CN1238838C - 制造抛光头的方法 - Google Patents

制造抛光头的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1238838C
CN1238838C CN01822115.7A CN01822115A CN1238838C CN 1238838 C CN1238838 C CN 1238838C CN 01822115 A CN01822115 A CN 01822115A CN 1238838 C CN1238838 C CN 1238838C
Authority
CN
China
Prior art keywords
rubbing head
head
film coating
rubbing
liner
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN01822115.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1486487A (zh
Inventor
郑国强
申加兵
李宇
�田宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SAE Magnetics HK Ltd
Original Assignee
SAE Magnetics HK Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SAE Magnetics HK Ltd filed Critical SAE Magnetics HK Ltd
Publication of CN1486487A publication Critical patent/CN1486487A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1238838C publication Critical patent/CN1238838C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/046—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces using electric current
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/228—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding thin, brittle parts, e.g. semiconductors, wafers
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
    • G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
    • G11B23/505—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/455—Arrangements for functional testing of heads; Measuring arrangements for heads
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
    • G11B5/82—Disk carriers
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

一种制造抛光头的方法，所述方法包括：用光致反应薄膜涂层覆盖行条；使特定波长范围的光线透过掩模照射所述薄膜涂层；利用显影剂除去所述薄膜涂层的未曝光区，留下所述薄膜涂层的已曝光区作为所述行条的光阻表面；以及采用离子碾磨刻蚀所述行条，以便形成抛光表面。a)以硅和类金刚石碳涂敷所述抛光表面；b)借助于溅射技术涂敷所述涂层；c)所述抛光表面包括多个凸起的椭圆衬垫；以及所述步骤a)、b)和c)是在相对真空中执行的。

Description

制造抛光头的方法
技术领域
本发明涉及硬磁盘驱动器制造。更具体地说，本发明涉及用于在诸如电测试的操作过程中处理(例如抛光以便去除缺陷)诸如硬磁盘的媒体表面的系统。
背景技术
在不停的改善硬磁盘的特性、效率和可靠性的努力过程中，人们采用了多种方法去改良其质量控制。该技术领域中的一种方法包括在淀积薄膜层之后对硬盘进行清洗和磨光以便去除表面的碎屑和粗糙。为了支持日益增长的面密度要求，诸如浮动间隙、磁盘粗糙度和碳层厚度等参数不断在减小，要成功地制造符合这些参数的磁盘就需要改进磁盘的制备过程。
在本领域中，代替诸如头弹簧片组件(HGA)的硬盘驱动器悬架的磁头滑块的抛光头用来在动态电测试(DET)过程中在线地擦拭磁盘表面。通常通过金刚石磨削装置来产生这种抛光头，所述金刚石磨削装置提供这样的抛光表面：它会导致不希望有的头颗粒的扩散和破裂倾向。而且，所述典型的抛光头设计会导致突然的移出(abrupttakeoff)以及很大的动态俯仰角，不能象对最佳抛光所要求的那样，提供基本上平行于媒体(硬磁盘)表面的抛光表面。
当前几种不同的抛光头设计用于媒体制造过程中(例如美国专利US6267645，US6249945，US5782680)。有些抛光头具有抛光刃，所述抛光刃形成与抛光头表面全宽度等宽的抛光缘。另外一些头设计仅仅在抛光面上的某些点上具有抛光垫(burnishing pad)，但两个构件之间具有纵向沟道。
无效的抛光头可能导致低的滑动率，同时，过度滑动的抛光头可能导致划痕和损坏磁盘表面，这会导致整个磁盘损坏。大多数常用的抛光头为多边形设计，例如矩形和三角形，并具有磨轮切割格状图案。
图1为本领域中典型的抛光头，这种格状抛光头的制造是通过借助金刚石磨轮在抛光头基片上开槽和锥度研磨来完成的。不幸的是，采用这些加工方法(来实现所述设计)很可能在陶瓷中产生微裂痕，并且产生高颗粒含量产品。这种设计的尖角102(典型的)是容易破裂并嵌入磁盘中的应力集中区。还有，如前面所述，所述抛光头通常在前缘106和/或后缘108具有锥形104。
图2是关于形成本领域中使用的“格状抛光头”图案的磨削步骤的图解说明。首先，利用磨轮在抛光头材料的斜向202上磨出若干平行的槽。接着，再利用磨轮在另外的(垂直的)斜向上磨出若干槽204。然后，沿着垂直于材料长度的方向206上整个地切开材料，产生多个单独的(“格状”)抛光垫208。
这种抛光头用来在媒体制造过程中抛光粗糙的表面，但由于刻蚀性太强而不适用于在磁头的动态电测试过程中擦洗媒体的测试表面。因此需要一种以在线的方式、在没有前面叙述的问题的情况下处理(例如抛光以便去除缺陷)诸如硬盘的媒体表面的系统。
发明内容
因此，发明的一个目的是提供一种改变媒体表面状态的系统。
发明的另一个目的是提供一种改变媒体表面状态的方法。
发明的再一个目的是提供一种制造抛光头的方法。
根据发明的一个方面，用于改变媒体表面状态的系统包括具有多个椭圆衬垫的部件，其中，所述部件用来随着媒体和所述部件彼此相对运动、借助于所述椭圆衬垫和所述媒体表面之间的物理干扰而改变所述媒体表面的状态。
根据本发明的另一个方面，用于改变媒体表面状态的方法包括：在所述媒体和所述部件彼此相对运动的情况下在所述部件的多个椭圆衬垫和所述媒体表面之间设置物理干扰。
根据本发明的再一个方面，一种制造抛光头的方法，所述方法包括：用光致反应薄膜涂层覆盖行条；使特定波长范围的光线透过掩模照射所述薄膜涂层；利用显影剂除去所述薄膜涂层的未曝光区，留下所述薄膜涂层的已曝光区作为所述行条的光阻表面；以及采用离子碾磨刻蚀所述行条，以便形成抛光表面。a)以硅和类金刚石碳涂敷所述抛光表面；b)借助于溅射技术涂敷所述涂层；c)所述抛光表面包括多个凸起的椭圆衬垫；以及所述步骤a)、b)和c)是在相对真空中执行的。
附图说明
图1提供本领域中典型的抛光头。
图2提供用于形成本领域中使用的“格状头”图案的磨削步骤的图解说明。
图3提供根据本发明原理的抛光头的图解说明。
图4提供抛光头的横截面和根据本发明原理的椭圆形抛光垫的设计。
图5提供根据本发明原理的抛光头的底视图和侧视横截面。
图6提供根据本发明原理的抛光头的后缘横截面。
图7是空气支撑表面的抛物面轮廓的透视图，诸如用于术语说明目的的凸度、弯度和扭曲等。
图8为了说明的目的而示出各种抛光头相对于媒体表面的取向。
图9提供根据本发明原理的抛光头的等压线。
图10图解说明用于制造根据本发明原理的抛光头的离子碾磨和溅射的工艺过程。
图11示出根据本发明原理的顶部抛光头和底部抛光头的横截面，所述顶部抛光头和底部抛光头的相关的悬架与硬磁盘接触。
图12提供根据本发明原理的抛光头的顶视图，所述抛光头的相关的悬架与硬磁盘接触。
具体实施方式
图3图解说明根据本发明原理的抛光头(固定在HGA上)。在一个实施例中，抛光头(磁头滑块)302包括多个椭圆衬垫304，所述椭圆衬垫304(通常)对称于所述抛光头的(对称)轴线306的排列。在一个实施例中，通过离子碾磨而不是金刚石研磨来形成衬垫304以减少头颗粒产物和破裂倾向。另外，在一个实施例中，抛光头302的设计不再包括前缘308或后缘310上的锥度。这将避免抛光头的快速(突变的)移送(takeoff)和高的动态俯仰角。如下面所说明的，衬垫304的设计和布置与所述空气支承表面(ABS)的短的长度和平面度相结合，使抛光头(磁头滑块)能够基本上平行于媒体表面飞行。在一个实施例中，在抛光头底面涂敷一层硅或类金刚石碳(DLC)，以便优化头/盘界面(HDI)。如以下图11中所述，在与例如由Guzic TechnicalEnterprisesTM生产的动态电测试(DET)装置配合工作时，抛光头302在内径(ID)处装入、随着磁盘旋转而慢慢地滑向外径(OD)并在外径OD处被取出(见图11)。这有助于去除测试轨迹上的污染物和颗粒凹凸不平，提高产品合格率并降低媒体消耗。
在本发明的一个实施例中，抛光头302由空白磁晶片(magneticwafer)或常规陶瓷、例如回收的废旧晶片制成，离子碾磨工艺提供宽范围的抛光头设计可能性。光刻技术和离子碾磨的结合可以产生大量的椭圆几何形状。如上所述，与常见的磨削法相比，能够利用离子碾磨生成的椭圆形状可以改善性能、减少破裂、降低磁盘的损坏率。
在一个实施例中，抛光头302由空白磁晶片(行条)或矩形陶瓷材料(回收材料)制成，通过离子碾磨(IM)刻蚀衬垫304。采用离子碾磨而不是反应离子刻蚀(RIE)是因为与在氧化铝层上进行反应离子刻蚀相关的危险，例如使磁心金属暴露的危险。相比之下，对所有材料、以几乎相同的速率进行离子碾磨工艺。
如上所述，在一个实施例中，抛光头302不包括在空气支承表面(ABS)的前缘308或后缘310上的锥度、以避免快速移出或高的动态俯仰角。衬垫的设置与平坦的空气支承表面结合提供在被抛光媒体上方的基本上平行的飞行。这确保轻的(柔和的)媒体接触能够去除表面缺陷。另外，采用用于抛光的完整的空气支承表面能够避免应力集中。抛光头302在磁盘上的强烈的接触会产生磁头震动、因而可能会破坏碳覆层。此外，在装入和取出(LUL)过程中，抛光头302的任何动态俯仰和滚动都会导致抛光头302的边缘擦伤媒体。此外，如上所述，在一个实施例中，为了改善磁头界面(HDI)，抛光头302表面涂敷一层硅或类金刚石薄膜，用于润滑和延长寿命。在离子碾磨之后形成所述硅或类金刚石涂层，以便处理由再淀积引起的松散粒子。
在一个实施例中，抛光头302的尺寸与目前应用的磁头滑块尺寸相同(1.235×1.0×0.3mm)，并且利用头万向支架组件装配工艺，把抛光头302安装在相关的悬架312上、以便在对所述对象进行动态电测试期间，在没有夹具限制的情况下在线使用。
图4提供抛光头的横截面以及根据本发明原理的椭圆抛光垫的设计。在一个实施例中，衬垫402横跨抛光头404的宽度均匀布置，每个衬垫402这样取向、使得抛光缘406的面向磁头404的前缘、以便收集污染物并且使磁盘的粗糙度变得平滑。在一个实施例中，椭圆形(泪滴形)衬垫设计402使抛光头404对在故障检查过程(见图12)中气流的倾斜角的敏感度降低。而且，所述衬垫设计402将与媒体的接触应力减至最小。如前所述，在一个实施例中，抛光头404表面具有平坦的空气支承表面、包括平坦的凸度、弯度和扭曲的轮廓(见图7)，确保了所有的抛光垫402平行于媒体表面并参与抛光。
图5提供根据本发明原理的抛光头的底视图和侧视横截面。在一个实施例中，衬垫502包括第一行均匀布置的3个前缘衬垫504、接着是第二行均匀布置的4个衬垫506、接着是第三行均匀布置的3个衬垫508、接着是第四行均匀布置的4个衬垫510以及最后一行2个后缘衬垫512。衬垫502的布置(通常)形成一般的十字形图案。
在一个实施例中，所述椭圆衬垫设计使抛光头在媒体表面运动期间，各衬垫502之间的区域被局部地抽空。这种真空的产生是由气流的表面速度增加(与气流的表面速度比较)引起的。在一个实施例中，所产生的真空提供均匀的吸力，它使抛光头轻轻地依附着媒体表面(见图9)。这种特性有助于吸收和去除污染物，并且维持飞行的稳定性。
在一个实施例中，空气槽(通路)502的角度2(通常)大于25°，以避免在抛光头检查某些磁道时任何抛光间隙产生大的倾斜角(见图12)。此外，在一个实施例中，后缘衬垫512不包括中心衬垫，以便平衡抛光头下面的气压，得到理想的飞行姿态。
图6提供根据本发明原理的抛光头602的后缘的横截面。
图7为空气支承表面抛物面轮廓的透视图，例如用于项目说明目的的凸度(抛物面在长度方向变形)、弯度(抛物面在宽度方向变形)和扭曲(抛物面变形导致斜向移动)。
再做进一步的解释，“凸度”是长度方向上磁头滑决的抛物面变形，正凸度表示凸变形(磁头滑块中心处的较小间隔)，而负凸度表示凹变形(磁头滑块中心处的较大间隔)。凸度根据以下公式计算：
偏移 ( x , y ) = 4 R ( x L - ( x L ) 2 ) ,
其中，L为磁头滑块长度，R为凸度。
“弯度”是宽度方向上磁头滑块的抛物面变形，正的弯度为凸向变形(磁头滑块中心处的较小间隔)，负的弯度为凹向变形(磁头滑块中心处的较大间隔)。弯度按照以下公式计算：
偏移 ( x , y ) = 4 A ( y W - ( y W ) 2 ) ,
其中，W为磁头滑块宽度，A为弯度。
“扭曲”为产生相等的斜角偏移的磁头滑块抛物面变形，正扭曲表示内前缘和外后缘是凹进的(较大间隔)，负扭曲表示内前缘和外后缘是凸出的(较小间隔)。扭曲根据以下公式计算：
偏移 ( x , y ) = 4 T ( x L - 0.5 ) ( y W - 0.5 ) ,
其中，L为磁头滑块长度，W为磁头滑块宽度，而T为扭曲度。
图8示出用于说明目的的各种磁头滑块(抛光头)802取向(相对于媒体表面)。
图9提供根据本发明原理的抛光头的等压线。如前所述，在一个实施例中，衬垫902(典型)的设计和分布产生低压(真空)区904(典型的)，所述低压区为抛光头提供平衡的吸力。
在一个实施例中，所述椭圆衬垫设计902在抛光头在媒体表面上运动期间使衬垫之间的区域904被局部地抽空，这种真空是由气流的增加的表面速度(与气流表面速度相比)产生的。在一个实施例中，所产生的真空提供均匀的吸力，它使抛光头轻轻地依附着媒体表面。这种特性有助于吸收和去除污染物，并且维持飞行稳定性。
图10图解说明用于制造根据本发明原理的抛光头的离子碾磨和溅射的工艺过程。如前所述，离子碾磨能够制造大量复杂的几何形状。实际上可以在陶瓷磁头滑块的表面上用离子碾磨的方法加工任何2维形状，并且刻蚀的表面仍然没有应力、没有微裂纹、因而减少了抛光头颗粒产物和破裂倾向。此外，在一个实施例中，如前所述，抛光头由具有封闭的磁心材料的空白晶片制成，通过物理的离子碾磨而不是化学的反应离子刻蚀来刻蚀所述衬垫，避免了利用反应离子刻蚀对氧化铝层的破坏(例如，核心金属暴露)。
在一个实施例中，行条1002或陶瓷材料条全部覆盖光敏薄膜1004。在一个实施例中，采用限定所述衬垫配置的铬掩模1006。接着使所述薄膜涂层1004暴露在通过掩模1006的紫外光之下。在一个实施例中，用显影剂(0.75％ Na2CO3)除去未曝光的区域，而曝光的区域形成固定在行条1002的表面上薄膜图案，所述薄膜图案是光导层1008，它保护所述区域免受离子刻蚀1010。空气槽的深度(衬垫高度)一般由离子刻蚀1010的时间来控制。
接着，在一个实施例中，在抛光头的全部表面(包括空气槽)形成碳薄膜保护涂层。用溅射1012技术，在抛光头的表面涂敷硅和类金刚石。如前所述，为了处理由再次淀积引起的颗粒，涂敷碳和类金刚石是在离子碾磨之后进行的，并且所述碳和类金刚石用于润滑和延长寿命。在一个实施例中，整个所述工艺过程在相对的真空中完成。
接下来，在一个实施例中，将各个抛光头分离、清洗和检查(用干涉仪，例如VeccoTM装置)，以便确定所述空气支撑表面的平面度。
图11显示根据本发明的原理，在其相关的悬架1104与硬磁盘1110相接触的情况下、上抛光头和下抛光头1102的横截面。如前所述，所述抛光头1102在磁盘的内圈(ID)1106处装入，并且随着媒体1110的转动慢慢地从内圈(ID)滑到外圈(OD)1108，最后在外圈(OD)处1108处卸载。这有助于去除测试磁道上的污染物和粗糙，能够提高产品合格率并减少媒体消耗。
图12提供根据本发明的原理，在其相关的悬架1204与硬磁盘1206相接触的情况下、抛光头1202的顶视图。此外，图解说明了气流倾斜角1208，所述倾斜角由磁头滑块1212和气流方向1210之间的角度取向的差值来定义。
尽管本文中具体地图解说明和描述了若干实施例，但是，应当指出，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，对本发明的修改和变化都被以上的论述所覆盖、并且在所附权利要求书的范围之内。

Claims (3)

1.一种制造抛光头的方法，所述方法包括：
用光致反应薄膜涂层覆盖行条；
使特定波长范围的光线透过掩模照射所述薄膜涂层；
利用显影剂除去所述薄膜涂层的未曝光区，留下所述薄膜涂层的已曝光区作为所述行条的光阻表面；以及
采用离子碾磨刻蚀所述行条，以便形成抛光表面，
a)以硅和类金刚石碳涂敷所述抛光表面；
b)借助于溅射技术涂敷所述涂层；
c)所述抛光表面包括多个凸起的椭圆衬垫；以及
所述步骤a)、b)和c)是在相对真空中执行的。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：
所述行条由回收的晶片材料制成；
所述掩模为铬掩模；
所述光线为紫外光线；以及
所述显影剂为075％Na2CO3。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于还包括在所述抛光头表面涂敷碳薄膜保护涂层。
CN01822115.7A 2001-11-20 2001-11-20 制造抛光头的方法 Expired - Fee Related CN1238838C (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/CN2001/001569 WO2003046893A1 (en) 2001-11-20 2001-11-20 Method and apparatus for treating the surface of a media, such as a magnetic hard disk, while operating, such as during dynamic electrical testing

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2005100545288A Division CN100379523C (zh) 2001-11-20 2001-11-20 一种用于改变媒体表面状态的系统及方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1486487A CN1486487A (zh) 2004-03-31
CN1238838C true CN1238838C (zh) 2006-01-25

Family

ID=4574890

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN01822115.7A Expired - Fee Related CN1238838C (zh) 2001-11-20 2001-11-20 制造抛光头的方法
CNB2005100545288A Expired - Fee Related CN100379523C (zh) 2001-11-20 2001-11-20 一种用于改变媒体表面状态的系统及方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2005100545288A Expired - Fee Related CN100379523C (zh) 2001-11-20 2001-11-20 一种用于改变媒体表面状态的系统及方法

Country Status (4)

Country Link
US (3) US7052363B2 (zh)
JP (1) JP2003228818A (zh)
CN (2) CN1238838C (zh)
WO (1) WO2003046893A1 (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8758092B2 (en) * 2005-11-16 2014-06-24 Seagate Technology Llc Sweeper burnish head
US8137163B2 (en) * 2009-03-16 2012-03-20 Seagate Technology Llc Burnish head design with multiple pads on side rail
US20100330890A1 (en) * 2009-06-30 2010-12-30 Zine-Eddine Boutaghou Polishing pad with array of fluidized gimballed abrasive members
RU2529327C2 (ru) * 2012-12-17 2014-09-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ) Способ комбинированного упрочнения поверхности деталей
US20140295740A1 (en) * 2013-03-26 2014-10-02 HGST Netherlands B.V. Ultra fine lapping substrate through use of hard coated material on lapping kinematics
US20160148631A1 (en) * 2014-11-26 2016-05-26 Seagate Technology Llc Slider with micro-patterned coating
RU2725786C1 (ru) * 2019-12-25 2020-07-06 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный технологический университет" (ФГБОУ ВО "КубГТУ") Способ повышения прочности детали с покрытием

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5782680A (en) * 1996-11-13 1998-07-21 Aijohn Establishment Burnishing head for polishing surfaces of carriers of magnetic media
US5863237A (en) * 1996-12-04 1999-01-26 Seagate Technology, Inc. Low speed burnishing of asperities in a disc drive
US5880899A (en) * 1997-02-25 1999-03-09 International Business Machines Corporation Removal of raised irregularities on a data storage disk with controlled abrasion by a magnetoresistive head
US5980369A (en) * 1997-04-14 1999-11-09 Marburg Technology, Inc. Level flying burnishing head with circular burnishing pads
US6273793B1 (en) * 1998-09-23 2001-08-14 Seagate Technology Llc Apparatus and method for reducing disc surface asperities to sub-microinch height
US6322431B1 (en) * 1998-10-13 2001-11-27 Seagate Technology Llc Burnish head with ion milled aerodynamic pads configured in an elliptical pattern
US6249945B1 (en) * 1998-11-12 2001-06-26 International Business Machines Corporation Hard disk burnishing head
US6296552B1 (en) * 1999-01-29 2001-10-02 Seagate Technology Llc Burnishing head with fly height control spacer

Also Published As

Publication number Publication date
CN100379523C (zh) 2008-04-09
US20060223418A1 (en) 2006-10-05
WO2003046893A1 (en) 2003-06-05
CN1680076A (zh) 2005-10-12
US20080202036A1 (en) 2008-08-28
CN1486487A (zh) 2004-03-31
US7052363B2 (en) 2006-05-30
US20030096558A1 (en) 2003-05-22
JP2003228818A (ja) 2003-08-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7275311B2 (en) Apparatus and system for precise lapping of recessed and protruding elements in a workpiece
JP4432199B2 (ja) 磁気媒体用のガラス基体の製造方法
US5735036A (en) Lapping process for minimizing shorts and element recession at magnetic head air bearing surface
CN1148727C (zh) 玻璃衬底、磁性载体以及磁性载体的制造方法
US5713123A (en) Method of lapping for producing one-side curved surface adapted for floating magnetic head
US20020142707A1 (en) Glass substrate for magnetic recording medium, production method thereof, and magnetic recording medium using the substrate
US7410410B2 (en) Method and apparatus to produce a GRM lapping plate with fixed diamond using electro-deposition techniques
US5695387A (en) CSS magnetic recording head slider and method of making same
CN1238838C (zh) 制造抛光头的方法
JP2003151233A (ja) 平滑面磁気ディスク対応ヘッドスライダ、ヘッドスライダアッセンブリ、および磁気ディスク装置、ならびに磁気ディスクの検査・製造方法、および磁気ディスク装置の組み立て方法
US7245459B2 (en) Critically exposed lapping of magnetic sensors for target signal output
US7244169B2 (en) In-line contiguous resistive lapping guide for magnetic sensors
US6050879A (en) Process for lapping air bearing surfaces
JP5361185B2 (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
JP2000298818A (ja) 多面付素子の加工方法およびスライダの加工方法
US6953385B2 (en) System, method, and apparatus for non-traditional kinematics/tooling for efficient charging of lapping plates
US20090117411A1 (en) Magnetic disk substrate and magnetic disk thereof
JP3499461B2 (ja) スライダの加工方法
EP1003157B1 (en) Hard disk burnishing head
JPH07134823A (ja) 磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体の製造方法
CN1179326C (zh) 磁头及其制造方法
JP2001148116A (ja) 磁気ディスク用基板の製造方法
JP2000003570A (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP5701938B2 (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
TWI779081B (zh) 磁性碟片用基板及其之製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20060125

Termination date: 20151120