CN1421285A - 掩膜母版清洁法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及制作掩膜版过程中母版的清洁技术，清洁液由下列组分配比而成：双氧水1份，浓硫酸0.5－3份，每次需要清洁母版时，先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗，再用镊子夹出，放置于板架上，再用去离子水冲洗多次，自然风干即可，经过此法清洗的母版表面非常干净，无异物、无油渍、无灰尘、无水汽，可保证一次性清洗干净，而且清洁液可多次重复使用，使用周期为一个月，是一种省时、省力、高效的清洁掩膜母版的方法。
Description
技术领域
本发明涉及制作掩膜版过程中母版的清洁技术。
背景技术
在制作掩膜版的过程中，有一道工序是复印，即将母版上的图形翻到铭板上，从而得到工作版，而该道工序的关键之一就是母版的洁净度，要求母版表面无异物、无油渍、无灰尘、无水汽等，在现有技术中，大多采用氢氧化钠碱液清洗，清洗后母版表面有个别亮点(显微镜下观察)，洁净度不是很好，有些采用清洗铭板的方法清洗母版，虽然能清洗干净，但需要三十多分钟，清洗时间长，因此，一种高效、简单的母版清洁方法就显得尤为重要。
发明内容
本发明的目的是提供一种高效、简单的掩膜母版清洁方法。
实现本发明目的的方法为：清洁液由下列组分配比而成：双氧水1份，浓硫酸0.5-3份，每次需要清洁母版时，先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗，再用镊子夹出，放置于板架上，再用去离子水冲洗多次，自然风干即可。
此过程利用双氧水在酸性环境中分解，产生氧气，氧气泡从溶液中逸出时，产生破碎，形成激波，这种激波把粘附在基片上的物质洗掉，而硫酸不仅能溶掉一些碱性物质，而且酸性的清洗环境易于使玻璃基片表面防潮。
经过此法清洗的母版表面非常干净，无异物、无油渍、无灰尘、无水汽，可保证一次性清洗干净，而且清洁液可多次重复使用，使用周期为一个月，是一种省时、省力、高效的清洁掩膜母版的方法。具体实施方式，但本发明的内容完全不局限于此
实施例1
在石英容器中加入双氧水10毫升，再缓慢沿容器壁加入浓硫酸5毫升，配成清洁液，每次需要清洁母版时，先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗，再用镊子夹出，放置于板架上，再用去离子水冲洗多次，自然风干即可。
实施例2
在石英容器中加入双氧水20毫升，再缓慢沿容器壁加入浓硫酸25毫升，配成清洁液，每次需要清洁母版时，先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗，再用镊子夹出，放置于板架上，再用去离子水冲洗多次，自然风干即可。
实施例3
在石英容器中加入双氧水40毫升，再缓慢沿容器壁加入浓硫酸120毫升，配成清洁液，每次需要清洁母版时，先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗，再用镊子夹出，放置于板架上，再用去离子水冲洗多次，自然风干即可。
Claims (2)
1一种掩膜母板清洁法，其特征在于清洁液由下列组分配比而成：
双氧水 1份
浓硫酸 0.5-3份
2如权利要求1所述的清洁法，其特征在于每次需要清洁母版时，先用镊子将待清洁的母版放到清洁液中清洗，再用镊子夹出，放置于板架上，再用去离子水冲洗多次，自然风干即可。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 02145560 CN1421285A (zh) | 2002-12-30 | 2002-12-30 | 掩膜母版清洁法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| CN 02145560 CN1421285A (zh) | 2002-12-30 | 2002-12-30 | 掩膜母版清洁法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1421285A true CN1421285A (zh) | 2003-06-04 |
Family
ID=4750932
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN 02145560 Pending CN1421285A (zh) | 2002-12-30 | 2002-12-30 | 掩膜母版清洁法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN1421285A (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105789025A (zh) * | 2014-12-25 | 2016-07-20 | 上海旭福电子有限公司 | 一种新型的晶圆镀膜片光罩清洗工艺 |
| CN109047160A (zh) * | 2018-08-07 | 2018-12-21 | 湖南普照信息材料有限公司 | 一种掩膜版玻璃基板的清洗方法 |
| CN111830784A (zh) * | 2020-07-06 | 2020-10-27 | 深圳清溢光电股份有限公司 | 一种异形玻璃掩膜版生产方法 |
-
2002
- 2002-12-30 CN CN 02145560 patent/CN1421285A/zh active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |