空间像计测装置24的测定结果与平板对准传感器70a-70d的测定结果，由做为位置算出装置的主控制装置20供给，根据各个测定结果而求出平板P的位置。又，设置四个平板对准传感器70a-70d的理由是为了尽量使平板平台PS的移动量减少。

图17为平板对准感侧器70a～70d的光学系统结构示意图。又，由于使平板对准感侧器70a～70d的各个结构相同，于图17，仅以平板对准感侧器70a为代表绘示。于图17，标号80代表一卤素(halogen)灯泡，所射出的光有400～800微米的波长幅度。从卤灯80射出的光，利用集光透镜81变换为平行光后，入射于可变穿透的波长所构成的二色性滤光镜82。

穿透二色性滤光镜82的光，从在焦点一方的光纤84的入射端84a的约略位置所设置的集光透镜83，而入射。光纤84有一入射端以及四个射出端，各个射出端被导引到各个平板对准感侧器70a～70d的内部。从光纤84的一个出射端，射出光做为检出光IL1之用。检出光IL1通过集光透镜85，形成所定的形状的标记87，而照明于指针板86上。

通过指针板86的检出光IL1，通过传递透镜88送光与收光而入射于半穿透镜89(half mirror)。被半穿透镜89反射的检出光IL1，通过物镜90而成像于成像面FC。被形成于平板P的平板对准标记，被配置于成像面FC的情形时，反射光通过顺着物镜90、半透镜镜89、以及第2物镜91等，而成像于影像元件92的影像面。影像元件92的检出结果供给主控制装置20。

以上的结构，一面移动被形成于被载置在罩幕平台MS的罩幕M的基准标记到照明领域内，而配置空间像计测装置24于投影领域内。又，被形成于罩幕M的基准标记，照射曝光光，利用空间像计测装置24计测基准标记的像，而得到被形成于罩幕M的图案DP的像的投影位置(投影中心)。次之，移动空间像计测装置24到平板对准感侧器70a的正下方，设置于平板对准感侧器70a上的指针标记87，被照射而测定其位置。关于平板对准感侧器70a-70d，相同测定被照射指针标记87的位置。

利用以上空间像计测装置24的测定结果，对应于投影中心，而得到平板对准感侧器70a-70d的各个距离(所谓基准线量)。得到基准线量后，被形成于平板P的平板对准标记，利用平板对准感侧器70a-70d的任一个测定，而得到平板P的位置。

平板对准感侧器70a-70d，为了通过投影光学系统PL而测定平板对准标记，可以使用由做为检出光IL1的卤灯80射出对应波长域的光。因此，由空间像计测装置24计测形成于罩幕M的基准标记的像时，通过波长选择滤波器6或是波长选择滤波器7的光而照射基准标记，为了使投影光学系统PL投影基准标记的像，投影光学系统PL有色像差，而对应于配置于光路的波长选择滤波器投影中心也会变化。

由此，本实施例的曝光装置，被配置于光路的波长选择滤波器切换程度，由空间像计测装置24测定被形成于罩幕的基准标记的像，更空间像计测装置24利用平板对准感侧器70a-70d，个别测定被照射的指针标记87的像的位置，而求出基准线。由上，波长选择滤波器6与波长选择滤波器7之任一被配置于光路上，因此可求得平板P的高精度位置。

又，以上说明的第2实施例，使用空间像计测装置24切换光路的波长选择滤波器，测定被形成于罩幕的基准标记的像以及从平板对准感侧器70a-70d被照射的指针标记87的像，而求得基准线。因此，当配置各个波长选择滤波器6、7于光路上时，基准图案的位置，预先测定其量，而存储其补正量，于位置测定时，也可以使用此补正量以补正基准线量。如此，由于不需要空间像计测装置24来测定切换光路的波长选择滤波器的程度，而可防止产能的降低。

又，上述实施例，照明光学系统IL内有做为光源1的超高压水银灯，而可选择波长选择滤波器6所需要的g线光(436nm)，h线光(405nm)与i线光(365nm)。然而，不限于此，也可有KrF准分子激光(248nm)，ArF准分子激光(193nm)，F₂激光(157nm)的光源1，使用从这些激光射出的激光光，也适用于本发明。于使用激光光时，例如较佳使用狭带化的激光光与非狭带化的激光光，利用波长选择滤波器与狭带化装置的插与脱，切换穿通过波长选择滤波器的波长幅度。又更佳，使用可射出连续光谱的光的光源，也可以连续变换照射于罩幕M光的波长幅度。

又，上述的第1实施例，切换配置于光路的波长选择滤波器的程度，计测对准系统27a、27b其基准部材28的位置。于曝光光的波长与对准光的波长相异时，为了补正因波长差而产生的对准系统27a、27b的轴上色差，投影光学系统PL的每个像高(物体高)的色差量预先求出，去做成光轴方向的成像位置的对应图(map)，而也可以对应此对应图而补正对准系统27a、27b的焦合位置。关于此技术，可参照美国第5,726,757号专利。又，为了补正由于因曝光光与对准光的波长差异，而引起对准系统27a、27b的成像位置的横向偏差而产生的对准误差，预先求出横向偏差，而对应求出的横向偏差量，也可以调整对准系统27a、27b的偏移。于此技术，可参照美国第5,850,279号专利。

又，上述实施例，空间像计测装置24有6个间出单元沿着Y方向共同构成。其数量与配列可以有多样变化。于此观点，例如沿着Y方向，相隔一间隔的一对检出单元，而进行像检出，而另一情形，单体的检出单元也可进行像检出。

更，上述实施例，各个投影光学单元PL1～PL5有一对的成像光学系统的多重扫描型投影曝光装置，也适用本发明，各投影光学单元，有1或3个以上的成像装置的型式的多重扫描型投影曝光装置，对于本发明也适用。又，上述实施例，各个投影光学单元PL1～PL5，有反射曲折型的成像装置的多重扫描型投影曝光装置，也适用本发明，但不限定于此。例如有反射曲折型的成像装置的对等多重扫描型投影曝光装置，也适用本发明。第3实施例

上述实施例，做为聚焦补正光学系统38，使用多个透镜，此做为聚焦补正光学系统也可以使用一对楔状的光学元件。图18为依据本发明的第三实施例，曝光装置的投影光学系统PL的一部份，即投影光学单元PL1的结构侧视图。于第3实施例，与上述第1实施例，不同点在于曝光装置的投影光学单元的构成，因此于第3实施例的曝光装置的全部说明省略。

图18所示第3实施例的投影光学单元PL1，与第1实施例的投影光学单元同样的，有形成于罩幕M上的图案DP的第1成像光学系统30a，与当该图案DP的二次像形成于平板P上的第2成像光学系统30b。此第1成像光学系统30a与第2成像光学系统30b的构成，与第1实施例同样，而描述省略。

于第3实施例，罩幕M与第1成像光学系统30a的第1直角棱镜31a的第1反射面之间的光路中，设置有聚焦补正光学系统58。第1成像光学系统30a的第1直角棱镜31a的第2反射面与视野挡板AS之间的光路，设置有做为像偏移的第1平行面板36与第2平行面板37。更，第2成像光学系统30b之第2直角棱镜31b的第2反射面与平板P之间的光路中设置有倍率补正光学系统59。又，做为像偏移的第1平行面板36与第2平行面板37之机能，与第1实施例同样，而描述省略。

以下，聚焦补正光学系统58的构成与作用进行明。图19为图18的聚焦补正光学系统58的结构概略示意图。如图18与图19所示，聚焦补正光学系统58，于罩幕M与第1直角棱镜31a之间的光路中，顺着从罩幕M侧，具有于含有光轴AX10的面内(xy平面)，有断面楔形状的第1楔形光学部材58a与于含有光轴AX10的面内(xz平面)，有断面楔形状的第2楔形光学部材58b。第1楔形光学部材58a的罩幕M侧的曲折面，其法线与光轴AX10一致而成一平面，第2楔形光学部材58b的第1直角棱镜31a侧的曲折面，其法线与光轴AX10一致而成一平面。且，第1楔形光学部材58a的第1直角棱镜31a侧的曲折面与第2楔形光学部材58b的罩幕M侧的曲折面，相互约略平行。

又，第1楔形光学部材58a与第2楔形光学部材58b的至少其一，利用沿着x方向相对移动，罩幕M与第1直角棱镜31a之间的光路长可以变化。利用此，投影光学单元PL1的光轴AX10方向的成像位置，也可以变更。又，第1楔形光学部材58a与第2楔形光学部材58b的移动方向，含有光轴AX10的平面内(xz平面内方向)，也可以沿着第1楔形光学部材58a的第1直角棱镜31a侧的曲折面(第2楔形光学部材58b的罩幕M侧的曲折面)的方向。于此情形，第1楔形光学部材58a与第2楔形光学部材58b的像的间隔使固定，而使变更光路长。

又，本实施例，第1楔形光学部材58a与第2楔形光学部材58b的至少其一，以光轴(z轴)为轴，可以回转。

第1楔形光学部材58a与第2楔形光学部材58b的初期状态，如上述，第1楔形光学部材58a的第1直角棱镜31a侧的曲折面与第2楔形光学部材58b的罩幕M侧的曲折面相互平行，且第1楔形光学部材58a的罩幕M侧的曲折面与第2楔形光学部材58b的第1直角棱镜31a侧的曲折面相互平行。此即，做为第1楔形光学部材58a与第2楔形光学部材58b的全体为平行平面板。入射光束不受实质的偏向作用。

又，本实施例，第1楔形光学部材58a与第2楔形光学部材58b的至少其一以光轴(z轴)为轴，可以回转。做为第1楔形光学部材58a与第2楔形光学部材58b的全体由于有固定的顶角的楔形光学部材，入射光束会被偏向，其结果，对应于投影光学单元PL1像面的xy平面(平板P面)的全体的倾斜(以x轴为轴的回转方向的倾斜与以y轴为轴的回转方向的倾斜)而变化。

接着，第1楔形光学部材58a与第2楔形光学部材58b之双方，最好以光轴AX10(z轴)为轴而可能旋转。由上述结构，投影光学单元PL1像面的倾斜方向与倾斜角双方，可任意控制。此聚焦补正光学系统58，利用第7驱动部44而被控制。

又，关于第3实施例，倍率补正光学系统59的结构与作用的详细描述，例如参照美国在公开第37361号专利的图11所示的倍率控制装置30。

回到图18，于第3实施例的曝光装置的控制，与上述第1实施例的不同点为各个投影光学单元PL1～PL5的光学特性，考虑像面倾斜的控制点。具体的，如图15所示，曝光动作的流程图的测定步骤s14及补正步骤s15的做为参数的像面倾斜(楔形光学部材58a、58b的旋转角)，其更加的说明因此省略。

以下，参照图面，对本发明曝光装置的实施例做说明。图20为本发明的第4实施例，关于曝光装置的全体结构斜视图。于本实施例，举例说明适用于步进与扫描方式的曝光装置，其由多个反射曲折型的投影光学单元所构成且，对应于投影光学系统，罩幕M与平板P相对个别移动，而将被形成于罩幕M的液晶显示元件的图案DP的像转印到做为涂布有感旋光性材料(光阻)的感光兴基板的平板P上。又，于本实施例，平板P上涂布有光阻(感度：20mJ/cm²)或是树脂光阻(感度：60mJ/cm²)。

又，以下的说明，图20中所示的设定xyz直交坐标系统，参照此xyz直交坐标系统且对各部材的相关位置，做说明。于xyz直交坐标系统，x轴与y轴，相对于平板P为平行设定，而z轴相对于平板P为直交设定。图中的xyz坐标系统，实际上xy平面平行于水平面的设定，z轴为垂直向上的设定。又，于本实施例，罩幕M与平板P的移动方向(扫描方向)，设定为x轴方向。

本实施例的曝光装置包括于罩幕平台MS上(未示于图20)通过罩幕支撑器(未示)，罩幕M被支撑平行于xy平面，而使有均一照明的照明光学系统IL。图21为本发明的第4实施例，关于照明系统的侧视图，其与图20有相同标号代表相同部材。参照图20与图21，照明光学系统IL包括例如是由超高压水银灯所构成的光源101。由于光源101配置于椭圆镜102的第1焦点，从光源101射出的照明光束，通过反射镜(平面镜)103，含有g线(436nm)的光，h线(405nm)的光，及i线(365nm)的光的波长领域的光，光源像在椭圆镜102之第2焦点的位置形成。又，曝光上，含有g线(436nm)的光，h线(405nm)的光，及i线(365nm)的光的波长领域之外的不必要的光成分，经椭圆镜102与反射镜103的反射而移除。

于第2焦点位置，配置有拍摄部104。拍摄部104由对应于光轴AX1而倾斜配置有开口板104a(见图21)与形成于开口板104a，以遮蔽或开放开口的遮蔽板104b(见图21)所构成。拍摄部104配置于椭圆镜102的第2焦点位置，为了使由光源1射出的照明光束被集束，遮蔽板104b的小移动量，且可以遮蔽形成于开口板104a的开口。通过开口的照明光束的量急剧可变，而因此可得到脉冲状的照明光束。

穿通过反射镜103的漏光得行进方向，配置有做为吸光部材的吸光板108a。利用此吸光板108a，吸收于穿通过反射镜103的漏光。此设计是为了防止对于曝光装置的漏光，会产生热效应或是光学效应(例迷光stray light)。吸光板108a例如利用黑氧皮铝(black alumite)所形成。吸光板108a可以是作为散热部材的吸热器109a。吸热器109a有由热传导高的金属(例如铝或是铜)所形成的多个散热板，于吸光板108a吸收穿通过反射镜103的漏光之际，所产生的热通过散热板而散出。又，漏光包括含有g线(436nm)的光，h线(405nm)的光，及i线(365nm)的光的波长领域的光，红外光或是可见光。

图22为本发明的实施例，关于吸光板108a与吸热器109a的形状示意图。图22a为侧面图，而图22b为平面图。如图所示，吸光板108a的漏光的入射位置，配置于为了导引漏光到光感侧器130a，130b的光纤132的一端。吸光板108a，设至于为使光纤132贯穿的贯通口，此贯通口系配置于光纤132的一端。

光纤132的另一端，为分叉的二个输出端。从一个输出端射出的漏光通过滤光器138a而射入光感侧器130a，从另一个输出端射出的漏光通过滤光器138b而射入光感侧器130b。于此滤光器138a为3个滤光片，即是利用使g线，h线与i线可穿过的滤光片，虚滤光片(dummy filter)，以及减光滤光片所构成，使含g线，h线与i线波长域的光可穿过。又，滤光器138a为3个滤光片，即是利用使g线，h线与i线可穿过的滤光片，i线可穿过的滤光片，以及减光滤光片所构成，使含i线波长域的光可穿过。

又，于此利用多个波长，漏光的监视，即是利用光感侧器130a检出含g线，h线与i线波长域的光的照度，利用光感侧器130b检出含i线波长域的光的照度。一般光源101的长时间的输出率的减低，其短波长的光的输出率(经常时间的劣化)的降低会较早发生，以及会由于光阻的种类对波长的感度而有差异。此即，对短波长光阻感度比对长波长光阻感度较高的情形，检出g线，h线与i线的光的照度，根据检出的照度，控制光源的输出量，而得到适当的曝光量，又检出i线的光的照度，根据检出的照度，而做必要的控制于光源的输出量。又，对从短波长到长波长有约略固定感度的光阻的情形，检出g线，h线与i线的光的照度，根据检出的照度，由此控制光源的输出量而得到适当的曝光量。

利用光感侧器130a、130b，被检出光量的检出信号，输入给电源控制装置134以控制被供给光源101的电力量，根据从电源控制装置134的控制信号，控制从电源装置136，供给光源101的电力量。此即，根据由光感侧器130a、130b的检出信号，从光源101的光的照度，此即含g线，h线与i线的波长域的光的照度，或是含i线的波长域的光的照度，根据后述涂布于平板P的光阻的分光特性，利用电源控制装置134控制电源装置136，使照度为一定值。

从形成于椭圆镜102的第2焦点的光源像的发散光束，利用传递透镜105，变换成约略平行的光束，而入射于波长选择滤波器106a或是106b。波长选择滤波器106a仅允许所希望的波长域光束通过，而在光路(光轴AX1)上可自由进退。又，与波长选择滤波器106a相同，波长选择滤波器106b在光路上可自由进退，而与波长选择滤波器106a一起设置，而这些波长选择滤波器106a、106b的任一配置于光路上。又，图21中的主控制装置120，利用控制驱动装置118，可配置波长选择滤波器106a、106b的任一于光路上。

于本实施例，波长选择滤波器106a仅使含i线波长域的光穿过，而波长选择滤波器106b使含g线，h线与i线的波长域的光穿过。如此，于本实施例，利用配置波长选择滤波器106a、106b的任一而光路上，而切换被照射于罩幕的光的波长宽度(波长域)。又，波长选择滤波器106a、106b在本发明系相当于波长域选择装置。

于此，对穿过波长选择滤波器106a、106b的光的光谱做说明。图23为本发明的实施例，关于穿通过波长选择滤波器的光谱说明图。如图23所示，从光源1射出的光谱，含有多条辉线，包括对应于波长约300～600微米的波长域。于光源1射出的光内，进行曝光时，不要的波长成分于被前述的椭圆镜102与反射镜103的反射之际，而被移除。曝光不要的波长成分被移除后的光，入射于配置在光路的波长选择滤波器106a。于图23所示，使含i线的波长域Δλ1的光穿过。另一方面，于配置波长选择滤波器106b在光路的情形下，使含g线、h线、i线的波长域Δλ2的光穿过。

又，穿过波长选择滤波器106a的光的功率为Δλ1内的光谱的积分，而穿过波长选择滤波器106b的光的功率为Δλ2内的光谱的积分所得。于此，如图23所示，g线、h线、i线的各各光谱有同样的分布，因此，穿过波长选择滤波器106a的光的功率与穿过波长选择滤波器106b的光的功率之比，大约是1比3。

于此，如前述，本实施例假设在平板P上涂布有感度为20mJ/cm²的光阻或是感度为60mJ/cm²的树脂光阻的情形下，这些感度比为1比3。因此，当在平板P涂布高感度的光阻时，在光路上配置低曝光功率的波长选择滤波器106a，其穿透光的功率较低，而涂布低感度的树脂光阻时，在光路上配置高曝光功率的波长选择滤波器106b，其穿透光的功率较高。如此，于本实施例，对应于被涂布于平板P的光阻感度(光阻的分光特性)，利用切换配置于光路的波长选择滤波器而交换穿透光的波长开度，而变更照射于平板P的光功率。

又，为了可以用多个波长来监视从光源101的光的光量，此即配置波长选择滤波器106a于光路上的情形的光的照度(仅含i线波长域的光的照度)以及配置波长选择滤波器106b于光路上的情形的光的照度(含g线、h线、i线波长域的光的照度)，于切换照射于照射于平板P的光的波长宽度的情形，可进行在平板P的照度的检出。

又，从投影光学系统的色差补正的观点，与波长宽度较窄的一方可达成更高解像度的事情上，利用例如当需要曝光功率时，配置波长选择滤波器106b于光路上，其解像度多少会牺牲，而进行宽波长幅度的曝光，而于要求高解像度的情形下，配置波长选择滤波器106a于光路上，曝光光率或是产能多少会牺牲，而进行窄波长幅度的曝光等，只切换波长幅度，可以有对应所要求的种种解像度。如此，于本实施例，对应转印到平板P的图案的解像度，利用交换配置于光路的波长选择滤波器，而切换穿过的波长幅度，而可有对应所要求的种种解像度。

对应于传递透镜105与波长选择滤波器106a、106b之间的光路(AX1)上，配置有进退自如的减光滤光片107。此减光滤光片107，当对涂布有高感度光阻的平板P曝光时，配置于光路上。又，控制配置减光滤光片107于光路上，利用图21中主控制装置120，控制驱动装置而进行。

被减光滤光片107反射的光的行进方向，配置有做为吸光部材的吸光板108b。此吸光板108b，利用收被减光滤光片107反射的光，其设置是为了可防止此反射光对曝光装置产生热影响或是光学的影响(例如迷光)。吸光板108b与吸光板108a一样，例如利用黑氧皮铝(black alumite)被形成。吸光板108b由做为散热部材的吸热器109b所装设成。吸热器由导电率高的金属(例如铝或铜)所形成有多个散热板。吸光板108b于吸收减光滤光片107的反射光之际，产生的热，通过散热散出。

通过减光滤光片107，波长选择滤波器106a或106b，光通过传递透镜110再次集光。对于此集光位置近旁，配置为光导器111的入射端111a。光导器111，例如是由多数的纤素线，随机成束所构成的随机光导器光纤。光源101的数量(图20为1个)与入射端111a的数量相同。构成投影光学系统PL的投影光学单元的数量(图20为五个)与出射端111b～111f的数量相同(如图21的出射端111b所示)。就此，由光导器9的入射端9a的入射光，于其内部传播后，分五个出射端9b～9f射出。如此，光从光导器111的入射端111a入射，在其内部传播后，从被分割成5个的出射端111b～111f射出。

光导器111的出射端111b与罩幕M之间，利用准直透镜112b，浓度倾斜滤过器所构成的减光滤光片114b(调光装置)，复眼集成器115b，视野档板116b，以及集光透镜117b，顺着配置而成。于此，为了简单说明，光导器111的出射端111c～111f与罩幕M之间设置有光学部材结构，光导器111的出射端111b与罩幕M之间设置有准直透镜112b，减光滤光片114b，复眼集成器115b，视野档板116b，半穿透镜127b以及集光透镜系117b为代表而说明。

从光导器111的出射端111b射出的发散光束，利用准直透镜112b使变换成约略平行的光束后，入射于减光滤光片114b。于此，减光滤光片114b配置于光路内，其为了得到对应涂布于平板P的光阻的光学特性，而有最适当的照明光照度。控制此减光滤光片114b配置于光路内，是根据后述的涂布于平板P的光阻的光学特性与平板P上得照明光照度，利用主控制装置120控制驱动装置119与设定减光滤光片114b的x轴方向的位置，而进行。

通过减光滤光片114b的光束入射于复眼集成器(光学集成器)115b。复眼集成器115b由多数个正透镜元件，其中心轴沿着光轴AX2延伸，而横向且密集配列所构成。因此，入射于复眼集成器的光束，利用多数个透镜元件而被分割，其后侧焦点面(即射出面的近旁)，形成与透镜元件的数量相同，由光源像所成的二次光源。此即，复眼集成器115b的后侧焦点面，被形成实质的面光源。

被形成的复眼集成器115b的后侧焦点面，由多数的二次光源的光束，利用于复眼集成器115b的后侧焦点面的近旁配置视野文件板116b(未示于图20)而被限制后，入射于半穿透镜127b。利用半穿透镜127b，被反射的光束通过透镜128b而入射于照度传感器129b。此照度传感器129b是为了检出平板P与光学的耦合位置的照度的传感器。利用照度传感器129b，于曝光中，不会降低产能而可检出平板P的照度。又，关于照度传感器129b，其检测穿通过波长选择滤波器106a的仅含i线波长域的光的照度，或是穿通过波长选择滤波器106a的含g线、h线、i线波长域的光的照度。又，照度传感器129b的检出值，被输入主控制装置120与电源控制装置134。

一方面，穿通过半穿透镜127b的光束，入射于集光透镜系117b。又，视野档板116b，对应于投影光学单元PL1的瞳面，被配置于光学的约略耦合位置，而为了规定用于照明的二次光源的范围，设有开口部。此视野档板116b的开口部，其口径可为固定，又口径也可变化。于此，视野档板116b的开口部，以可变的情形做说明。视野档板116b，利用可变开口部的口径的变化，以决定照明条件而设定所希望的σ值(对应于构成投影光学系统PL的各个投影光学单元PL1～PL5的瞳面的开口径，其瞳面上的二次光源像的口径比)。

通过集光透镜系117b的光束，与形成在罩幕M的图案DP重叠而照明。从光导器111的其它射出端111c～111f射出光同样为发散光束，准直透镜112c-112f，减光滤光片114c-114f，复眼集成器115c～115f，视野档板116c～116f，半穿透镜127c～127f，集光透镜系117c～117f等顺着与罩幕M重叠而成个别照明。此即，照明光学系统IL，系照明罩幕M上的y轴方向所并列多个(图20为5个)的梯形状的领域。

从罩幕M上的各照明领域的光，入射于投影光学系统PL，其由对应于各照明领域，而沿着y轴方向配列成多个(图20为5个)投影光学单元PL1～PL5所构成。于此，各个投影光学单元PL1～PL5的结构，彼此相同。因此，通过从多个投影光学单元PL1～PL5所构成的投影光学系统PL的光，于平板平台PS上(未示于图20)，通过未示图之平板支撑器，被支撑而与xy平面平行的平板P上，形成图案的像。

上述主控制装置120，与硬盘等的存储装置123连接，于存储装置123内存有曝光数据文件。曝光数据文件系存储于进行平板P曝光时必要的处理与处理顺序。每一处理，为相关于在平板P上涂布光阻的数据(例如光阻分光特性)，必要的解像度，使用的罩幕M，使用的波长选择滤波器，照明光学系统IL的补正量(照明光学数据)，投影光学系统PL的补正量(投影光学数据)，以及基板的平坦性到关数据(所谓成分recipe数据)。又，主控制装置120与电源控制装置134，根据光阻分光特性，通过电源控制装置134与电源装置136，而控制光源101的照度。

又，上述的成分数据(曝光数据文件)，较佳可利用通讯等装置追加或更新。具体而言，本实施例的曝光装置与当曝光装置被设置于元件制造场地的管理系统，由局域网络(LAN)结合，而使构成从这管理系统到曝光装置的成分数据的追加或更新。此管理系统为曝光装置以外的各种工艺的制造装置，例如光阻处理装置，蚀刻装置，生膜装置等的前工艺用的机器，与组合装置，检查装置等的后工艺装置等，由局域网络结合。因此，此管理系统因为可以管理那一批要移到那一装置，适合那批的成分数据送给曝光装置，此曝光装置根据所送入的成分数据而可以进行控制。

回到图20，前述罩幕平台MS，设置有为了使罩幕平台MS沿着扫描方向的x轴方向移动的有长狭孔的扫描驱动系统(未示于图)。又，设置有为了使罩幕平台MS沿着与扫描方向垂直的y轴方向微量移动，而共同使在z轴微量回转的一对的对准驱动系统(未示于图)。

同样的准驱动系统，也设置于平板平台PS上。此即，设置有为了使罩幕平台PS沿着扫描方向的x轴方向移动的有长狭孔的扫描驱动系统(未示于图)。又，设置有为了使罩幕平台PS沿着与扫描方向垂直的y轴方向微量移动，而共同使在z轴微量回转的一对的对准驱动系统(未示于图)。且，如平板平台PS的位置坐标，利用使用移动镜122的激光干涉计而被测量且位置被控制的此功能所构成。更，做为为了使罩幕M与平板P沿这xy平面其相对位置结合的装置，一对的对准驱动系统123a、123b，配置于罩幕M的上方。更，于平板平台PS上，设置有为了检出平板P上的照明光照度，即含g线，h线与i线波长域的光与仅含i线波长域的光的二者的照明传感器。检出值输入于照明光学系统IL的主控制装置120。

接着，利用罩幕平台MS侧的扫描驱动统以及平板平台PS侧的扫描驱动统的作用，对应于由多个投影光学单元PL1～PL5所构成的投影光学系统PL，其罩幕M与平板P一体，使沿着同一方向(x轴方向)移动，罩幕M上的全部图案领域，被转印到平板P上的全部曝光领域(扫描曝光)。

于此，如上述，本实施例利用光传感器130a，检出含g线，h线与i线波长域的光的照度，且利用光传感器130b，检出仅含i线波长域的光的照度。此即，根据被涂布于平板P的光阻的分光特性，于光路中配置波长选择滤波器106a的情形下，利用光传感器130b检出仅含i线波长域的光的照度，从光源的光中含i线波长域的光的照度，对应最适当的光阻的分光特性，且维持如此一定值，通过电源控制装置134而控制电源装置136。

一方面，根据被涂布于平板P的光阻的分光特性，于光路中配置波长选择滤波器106b的情形下，利用光传感器130a检出含g线，h线与i线波长域的光的照度，从光源的光中含g线，h线与i线波长域的光的照度，对应最适当的光阻的分光特性，且维持如此一定值，通过电源控制装置134而控制电源装置136。因此，从光源1的光内，于所定的波长域的光的平板上的照度，对应最适当光阻的分光特性，而可以控制成一定的照度。

又，为了利用光传感器130a检出含g线，h线与i线波长域的光的照度，利用光传感器130b检出含i线波长域的光的照度，于光源101的照度，经过长时间而减低时，对应最适当光阻的分光特性，且可控制成一定值的照度。此即，一般光源101经过长时间而减低照度时，由于短波长光的减低会提早发生，通过光传感器130b而利用检出含i线的光的照度，对于含i线的光的照度减低，照度经过长时间而提早发生的事，可确实被检出。因此，利用控制供给光源1的电力量，含i线的波长域的光的照度可被控制在一定值。

又，涂布于平板P上的光阻，其仅对特定的光有感度的情形下，不必要有波长选择滤波器106a、106b。此即，涂布于平板P上的光阻，检出有感度的光的照度，此波长域的光的照度，对应于光阻的分光特性，利用控制于最适当的一定值，而可使用最适当照度的照明光，进行光阻的曝光。

本实施例，假定平板P上涂布有感度20mJ/cm²的光阻或是感度60mJ/cm²的树脂光阻的情形，感度为1对3。于是，含有此光阻与树脂光阻的分光特性的成份数据被存储于存储装置123。因此，当平板P上涂布高感度的光阻，利用驱动装置118，配置波长选择滤波器106a于光路中，根据含有光阻的分光特性的成份数据，利用驱动装置119控制减光滤光片114b～114f，其照明光的照度，可对应涂布于平板上感旋光性材料的分光特性，而得到最适当的一定值照度。

另一方面，当平板P上涂布感度低的树脂光阻，利用驱动装置118，配置波长选择滤波器106a于光路中，根据含有光阻的分光特性的成份数据，利用驱动装置119控制减光滤光片114b～114f，其照明光的照度，可对应涂布于平板上感旋光性材料的分光特性，而得到最适当的一定值照度。

此即，利用照度传感器124检出平板P上的照明光照度，此检出值输入照明光学系统IL的主控制装置120。主控制装置120利用驱动装置118配置波长选择滤波器106a或106b于光路中，又利用驱动装置119控制减光滤光片114b～114f而得到平板P的照明光照度，使得到最适合于涂布于平板P上光阻的分光特性的照度，此即，控制适合于感度20mJ/cm²的光阻或是感度60mJ/cm²的树脂光阻的照度。如此，利用驱动装置118，一起控制波长选择滤波器106a或106b，利用驱动装置119控制减光滤光片114b～114f而得到平板P的照明光照度，使可得到对应于涂布于平板P上光阻的分光特性的固定照度。又，利用传感器124，根据检出平板P的照度，利用控制电源装置136供给光源101的电力，平板P的照明光照度，对应于涂布于平板P上光阻的分光特性，而可得到最适当的定值照度。

因此，根据最适当对应于涂布于平板P上光阻的分光特性，且使用一定的照明光，可进行涂布于基板的光阻的曝光。

又，于曝光中，检出平板P与光学耦合的位置的照度，根据照度传感器129b所检出的照度，可以得到平板P上的照度。此即，于曝光时，不降低产能而也可以检出平板上的照度。因此，根据被检出的照度，利用控置波长选择滤波器106a、106b以及减光滤光片114b～114f，或是利用控制电源装置136供给光源101的电力，平板P的照明光照度，对应于涂布于平板P上光阻的分光特性，而可得到最适当的定值照度。

次之，参照图标，说明本发明第5实施例的曝光装置。又，于第5实施例与第4实施例的曝光装置，有相同标号代表相同部材。图24为本发明的第5实施例，关于曝光装置的照明系统的侧面结构图。第5实施例的曝光装置，除了照明光学系统IL的部份以外，与第4实施例的曝光装置有相同结构。

于第5实施例的曝光装置，照明光学系统IL有3个光源，由3个光源的照明光，通过随机性良好的光导器111，而分割成5个照明光。又，于本实施例，平板P上涂布有光阻(感度20mJ/cm²)或是树脂光阻(感度60mJ/cm²)。又，于图24所示的xyz直交坐标系统与第4实施例所使用的xyz直交坐标系统相同。

如图24所示，照明光学系统IL设置有3个光源单元140a、140b、140c。从光源单元140a射出的照明光入射于光导器111的入射端111a1，从光源单元140b射出的照明光入射于光导器111的入射端111a2，从光源单元140c射出的照明光入射于光导器111的入射端111a3。

图25为关于照明系统的光源单元140a的结构图。因为光源101配置于椭圆镜102的第1焦点位置，由光源101射出的照明光束，通过反射镜103，含g线，h线与i线波长域的光的光源像，形成于椭圆镜102的第2焦点位置。此第2焦点位置设置于拍射部104的位置。拍射部104与光轴AX1倾斜，而设置有开口板104a与遮蔽板104b可开启或关闭开口板104a上的开口。

穿通过反射镜103的漏光的行进方向，配置有做为吸光部材的吸光板108a。吸光板108a装设有做为吸热部材的吸热器109a。吸光板108a有贯穿口可被光纤132穿过。而此贯穿口配置有光纤132一端。而从光纤132的另一端射出的漏光，入射于光传感器130a、130b。

利用光传感器130a、130b，被检出的漏光的照度检出信号被输入到电源控制装置134，以控制供给光源101的电力量，根据从电源控制装置134的控制信号，而控制从电源装置136以供给光源101的电力量。此即，根据从光传感器130a、130b的检出信号，由光源101射出的光的照度，即含g线，h线与i线波长域的光的照度，或是仅含i线波长域的光的照度，利用电源控制装置134使维持一定值，进行电源装置136的控制。

从形成于椭圆镜102的第2焦点位置的光源像的发散光束，利用传递透镜105变换成约略平行的光束，而入射于传递透镜110。对于传递透镜105与传递透镜110之间的光路(光轴AX1)，配置有可进退自在做为减光部材之减光滤光片107与波长选择滤波器106a、106b(波长选择装置)。又，控制配置于光路的滤光片107与波长选择滤波器106a、106b，可利用主控制装置120控制驱动装置118而施行。

被减光滤光片107反射的光的行进方向，配置有做为吸光部材的吸光板108b。通过减光滤光片107与波长选择滤波器106a、106b的光，再通过传递透镜110而集光。于集光位置的近旁，配置有光导器111的入射端111a1。因此，由光源单元140a射出有一定照度的照明光入射于光导器111的入射端111a1。

同样地，由光源单元140b射出有一定照度的照明光入射于光导器111的入射端111a2，由光源单元140c射出有一定照度的照明光入射于光导器111的入射端111a3。又，光源单元140b与光源单元140c的结构与光源单元140a相同，其说明省略。

图24所示的光导器111，例如由多个纤线构成随机束而成为随机光导器光纤，光源单元的数量与入射端111a1、111a2、111a3的数量相同。构成投影光学系统PL的投影光学单元的数量与射出端111b～111f的数量相同(图24以射出端111b示)。从光导器111的入射端111a1、111a2、111a3入射的入射光，在其内部传播后，由5个射出端111b～111f分割射出。又，从光导器111的各射出端111b～111f射出的照明光的照度因此可控制成一定值，而得到一定值照度。

此光导器111，较佳有多个光纤束。此即，于此情形，入射端111a1与射出端111b其光学的接续，由入射端111a1入射的光的一部份，由光纤到导引到射出端111b，入射端111a2与射出端111b其光学的接续，由入射端111a2入射的光的一部份，由光纤到导引到射出端111b，入射端111a3与射出端111b其光学的接续，由入射端111a3入射的光的一部份，由光纤到导引到射出端111b。同样地，入射端111a1、入射端111a2、入射端111a3与射出端111b～111f个别有光纤接续。

从光导器111的射出端111b～111f的发散光束，通过准直透镜112c-112f，减光滤光片114c-114f，复眼集成器115c～115f，视野档板116c～116f，半穿透镜127c～127f，集光透镜系117c～117f等顺着与罩幕M重叠而个别照明。此即，照明光学系统IL照明于罩幕M上的y轴方向并列而形成多个梯形状的领域。

从罩幕M上的各个照明领域的光，入射于对应于各个照明领域，沿着y轴方向配列的多个(图20为5个)投影光学单元PL1～PL5所构成的投影光学系统PL。

接着，利用罩幕平台MS侧的扫描驱动系统以及平板平台PS侧的扫描驱动系的作用，利用对应于由多个投影光学单元PL1～PL5所构成的投影光学系统PL，罩幕M与平板P一体，沿着同一方向(x轴)移动，罩幕M上的图案领域的全部，被转印(扫描曝光)到平板P上的曝光领域的全部。

于此，本第5实施例，个别光源单元140a、140b、140c，利用光传感器130a检出含g线，h线与i线波长域的光的照度，利用光传感器130b检出仅含i线波长域的光的照度。此即根据涂布于平板的光阻的光学特性，于在光路上配置波长选择滤波器106a的情形下，利用光传感器130b检出含i线波长域的光的照度，从光源的光中，对应于光阻的光学特性，最适当含i线波长域的光的照度，且维持如此的一定值，通过电源控制装置134而控制电源装置136。

一方面，根据涂布于平板P的光阻的光学特性，于在光路上配置波长选择滤波器106b的情形下，利用光传感器130a检出含g线，h线与i线波长域的光的照度，从光源的光中，对应于光阻的光学特性，最适当含g线，h线与i线波长域的光的照度，且维持如此的一定值，通过电源控制装置134而控制电源装置136。因此，从光源101的光内，于所定的波长域的光的平板上的照度，对应最适当光阻的分光特性，而可以控制成一定的照度。

又，于光源101的照度，经过长时间而减低时，如第4实施例的同样的曝光装置，可控制对应最适当光阻的分光特性，且成一定值的照度。

又，涂布于平板P上的光阻，其仅对特定的光有感度的情形下，与第4实施例的相同，不必要有波长选择滤波器106a、106b。

于本实施例，假定平板P上涂布有感度20mJ/cm²的光阻或是感度60mJ/cm²的树脂光阻的情形，含有此光阻与树脂光阻的分光特性的成份数据被存储于存储装置123。因此，根据含有光阻的分光特性的成份数据，利用驱动装置118共同配置波长选择滤波器106a、106b于光路中，利用驱动装置119控制减光滤光片114b～114f，与照明光的照度，可对应涂布于平板上感旋光性材料的分光特性，而得到最适当的一定值照度。又根据利用制度传感器124检出平板P上的照度，利用控制电源装置136供给光源101的电力，平板P的照明光照度，对应于涂布于平板P上光阻的分光特性，而可得到最适当的定值照度。

又，与第4实施例的曝光装置一样，于曝光中，根据照度传感器129b所检出的照度，可以得到平板P上的照度。因此，根据被检出的照度，利用控置波长选择滤波器106a、106b以及减光滤光片114b～114f，或是利用控制电源装置136供给光源101的电力，平板P的照明光照度，对应于涂布于平板P上光阻的分光特性，而可得到最适当的定值照度。

次之，参照图标，说明本发明第6实施例的曝光装置。又，于第6实施例与第4实施例的曝光装置，有相同标号代表相同部材。于图26所示的xyz直交坐标系统与第4实施例所使用的xyz直交坐标系统相同。

图26为本发明的第6实施例，关于曝光装置的照明系统的结构图。第6实施例的曝光装置，除了照明光学系统IL的部份以外，与第4实施例的曝光装置有相同结构。

本第6实施例的曝光装置，于第4实施例的曝光装置中，利用反射镜103的漏光，检出从光源101的照明光的照度，使用入射于光导器111的输入射端111a的照明光，检出从光源101的照明光的照度的如上述部分将的变更。又更，使用利用半穿透镜127b～127f使分枝的照明光，而检出平板P与光学的耦合的位置的照明光照度，又使用从光导器111的输出端111b射出的照明光，检出平板P与光学的耦合的位置的照明光照度，有如此等将取代变更。

此即，从光导器111的入射端111a从所分开的光纤的另一端射出，而使照明光入射于传感器130a、130b，利用传感器130a、130b检出照明光照度。利用此传感器130a、130b所检出值，输入电源控制装置134，利用电源装置136，从光源101的照明光的照度，此即含g线，h线与i线波长域的光的照度，或是含i线波长域的光的照度，而控制始有如此的一定值。又，从射出端111b所分开的从光纤的另一端射出的照明光，使入射于传感器130，利用传感器130检出照明光的照度。由传感器130的检出值，输入于主控制装置120与电源控制装置134。

于此，此第6实施例，利用传感器130a检出含g线，h线与i线波长域的光的照度，利用传感器130b检出含i线波长域的光的照度。此即，根据涂布于平板P的光阻的光学特性，于在光路上配置波长选择滤波器106a的情形下，利用光传感器130b检出含i线波长域的光的照度，从光源的光中，对应于光阻的光学特性，最适当含i线波长域的光的照度，且维持如此的一定值，通过电源控制装置134而控制电源装置136。一方面，根据涂布于平板P的光阻的光学特性，于在光路上配置波长选择滤波器106b的情形下，利用光传感器130a检出含g线，h线与i线波长域的光的照度，从光源的光中，对应于光阻的光学特性，最适当含g线，h线与i线波长域的光的照度，且维持如此的一定值，通过电源控制装置134而控制电源装置136。因此，从光源101的光内，于所定的波长域的光的平板上的照度，对应最适当光阻的分光特性，而可以控制成一定的照度。

又，各光源101的照度，经长时间而降低的情形时，与第4与第5实施例一样，对应光阻的光学特性，而可以控制成最适当一定的照度。

且，涂布于平板P上的光阻，其仅对特定波长域的光有感度的情形下，与第4与第5实施例的曝光装置一样，不必要有波长选择滤波器106a、106b。

于本第6实施例，假设在平板P上涂布有感度为20mJ/cm²的光阻或是感度为60mJ/cm²的树脂光阻的情形下，含光阻与树脂光阻的分光特性的成份数据被存储于存储装置123。因此，根据含有光阻的分光特性的成份数据，利用驱动装置118共同配置波长选择滤波器106a或106b于光路上，利用驱动装置119控制减光滤光片114b～114f，其照明光的照度，可最适当对应涂布于平板P上感旋光性材料的分光特性，且可得到一定值照度。又，利用照度传感器124根据检出的平板P上照度，控制电源装置136供给光源101的电力，或是利用控制减光滤光片114b～114f，平板P上的照明光的照度，可对应涂布于平板P上的光阻的分光特性的最适当的一定值的照度。

次之，参照图标，说明本发明第7实施例的曝光装置。又，于第7实施例与第4-6实施例的曝光装置，有相同标号代表相同部材。于图27所示的xyz直交坐标系统与第4实施例所使用的xyz直交坐标系统相同。

图27为本发明的第7实施例，关于曝光装置的照明系统的结构图。第7实施例的曝光装置，除了照明光学系统IL的部份以外，与第4实施例的曝光装置有相同结构。

于本第7实施例的曝光装置，如第5实施例的曝光装置的光源单元140a、140b、140c，利用反射镜103的漏光检出从光源101的照明光的照度，使用从光导器111入射于入射端111a1、111a2、111a3的照明光，检出从光源的照明光的照度如此的变更，又更，使用利用半穿透镜127b～127f分枝的照明光，而检出平板P与光学的耦合的位置的照明光照度，又使用从光导器111的输出端111b射出的照明光，检出平板P与光学的耦合的位置的照明光照度，有如此等的变更。

图28为光源单元140a结构图。如图所示，关于光源单元140a，从光导器111的入出端111a分枝的光纤的另一端射出的照明光，入射于传感器130a、130b，利用传感器130a、130b检出照明光的照度。由用传感器130a、130b的检出值，输入电源控制装置134，利用电源装置136控制从光源101的照明光的照度使有一定值，此即含g线，h线与i线波长域的光的照度，或是含i线波长域的光的固定照度。光源单元140b、140c利用相同的结构，检出照明光的照度。控制从光源101的照明光的照度使有一定值，此即含g线，h线与i线波长域的光的照度，或是含i线波长域的光的固定照度。

又，如图27所示，从射出端111b分枝的光纤的另一端射出的照明光，入射于传感器130，利用传感器130检出照明光的照度。由用传感器130的检出值，输入主控制装置120与电源控制装置134。

于第7实施例的光导器111，较佳有多条光纤束。此即，于此情形，入射端111a2与射出端111b有光学接续的光纤束，入射端111a3与射出端111b有光学接续的光纤束。同样的，入射端111a1、入射端111a2、入射端111a3与射出端111c～111f个别有光纤接续。

又，光导器111也可以有检出用的射出端。于此情形，上述的入射端与射出端，其光学接续的各光纤束的另一端，入射端111a1与检出用的射出端由光纤束接续，入射端111a2与检出用的射出端由光纤束接续，入射端111a3与检出用的射出端由光纤束接续。

于此，本地7实施例，对于个别光学单元140a、140b、140c，利用传感器130a检出含g线，h线与i线波长域的光的照度，利用传感器130b检出含i线波长域的光的照度。此即，根据涂布于平板P的光阻的光学特性，于在光路上配置波长选择滤波器106a的情形下，利用光传感器130b检出含i线波长域的光的照度，从光源的光中，对应于光阻的光学特性，最适当含i线波长域的光的照度，且维持如此的一定值，通过电源控制装置134而控制电源装置136。

另一方面，根据涂布于平板P的光阻的光学特性，于在光路上配置波长选择滤波器106b的情形下，利用光传感器130a检出含g线，h线与i线波长域的光的照度，从光源的光中，对应于光阻的光学特性，最适当含g线，h线与i线波长域的光的照度，且维持如此的一定值，通过电源控制装置134而控制电源装置136。因此，从光源101的光内，于所定的波长域的光的平板上的照度，对应最适当光阻的分光特性，而可以控制成一定的照度。

又，各光源101的照度，经长时间而降低的情形时，与第4-6实施例一样，对应光阻的光学特性，而可以控制成最适当的一定的照度。

且，涂布于平板P上的光阻，其仅对特定波长域的光有感度的情形下，与第4至第6实施例的曝光装置一样，不必要有波长选择滤波器106a、106b。

本第7实施例，假设在平板P上涂布有感度为20mJ/cm²的光阻或是感度为60mJ/cm²的树脂光阻的情形下，含光阻与树脂光阻的分光特性的成份数据被存储于存储装置123。因此，根据含有光阻的分光特性的成份数据，利用驱动装置118共同配置波长选择滤波器106a或106b于光路上，利用驱动装置119控制减光滤光片114b～114f，其照明光的照度，可最适当对应涂布于平板P上感旋光性材料的分光特性，且可得到一定值照度。又，利用照度传感器124根据检出的平板P上照度，控制电源装置136供给光源101的电力，或是利用控制减光滤光片114b～114f，平板P上的照明光的照度，可对应涂布于平板P上的光阻的分光特性的最适当的一定值的照度。

又，与第4-6实施例的曝光装置一样，于曝光中，根据照度传感器129b所检出的照度，可以得到平板P上的照度。因此，根据被检出的照度，利用控置波长选择滤波器106a、106b以及减光滤光片114b～114f，或是利用控制电源装置136供给光源101的电力，平板P的照明光照度，对应于涂布于平板P上光阻的分光特性，而可得到最适当的定值照度。

接着，于上述的实施例，以平板P上涂布有感度为20mJ/cm²的光阻或是感度为60mJ/cm²的树脂光阻的情形做说明。对于涂布于平板P上的光阻的感度，例如于20 mJ/cm²到200 mJ/cm²的情形下，对于于各种使用情形，对应于涂布于平板P上的光阻的感度，利用减光滤光片114b～114f，对应最适当涂布于基板上的光阻分光特性，且使用一定的照明光，可以进行涂布于基板上的光阻的曝光。

又，上述的实施例的曝光装置，当利用照度传感器124检出平板P上照明光照度之际，检出仅含i线波长域的光与含g线，h线与i线波长域的光二者，具体地，第1照度传感器用以检出含g线，h线与i线波长域的光，而第2照度传感器用以检出仅含i线波长域的光，并置于平板平台上而构成照度传感器124。于照度传感器中，例如通过由二色性镜等所构成的波长分离装置所设置。利用此波长分离装置，导引含g线，h线与i线波长域的光给第1照度传感器，而导引仅含i线波长域的光给第2照度传感器。而照度传感器的正前方也可设置波长选择滤波器，以切换含g线，h线与i线波长域的光与仅含i线波长域的光等的装置。

以上，以本实施例仅做说明，但本发明不限制于上述实施例，于本发明的范围内可以自由变更。例如上述实施例，以步进与扫描方式的曝光装置为例举例说明，但也可适用于步进与重复方式。

又，前述的实施例，对于制造液晶显示元件的情形，以下举例说明，不用说，不仅是使用于液晶显示元件的制造的曝光装置，将被使用于包括半导体元件等的显示器的制造的元件图案，转印到半导体基板上的曝光装置，将被使用于薄膜磁头的制造的元件图案，转印到陶瓷基板上，以及使用于CCD等的成像元件的制造的曝光装置等，都可适用本发明。

次之，使用本发明的实施例的曝光装置，使用于微影步骤的微元件制造方法而进行说明。图29为本发明实施例，关于微元件的半导体元件制造方法的流程图。又，于图29的步骤s40，1批的晶圆上被蒸镀一金属膜。次之，步骤s42，于此1批的晶圆的金属膜上，涂布光阻。其后，步骤s44，使用本发明实施例的曝光装置，将形成于罩幕上的图案的像，通过投影光学系统(投影光学单元)，其1批的晶圆的各个拍照领域顺次曝光而被转印。此即，使用照明光学系统照明照幕M，使用投影光学系统将照幕M上的图案像被投影到基板上，被曝光转印。

其后，于步骤s46，其1批的晶圆上的光阻图案显像后，于步骤s48，其1批的晶圆上的光阻图案做为罩幕，而进行蚀刻工艺。对应罩幕上的图案的电路图案，于各晶圆上的各拍摄领域形成。之后，进行形成更上层的电路图案。半导体等的元件被制造。上述的半导体元件的制造方法，可以得到较好的有极细微电路图案的半导体元件的产能。

又，本发明的实施例的曝光装置，平板(玻璃基板)上，利用其形成所定的图案(电路图案、电极图案等)，而可得到做为微元件的液晶显示元件。以下，参照图30的工艺，以其一例而说明。图30为本发明实施例，做为微元件的液晶显示元件制造方法的流程图。

图30的图案形成步骤s50，使用本发明实施例的曝光装置，将罩幕的图案曝光转印到感旋光性基板(涂布有光阻只玻璃基板)，所谓的进行微影工艺。利用此微影工艺，含有多数电极的所定的图案，被形成于感旋光性基板上。之后，被曝光的基板，经显像步骤，蚀刻步骤，对准标记移除步骤等的各步骤，形成所定的图案于基板上，次之于步骤s52，进行形成彩色滤光器步骤。

次之，于形成彩色滤光器步骤s52，对应红绿蓝3个点为一组配列成多个矩阵状，或是以红绿蓝的3行条状的滤光为一组，于多个水平扫描方向配列成彩色滤光器，而形成。接着，于彩色滤光器形成步骤s52后，实行单元胞组合步骤s54。单元胞组合步骤s54组合由图案形成步骤s50所得的有所定图案的基板，以及由彩色滤光器形成步骤s52所得到的彩色滤光器，而成为液晶面板(液晶胞)。

单元胞组合步骤s54，例如，有由图案形成步骤s50所得的有所定图案的基板，以及由彩色滤光器形成步骤s52所得到的彩色滤光器之间注入液晶，而制造液晶面板(液晶胞)。之后，于模块组合步骤s56，进行被组合的液晶面板(液晶胞)的显示动作的电子电路，背光部等的各部的安装，而完成液晶显示元件。利用上述液晶显示元件的制造方法，可以得到较好的有极细微电路图案的液晶显示元件的产能。

以上，如说明，本发明的第1观点的曝光装置，对应于在感旋光性基板的感光特性，利用切换照射于罩幕的光的波长域而改变曝光功率，因为对应于感旋光性基板的感光特性得到其在曝光上所必要的曝光功率，有种种的感光特性的感旋光性基板，可以有适切曝光的效果。

又，本发明的第2观点的曝光装置，对应转印于感旋光性基板的图案的解像度，因为切换照射于罩幕的光的波长域，于转印要求高解像度的微细图案时以及转印不要求高解像度的图案的任一种情形，可以有足够的解像度以转印图案。又，切换照射于罩幕的光的波长幅度，而变化曝光功率。如此，例如，有不要求高曝光功率光学特性，而必要形成高解像度图案于感旋光性基板上的情形，以及要求高曝光功率光学特性，而约不需要形成高解像度图案于感旋光性基板上的情形二者任一的情形，然而可以形成必要良好解像度的图案，可以有如此的效果。

更，本发明的第3观点的曝光装置，预先求出显示照射于罩幕的光的每一波长幅度，以适当的转印罩幕的图案于感旋光性基板上的照明光学系统的光学特性的照明特性数据，而根据照明特性数据，于切换照射于罩幕的光的波长域之际，调整照明光学系统的光学特性，照射于罩幕的光的每一波长幅度，罩幕的照明条件因此可以为最适当，使罩幕的图案可以忠实转印到感旋光性基板，有如此效果。

又，本发明的第4观点的曝光装置，于切换照射于罩幕的光的波长域之际，检出照明光学系统的光学特性，根据此检出结果，因为可调整照明光学系统的光学特性，对应实际检出的光学特性，可以最适当调整照明光学系统的光学特性，罩幕的图案可以忠实转印到感旋光性基板，有如此效果。

又，本发明的第5观点的曝光装置，切换照射于罩幕的光的波长域的程度，因为调整检出照射于罩幕的光的强度的传感器，例如传感器与波长的相互关系，照射于罩幕的光的每一波长域的强度可正确检出，有如此效果。

又，本发明的第6观点的曝光装置，预先求出显示照射于罩幕的光的每一波长域，其适当的转印罩幕的图案于感旋光性基板上的投影光学系统的光学特性的投影特性数据，而根据投影特性数据，于切换照射于罩幕的光的波长域之际，调整投影光学系统的光学特性，沿着该光轴方向的罩幕的位置，以及沿着该光轴方向的该感旋光性基板的位置的至少其一，射于罩幕的光的每一波长域，因为可以得到被转印到感旋光性基板的最适当投影条件，罩幕的图案可以忠实转印到感旋光性基板，有如此效果。

又，本发明的第7观点的曝光装置，于切换照射于罩幕的光的波长域之际，检出投影光学系统的光学特性，根据检出结果，因为调整投影光学系统的光学特性，沿着该光轴方向的罩幕的位置，以及沿着该光轴方向的该感旋光性基板的位置的至少其一，对应实际检出的光学特性，可调整最适当的投影光学系统的光学特性，罩幕的图案可以忠实转印到感旋光性基板，有如此效果。

又，本发明的第8观点的曝光装置，被切换的每一个波长幅度，对应于投影光学系统，预先求出表示其照射时间与投影光学系统的光学特性的变动量之间的关系的变动数据，于切换照射于罩幕的光的波长域之际，根据变动数据，调整投影光学系统的光学特性，沿着该光轴方向的罩幕的位置，以及沿着该光轴方向的该感旋光性基板的位置的至少其一，照射于罩幕的光的每一波长域，因为可以得到被转印到感旋光性基板的最适当投影条件，罩幕的图案可以忠实转印到感旋光性基板，有如此效果。

又，本发明的第9观点的曝光装置，于切换照射于罩幕的光的波长域之际，使用其光，计测载置于于基板平台上的感旋光性基板的位置的位置计测装置，决定设置于基板平台的基板平台的基准位置，而计测基准部材的位置，基板平台的基准位置因此可求得，虽然切换照射于罩幕的光的波长域时，也可计测在感旋光性基板的基板平台上正确的位置，有如此效果。

更，本发明的第10观点的曝光装置，于切换照射于罩幕的光的波长域之际，因为利用第1测定装置测定被形成于罩幕的图案的投影位置，虽然变换照射于罩幕的光的波长域，从第1测定装置的测定结果，与利用设置于投影光学系统的侧方的第2测定装置其感光基板上的标记测定结果，相对于图案的投影位置，而可求出感光基板的位置的正确值。

本发明的第11观点的曝光装置，具有照明装置利用照度检出装置而检出从光源的光的照度，根据含此检出值与感旋光性材料的分光特性相关的信息的成分数据，从光源的光的照度，对应感旋光性材料的分光特性，控制使有一定的照度。因此，对应于最适当的被涂布于基板的感旋光性材料的分光特性，且使用有一定的照度的照明光，而进行感旋光性材料的曝光。

又，本发明的曝光方法，利用照明步骤，根据涂布于基板的感旋光性材料的感度的照度而照射罩幕，对应于最适当的涂布于基板的感旋光性材料的分光特性，且使用一定照度的照明光，而进行感旋光性材料的曝光。

Claims (41)

1.一种曝光装置，其特征是，该装置包括：

一光源；以及

一照明光学系统，当从该光源的光照射于一罩幕，利用通过该罩幕的光而照射于一感旋光性基板上，形成于该罩幕的一图案，于该曝光装置，而转印到该感旋光性基板，

该照明光学系统包括对应于该感旋光性基板上的感光特性，有切换照射于该罩幕的光的波长幅度的一波长幅度切换装置。

2.一种曝光装置，其特征是，该特征包括：

一光源；以及

一照明光学系统，当从该光源的光照射于一罩幕，利用通过该罩幕的光而照射于一感旋光性基板上，形成于该罩幕的一图案，于该曝光装置，而转印到该感旋光性基板，

该照明光学系统包括对应于该感旋光性基板上的转印图案解像度，有切换照射于该罩幕的光的波长幅度的一波长幅度切换装置。

3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征是，该装置又包括：

一存储装置，以存储对应于该感旋光性基板的处理与显示处理顺序的一处理数据；以及

一控制装置，根据该处理数据，可控制该波长幅度切换装置。

4.如权利要求3所述的曝光装置，其特征是，该存储装置存储一照明光学特性数据，其显示利用该波长幅度切换装置，切换每一个波长幅度，其转印该图于案该感旋光性基板的适当的该照明光学系统的光学特性，

该控制装置，于控制该波长幅度切换装置，当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，根据该存储装置所存储的该照明光学特性数据，而调整该照明光学系统的光学特性。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征是，包括一照明光学检出装置，其检出该照明光学系统的光学特性，

该控制装置，控制该波长幅度切换装置，当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，一面参照该照明光学检出装置的检出结果，而调整该照明光学系统的光学特性。

6.一种曝光装置，其特征是，该装置包括：

一光源；以及

一照明光学系统，当从该光源的光照射于一罩幕，利用通过该罩幕的光而照射于一感旋光性基板上，形成于该罩幕的一图案，于该曝光装置，而转印到该感旋光性基板，

该照明光学系统包括：

一波长幅度切换装置，切换照射于该罩幕的光的波长幅度；

一存储装置，存储一照明光学特性数据，其显示利用该波长幅度切换装置，切换每一个波长幅度，适用于转印该图案于该感旋光性基板的该照明光学系统的光学特性；以及

一控制装置，控制该波长幅度切换装置，当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，根据该存储装置所存储的该照明光学特性数据，而调整该照明光学系统的光学特性。

7.一种曝光装置，其特征是，该装置包括：

一光源；以及

一照明光学系统，当从该光源的光照射于一罩幕，利用通过该罩幕的光而照射于一感旋光性基板上，形成于该罩幕的一图案，于该曝光装置，而转印到该感旋光性基板，

该照明光学系统包括：

一波长幅度切换装置，切换照射于该罩幕的光的波长幅度；

一照明光学检出装置，其检出该照明光学系统的光学特性；以及

一控制装置，控制该波长幅度切换装置，当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，根据该照明光学检出装置的检出结果，而调整该照明光学系统的光学特性。

8.如权利要求6或7所述的曝光装置，其特征是，该照明光学系统的光学特性，包含该照明光学系统的远心，与照射于该罩幕的光的照度不均，二者至少其一。

9.如权利要求8所述的曝光装置，其特征是，该照明光学系统，有为了形成于该罩幕上的多个照明领域的多个照明光路，

该控制装置，调整每一个该些照明光路，而达到该照明光学系统的光学特性。

10.如权利要求6或7所述的曝光装置，其特征是，该照明光学系统，又包括一感侧器，以检出照射于该罩幕的光的强度，

该控制装置，控制该波长幅度切换装置，当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，调整对应于该波长幅度的该感侧器的特性。

11.一种曝光装置，其特征是，该装置包括：

一光源；以及

一照明光学系统，当从该光源的光照射于一罩幕，利用通过该罩幕的光而照射于一感旋光性基板上，形成于该罩幕的一图案，于该曝光装置，而转印到该感旋光性基板，

该照明光学系统包括：

一波长幅度切换装置，切换照射于该罩幕的光的波长幅度；

一感侧器，其检出照射于该罩幕的光的强度；以及

一控制装置，控制该波长幅度切换装置，当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，调整对应于该波长幅度的该感侧器的特性。

12.如权利要求11所述的曝光装置，其特征是，该照明光学系统，有为了形成于该罩幕M上的多个照明领域的多个照明光路，而该感侧器又包括多个感侧器，以检出每一该些照明光路的光的强度。

13.如权利要求1，2，6，7及11其中之一所述的曝光装置，其特征是，又包括：

一投影光学系统，将该罩幕的图案，投影于该感光基板上；

一罩幕平台，以载置该罩幕；以及

一基板平台，以载置该感旋光性基板，

其中该罩幕平台与该基板平台的至少其一，使该投影光学系统可以沿着光轴的方向移动。

14.如权利要求13所述的曝光装置，其特征是，该存储装置，预先存储一投影光学特性数据，以显示利用该波长幅度切换装置，切换每一个波长幅度，用于转印该图案于该感旋光性基板的适当的该投影光学系统的光学特性，以及

该控制装置，控制该波长幅度切换装置，当照射于该罩幕M的光的波长幅度切换之际，根据该存储装置所存储的该投影光学特性数据，而调整该投影光学系统的光学特性，沿着该光轴方向的该罩幕的位置，以及沿着该光轴方向的该感旋光性基板的位置的至少其一。

15.如权利要求14所述的曝光装置，其特征是，更包括一投影光学特性检出装置，以检出该投影光学系统的光学特性，

其中该控制装置，控制该波长幅度切换装置，当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，参照该投影光学检出装置之检出结果，而调整该投影光学系统的光学特性，该沿着该光轴方向的罩幕的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板的位置等至少其一。

16.如权利要求15所述的曝光装置，其特征是，该存储装置，预先存储一变动数据，其显示利用该波长幅度切换装置而切换每一个波长幅度，对应于该投影光学系统的照射时间与该投影光学系统的光学特性的变动量的关系，该控制装置根据对于罩幕的照射履历与该变动数据，调整该投影光学系统的光学特性，该沿着该光轴方向的该罩幕的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板的位置等至少其一。

17.一种曝光装置，其特征是，该装置包括：

一光源；

一照明光学系统，使从该光源的光照射于一罩幕；以及

一投影光学系统，根据该照明光学系统的光，将形成于该罩幕的一图案，投影到该感旋光性基板，

其中又包括，

一罩幕平台以载置该罩幕；

一基板平台以载置该感旋光性基板；

一波长幅度切换装置，以切换照射于该罩幕的光的波长幅度；

一存储装置存储一投影光学特性数据，其显示利用该波长幅度切换装置，切换每一个波长幅度，转印该图案于该感旋光性基板的适当的该投影光学系统的光学特性；

以及一控制装置，控制该波长幅度切换装置，

其中，该罩幕平台与该基板平台的至少其一，使构成可沿着该投影光学系统的光轴方向移动，

该控制装置，控置该波长幅度切换装置，当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，根据该存储装置所存储的投影光学特性数据，调整该投影光学系统的光学特性，该沿着该光轴方向的罩幕的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板的位置等至少其一。

18.一种曝光装置，其特征是，该装置包括

一光源；

一照明光学系统，使从该光源的光照射于一罩幕；  以及

一投影光学系统，根据该照明光学系统的光，将形成于该罩幕的一图案，投影到该感旋光性基板，

其中又包括：

一罩幕平台以载置该罩幕；

一基板平台以载置该感旋光性基板；

一波长幅度切换装置，以切换照射于该罩幕的光的波长幅度；

一投影光学特性检出装置，以检出该投影光学系统的光学特性；以及

一控制装置，控制该波长幅度切换装置，

其中，该罩幕平台与该基板平台的至少其一，使构成可以沿着该投影光学系统的光轴方向移动，

该控制装置，控置该波长幅度切换装置，当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，根据该投影光学特性检出装置的检出结果，调整该投影光学系统的光学特性，该沿着该光轴方向的罩幕的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板的位置等至少其一。

19.一种曝光装置，其特征是，该装置包括：

一光源；

一照明光学系统，使从该光源的光照射于一罩幕；  以及

一投影光学系统，根据该照明光学系统的光，将形成于该罩幕的一图案，投影到该感旋光性基板，

其中又包括：

一罩幕平台以载置该罩幕；

一基板平台以载置该感旋光性基板；

一波长幅度切换装置，以切换照射于该罩幕的光的波长幅度；

一存储装置，以存储一变动数据，其显示利用该波长幅度切换装置，而切换每一个波长幅度，对应于该投影光学系统的照射时间与该投影光学系统的光学特性的变动量的关系；以及

一控制装置，控制该波长幅度切换装置，

该罩幕平台与该平板平台的至少其一，使构成可以沿着该投影光学系统的光轴方向移动，

该控制装置，控置该波长幅度切换装置，当照射于该罩幕的光的波长幅度切换之际，根据该存储装置所存储的该变动数据，调整该投影光学系统的光学特性，该沿着该光轴方向的罩幕的位置，以及该沿着该光轴方向的该感旋光性基板P的位置等至少其一。

20.如权利要求17所述的曝光装置，其特征是，该投影光学系统的光学特性包括该投影光学系统的焦点位置，倍率，像位置，像旋转，像面弯曲像差，非点像差，以及歪曲像差的至少其一。

21.如权利要求20所述的曝光装置，其特征是，该投影光学系统，包括各别投影于该感旋光性基板上的罩幕的多个投影光学系统，该控制装置对每一该些投影光学系统调整投影光学系统的光学特性

22.如权利要求17至19其中之一所述的曝光装置，其特征是，又包括：

一位置计测装置，使用利用该波长选择滤波器切换波长幅度的光，测定形成于该平板平台上的一基材部的位置，以及形成于该感旋光性基板上的标记，根据各各测定结果，而求出该载置于平板平台上的该感旋光性基板的位置，

该位置计测装置控制该波长选择滤波器，而切换照设于罩幕的光的波长幅度，该计测基材部的位置而求出该平板平台的一基准位置。

23.如权利要求17至19其中之一所述的曝光装置，更包括

一第1测定装置，以测定形成该罩幕的图案的一投影位置；

一第2测定装置，以测定形成于载置于该平板平台上的该感旋光性基板P的一标记；

一位置计算装置，根据该第1测定装置与该些第2测定装置的测定结果，相对于该投影该图案的位置，求出该感旋光性基板的位置，

其中该第1测定装置，该控制装置控制该波长选择滤波器而切换照射于该光罩的光的波长幅度，测定被投影的该图案的位置。

24.一种曝光装置，其特征是，该装置包括：

一光源；

一照明光学系统，使从该光源的光照射于一罩幕；以及

一投影光学系统，根据该照明光学系统的光，将形成于该罩幕的一图案，投影到该感旋光性基板，

其中又包括：

一罩幕平台以载置该罩幕；

一基板平台以载置该感旋光性基板；

一波长幅度切换装置，以切换照射于该罩幕的光的波长幅度；

一控制装置，控制该波长幅度切换装置；

一位置计测装置，利用该波长选择滤波器可切换波长幅度的光，测定形成于该平板平台上的一基材部的位置，以及形成于该感旋光性基板上的标记，根据各各测定结果，而求出载置于该平板平台上的感旋光性基板的位置。

25.一种曝光装置，其特征是，该装置包括：

一光源；

一照明光学系统，使从该光源的光照射于一罩幕；以及

一投影光学系统，根据该照明光学系统的光，将形成于该罩幕的一图案，投影到该感旋光性基板，

其中又包括：

一罩幕平台以载置该罩幕；

一基板平台以载置该感旋光性基板；

一波长幅度切换装置，以切换照射于该罩幕M的光的波长幅度；

一控制装置，控制该波长幅度切换装置；

一第1测定装置，以测定形成该罩幕的图案的投影位置；

一第2测定装置，设置于该投影光学系统的一侧方，以测定形成于载置于该平板平台上的该感旋光性基板的标记，

一位置算出装置，根据该第1测定装置与该第2测定装置的测定结果，对于被投影的该图案的位置，求出该感旋光性基板的位置，

该第1测定装置是于该控制装置控制该波长选择滤波器而切换照射于光罩的光的波长幅度之际，测定被投影的该图案的位置。

26.一种曝光方法，其特征是，该方法包括：

一照明步骤，使用如权利要求1、2，6、7、11、17、18、19、24及25中其中之一所述的曝光装置，以照明该罩幕；以及

一曝光步骤，以将形成于该罩幕上的该图案，而转印于该感旋光性基板上。

27.一种曝光方法，由光源来的光照射于罩幕，当形成于该罩幕上的图案，而转印于该感旋光性基板上的该曝光方法中，其特征是，该方法包括：

一切换步骤，对应于该感旋光性基板的感光特性，切换照射于罩幕的光的波长幅度。

28.如权利要求27项所述的曝光方法，其特征是，该切换步骤，更包括对应于转印于该感旋光性基板上的一图案的解像度，切换照射于罩幕的光的波长幅度。

29.如权利要求27至28其中之一所述的曝光方法，其特征是，更包括一补正步骤，以补正由于切换该波长幅度所引起的光学特性变化。

30.一种曝光装置，在一基板上涂布一感旋光性材料，而转印形成于一罩幕上的一图案的曝光装置中，其特征是，该装置包括：

一光源；

一照度检出装置，以检出从该光源的光的一照度，

其中，根据包含从该照度检出装置的检出值与该感旋光性材料的分光特性数据的一相关数据，控制从该光源的光使有一定的照度的一照明装置；以及

一投影光学系统，利用从该照明装置来的光，照明于该罩幕上的该图案，而投影到该基板上。

31.如权利要求30所述的曝光装置，其特征是，更包括一波长域变更装置，可变更从光原来的光的一波长域，

其中根据含感旋光性材料的分光特性的该相关数据与由该照度检出装置的检出值，利用该波长域变更装置，使变更波长的光控制有一定的照度。

32.如权利要求30所述的曝光装置，其特征是，该照明装置，更包括多个光源，多个照度检出装置以检出各该些光源的照度，与多个波长域变更装置，可变更从各该些光原来的光的波长域，

其中根据由该照度检出装置的检出值，利用该波长域变更装置，变更波长的光控制使有一定的照度。

33.如权利要求32所述的曝光装置，其特征是，该照度检出装置，分别检出有不同波长分布的多个波长域的光的照度。

34.如权利要求33所述的曝光装置，其特征是，该照度检出装置包括一反射镜位于该罩幕侧，反射由该光源来的照明光，

该照度检出装置根据该从反射镜的漏光，检出从该光源来的光的照度。

35.如权利要求30至34其中之一所述的曝光装置，又包括一照度传感器，以检出该基板上的照度。

36.如权利要求35所述的曝光装置，其特征是，该检出该基板上的照度的一照度传感器，载置于该基板平台。

37.如权利要求35所述的曝光装置，其特征是，检出该基板上的照度的该照度传感器，可检出位于该基板与光学的耦合地方的照度。

38.如权利要求35所述的曝光装置，其特征是，该照度传感器，可检出相互有异的波长分布的多个波长域的光的照度，而分别检出照度。

39.如权利要求38所述的曝光装置，其特征是，又包括一调光装置，以调整从该光源来的光的照度，根据利用该照度传感器检出相互有异的波长分布的多个波长域的光的照度，控制该光源与该调光装置二者其一。

40.如权利要求30所述的曝光装置，其特征是，该照度检出装置，分别检出有不同波长分布的多个波长域的光的照度。

41.一种曝光方法，其特征是，使用如权利要求30所述的曝光装置，该方法包括：

一照明步骤，使用该照明装置，照明一罩幕；以及

一投影步骤，使用该投影光学系统，投影该罩幕的一图案像于该基板上。

Images