CN1392954A - 缺陷知识库 - Google Patents

Abstract

创建含有半导体晶片上晶片缺陷的研究案例信息的缺陷知识库的方法和相关装置。该方法包括创建一个数据库条目并且存储数据库条目以备以后访问，其中上述数据库条目含有一个指定缺陷的一个研究案例，上述研究案例包含缺陷信息而上述缺陷信息包括一或多个缺陷图像。数据库条目被存储在一个服务器上并且可以被多个客户端访问。

Description

缺陷知识库

相关申请的交叉参考

本专利申请对2000年10月2日提交的美国临时专利申请60/237,297号提出优先权，这里参考引用了该专利申请。本专利申请包含的主题涉及2001年7月13日同时提交的美国专利申请09/905,313号，09/905,514号和09/905,607号，这里完整地参考引入了这些专利申请。

技术领域

本发明通常涉及在半导体晶片加工系统中进行缺陷分析的方法或相关装置。更具体地，本发明涉及存储有关半导体晶片上缺陷的图像和其它信息的数据库。

背景技术

半导体晶片在加工期间易于产生缺陷。当在其上构成集成电路时，缺陷可能发生在晶片的任意加工阶段。集成电路的制造者通常维护一个关于规则发生的缺陷的原因的数据库。如果缺陷经常发生并且有明确的解决方案，则数据库可以包含一个关于缺陷、缺陷原因和缺陷解决方案的描述。例如，当一个具体的容器室变脏时可能产生某些缺陷。当这些缺陷产生时，数据库会指定对具体容器室进行清洁的解决方案。

各个集成电路制造者开发出其自己的缺陷信息专用数据库。同样地，大量资金不断被用于建立包含完整的可能缺陷和解决方案列表的数据库。

因此本领域需要汇集多个集成电路制造者的机密缺陷信息的方法。不同制造者可以通过不会暴露任何机密工艺信息的方式访问这种缺陷信息。可以对合并的缺陷信息进行组织以便晶片缺陷来源或原因的分析可以和缺陷的适当解决方案联系起来。

发明内容

本发明是一个建立包括图像和其它半导体晶片缺陷信息的数据库的方法和装置。数据库被存储在一个服务器上，该服务器有多个客户端与之连接。从客户端向数据库提供图像和其它信息。客户端从本地计量单元收集信息和图像并且通过网络向服务器发送信息和图像。在数据库中将信息、图像与缺陷相关原因和解决方案组织起来以便构成对各个缺陷的研究案例。可以从多个客户端汇集缺陷研究案例以构成一个全面的缺陷知识库。任何经过授权的客户端均可以远程访问数据库以找到具体缺陷的原因和解决方案。

附图说明

为了能够实现并详细理解本发明的上述特征，参照附加附图中图解的本发明实施例更具体地描述前面加以概述的本发明。

图1示出了一个基于本发明的缺陷来源识别器的模块图；

图2示出了图解包括图1的缺陷来源识别器的装置和数据库的模块图；

图3示出了图2的缺陷知识库数据库系统的结构图；

图4示出了可以被图1的缺陷来源识别器显示的缺陷摘要屏幕；

图5示出了可以被图1的缺陷来源识别器显示的案例图像屏幕；

图6示出了可以被图1的缺陷来源识别器显示的图像屏幕；

图7示出了可以被图3的缺陷知识库数据库系统显示的浏览缺陷屏幕；

图8示出了可以被图3的缺陷知识库数据库系统显示的搜寻屏幕；

图9示出了可以被图3的缺陷知识库数据库系统显示的浏览缺陷屏幕；

图10示出了可以被图3的缺陷知识库数据库系统显示的编辑屏幕；

图11示出了可以被图3的缺陷知识库数据库系统显示的创建屏幕；

图12示出了可以被图3的缺陷知识库数据库系统显示的图像库屏幕；

图13示出了可以被图3的缺陷知识库数据库系统显示的配置屏幕；

图14示出了图13的配置屏幕的另一部分；而

图15示出了一个涉及图3的缺陷知识库数据库系统的用户交互方法。

然而应当注意，附图只图解了本发明的典型实施例，因此不被认为是对本发明范围的限制，本发明允许采用其它等效实施例。

具体实施方式

缺陷知识库系统186的一个实施例构成图1中缺陷来源识别器100的一部分。缺陷来源识别器100识别晶片加工系统102加工的晶片中的缺陷，确定缺陷来源并且提出减轻各个缺陷的解决方案。晶片加工系统102包含一或多个加工单元103。各个加工单元103(这里也被称作加工工具)被用来对晶片完成诸如化学汽相沉积(CVD)，物理汽相沉积(PVD)，电化学电镀(ECP)，化学机械抛光(CMP)，化学沉积，其它已知沉积或蚀刻加工的示例性加工。

缺陷知识库(DKL)数据库系统186在DKL数据库190中存储半导体晶片缺陷案例历史记录。通过DKL软件188存储，组织和访问案例历史记录信息。缺陷来源识别器100的远程用户(客户端104)可以访问这种半导体晶片缺陷案例历史记录以确定缺陷来源识别器100识别的晶片缺陷的来源和解决方案。

缺陷来源识别器100包含分析在晶片加工系统102内的加工期间已经产生的晶片缺陷的计量工具180并且使用计量工具180的输出。缺陷来源识别器100的某些实施例向一个远程位置传送晶片数据，图像，和/或涉及晶片缺陷的信息以进行分析。缺陷来源识别器100比较晶片图像和晶片缺陷的案例历史记录，对晶片数据进行光谱分析，并且接着向晶片加工系统(或位于晶片加工系统那里的操作员)发送那些缺陷的来源和可行解决方案信息。

术语″晶片″包含半导体晶片或某些其它形式的在其上进行连续加工步骤的基底。图1中示出的缺陷来源识别器100的实施例包含一个晶片加工系统102，一或多个缺陷来源识别器客户端104，一或多个缺陷来源识别器服务器106，和一个网络110。晶片加工系统102包含一个传送单元120，多个加工单元103，一个晶片传送系统121(也被称作机器人)，和一个工厂接口122。

工厂接口122包含一个盒式装载锁123，至少一个计量单元124，和计量工具180。计量单元124和工具180可以被连接到系统102，也可以是一个独立工作站。盒式装载锁123存储一或多个晶片。计量工具180在工作时被连接到计量单元124。计量工具180测量和测试晶片特性和晶片缺陷。计量工具180可以包含一个扫描或发送电子显微镜，一个光学晶片缺陷检查系统，空间特征分析工具或任何其他被用来分析晶片缺陷的工具。

多个缺陷来源识别器客户端104在图1的实施例中被图示成缺陷来源识别器客户端A，B，和C。下列描述涉及缺陷来源识别器客户端A的细节，但是也代表所有的缺陷来源识别器客户端。各个缺陷来源识别器客户端104包含一个控制晶片加工系统102和晶片加工系统102中的单个加工单元103的操作的客户端计算机105。缺陷来源识别器服务器106包含服务器计算机107。

客户端计算机105通过网络110与服务器计算机107交互以便接收服务器计算机107中存储的数据。客户端计算机105和服务器计算机107可以存储有关晶片加工系统102加工的晶片的当前和历史(即研究案例)缺陷。同样地，客户端计算机105和服务器计算机107与计量单元124的计量工具180和各种数据库交互以便存储利于晶片缺陷分析的晶片缺陷案例历史记录。

网络110在客户端计算机105和服务器计算机107之间提供数据通信。网络110可以使用互联网，内部网，广域网(WAN)，或任何其他形式的网络。例如，网络110可以使用被诸如互联网的网络使用的计算机语言，比如超文本标记语言(HTML)或可扩展标记语言(XML)。HTML是当前被互联网使用的主流标记语言，而XML是在互联网中正被广泛接受的标记语言。使用HTML和/或XML需要在各个客户端计算机105上安装相应的HTML和/或XML浏览器。

缺陷来源识别器客户端104和服务器106进行交互以确定晶片缺陷来源并且提供减轻晶片缺陷的解决方案。由一个具体的缺陷来源识别器客户端104控制一个指定晶片加工系统102的操作。在缺陷来源识别器100的某些实施例中，缺陷来源识别器客户端104从缺陷来源识别器服务器107接收解决方案。解决方案被提供给晶片加工系统102(自动提供或由一个操作员输入)，，而解决方案被用来控制晶片加工系统的操作。

由于客户端计算机105和服务器计算机107的操作和功能如此紧密相关(缺陷来源识别器100的不同实施例中的客户端计算机105或服务器计算机107可以执行类似的客户/服务器操作)，客户端计算机105中单元的编号被附加上一个额外的索引字符″a″。类似地，服务器计算机107的索引字符被附加上一个额外的索引字符″b″。在必须区别客户端计算机105的单元和服务器计算机107的单元的公开内容中，提供适当的对应索引字符″a″或″b″。在客户端计算机105或服务器计算机107的单元单独或全部可以执行规定任务的公开内容中，可以省略索引字符之后附加的字母。

客户端计算机105和服务器计算机107包括一个相应的中央处理单元(CPU)160a，160b；一个存储器162a，162b；支持电路165a，165b；一个输入/输出接口(I/O)164a，164b；和一个通信总线166a，166b。客户端计算机105和服务器计算机107可以均被实现成一个通用计算机，一个工作站计算机，一个个人计算机，一个膝上型计算机，一个微处理器，一个微控制器，一个模拟计算机，一个数字计算机，一个微芯片，一个微型计算机，或任何其他已知类型的适当计算机。CPU160a，160b为对于相应和服务器计算机107执行处理和算术运算。

存储器162a，162b包含单独或组合存储计算机程序，操作数，操作员，尺寸数值，晶片加工方法和配置，和其它控制缺陷来源识别装置和晶片加工系统操作的参数的随机访问存储器(RAM)，只读存储器(ROM)，可移动存储器，和磁盘存储器。客户端计算机105或服务器计算机107中的各个总线166a，166b在CPU 160a，160b；支持电路165a，165b；存储器162a，162b；和I/O 164a，164b之间提供数字信息发送。客户端计算机105或服务器计算机107中的总线166a，166b还将I/O 164a，164b连接到晶片加工系统102中的相应其它部分。

I/O 164a，164b提供一个控制客户端计算机105和/或服务器计算机107中各个单元与晶片加工系统102的不同部分之间的数字信息发送的接口。支持电路165a，165b包括计算机中使用的公知电路，例如时钟，高速缓存，电源，诸如显示器和键盘的用户接口电路，系统设备和其它与客户端计算机105和/或服务器计算机107相关的附件。

缺陷来源识别器100使用一个自动缺陷来源识别软件程序，自动缺陷来源识别软件程序的部分182和184被存储在存储器162a或162b中以便分别在客户端计算机105和服务器计算机107上执行。DSI软件182，184与DKL软件188交互以利于通过DSI客户端104访问和处理DKL信息。缺陷来源识别器100自动导出缺陷来源，在只需要最小的用户干预的情况下显示可能原因并且/或者通过调整导致缺陷的晶片加工系统102工艺参数自动补救缺陷。通过自动与已往的历史缺陷记录进行比较，缺陷来源识别器100减少了问题解决周期时间，简化了缺陷来源识别装置，并且改进了缺陷识别准确性。

缺陷来源识别器100可以被组织成一个产生执行摘要屏幕的基于网络的应用程序，其中执行摘要屏幕通常被细分成多个图形用户接口屏幕。在一个实施例中，图形用户接口屏幕在缺陷来源识别器客户端104上显示其接口和缺陷来源。缺陷来源识别器客户端104的用户因而可以和缺陷来源识别器客户端交互以便加入根据缺陷来源识别器服务器106上存储的数据产生的相应屏幕。选择缺陷来源识别器的配置主要取决于期望的操作和性能特性。

缺陷来源识别器操作和结构

缺陷来源识别器100的不同实施例从各种数据库和计量工具180中的一个或多个接收数据，文本，图像，缺陷案例历史记录等等。图2示出了缺陷来源识别器100使用的相关装置和数据库的一个实施例。

图2的缺陷来源识别器100的实施例中包含的各种装置包括一个缺陷来源识别器装置210，晶片缺陷检查装置204，扫描电子显微镜装置206，一个缺陷管理数据库208，一个制造执行数据库210，一个缺陷来源识别器数据库214，缺陷知识库数据库系统186(包含缺陷知识库软件188和一个缺陷知识库数据库190)，和一个工具索引数据库220。为了更好地理解本发明，读者应当同时参照图1和图2。可以使用软件，硬件，数据库计量设备和/或任何所描述的的适当部件实现计量工具180，数据库208，210，214，216，218，220或装置200中的某些部分。

晶片缺陷检查装置204和扫描电子显微镜装置206被提供给计量单元124，并且可以被称作计量工具180。计量工具180还可以包含诸如晶片缺陷检查过程的装置，一个扫描电子显微镜，一个发送电子显微镜，光学成像设备，空间特征分析器，聚集离子束分析器，和类似设备。通常，计量工具可以包含任何形式的利于识别晶片上的缺陷或晶片上构成的集成电路中的缺陷(这里通常称作缺陷或晶片缺陷，二者可以互换)的仪器，设备，或装置。

San Jose，CA的KLA-TENCOR是诸如电子显微镜装置206的计量工具的生产商。来自晶片缺陷检查装置204和/或扫描电子显微镜装置206的缺陷图像被生产成例如″KLA文件″或KLA资源文件(KLARF)形式的缺陷信息。KLA文件是计算机设备生产的单纯ASCII码文件。相同的KLA或KLARF文件格式可用于保存来自晶片缺陷检查装置204和/或扫描电子显微镜装置206的缺陷信息。

缺陷来源识别器100支持晶片缺陷检查装置204生产的KLA或KLARF文件。来自计量工具180的KLA，KLARF或图像文件被从计量工具输出到计量工具本地的一个目录中。各个计量工具180被连接到缺陷来源识别器装置200以便计量工具输出目录被实现成一个网络文件系统(NFS)可安装文件系统，使得可以如下所述远程访问文件。

扫描电子显微镜装置206被用来检查晶片的表面或表面下的部分。当显微镜识别出缺陷时，扫描电子显微镜处理的一个实施例自动划分一般缺陷类型。扫描电子显微镜装置206的一个实施例将缺陷检查信息产生成可以在缺陷来源识别器服务器106或缺陷来源识别器客户端104内部使用，存储或显示的KLA文件或其它类似的图像存储文件。扫描电子显微镜装置生产一个可以被存储和/或分析的图像。

缺陷来源识别器客户端104的一个实施例包含一个显示器，该显示器显示这种计量工具180，即晶片缺陷检查装置204或扫描电子装置206针对计量单元124中的晶片产生的KLA文件所涉及的缺陷图像。缺陷来源识别器100的一个实施例允许显示晶片缺陷案例历史记录。为了进行比较，除一个研究案例缺陷的图像(参考图像)之外还可以显示一个当前缺陷的图像。缺陷来源识别器系统100产生和显示各个晶片的晶片映射图像，其中晶片映射图像会以可视方式指出晶片上缺陷的位置，并且也支持缺陷知识库数据库系统186。

缺陷管理数据库208包含有关当前加工的一或多个晶片的缺陷图像，数据和信息。在对一或多个晶片重复进行晶片缺陷分析期间可以使用这种图像，数据和其它最近收集的信息。这种重复晶片缺陷分析可以被用来提供缺陷重复出现信息(例如在后续加工的晶片的相同位置上出现一个类似缺陷)和增加信息(其中一个类似缺陷出现在另一个晶片中的不同位置上)。数据，图像或其它信息也可以提供集簇信息，其中多个缺陷出现在一个指定区域内。

缺陷来源识别器装置200被连接到制造执行数据库210。制造执行数据库210的一个实施例包含Mountain View，Calif的CONSILIUM制造的一个WORKSTREAM制造执行系统。制造执行数据库210在操作上或结构上可以被分成一个不同的FAB制造执行数据库部分和一个传送制造执行数据库部分。传送制造执行数据库部分控制制造过程中晶片组通过晶片加工系统102的传送路径。同样地，制造执行数据库包含传送信息，其中涉及传送信息的处理已经被应用于各个晶片或晶片组。这种组传送信息可用于确定具有缺陷的晶片已经经过的处理(或处理系列)。

制造执行数据库210也可以包含一个设备接口和一个加工方法管理系统。因此制造执行数据库210包含大量被各个加工单元103用于处理各个晶片的状态信息。制造执行数据库210因而构成″环境信息″并且构成一个被发送到加工方法管理系统的消息，其中该消息被用来设置处理各个晶片的加工方法。环境信息可用于唯一识别将出现在一个具体加工单元内一个加工方法中的处理，并且包含诸如组号，实体，产品，路径等等的信息。

加工方法管理系统根据制造执行数据库提供的消息产生一个″加工方法″。加工方法实质上是处理指令，例如该产品在阶段的压力，温度气流等等。接着，相应的加工工具根据设置和加工方法执行制造加工步骤。晶片加工系统102进行某些数据集合处理，例如产生关于处理开始时间，结束时间等等的报告。这种信息被发送到制造执行数据库210并且被存储在比如存储器中的记录的一个区域或实体中。

工具索引数据库220为缺陷来源识别器100中使用的各个加工工具提供工艺参数描述。工具索引数据库220包含诸如哪些晶片已经在哪些加工单元中被加工，对各个晶片完成的加工的类型，根据哪些操作参数对各个晶片进行加工等等的信息。工具索引数据库220可以被缺陷来源识别器100用于指示加工单元中导致某些缺陷的条件。

缺陷来源识别器过程200的某些实施例提供了允许用户选择各个缺陷来源识别器客户端104的显示数据的配置能力。缺陷来源识别器100的一个实施例更新由诸如晶片缺陷检查装置204和扫描电子显微镜装置206的各个计量工具180提供的缺陷数据。

缺陷来源识别器数据库214临时存储涉及一个缺陷的信息。缺陷来源识别器数据库214包含晶片缺陷检查装置204和扫描电子显微镜装置206产生的KLA文件中的具体数据。数据库214通常存储客户端104内最近收集的数据。缺陷来源识别器数据库214还包含涉及检查图像文件的文件。可以在客户端104内部对数据库214中的数据进行本地处理并且接着发送到服务器106，也可以将原始数据直接发送到服务器106以便进行处理。

缺陷知识库数据库系统186存储，组织并且允许访问涉及缺陷来源识别器100收集的历史缺陷案例的图像，数据，或其它信息。最好通过将来与多个单独缺陷来源识别器客户端104的交互对缺陷知识库数据库190中的图像，数据，或其它信息进行编辑。

在一个实施例中，涉及缺陷知识库数据库系统186的图像，数据，和其它信息被存储在服务器计算机107的存储器162b中。然而这种信息可以被分布在各个客户端104和服务器106中。同样地，尽管DKL软件188和DKL数据库190在图1中被描述成位于服务器106上，但DKL系统186的这些部分也可以被分布在客户端104和服务器106上。

在一个实施例中，可以由一个不同的公司，一个公司内不同的工作组，或一个公司内不同的设施操作各个缺陷来源识别器客户端104。可选地，可以由相同的公司或工作组操作多个缺陷来源识别器客户端104。任何具体缺陷知识库数据库系统186中包含的晶片案例历史记录越多，则能够适当存储和/或分析的历史晶片缺陷(及其相应的单独解决方案)的潜在数量就越大。例如，涉及与缺陷来源识别器服务器106通信的多个缺陷来源识别器客户端104的历史缺陷可以被存储成缺陷来源识别器服务器106的存储器162b中的数据。只有某些经授权的缺陷来源识别器客户端104可以访问缺陷知识库数据库系统186中包含的数据，图像，或其它信息。这种在不同工作组或公司中间共享的知识通过为所有参与方迅速识别缺陷解决方案促进了制造率的提高。

涉及最初由一个第一缺陷来源识别器客户端104(由一个第一公司或工作组操作)检测到的缺陷的图像，数据，或其它信息以后可以被一个不同公司或工作组操作的第二缺陷来源识别器客户端104用来进行分析。任何其他缺陷来源识别器客户端的操作员通常不能确定操作任何缺陷来源识别器客户端104的公司或工作组的身份(除非得到允许)。

某些方面的加工单元状况，加工方法，工作温度和/或一或多个缺陷解决方案可以被提供给所有缺陷来源识别器客户端的操作员。然而可以具有限制访问某些诸如具体加工方法的敏感信息。但是，通过使用包含来自多个缺陷来源识别器客户端104的信息的大型缺陷知识库数据库系统186可以增加涉及多数工艺的历史晶片数据，图像数量和信息量并且因而使晶片缺陷分析能够更加可靠。

缺陷来源识别器装置200的一个实施例从缺陷管理数据库208收集诸如新发生，重复发生，空间特征分析和集簇信息的缺陷属性。缺陷来源识别器装置200从制造执行数据库210收集组传送信息。选定系统用户的缺陷来源识别器装置200可以访问缺陷知识库数据库系统186。可以通过诸如ActiveX数据对象(ADO)的已知数据库访问程序和技术访问缺陷知识库数据库系统186。

晶片缺陷检查装置204和扫描电子显微镜装置206产生的图像通常具有TIFF文件的形式。也可以按照TIFF文件格式存储数据库装置208，210，214，186，和220中的图像，数据，和其它信息。在一个实施例中，多个图像可以被包含在一个单独的TIFF文件中，其中TIFF文件内的图像文件目录包含多个条目，一个条目对应于一个图像。为了在相同文件中包含多个图像，文件不仅包含多个图像，而且包含指示不同图像在文件中的定位的定位数据。因而定位和缺陷图像数据均被包含在TIFF文件中，其中在KLA文件内索引这个TIFF文件。在一个单独TIFF文件中存储多个图像避免出现每个图像有一个单独TIFF文件的情况。与一个单独缺陷相关的多个图像可以被包含在一个单独TIFF文件或多个TIFF文件中。通过各个KLA文件中的多个TiffFileName记录定义多个TIFF文件。

由于可以容易地在任何客户端计算机105和服务器计算机107之间传送压缩图像文件，缺陷来源识别器系统100被用来将TIFF缺陷图像文件转换成JPEG压缩或MPEG压缩图像文件。缺陷来源识别器过程200连接扫描电子显微镜过程206和晶片缺陷检查过程204。过程204和206之间的这种连接允许用户访问过程204，206的历史KLA文件和/或其它图像文件。缺陷来源识别器过程200的一个实施例允许从工具索引数据库220内部的一个单纯文件中检索出一个加工工具列表。

缺陷来源识别服务器106运行一个使用CPU 160b访问存储器162b的缺陷来源识别器数据库。缺陷来源识别器的一个实施例可以使用一个由缺陷来源识别器访问的数据库服务器106，例如一个SQL服务器数据库。

缺陷来源识别客户端104可以包含被用来支持与网络服务器的交互的公知网络客户端软件。网络客户端软件包含一个诸如WINDOWSNT(Redwood，WA的微软公司公司的注册商标)，SOLARIS(PaloAlto，CA的Sun Microsystems公司的注册商标)，或IRIX(MountainView，CA的SGI的注册商标)的操作系统。缺陷来源识别客户端104运行一个诸如INTERNET EXPLORER(Redmond，WA的微软公司公司的注册商标)或NETSCAPE NAVIGATOR(Mountain View，CA的Netscape通信公司的注册商标)的浏览器。可以使用诸如BASIC，C，C++，或其它面向对象或传统计算机编程语言的语言开发缺陷来源识别器。

在一个实施例中，缺陷来源识别器服务器106通过缺陷知识库数据库系统186的通信端口访问缺陷知识库数据库系统186。缺陷知识库数据库系统186与BASIC，C++或C兼容。缺陷来源识别器服务器106通过与BASIC，C++或C兼容的通信装置访问制造执行数据库。数据库软件的某些实施例通过与BASIC，C++或C兼容的COM(译者注：构件对象模型Component Object Model)过程支持企业网络(包含Oracle公司的ORACLE8i，Irvine，CA的Quest软件的QUEST)。

图3中示出了缺陷知识库数据库系统186的一个实施例。  缺陷知识库数据库系统186具有一个三层客户-服务器体系结构，其中包含一个客户端层303，一个中间层305，和一个数据层307。客户端层303为缺陷知识库数据库系统186提供用户接口。客户端层303包括一个被用来在客户端计算机105和服务器计算机107之间提供网络连接的浏览器302。客户端层的一个实施例中使用的浏览器软件(包含HTML浏览器或XML浏览器)最好使用诸如INTERNET EXPLORER或NETSCAPE NAVIGATOR的Web浏览器。位于任何晶片缺陷检查过程和扫描电子显微镜过程上的客户端层需要访问缺陷来源识别器。

中间层305的一个实施例包括诸如MICROSOFT互联网信息服务器304和MICROSOFT事务处理服务器306的服务器软件和缺陷知识库部件316。中间层过程位于图1的缺陷来源识别器服务器106上。中间层实现客户端应用程序的业务规则，管理与图2示出的数据库进程210，212，214，190，218，和220的实施例之间的事务处理并且向浏览器客户端传送Web页面。

数据层的一个实施例包括一个SQL数据库服务器，其中SQL数据库服务器包含缺陷来源识别器数据库214和缺陷知识库数据库190。需要在缺陷来源识别器数据库214中创建具有安全等级的用户帐户。缺陷来源识别器100可以具有一个在缺陷来源识别器服务器106上创建并且位于其中的用户交叉索引文件，该文件在晶片缺陷检查装置204和扫描电子显微镜装置206之间将用户类别交叉索引到缺陷知识库数据库类别上。

缺陷来源识别器100的授权用户可以查看一个屏幕上共同显示的晶片标识数据，缺陷数据；研究案例和加工工具；查看晶片缺陷检查装置204和扫描电子显微镜装置206产生的涉及一个规定缺陷的图像；视图适用于具体一组由一个或多个加工过晶片组的加工工具103(图1示出)导致的缺陷类别的研究案例；查看案例历史记录的图像；显示案例历史记录的图像中对应于当前缺陷的图像；并且/或者搜寻前面的晶片以查看其缺陷和相关研究案例。

缺陷来源识别器100可以调用多个计算机功能，其中包含：内部初始化；关机；差错处理；向缺陷来源识别器数据库214上载已有的KLA结果文件；和向缺陷来源识别器数据库214上载用户类别转换文件。转换文件将工具配置的用户类别映射成缺陷知识库数据库类别并且将来自一个或两个制造执行数据库210的传送文件上载到缺陷来源识别器装置200以便存储到缺陷来源识别器数据库214中。缺陷来源识别器数据库214中存储的传送文件可以被缺陷来源识别器100的其它装置访问以便提供更快速的图像或信息访问。

缺陷来源识别器服务器106上安装一个允许其连接到晶片缺陷检查装置204和扫描电子显微镜装置206上的网络文件系统(NFS)可安装文件系统的产品。一种这样的产品是Intergraph公司的DISKACCESS。需要访问缺陷来源识别器100的各个扫描电子显微镜装置206和晶片缺陷检查装置204必须具有其可被缺陷来源识别器服务器106用作NFS可安装文件系统的KLA和图像文件输出目录。同样地，被客户端104或服务器106用于缺陷分析的文件不必物理驻留在服务器106内。

现在描述针对制造执行数据库210，缺陷知识库数据库系统186，晶片缺陷检查装置204和扫描电子显微镜装置206的接口。

缺陷来源识别器100从制造执行数据库210(例如CONSILIUMWORKSTREAM制造执行系统)收集数据以便访问一组已经被用来加工晶片组的加工工具。表格1包含了被用来识别和提取制造执行数据库210中的数据的信息。表格2显示出从制造执行数据库210输出的信息。在晶片加工系统102中加工的各个晶片由晶片标识，组标识和日期唯一标识。

表格1：制造执行数据库过程使用的各个计量工具的标识信息

名称	注解
		工具类型	晶片缺陷检查过程或扫描电子显微镜过程
工具ID	唯一计量工具标识
		日期	当前日期
组ID

表格2：制造执行数据库过程的输出信息

姓名	注解
		组ID
日期
		工具列表	在测试工具之前加工晶片的加工工具的排序列表。如果使用了多个加工工具，则从第一个到最后一个列出加工工具。如果是脱机模式，则返回所有加工工具以便进行处理。

在没有访问制造执行数据库210的情况下，晶片被传送通过一个固定路径。用于所有晶片的传送路径被存储在一个诸如EXCEL或ACCESS文件的电子数据表格或数据库文件中。按照缺陷来源识别器内部的处理顺序排列文件内传送路径中的加工工具列表。表格3描述了加工工具文件的格式：

表格3：加工工具文件格式

姓名	注解
		工具类型	加工工具类型
工具ID	加工工具标识符

图4示出了一个被用来图解涉及缺陷的数据，图像，和其它信息、具有表状格式并且被显示在互联网浏览器内的缺陷摘要屏幕402。缺陷来源识别器100使用缺陷知识库数据库系统186确定与缺陷摘要屏幕402的缺陷表格区段内显示的各个缺陷相关的原因列表。缺陷来源识别器数据库系统186还被用来确定缺陷表格406中各个类别的缺陷的原因列表。缺陷来源识别器可以显示缺陷摘要屏幕402的原因表格408中的原因列表。在用户通过屏幕402发出请求时，缺陷知识库数据库系统186检索缺陷来源识别器100向用户显示的研究案例细节。表格4显示了从缺陷知识库数据库系统186检索出来并且被用来提取该系统的数据的信息。

表格4：缺陷知识库数据库系统数据

姓名	注解
		案例状态
案例类型
		平台	可选.
缺陷分类
		工具ID	可选
能量耗散微量分析系统单元	可选

表格5的字段中包含的信息描述了可以从缺陷知识库数据库系统186检索出的示例性数据类型。

表格5：缺陷知识库数据库系统数据类型

姓名	格式	注解
			案例编号	长整型	唯一案例标识符
案例描述	字符串
			案例作者	字符串
案例建立日期	日期/时间
			平台	字符串	工具类型
容器室	字符串
			加工类型	字符串
过程	字符串
			设备状态	字符串
清洁类型	字符串
			气体	字符串
细节描述	字符串	案例细节
			细节作者	字符串
细节日期	日期/时间
			症状描述	字符串
症状作者	字符串
			症状日期	日期/时间
问题描述	字符串
			问题作者	字符串
问题日期	日期/时间
			根本原因描述	字符串
根本原因作者	字符串
			根本原因日期	日期/时间
解决方案描述	字符串
			解决方案作者	字符串
解决方案日期	日期/时间
			缺陷名称	字符串
形状	字符串
			缺陷机制	字符串
根本原因类别	字符串
			缺陷相邻区域	字符串
表面深度位置	字符串
			基本单元
跟踪单元
			尺寸	字符串
扫描电子显微镜图像
			能量耗散微量分析系统

根据各个用户的适当输入可以逐个工具地定制类别(包含扫描电子显微镜装置206和晶片缺陷检查装置204产生的KLA文件)。诸如EXCEL或ACCESS(Redmond，WA的微软公司的注册商标)的数据库文件的电子数据表格可用于包含在扫描电子显微镜装置206和晶片缺陷检查装置204上定义并且与缺陷知识库数据库系统186中使用的分类交叉索引的用户分类。这种交叉索引文件被载入缺陷来源识别器数据库214。表格6描述了交叉索引文件的格式：

表格6：交叉索引文件的格式

名称	注解
		工具类型	计量工具类型
工具ID	计量工具标识符
		工具类别	计量工具分类
缺陷知识库数据库系统类别	知识库数据库系统分类

缺陷来源识别器100在缺陷摘要屏幕的缺陷表格406中显示从晶片缺陷检查装置204和扫描电子显微镜装置206收集的数据。从晶片缺陷检查过程为所有缺陷分配一个运行时类别。可以进一步使用一个光学显微镜重新访问类别。可以进一步使用扫描电子显微镜过程206分析这些缺陷的一个子集并且为其指定一个扫描电子显微镜自动缺陷分类类别。因而根据被用来检查缺陷的计量工具可以为一个单独缺陷分配不同的缺陷分类。

在检查结束时，每个被用来检查缺陷的计量工具均产生一个单独的KLA结果文件和各个缺陷的图像文件。对于扫描电子显微镜装置206，为每个晶片产生KLA结果文件。对于组缺陷检查装置204，为每个组产生KLA结果文件。如果重新访问一个晶片，则只产生一个示出运行时和重新访问分类的合并信息的晶片缺陷检查过程KLA文件。

晶片缺陷检查过程204和扫描电子显微镜过程206将其KLA结果文件和图像文件输出到一个位于装置204和/或206本地，即位于工具计算机或客户端计算机内的目录。这些输出目录可被缺陷来源识别器100用作上述网络文件系统可安装文件系统。

KLA文件通常包含许多记录。缺陷来源识别器的KLA文件使用的记录的一个实施例可以如下所示：

检查工作站ID<工具制造商><工具型号><工具ID>；

结果时间标签<日期><时间>；

组标识<组ID>，(16字符)

晶片标识<晶片ID>；(16字符)

样本测试计划<测试模片的数量>(头记录)

晶片布局数据

Tiff文件名<文件名>

晶片来源<x><y>(晶片的左下角坐标(0，0)

分类查找<类别分量>

分类列表

缺陷记录规格(头记录)

缺陷数据

文件结束

现在描述与KLA文件相关的记录的不同实施例。样本测试计划记录是一个指示表格7中所示的测试晶片中各个模片的晶片布局坐标的起始的头记录。

表格7：样本计划的晶片布局坐标

名称	格式
		X位置	整数
Y位置	整数

提供一个分类查找头记录以指示类别映射数据的起始。表格8中示出了分类查找头记录后面的记录，这些记录包含分类编号和对应于数字的分类名称。

表格8：分类查找头记录后面的记录

名称	格式
		分类编号	整数
分类名称	字符

缺陷记录规格头记录指示缺陷数据的起始。表格9中指示的缺陷记录规格之后的记录包含所有晶片缺陷数据。

表格9：缺陷记录规格头记录中的记录

名称	文件格式	注解
			字段数量	32位整型	缺陷列表记录中的字段数量-随检查人的不同而改变
缺陷ID	32位整型
			XREL	浮点数
YREL	浮点数
			XINDEX	32位整型
YINDEX	32位整型
			XSIZE	浮点数
YSIZE	浮点数
			缺陷区域	浮点数
类别编号	32位整型	被用来访问缺陷知识库数据库系统中的研究案例
			图像数量	32位整型	这个缺陷的图像的数量没有限制
图像列表	32位整型	与缺陷相关的图像数据的变长列表
			簇号
检查样本		指示一个预定计划中的组成以便检查
			缺陷库编号		指示一个基于简单缺陷特征的缺陷库中的组成
精细库		指示一个基于自动缺陷检查的缺陷库中的组成

用户可以选择案例图像列442以便打开一个新浏览器，该浏览器显示对应于涉及一个选定研究案例的图像的案例图像屏幕500。图5中示出的案例图像屏幕500的实施例使得缺陷来源识别器100可以检索扫描电子显微镜装置206，晶片缺陷检查装置204(例如一个光学成像器)和其它这种计量工具180当前产生或以前存储的图像。图像502，504，和506描述了三个不同计量工具对一个具体缺陷的不同观察。

用户可以选择将图5的案例图像屏幕500中显示的图像502，504或506与从缺陷知识库数据库190检索的一个晶片缺陷案例历史记录的图像相比较。为了利于比较，用户选择如图6所示的图像比较屏幕600。用户接着选择在图像比较屏幕600中显示与一个可疑缺陷原因相关的具体案例历史记录图像604和屏幕500中的选定图像602。在同时提交的美国专利申请09/905,607号中详细描述了DKL系统186在识别缺陷，其原因和解决方案方面的用途。

图形用户接口综述

图7到14图解了一组提供与缺陷知识库数据库系统186之间的交互的图形用户接口(GUI)。图15是与DKL系统186交互的方法1500的一个实施例的流程图。与缺陷知识库数据库系统186交互的GUI包含一系列接口屏幕，例如：一个浏览缺陷屏幕700，900(图7和9中示出的实施例)；一个搜寻屏幕800(图8中示出的实施例)；一个编辑屏幕1000(图10中示出的实施例)；一个创建屏幕1100(图11中示出的实施例)；一个图像库屏幕1200(图12中示出的实施例)；和一个配置屏幕1300(图13和14中示出的实施例)。图7到14中示出的GUI屏幕为用户提供了向缺陷知识库数据库系统186输入涉及晶片缺陷的分析和其它相关信息并且使信息被存储在DKL数据库190中的交互方法。

可以认为各个GUI屏幕表示不同的″状态″以便允许将不同信息和不同显示信息输入到DKL数据库190。尽管在这个公开内容中术语″屏幕″在许多情况下被用于描述不同的GUI，但术语″屏幕″，″GUI″或″显示″可以互换使用。

可以通过选择某些文件夹选项卡702，704，706，708，710和712显示图7到14中示出的不同GUI屏幕的实施例并且与之交互。文件夹选项卡包含一个浏览文件夹选项卡702，一个搜寻文件夹选项卡704，一个编辑文件夹选项卡706，一个创建文件夹选项卡708，一个图像库文件夹选项卡710，和一个配置文件夹选项卡712。缺陷知识库数据库系统186允许完成通过选择的不同选项卡或按钮选定的案例编辑/产生，搜寻，分析，安全，查看图像，管理，数据接口，编辑日志报告，输入/输出案例，和其它屏幕功能。

如果用户在缺陷知识库数据库系统186的如图7到14所示的任何GUI屏幕中选择浏览文件夹选项卡702，则会显示图7和9中示出的浏览缺陷屏幕700或900。浏览缺陷屏幕700和900允许用户查看现有历史缺陷案例。在登录时缺陷来源识别器100的缺陷知识库数据库系统186显示浏览缺陷屏幕700。

浏览缺陷屏幕700，900具有多个子选项卡。子选项卡的一个实施例包含一个案例列表子选项卡720，一个摘要子选项卡722，一个一般子选项卡724，一个工具子选项卡726，一个晶片子选项卡728，一个缺陷子选项卡730，一个附件子选项卡732，和一个报告子选项卡734。缺陷知识库数据库系统中包含的不同文件夹选项卡和子选项卡列表只是示例性的。选择案例列表子选项卡720以便提供一组排列在可以通过选择案例列表子选项卡720来支持的表格729中的案例。一个案例列表表格729上提供的列包含案例ID 740，案例名称列742，案例问题列744，日期创建列746和作者列748。各个列中包含的信息可以从列标题得到解释。

如果选择摘要子选项卡722，则显示图9中的摘要屏幕900。摘要屏幕900提供关于历史记录中各个晶片的缺陷和共同状态的一般综述。摘要屏幕900被分成多个字段，其中包含一个背景字段940，案例细节字段942，和一个缺陷详细字段944。背景字段可以包含诸如平台，容器室，装置名称，加工步骤，清洁类型，和容器室内气体的字段。案例细节字段942可以包含诸如问题，根本原因，纠正措施，建议，和案例作者的字段。缺陷细节字段944可以包含空间特征分析，晶片映射和帕雷图(pareto)字段。帕雷图被用来根据空间特征分析(如果SSA可用)，在KLA结果文件(KLARF)可用时的运行时类别，或计量工具180分类(例如晶片缺陷检查装置204或扫描电子显微镜装置206)打开菜单。缺陷细节字段中的其它字段可以包含光学分类和图像缩略图，扫描电子显微镜装置分类和图像缩略图，聚集离子束分类和图像缩略图，发送电子显微镜分类和图像缩略图，等等。

选择浏览缺陷屏幕700中的一般子选项卡724会显示一个未示出的一般屏幕。一般屏幕包含各种字段，其中包含案例名称，案例日期，案例安全，问题，根本原因，纠正措施，建议，作者，分析，创建日期，公司，地点，等等。

选择浏览缺陷屏幕700上的工具子选项卡728会显示未示出的工具屏幕。工具屏幕显示与容器室和装置与晶片信息相关的字段。工具屏幕中的字段包含平台，主机，工具ID，技术，容器室类型，装置类型，装置描述，加工步骤，气体，和清洁信息。

选择浏览缺陷屏幕700上的晶片子选项卡726会显示未示出的晶片屏幕。在晶片屏幕上提供所有与晶片信息相关的字段。通常在晶片屏幕上提供的字段包含晶片类型，晶片跟踪编号(晶片ID)，组ID，晶片尺寸，薄膜类型，薄膜厚度，多数缺陷的位置，加工容器室，和晶片映射。

选择浏览缺陷屏幕700上的缺陷子选项卡730会显示一个缺陷字段，该缺陷字段包含所有与缺陷分类单元相关的字段(晶片缺陷检查过程的分析，扫描电子显微镜过程的分析，晶片映射，和能量耗散微量分析系统)。浏览缺陷屏幕700上的字段包含空间特征分析类别，缺陷位置，运行时分类分布，光学分类图像，扫描电子显微镜手动分类，聚集离子束，发送电子显微镜，等等。

图10中示出的编辑屏幕1000显示了具有可编辑字段中所有参数的当前历史案例。通过输入新数据或使用针对具有有限数值的字段的选项按钮和下拉列表来编辑各个字段。编辑屏幕1000将案例数据组织到若干个可以通过子选项卡访问的子屏幕中。这些子选项卡包含一个案例列表子选项卡1002，一个一般子选项卡1004，一个工具子选项卡1006，一个晶片子选项卡1008，一个缺陷子选项卡1010，和一个附件子选项卡1012。当编辑一个案例时，需要用户在切换选项卡之前保存改变。可以按照任意顺序访问选项卡。使用针对选定案例设置的数值预先填充编辑屏幕1000以便准备编辑。因而，浏览缺陷屏幕上显示的案例信息类似于编辑屏幕1000上以可编辑格式显示的信息。

案例列表子选项卡1002产生一个案例列表子字段，案例列表子字段的一个实施例包含表格10中示出的输入字段。

表格10：案例选项卡上的输入：

名称	描述	字段类型
			案例ID	唯一定义一个案例的案例标识符。	自由文本(纯数字)
案例名称	案例的描述性名称。	自由文本(接受通配符)
			案例状态	根据案例状态(新，批准等等)搜寻案例。	下拉式
创建案例的日期与时间	根据创建案例的日期与时间进行搜寻。规定起始和结束范围。	自由文本(允许范围)
			作者	根据案例作者/创建者进行搜寻。当前用户是列表中的第一个。	下拉式
管理人	根据案例作者的管理人进行搜寻。安全工作组标识管理人	下拉式
			公司	搜寻在指定公司创建的案例	下拉式
关键字	搜寻具有指定关键字关联的案例。从一个列表中可以选择多达10个关键字	对话框，下拉式列表等等。

工具子选项卡1006产生一个工具子字段，工具子字段的一个实施例包含表格11中示出的输入字段。

表格11：工具选项卡上的输入：

名称	描述
		平台	加工工具的平台(CENTURA，ENDURA等等)。
平台类型	加工工具的工具类型(蚀刻，CVD等等)。
		工具ID	工具序号
容器室类型	加工工具的容器室类型(MxP+，DPS等等)。
		加工类型	容器室使用的加工类型
加工技术	从一个预定列表中选择加工技术。可以加入新项目。
		加工步骤	指示加工步骤的自由文本
加工描述	指示加工的特殊特征的自由文本
		反应气体	可以从一个预定列表中选择若干种气体。可以加入新气体。
惰性气体	可以从一个预定列表中选择若干种气体。可以加入新气体。
		清洁气体	可以从一个预定列表中选择若干种气体。可以加入新气体。
清洁信息	指示使用的清洁方法的自由文本。

缺陷子选项卡1010产生一个缺陷子字段，缺陷子字段的一个实施例包含表格12中示出的输入字段。

表格12：缺陷选项卡上的输入

名称	描述
		描述	缺陷描述
尺寸	缺陷尺寸
		位置	晶片上预定区域的缺陷位置
步骤	加工中使用的层次。选择影响分类列表中的可用选项
		空间特征分析分类	缺陷的空间特征分析分类
运行时分类	缺陷的运行时分类
		扫描电子显微镜自动缺陷分类	缺陷的扫描电子显微镜自动分类
扫描电子显微镜手动分类	缺陷的扫描电子显微镜手动分类
		光学晶片缺陷检查装置分类	缺陷的光学晶片缺陷检查系统分类
聚集离子束分类	缺陷的聚集离子束分类
		发送电子显微镜分类	缺陷的发送电子显微镜分类
能量耗散微量分析系统	缺陷中找到的能量耗散微量分析单元。由类型(主要，内部，等等)指定。
		图像	缺陷的图像。根据下列类型中的一个加入图像：空间特征分析，运行时，扫描电子显微镜过程，光学晶片缺陷检查过程，聚集离子束，发送电子显微镜，或能量耗散微量分析系统。
分析工具类型	分析过缺陷的检查工具的类型
		分析工具ID	分析过缺陷的检查工具的工具标识符

一般子选项卡1004产生一个一般子字段，一般子字段的一个实施例包含表格13中示出的输入字段。

表格13：一般选项卡上的输入

名称	描述
		案例名称	案例的描述性名称。
案例状态	案例的状态(已分析，已批准等等)。
		案例安全性	这些设置决定哪些用户可以查看和编辑案例
分析人员	案例的分析人员
		问题	问题描述
根本原因	问题的根本原因
		纠正措施	修复问题的纠正措施
建议	案例建议
		关键字	与案例相关的关键字。可以加入任意数字并且可以定义新关键字

缺陷子选项卡1008产生一个缺陷子字段，缺陷子字段的一个实施例包含表格14中示出的输入字段。

表格14：晶片选项卡上的输入：

名称	描述
		组ID	组名称或序号
晶片ID	晶片名称，序号，或插槽编号
		晶片类型	晶片的类型
缺陷位置	晶片上大多数缺陷的位置
		产品	通过晶片生产的产品
步骤	晶片步骤或层次
		晶片尺寸	晶片的尺寸
薄膜类型	薄膜的类型
		薄膜厚度	薄膜厚度
晶片映射	所附的晶片映射图像
		帕雷图	所附的帕雷图图像

附件子选项卡1012产生一个附件子字段，附件子字段的一个实施例包含表格15中示出的输入字段。

表格15：附件选项卡上的输入子字段

名称	描述
		类型	附件的文件类型。包括图像，KLARF，URL，或其它文件。
标题	附件的标题或描述。
		位置	文件附着的位置。

案例状态的有效选项包含一个分析选项，一个已分析选项，一个复制选项，一个已批准选项，一个暂停选项，和一个丢弃选项。需要用户选择一个加工工具类型和平台以便向案例加入一个加工工具。接口支持向一个案例加入多个加工工具。下拉式列表可以被用来轮询案例中所有的加工工具。删除按钮1106从案例中清除加工工具。清除一个加工工具还会从案例中清除任何与加工工具相关的容器室。′加入新项目′按钮加入加工工具。为加入一个容器室到案例中，用户必须首先选择一个加工工具。′加入新项目′按钮被用来向加工工具加入容器室。

为向加工工具加入一个容器室，用户必须选择和提供下列字段：容器室位置字段，容器室类型字段，和过程类型字段。对容器室类型的选择影响过程类型字段中的可用选项。多个容器室可以被加到一个加工工具中，因而可以被加到一个案例。下拉式列表可以被用来轮询一个加工工具的容器室。用户可以向一个案例加入多个晶片。下拉式列表可以被用来轮询一个案例中所有的晶片。为了向一个案例加入晶片，用户需要输入晶片类型。

删除按钮会从案例中清除当前的晶片。当选择删除晶片按钮时还会从案例中删除任何与晶片相关的晶片映射和部分。删除一个晶片不会删除任何可能与该晶片相关的缺陷。然而缺陷和晶片之间的关联会丢失。用户可以向一个案例加入多个缺陷。一个下拉式缺陷列表被用来轮询一个案例中所有的缺陷。当选择删除缺陷按钮时，删除按钮会从案例中清除选定的缺陷。选择删除缺陷按钮会删除任何与缺陷相关的缺陷或名称。选择步骤选项会影响可用的分类选项。每个分类类型只可以被指定一个分类。改变缺陷的步骤会清除任何已作出的分类类型选择。缺陷的分类自身暗示了附加缺陷图像的分类。如果没有选择分类，则假定附加图像属于′未知′分类。对于扫描电子显微镜过程图像，分类会使用扫描电子显微镜自动缺陷分类和扫描电子显微镜手动模式。使用加入按钮可以针对每个分类类型加入多个图像。清除按钮会从缺陷中清除一个图像。预览按钮可用于查看选定的图像。

多个计量工具180可以被用于检查晶片缺陷。需要用户在加入计量工具之前选定计量工具类型。输入计量工具标识符是可选的操作。附件类型，标题和位置字段均需要在加入一个文件附件之前输入。一个所有当前附件的列表被显示在屏幕上。不能编辑当前附件，但可以使用清除按钮清除它们。在选择保存按钮或用户切换选项卡之前新附件不会被传送到缺陷来源识别器服务器106。

某些字段包含一个″加入新项目″选项以作为下拉式菜单中的第一个项目。这些字段是平台，加工工具类型，容器室类型，过程类型，过程技术，关键字，晶片类型，气体。  选择″加入新项目″选项会打开弹出式窗口。用户使用弹出式窗口可以向列表加入一个新选项。新选项会出现在所有后续案例编辑和搜寻屏幕800选项中。

下列按钮出现在图10所示的一个实施例，编辑屏幕1000的底部上。一个保存按钮1030，一个另存按钮1032，和一个复位选项卡按钮1034。另存按钮1032打开一个提示用户输入新案例名称的弹出式对话框。案例标识，用户名称和日期数值会被自动输入。保存按钮1030保存任何对当前案例进行的修改，但是用户保持在编辑模式并且所编辑的案例与当前案例相同。复位选项卡按钮1034将选项卡恢复到进行任何编辑之前的状态。

选择创建选项卡708打开一个创建屏幕1100，即图11中示出的一个允许用户根据划痕创建一个新案例，根据一个案例模板创建一个新案例，根据划痕创建一个新模板，或根据一个现有案例模板创建一个新模板的一个实施例。除了与模板子选项卡关联的子选项卡之外，创建屏幕1100在操作方面与编辑屏幕1000类似。在模板子选项卡中，在用户希望根据划痕创建一个案例的情况下为用户提供一个关于所有现有模板或″没有任何模板″(缺省)的列表。创建选项卡还显示出所有案例模板的特征。

通过使用案例模板开始操作或根据划痕开始操作，用户可以创建一个新案例。为了根据一个现有模板创建案例，用户从模板选项卡1102中出现的一个模板列表1106中选择模板名称1104，从而将所有字段设置成该模板中存储的数值。模板中设置的数据的范围可以从一个完全空白的案例到一个完全填满数据的案例。用户接着可以改变任何预先填充的字段以满足其需要，并且接着选择一个保存案例按钮以便把数据保存到缺陷知识库数据库190。

为了根据划痕创建案例，用户可以从模板选项卡中选择一个空白模板。当选择创建选项卡708时缺省加载空白模板。用户可以改变任何字段以满足其需要。当输入期望的输入数据时，以类似于编辑屏幕1000的格式显示创建屏幕1100。用户可以选择另存按钮1032以便向数据库保存新数据。案例作者可以向缺陷知识库案例附加现有文件以作为案例的一部分。文件总是来源于本地系统目录，并且可以是KLARF的数据，其它缺陷映射数据，文本文件或任何其他格式的数据。缺陷知识库数据库系统处理KLARF和TIFF格式文件，并且支持对JPEG格式图像的查看。查看文件适用于所有其它的文件格式。如果一个案例只有图像的硬拷贝，则用户扫描图像以创建一个电子版本。可以利用第三方系统实现扫描，并且可以在缺陷知识库数据库系统外部进行扫描。所得到的图像文件可以被附加到案例上，然后被查看(按照所支持的格式)。缺陷知识库数据库系统186的一个实施例支持表格16所示的附加文件类型和处理。

表格16：DKL支持的文件类型和处理

源文件类型	DKL所需的进一步处理	DKL中的结果
			KLARF	是	查看晶片映射
KLARF	是	查看帕雷图图表
			TIFF	是	以JPEG格式保存的附加文件
JPEG	否	查看图像(浏览器)
			其它	否	以源格式保存的附加文件

案例模板减少了关于工具配置，参数等等的已知数据条目的重复。授权用户可以在任何时候创建案例模板。保存的模板具有与案例相同的特权/安全性(读/写/拷贝安全性)。可以从两个不同的屏幕访问创建模板功能。为了根据划痕创建模板，用户从模板列表1106中选择″没有模板″选项。为了根据一个现有模板创建模板，用户从模板列表1106中选择模板名称，从而将所有字段设置成该模板中存储的数值。模板中设置的数据的范围可以从一个完全空白的案例到一个完全填满数据的案例。一旦用户根据需要改变字段，用户可以选择另存模板按钮。用户接着输入模板名称，选择OK按钮，并且模板被加到案例模板列表中。

在应用程序中可以从任何地方访问模板部分。除了要求具有适当安全特权之外，创建新案例不需要任何先决条件。缺陷知识库数据库系统186不包含任何预先加载的案例模板，除了缺省空白模板之外。一旦用户尝试保存一个关于新案例的新模板，则以不需要输入每个字段的方式验证所有字段。应当注意，当创建一个新案例时，需要某些字段并且在所有所需数据未被完全填充时不能保存案例。如果用户没有填写所有需要的字段，则会显示一个消息通知用户提供所需字段的数值。模板列表屏幕的底部有一个删除按钮1106。用户必须首先选择一个模板，然后选择删除按钮清除模板。

创建屏幕1100中的子选项卡包含：保存，另存，复位，选项卡和另存成模板(这些子选项卡未在图11中示出，但可以在文件菜单1108中访问)。′另存′按钮会打开一个提示用户输入新案例名称，案例标识，用户名称的弹出式对话框，并且会自动输入日期。保存子选项卡会保存任何对当前案例进行的修改，但是用户保持在编辑模式并且所编辑的案例与当前案例相同。复位子选项卡会将案例恢复到在进行任何编辑之前的状态。另存模板按钮会将当前案例保存成一个模板以备将来之用。另存模板将用户带到模板列表屏幕。用户接着在一个弹出式窗口中输入模板名称。

在图7到14中示出的任何屏幕上选择图像库按钮710会导致显示一个图像库屏幕1200，即图12中示出的一个图解实施例。图像库屏幕1200允许用户通过各种例如扫描电子显微镜过程206，晶片缺陷检查过程204，能量耗散X射线微量分析(EDX)系统等等的计量工具180查看图像。图像库屏幕1200中显示的示例性信息列包含一个案例ID列1204，一个案例名称列1206，一个扫描电子显微镜装置图像列1208，一个光学图像列1210，和一个EDX图像列1212。对于各个列1208，1210和1212通常每个案例提供一个图像(如果针对每个图像类型提供一个图像)。

缺陷知识库数据库系统186包含支持两个不同缺陷知识库数据库系统之间的案例传送。为了传送案例，用户必须向磁盘(或其它存储器设备)输出案例以便把案例输入到任何其它缺陷知识库数据库系统。案例传送功能可用于向不同客户端传送案例信息以便在本地使用。传送功能操作使用相同数据模型的数据库。输出功能提供案例的单向，半自动传送。以在文本编辑器中不可读的格式输出案例并且完全为缺陷知识库数据库系统之间的案例传送而输出。在一个最优实施例中，与案例相关的关键字和案例一起被输出。表格17中示出了与输出案例相关的字段的一个实施例。

表格17：与案例输出相关的字段

参数名称	描述
		案例ID	将被输出的案例的ID
目标	磁盘上输出案例文件的路径
		隐藏来源	用户可以指定隐藏案例作者，工作组和公司的身份
类别映射	一个指示是否输出类别映射图像的选项

在一个实施例中，只可以输出具有全局允许等级的案例。如果案例不具有适当的允许等级，则不会进行输出。在一个实施例中，组ID，晶片ID和工具序列号不与案例一起输出。如果选择了隐藏来源选项，则案例的身份不会与案例信息一起输出。这包含创建案例的作者，工作组，地点和公司。这个选项决定在用户输入案例时是否会预先填充案例来源字段。

类别映射选项决定是否和案例一起输出分类图像。输入系统借助分类图像在分类格式之间进行映射。输出功能在指定目录中创建一个包含案例信息的文件。具有适当权限的用户可以输入其它缺陷知识库数据库系统中的案例。输入功能处理案例输出产生的文件。为输入案例用户必须指定案例文件的位置。选择一个有效案例文件会导致显示某些关于案例的关键信息，例如案例名称。在输出操作人不选择隐藏的情况下还显示案例来源(即作者，公司等等)。如果没有案例来源，则用户会能够指定这个信息。表格18中示出了与输入案例相关的字段的一个实施例。

表格18：与案例输入相关的字段

参数名称	描述
		来源	指定要输入的案例文件的位置。
案例安全	指定输入的案例的案例权限等级。
		案例来源	指定案例的来源。这包含作者，工作组，地点和公司
类别映射	用户必须指出分类之间的映射。

为了进行输入，会需要用户指出案例文件中使用的分类和本地缺陷知识库数据库系统的分类之间的映射。如果输出操作人选择输出则会显示案例文件中的类别的分类图像。当目标缺陷知识库数据库系统输入一个案例时，会产生一个新案例标识。目标缺陷知识库数据库系统通过其数据输入装置处理传送的案例。数据输入接口为用户提供足够的功能以检查安全性，检查案例的语法以确定其是否匹配目标数据库结构并且用新案例更新目标数据库。在数据输入部分中可以找到数据输入规格。

选择图7到14示出的缺陷知识库数据库系统186的任何屏幕中的配置选项卡712导致显示用户配置屏幕1300，即图13和14中示出的一个实施例的不同部分。用户配置屏幕1300被用来允许创建能够使用缺陷来源识别器100的新公司，地点，工作组和用户。如图13中实施例所示，配置屏幕1300中的字段包含一个公司字段1302，一个地点字段1304，一个工作组字段1306，和一个用户字段1308。

在一个实施例中，各个公司包括一或多个地点。一个地点可以具有一或多个用户组。最终，一个用户组包括一或多个用户。各个用户必须是一个用户组或安全组的成员。安全组确定用户的访问权限。用户可以属于到多个用户组。各个用户会具有一个确切的主要用户组和任意数量的次要用户组。安全组没有配置。安全组是预先配置的。

如果一个具有适当授权的用户希望加入一个新公司，该用户在公司部分内选择一个加入新项目子按钮1310。表格19中示出了与加入公司屏幕相关的字段的一个实施例。加入新项目子按钮清除用户配置屏幕1300中的所有字段。接着用户可以向各个字段加入新信息。一旦填写完新信息，用户选择保存按钮并且系统向数据库加入新公司。类似地，可以创建新公司地点。然而用户必须首先从下拉式列表中选择一个公司。

表格19：加入公司的示例性输入

名称	类型	描述
			公司名称	输入框	要加入的公司的名称
公司地点	输入框	地点名称
			公司地址	输入框	地点的地址

为了在工作组字段1306加入一个新分组，用户必须首先选择公司和地点字段1304并且向其提供输入。表格20中示出了与加入工作组屏幕相关的字段的一个实施例。选择公司地点导致公司列表被取代为工作组列表框。接着用户在工作组部分中选择一个加入新项目按钮1310以便加入一个新工作组1306。加入新项目按钮清除所有字段。接着用户可以向各个字段加入新信息。一旦填写完新信息，用户选择保存按钮并且系统向数据库加入新工作组。

表格20：加入工作组的示例性输入

名称	类型	描述
			公司名称	输入框	公司列表框中的公司名称
公司地点	输入框	公司地点
			工作组名称	输入框	要加入的新工作组的名称
工作组描述	输入框	要加入的工作组的描述

为加入一个新用户，必须选择公司，地点和工作组。接着用户选择用户部分中的加入新项目按钮加入一个新用户。表格21中示出了与加入用户屏幕相关的字段的一个实施例。

加入新项目按钮清除所有字段。接着用户可以根据需要向各个字段加入新信息。一旦填写完新信息，用户选择保存按钮并且系统向数据库加入新用户。

表格21：加入用户的示例性输入

名称	类型	描述
			公司名称	输入框	公司列表框中的公司名称
地点名称	输入框	公司的地点名称。
			主要用户组名称	输入框	用户组列表框中要加入用户的工作组名称。各个用户具有一个明确的主用户组。
次要用户组名称	输入框	加入用户的次要用户组的工作组名称。用户可以属于若干个次要用户组。
			用户名称	输入框	新用户的名称。
电子邮件地址	输入框	用户电子邮件地址

为了编辑相应字段中的用户，工作组，地点或公司数据，用户选择要编辑的项目并且在列表框右边的表格中显示信息。用户接着编辑信息并且选择保存按钮保存对缺陷知识库数据库系统186的修改。为了删除用户，工作组，地点或公司，用户可以选择要删除的项目并且选择清除按钮。弹出一个删除确认窗口，如果用户选择OK，则从缺陷知识库数据库系统186中删除项目。只有那些具有编辑配置信息的授权(例如根据口令，用户位置，等等得到的机构)的用户可以执行这些功能。

对于某些字段，缺陷知识库数据库系统186的各个实例具有一个预定的层次分类设置。缺陷知识库数据库系统186内部的表格拥有有效类别的列表。用户只能从一个有效选项列表中选择类别。缺陷知识库数据库系统被用来为所有分类提供一个″未知″选项。授权用户(具有类别编辑特权)使用一个类别表格创建和修改缺陷知识库数据库系统中的有效类别选项。作者身份和创建日期作为分类定义的一部分被包含其中。系统允许只针对下列分类创建新类别。所有其它分类包含固定类别。系统管理人员在系统设置和维护期间确定固定类别列表。

为了编辑一个类别，用户必须首先从列表中选择分类类型。用户接着选择希望编辑的类别并且选择编辑类别按钮。系统允许授权用户针对不具有固定类别的分类创建新类别。在可编辑表格中出现一个含有该类别所需的字段的表格。授权用户编辑表格中的所需字段，并且随机记着系统还需要附加一或多个相关缺陷图像。缺陷知识库数据库系统允许从编辑类别表格查看图像。在表格填写完毕之后，用户选择OK按钮完成修改并且系统更新该分类的有效类别选项。

如果一个授权用户希望创建一个新类别，该授权用户必须通过在主分类屏幕上选择加入新类别按钮来启动创建类别表格。这个表格含有在用户可以加入新类别之前必须输入的字段。授权用户输入表格中的所需字段，并且随机记着系统还需要附加一或多个相关缺陷图像。一旦表格填写完毕，用户选择OK按钮执行加入并且系统向适当分类类别列表加入有效类别。

为了删除一个类别，用户必须首先从包括三个分类的列表中选择分类类型。用户接着选择希望删除的类别并且选择删除类别按钮。出现一个请求用户确认其希望删除这个类别的对话框。如果用户从对话框中选择OK按钮，则系统从该分类的有效类别列表中清除该类别。

如果用户删除一个类别，则缺陷知识库数据库系统中的现有案例不受影响。当编辑案例时删除操作更新有效选项列表。为了在删除一个类别之后更新缺陷知识库数据库系统中的现有案例，用户首先在缺陷知识库数据库系统中搜寻使用删除的类别的案例。接着用户使用选择类别的标准过程编辑这些案例。

某些分类(如上所示)可以包含新有效类别选项。这些分类具有一个类别选项″请求新类别″。未被授权直接创建类别的用户在希望创建一个类别选项的情况下可以选择请求新类别。系统向这些用户显示一个请求新类别表格。在用户填写完毕表格中的所需字段之后，系统自动向用户的管理人员发送一个电子邮件消息。

电子邮件消息是一个具有预定格式、请求管理人员创建一个新类别的消息。系统向缺陷知识库数据库系统中用户简表内配置的一个地址发送电子邮件消息。消息含有来自请求新类别表格的所有信息。在用户填写完毕请求新类别表格之后，系统将类别类型缺省设置成″未知″。用户可以通过普通编辑过程人工替换这个选项。

电子邮件系统向用户显示所有涉及电子邮件发送问题的差错消息。通过登录缺陷知识库数据库系统，打开案例并且使用前面针对有类别创建授权的用户概述的过程直接创建新类别，管理人员对请求作出响应。管理人员也可以决定使用普通编辑过程分配一个现有类别。缺陷知识库数据库系统可以使用一个例如微软公司EXCHANGE的电子邮件消息系统。

各个现有有效类别与一或多个图像相关。在为一个缺陷分配类别的同时，用户可以查看与有效类别选项相关的样本图像。系统显示前面的相关图像并且还有其它图像的情况下允许查看这些图像。用户查看这些图像以评估是否与其案例的缺陷匹配。用户接着从有效列表中选择一个类别选项。具有类别创建特权的用户可以使用具有表格22中示出的输入字段的编辑类别表格为指定类别分配类别相关图像。缺陷知识库数据库系统186在数据库中提供一个关于编辑会话日志的视图。日志记录被变更的各个案例的案例标识，字段名称，操作，用户标识，日期与时间。用户输入一个案例标识以产生报告。报告被显示在一个新窗口中。

表格22：编辑类别表格的输入

名称	描述
		分类类型	晶片缺陷检查装置，空间特征分析，或扫描电子显微镜过程，聚集离子束，发送电子显微镜
类别名称	新类别的名称。
		类别描述	新类别的描述。
相关图像	表示新类别特征的图像。
		图像标题	图像的标题。
图像描述	涉及新类别的图像的描述。

一个缺陷知识库数据输入设备被用来从任意来源向任意缺陷知识库数据库系统传送案例。缺陷知识库数据输入设备充当通信过程，因而为过程的用户提供一个使用过程的应用程序。通过使用与已发布的COM应用程序兼容的COM方法将数据传递到缺陷知识库数据库系统186，外部应用程序完成数据输入。外部应用程序包含某些诸如案例名称的信息，或者在有新案例的情况下提供一个新案例名称。如果外部应用程序不指定案例信息参数，则缺陷知识库数据库系统自动产生上述参数。

数据输入装置具有一个被用来匹配输入数据中的分类与目标缺陷知识库数据库系统186中的分类的类别映射函数。每当数据输入装置接收分类数据时，该装置便调用一个类别映射函数。这个函数将输入分类数据与本地系统中类别字段的有效选项进行匹配。不匹配的分类会要求用户在本地系统上分配或创建一个新分类。

图15，包括图15A和15B，描述了关于缺陷知识库数据库系统186的操作方法1500的一个实施例的流程图。方法1500在步骤1501开始并且前进到步骤1502，其中显示来自缺陷知识库数据库系统186的图像，数据，和/或其它信息的GUI最初进入浏览缺陷屏幕700，900，即图7和9中示出的实施例。方法1500继续执行到步骤1504，其中用户使用浏览缺陷屏幕700，900浏览缺陷知识库数据库系统。

允许用户访问其得到授权的缺陷知识库数据库系统站点。方法1500继续执行到判决步骤1506，其中用户选择图7-14中示出的任意屏幕中的搜寻选项卡704。如果判决步骤1506的结果为否，则方法1500继续执行到判决步骤1508。如果判决步骤1506的结果为是，则方法1500继续执行到步骤1510，其中用户在显示的搜寻屏幕800上输入搜寻参数。在步骤1512中，缺陷知识库数据库系统186返回所有满足步骤1510中提供的搜寻参数的匹配案例。方法继续执行到步骤1514，其中用户选择期望的匹配案例。在用户选择期望的匹配案例之后，在GUI上显示关于匹配案例的详细内容，其中GUI重新进入步骤1502中的浏览缺陷屏幕。

判决步骤1508对用户选择在图7到14中任意一个示出的编辑选项卡按钮1506的操作作出响应。如果判决步骤1508的结果为否，则方法1500继续执行到判决步骤1516。如果判决步骤1508的结果为是，则缺陷知识库数据库系统在步骤1518以GUI的形式向用户显示编辑屏幕1000。方法接着继续执行到步骤1520，其中用户编辑所显示的缺陷知识库数据库系统编辑屏幕1000。在步骤1520之后，方法继续执行到步骤1522，其中保存或不保存对编辑屏幕1000的编辑。用户通过选择保存按钮或另存按钮可以选择保存编辑。可选地，用户可以选择不保存编辑并且返回到浏览缺陷屏幕700，900，此时案例仍然保持用户进入编辑屏幕之前的状态。方法1500继续执行到步骤1524，其中缺陷知识库数据库系统186保存用户在步骤1522选择保存的编辑。在步骤1524之后，方法继续执行到步骤1502中的浏览缺陷屏幕700，900。

如果步骤1508的结果为否，则步骤1516接着指出用户是否希望选择图7到14中示出的任意屏幕中的创建选项卡708。如果判决步骤1516的结果为否，则方法1500继续执行到判决步骤1526。通过确定判决步骤1516的结果是否为是，方法1500继续执行到步骤1528，其中为缺陷知识库数据库系统186显示选定的创建屏幕1100。可以为用户提供各种创建屏幕1100，这些创建屏幕含有一定数量的已填写字段，或者根据需要所有适当字段均保持空白并且由用户提供输入。在步骤1528之后，方法1500继续执行到步骤1530，其中用户编辑缺陷知识库数据库系统创建屏幕1100。

在步骤1530，用户为创建屏幕1100内任何期望的字段提供输入，并且以类似于前面用户与步骤1520中编辑屏幕1000的交互的方式与创建屏幕1100交互。

在步骤1530之后，方法继续执行到步骤1532，其中保存或不保存对编辑屏幕1100的编辑。用户通过使用图10中示出的保存按钮1030或另存按钮1032可以根据需要保存编辑结果。如果用户希望删除一个屏幕，该用户可以选择图11中创建屏幕1100内示出的删除按钮1106。方法1500继续执行到步骤1534，其中缺陷知识库数据库系统保存步骤1532指定的编辑结果。方法1500在步骤1534之后继续执行到步骤1502中示出的浏览缺陷屏幕。

假定判决步骤1516的结果为否，则方法1500继续执行到判决步骤1526，该步骤确定用户是否选择图7到14中的实施例所示的图像库选项卡1610。如果判决步骤1526的结果为否，则方法1500继续执行到判决步骤1536。如果判决步骤1526的结果为是，方法1500继续执行到步骤1538，其中显示图12的实施例中示出的图像库屏幕1200。图像库屏幕1200显示一个案例名称以及通过扫描电子显微镜装置204，晶片缺陷检查装置206，能量耗散X射线微量分析系统和/或其它计量工具180生产的各种图像。方法1500继续执行到步骤1540，其中用户根据需要在图像库屏幕1200中上下移动以选择期望的案例，直到在图像库屏幕1200中看到期望的案例。方法1500接着继续执行到步骤1542，其中显示来自计量工具180的图像。在步骤1542之后，方法1500继续执行到步骤1502，其中缺陷知识库数据库系统186向用户显示浏览缺陷屏幕。

假定判决步骤1526的结果为否，则方法1500继续执行到步骤1536，其中确定用户是否选择图7到14中示出的配置选项卡712。如果判决步骤1536的结果为否，则方法1500继续执行到判决步骤1502。如果步骤1536中的结果为是，则通过步骤1544显示缺陷知识库数据库系统配置屏幕1300，其中在图13和14示出该配置屏幕的某些部分。

在步骤1544之后，方法继续执行到判决步骤1546，其中缺陷知识库数据库系统186确定用户是否具有在任何期望的配置屏幕1300中进行编辑或输入的适当授权。如果判决步骤1546的结果为否，则用户GUI返回到步骤1502中的浏览缺陷屏幕。如果判决步骤1546的结果为是，则方法1500继续执行到判决步骤1548，其中允许用户配置任何新公司，新工作组或其它信息，其中还允许用户配置新计量工具，新加工工具，新晶片，或类似配置信息。在步骤1548之后，方法继续执行到步骤1550，其中步骤1548内的用户配置输入被保存在存储器，例如缺陷知识库数据库系统186中。在步骤1550之后，方法1500继续执行到判决步骤1502。

还应当注意，在方法1500中，用户可以在任何时候通过选择图7到14的任何屏幕中的浏览选项卡702进入步骤1502。可以想见，根据用户选择的选项卡702，704，706，708，710或712，缺陷知识库数据库系统186会经常循环通过一个判决步骤和方法1600之后的步骤。

虽然前面的描述涉及本发明的优选实施例，但在不偏离本发明的基本范围和随后的权利要求书所限定的本发明范围的前提下可以设计本发明的其它和进一步的实施例。

Claims (26)

1.创建缺陷知识库的方法，包括：

创建一个数据库条目，该数据库条目包括一个指定缺陷的一个研究案例，该研究案例包含含有一或多个缺陷图像的缺陷信息；和

存储数据库条目以备以后访问。

2.如权利要求1所述的方法，其中上述数据库条目被存储在一个服务器中。

3.如权利要求2所述的方法，其中还包括：

从至少一个客户端向上述服务器提供上述研究案例的信息。

4.如权利要求1所述的方法，其中创建案例历史记录的步骤包括：

从至少一个计量工具中选择缺陷信息。

5.如权利要求4所述的方法，其中计量工具包括一个扫描电子显微镜。

6.如权利要求1所述的方法，其中创建研究案例的步骤包括：

提供指定缺陷的原因；和

在上述数据库条目内存储原因。

7.如权利要求6所述的方法，其中上述数据库条目被存储在一个服务器内，上述服务器被连接到至少一个客户端并且由至少一个客户端提供原因。

8.如权利要求6所述的方法，其中创建研究案例的步骤还包括：

针对指定缺陷的原因提供一个解决方案；和

在上述数据库条目内存储解决方案。

9.如权利要求8所述的方法，其中上述数据库条目被存储在一个服务器内，上述服务器被连接到至少一个客户端并且由至少一个客户端提供解决方案。

10.如权利要求1所述的方法，其中上述数据库条目包括上述指定缺陷的分类代码。

11.如权利要求1所述的方法，其中上述创建研究案例的步骤包括：

使用一个数据组织模板输入缺陷信息。

12.如权利要求1所述的方法，其中上述创建研究案例的步骤包括：

从一个图像库中选择上述一或多个缺陷图像。

13.创建被存储在一个服务器中并且可以从多个客户端访问的缺陷知识库的方法，包括：

在一个或多个上述客户端收集缺陷信息，上述缺陷信息中一或多个缺陷的原因和排除一或多个缺陷的解决方案；

将缺陷信息，原因和解决方案传送到服务器；

将缺陷信息，原因和解决方案组织到多个数据库条目中；和

允许一个第二客户端访问一个第一客户端创建的数据库条目。

14.如权利要求13所述的方法，其中上述允许步骤包括：

限制上述第二客户端对上述第一客户端的上述数据库条目内部的敏感信息的访问。

15.如权利要求13所述的方法，其中还包括：

使用一个客户端远程编辑服务器上存储的缺陷信息，原因和解决方案。

16.如权利要求15所述的方法，其中编辑步骤还包括：

建立安全授权等级以限制多个客户端的编辑特权。

17.如权利要求13所述的方法，其中缺陷信息包括至少一个缺陷图像。

18.如权利要求13所述的方法，其中还包括通过一个浏览器接口从多个客户端访问服务器。

19.如权利要求13所述的方法，其中多个客户端通过互联网，局域网或广域网被连接到服务器。

20.如权利要求13所述的方法，其中缺陷信息，原因和解决方案构成指定缺陷的多个研究案例。

21.如权利要求20所述的方法，其中客户端可以搜寻上述多个研究案例。

22.一个缺陷知识库，包括：

一个客户端层，上述客户端层被多个客户端支持并且提供对一个缺陷知识库数据库的远程访问；

一个中间层，上述中间层被一个服务器支持并且为被连接到客户端层的各个客户端提供数据库访问控制；和

一个数据层，上述数据层包括缺陷知识库数据库，并且多个客户端中的各个客户端可以通过中间层访问缺陷知识库数据库。

23.如权利要求22所述的缺陷知识库，其中上述缺陷知识库数据库包括数据记录并且数据记录含有缺陷信息，缺陷原因和缺陷解决方案。

24.如权利要求23所述的缺陷知识库，其中缺陷信息，原因和解决方案被组织成多个研究案例。

25.如权利要求22所述的缺陷知识库，其中缺陷知识库数据库被部分分布和存储在多个客户端中的各个客户端内，并且还被部分分布和存储在服务器内。

26.如权利要求23所述的缺陷知识库，其中上述数据记录包括缺陷的图像。

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