CN1236968A - 用于显示装置的荧光层的制造方法 - Google Patents
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Abstract
用于显示装置的荧光层的制造方法,包括以下步骤:设置一个施主膜,该施主膜与一个基底相隔预定的距离并由一个基膜、一个光吸收层、一个缓冲层和一个荧光层构成;以及,用一个能量源照射该施主膜,以将一种荧光物从荧光层转移到该基底的表面上并随后对转移的荧光物进行热处理。在此方法中,由于灰尘或外来物产生的缺陷被减少了,因而制造产量与传统方法相比得到了改善。另外,该方法是简单的,因而生产率得到了提高,且实现了高分辨率的屏幕。
Description
本发明涉及一种显示装置，且更具体地说是涉及一种用于显示装置的荧光层的制造方法。
用于在显示屏上显示信息的一种图象显示装置，包括采用热电子发射和荧光发射的阴极光线管(CRT)、具有与CRT类似的原理且其总体形状通常为扁平形的真空荧光显示器(VFD)、利用液晶的电光特性的液晶显示器(LCD)、利用充电电极之间的气体放电现象的等离子体显示板(PDP)等。
这些显示装置采用了红、蓝和绿荧光或用于彩色显示器的滤色器层。
用于用于彩色显示的荧光层，是利用例如光刻处理或印制处理而形成的。然而，光刻处理包括荧光复合物的涂覆处理和反复进行的曝光、显影和热处理，因而它非常地长且复杂，且经常由于曝光和显影处理期间的灰尘而产生缺陷。另外，在荧光复合物被涂覆之前，必须涂覆一种底涂覆溶液以对其进行热处理，以增强该复合物的粘合强度。
同时，根据在诸如等离子体显示板(PDP)的扁平显示器或场发射显示器(FED)中通常采用的印制方法，能够获得均匀的荧光膜图案。然而，该印制方法有以下问题。
首先，用这种方法形成的荧光图案的厚度是不一致的(厚度偏离约20％)。
第二，由于这种印制方法是基于屏幕印制的，分辨率被限制在约80％，因而难于形成高分辨率的荧光图案。
本发明的一个目的，是提供用于显示装置的荧光层制造方法，从而减少灰尘或外来物造成的缺陷并改善荧光层的分辨率。
为了实现该目的，提供了用于显示装置的荧光层制造方法，它包括以下步骤：(a)设置一个施主膜，该施主膜与一个基底相隔预定的距离并由一个基膜、一个光吸收膜、一个缓冲层和一个荧光层构成；以及，(b)用一个能量源照射该施主膜，以将一种荧光物从荧光层转移到该基底的表面上并随后对转移的荧光物进行热处理。
基膜起着支撑的作用，且较好地是基膜具有90％或更大的光透射率。基膜的例子是聚对苯二甲酸乙酯和聚碳酸酯膜。
光吸收层吸收来自光的光或热，以得到分解，并发出氮气或氢气，从而提供转移能量。该层是由从由铅(Al)、铋(Bi)、锡(Sn)、铟(In)、锌(Zn)、钛(Ti)、铬(Cr)、钼(Mo)、钨(W)、钴(Co)、铱(Ir)、镍(Ni)、钯(Pd)、铂(Pt)、铜(Cu)、银(Ag)、金(Au)、锆(Zr)、铁(Fe)、它们的氧化物和硫化物、染料和颜料组成的组中选出的至少一个形成。缓冲层的作用是把光吸收层的加热传递到荧光层，并且是由从季戊四醇四硝酸酯(PETN)和三硝基甲苯(TNT)中选出的材料形成的。
通过以下结合附图进行的描述，本发明的上述目的和优点将变得显而易见。在附图中：
图1是用在本发明中的激光转移装置的示意图；
图2是剖视图，显示了根据本发明的施主膜的结构；
图3A至图3C是剖视图，用于显示根据本发明的荧光层的制造步骤。
在本发明中，利用激光转移方法而形成了一个荧光层。在此，激光转移方法被广泛地用于打印、排字、摄影等。该方法采用了一个原理--即通过将所要转移的目标材料推向接收物而将该目标材料转移到接收物上。
图1是用在本发明中的激光转移装置的示意图。
参见图1，从一个能量源发射出了一个高功率激光束11。该能量源包括诸如Nd/YAG的高功率固体激光器、诸如CO2或CO的气体激光器和二极管耦合Nd/YAG。发射的激光束通过了一个分束器12并被分成具有相同强度的几束。
分成几束的激光束的强度比由一个调制器13根据转移的物质的形状而进行控制，且该激光束经一个连接光学系统14而通过一个光纤15，并随后照射到包括荧光层的一个施主膜16的表面上。此时，只有施主膜16接收到光的部分上涂覆的荧光物被转移到接收体17上。此时，一个级18的运动受到一个计算机20和一个提升器19的控制，以根据转移物质的形状来控制几个光束的强度。
图2显示了本发明中所用的施主膜25的结构。
参见图2，在一个基膜21上依次形成了一个光吸收层22、一个缓冲层23、和一个荧光层24。
图3A至3C是剖视图，用于显示在根据本发明的一个实施例的、用于场发射显示器(FED)的荧光层制造方法中转移荧光层图案的步骤。
在一个基膜37上依次涂覆一个光吸收膜36、一个缓冲层35和一个荧光层34，从而形成一个施主膜38。
随后，施主膜38被设置在与第一基底33上。随后，用一个能量源照射设置在上面的施主膜38。可以用激光束、氙灯或卤灯作为能量源。从它们中选出并照射的能量源依次通过一个转移装置32和基膜37，并激活光学吸收层36并发射由于加热时进行的分解反应而产生出的氢或镍气。发出的热量被传递到缓冲层35，且气体的释放使得荧光物被转移到第一基底33的上表面。
在进行了转移处理之后，进行热处理，以固化并粘合转移的荧光物。
这里，荧光物的转移是通过单个或几个步骤进行的。即，荧光层的厚度是通过一次转移所需的量或进行几次转移而形成的。然而，考虑到加工的方便和稳定性，较好地是在一个步骤中转移荧光物。
图3B显示了借助上述方法制成的具有荧光层34’的第一基底。
此外，第一电极40和第二电极41被相互隔离地形成在与第一基底33相对的第二基底33’上。然后，薄膜层42和42’分别被形成在第一电极40和第二电极41上。
然后，加速电极层39被形成在第一基底33的荧光层34’上。第一基底被叠置在第二基底33’上，从而完成图3C的场发射显示器(FED)。具有这种结构的FED的工作原理如下。
当预定电压被加到第一电极40和第二电极41时，涂覆在相应电极上的薄膜层42和42’之间发射的电子被加速到加速电极层39，使得荧光层34’发光。
本发明具有以下效果。
首先，利用干蚀刻法的处理减少了由于灰尘或外来物而产生的缺陷，因而与传统方法相比制造的产量可提高10％以上。另外，简单的加工提高了生产率。
第二，在传统的方法中，分辨率基本上在70和100μm之间，但根据本发明，能够获得高至20μm的分辨率。因此，形成了高分辨率的图案。
Claims (2)
1．用于显示装置的荧光层的制造方法，包括以下步骤：
(a)设置一个施主膜，该施主膜与一个基底相隔预定的距离并由一个基膜、一个光吸收层、一个缓冲层和一个荧光层构成；以及
(b)用一个能量源照射该施主膜，以将一种荧光物从荧光层转移到该基底的表面上并随后对转移的荧光物进行热处理。
2．根据权利要求1的方法，其中在步骤(b)中所述能量源是从由激光束、氙灯和卤灯组成的组中选出的。
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