CN118244396A - 光学膜、光学层叠体及卷绕体 - Google Patents
光学膜、光学层叠体及卷绕体 Download PDFInfo
- Publication number
- CN118244396A CN118244396A CN202311755783.XA CN202311755783A CN118244396A CN 118244396 A CN118244396 A CN 118244396A CN 202311755783 A CN202311755783 A CN 202311755783A CN 118244396 A CN118244396 A CN 118244396A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- film
- light absorbing
- liquid crystal
- optical film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012788 optical film Substances 0.000 title claims abstract description 158
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 83
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 230
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 76
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 48
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 35
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 270
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 100
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 57
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 55
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 54
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 53
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 38
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims description 37
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 30
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 16
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 16
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 9
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 8
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 8
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 8
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 687
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 191
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 180
- -1 and among them Substances 0.000 description 135
- 239000002585 base Substances 0.000 description 128
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 69
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 description 45
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 43
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 42
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 37
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 37
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 36
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 35
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 34
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 32
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 30
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 29
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 27
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 25
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 24
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 24
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 18
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 17
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 17
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 17
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 17
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 17
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 16
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 14
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 14
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 13
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 13
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 12
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 11
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 11
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 10
- KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N n-fluorosulfonylsulfamoyl fluoride Chemical compound FS(=O)(=O)NS(F)(=O)=O KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 9
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 9
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 9
- ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-n-(trifluoromethylsulfonyl)methanesulfonamide Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004974 Thermotropic liquid crystal Substances 0.000 description 8
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 7
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 7
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 6
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 6
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 6
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 6
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 4
- 125000005575 polycyclic aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 4
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 4
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 3
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- PXELHGDYRQLRQO-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(C)CCCC1 PXELHGDYRQLRQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLHWTTWXYBJBQ-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-4-methylpyridin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1=CC=C(C)C=C1 NNLHWTTWXYBJBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMKUSFIBHAUBIJ-UHFFFAOYSA-N 1-hexylpyridin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 AMKUSFIBHAUBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IGKWUSYWEYAUPC-UHFFFAOYSA-N 4-hexyl-1-methylpyridin-1-ium Chemical compound CCCCCCC1=CC=[N+](C)C=C1 IGKWUSYWEYAUPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSCFFOTZWZZXPR-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-octylpyridin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1=CC=C(C)C=C1 OSCFFOTZWZZXPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 2
- 239000004985 Discotic Liquid Crystal Substance Substances 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004976 Lyotropic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 2
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 2
- 230000009881 electrostatic interaction Effects 0.000 description 2
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 2
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 2
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001422 pyrrolinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000011369 resultant mixture Substances 0.000 description 2
- 239000005268 rod-like liquid crystal Substances 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- DTIFFPXSSXFQCJ-UHFFFAOYSA-N tetrahexylazanium Chemical compound CCCCCC[N+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC DTIFFPXSSXFQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 2
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGTMOCYRCRLQCZ-UHFFFAOYSA-N 1,3-oxazole;stilbene Chemical group C1=COC=N1.C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 RGTMOCYRCRLQCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSVGVFGKUPZBIE-UHFFFAOYSA-M 1-butyl-1-methylpyrrolidin-1-ium 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1(=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)[O-])C.C(CCC)[N+]1(CCCC1)C SSVGVFGKUPZBIE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PUHVBRXUKOGSBC-UHFFFAOYSA-M 1-butyl-3-methylimidazol-3-ium;methanesulfonate Chemical compound CS([O-])(=O)=O.CCCC[N+]=1C=CN(C)C=1 PUHVBRXUKOGSBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IAZHALJTQWGCQP-UHFFFAOYSA-M 1-butyl-4-methylpyridin-1-ium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CCCC[N+]1=CC=C(C)C=C1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 IAZHALJTQWGCQP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HXMUPILCYSJMLQ-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-3-methylimidazol-3-ium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC[N+]=1C=CN(C)C=1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 HXMUPILCYSJMLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KEEPXXSKPHPTSM-UHFFFAOYSA-M 1-hexylpyridin-1-ium 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)[O-].C(CCCCC)[N+]1=CC=CC=C1 KEEPXXSKPHPTSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDEQOBPALZZTCA-UHFFFAOYSA-N 1-octylpyridin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 XDEQOBPALZZTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZUHIVLOSAPWDM-UHFFFAOYSA-N 2-(1h-imidazol-2-yl)-1h-imidazole Chemical class C1=CNC(C=2NC=CN=2)=N1 AZUHIVLOSAPWDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical class OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVGVMQVOCJNXNJ-UHFFFAOYSA-M 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C[N+](C)(C)CCO.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 DVGVMQVOCJNXNJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNPJOYZGYDSHCG-UHFFFAOYSA-M 4-hexyl-1-methylpyridin-1-ium 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)[O-].C[N+]1=CC=C(C=C1)CCCCCC UNPJOYZGYDSHCG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)pentan-2-imine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C(C)CC(C)C PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBIBAXUMZRENIP-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate 4-methyl-1-octylpyridin-1-ium Chemical compound C1(=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)[O-])C.C(CCCCCCC)[N+]1=CC=C(C=C1)C GBIBAXUMZRENIP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWFVIBQINSIBAY-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;1-octylpyridin-1-ium Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.CCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 IWFVIBQINSIBAY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- REAVCZWUMGIGSW-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;tetrabutylazanium Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC REAVCZWUMGIGSW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- TZOFIGOXMOATAF-UHFFFAOYSA-M 4-methylbenzenesulfonate;tetrahexylazanium Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.CCCCCC[N+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC TZOFIGOXMOATAF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydrodibenzo[2,1-b:2',1'-f][7]annulen-11-one Chemical class C1CC2=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=CC=C21 BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016467 AlCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016861 F9SO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002262 Schiff base Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical group C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000999 acridine dye Substances 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 101150059062 apln gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- ANFWGAAJBJPAHX-UHFFFAOYSA-N bis(fluorosulfonyl)azanide;1-ethyl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound CC[N+]=1C=CN(C)C=1.FS(=O)(=O)[N-]S(F)(=O)=O ANFWGAAJBJPAHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRESCJAINPKJTO-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1-ethyl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound CCN1C=C[N+](C)=C1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F LRESCJAINPKJTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REYBKXICDFBMEW-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1-octylpyridin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F REYBKXICDFBMEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFAPFDTWIGBCQK-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;tetrabutylazanium Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC CFAPFDTWIGBCQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFLRMCUVYQFPCO-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;tributyl(2-methoxyethyl)phosphanium Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCOC QFLRMCUVYQFPCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJPDLBMZLGTDRZ-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;tributyl(methyl)phosphanium Chemical compound CCCC[P+](C)(CCCC)CCCC.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F YJPDLBMZLGTDRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 230000003098 cholesteric effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical group O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- GOJNABIZVJCYFL-UHFFFAOYSA-M dimethylphosphinate Chemical compound CP(C)([O-])=O GOJNABIZVJCYFL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ICIDZHMCYAIUIJ-UHFFFAOYSA-N dinaphthalen-1-yldiazene Chemical group C1=CC=C2C(N=NC=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 ICIDZHMCYAIUIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- HHBOIIOOTUCYQD-UHFFFAOYSA-N ethoxy-dimethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCOCC1CO1 HHBOIIOOTUCYQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 238000012812 general test Methods 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011899 heat drying method Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000413 hydrolysate Substances 0.000 description 1
- 150000004693 imidazolium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001411 inorganic cation Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940077844 iodine / potassium iodide Drugs 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000013532 laser treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M metanil yellow Chemical group [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC(N=NC=2C=CC(NC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=C1 NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N methyltrioctylammonium Chemical compound CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMGAPWLDMVPYIA-HIDZBRGKSA-N n'-amino-n-iminomethanimidamide Chemical group N\N=C\N=N VMGAPWLDMVPYIA-HIDZBRGKSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N phenyl benzoate Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000561 purinyl group Chemical group N1=C(N=C2N=CNC2=C1)* 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000000719 pyrrolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000000807 solvent casting Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- RBRCCWBAMGPRSN-UHFFFAOYSA-N thieno[2,3-d][1,3]thiazole Chemical group S1C=NC2=C1C=CS2 RBRCCWBAMGPRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IOAMURNQJWBINV-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[2-[3-(3-trimethoxysilylpropylamino)propanoyloxy]ethyl]azanium Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCC(=O)OCC[N+](C)(C)C IOAMURNQJWBINV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAGQNGWYNLUQRI-UHFFFAOYSA-N trioctylmethylammonium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC LAGQNGWYNLUQRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
本发明涉及光学膜、光学层叠体及卷绕体。本发明的课题是提供应用于显示装置时的光学特性优异的光学膜。本发明的解决手段为:光学膜具有光吸收各向异性层。光吸收各向异性层包含1种以上的二向色性色素和形成近晶相的液晶性化合物或其聚合物,并且在与光吸收各向异性层的面垂直的方向上具有吸收轴。光学膜的雾度为2.0%以下。
Description
技术领域
本发明涉及光学膜、光学层叠体及卷绕体。
背景技术
具有显示出近晶相的聚合性液晶化合物进行水平取向而得到的光吸收各向异性膜的光学膜是已知的(例如,专利文献1等)。具有显示出近晶相的液晶性化合物进行垂直取向而得到的光吸收各向异性膜的光学膜也是已知的(例如,专利文献2等)。这些光吸收各向异性膜是使用显示出近晶相的液晶性化合物和二向色性色素形成的,二向色性比特别优异,因此作为具有偏光特性的光学膜是有用的。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2012-83734号公报
专利文献2:日本特开2016-27387号公报
发明内容
发明所要解决的课题
液晶性化合物进行垂直取向而得到的光吸收各向异性膜被应用于显示装置来使用。与使用形成向列相的液晶性化合物而形成的光吸收各向异性膜相比较时,使用形成近晶相的液晶性化合物而形成的光吸收各向异性膜的吸收选择性变得良好。然而,形成近晶相的液晶性化合物难以进行取向控制。因此,若在应用了使形成近晶相的液晶化合物沿垂直方向取向而得到的光吸收各向异性膜的显示装置中进行白色显示并从倾斜方向观察,有时观看到白线状的不均。
本发明的目的是提供应用于显示装置时的光学特性优异的光学膜、光学层叠体及卷绕体。
用于解决课题的手段
本发明提供以下的光学膜、光学层叠体及卷绕体。
〔1〕光学膜,其为具有光吸收各向异性层的光学膜,
前述光吸收各向异性层包含1种以上的二向色性色素、和形成近晶相的液晶性化合物或其聚合物,并且在与前述光吸收各向异性层的面垂直的方向上具有吸收轴,
前述光学膜的雾度为2.0%以下。
〔2〕如〔1〕所述的光学膜,其还具有基材层。
〔3〕如〔2〕所述的光学膜,其中,前述基材层包含膜基材,
构成前述膜基材的树脂为选自由聚酰亚胺系树脂、纤维素酯系树脂、环状烯烃系树脂、聚酯系树脂、及(甲基)丙烯酸系树脂组成的组中的1种以上。
〔4〕如〔1〕~〔3〕中任一项所述的光学膜,其中,前述光吸收各向异性层包含硅系流平剂。
〔5〕如〔4〕所述的光学膜,其中,相对于前述液晶性化合物或其聚合物的总量100质量份而言,前述硅系流平剂的含量为0.01质量份以上5.0质量份以下。
〔6〕如〔4〕或〔5〕所述的光学膜,其中,相对于前述液晶性化合物或其聚合物的总量100质量份而言,前述硅系流平剂的含量为0.05质量份以上1.0质量份以下。
〔7〕如〔1〕~〔6〕中任一项所述的光学膜,其中,前述光吸收各向异性层满足下述式(1)及(2)的关系。
Ax(z=60°)/Ax≥5.0 (1)
Ay(z=60°)/Ay≥5.0 (2)
[式(1)及(2)中,
Ax及Ay是前述光吸收各向异性层的波长380nm以上780nm以下的范围内的吸收极大波长的吸光度,并且分别表示沿x轴方向及y轴方向振动的直线偏振光的吸光度。
Ax(z=60°)是前述吸收极大波长处的吸光度,并且表示使前述光吸收各向异性层以前述y轴为旋转轴旋转了60°时的沿前述x轴方向振动的直线偏振光的吸光度。
Ay(z=60°)是前述吸收极大波长处的吸光度,并且表示使前述光吸收各向异性层以前述x轴为旋转轴旋转了60°时的沿前述y轴方向振动的直线偏振光的吸光度。
其中,前述x轴为前述光吸收各向异性层的面内的任意一个方向,
前述y轴为在前述光吸收各向异性层的面内与前述x轴正交的方向。]
〔8〕光学层叠体,其具有〔1〕~〔7〕中任一项所述的光学膜、和椭圆偏光板。
〔9〕卷绕体,其为将光学膜卷绕成卷状而得到的卷绕体,
前述光学膜为〔1〕~〔7〕中任一项所述的光学膜。
〔10〕如〔9〕所述的卷绕体,其中,前述光吸收各向异性层包含硅系流平剂。
发明效果
根据本发明,可以提供应用于显示装置时的光学特性优异的光学膜、光学层叠体及卷绕体。
附图说明
[图1]为示意性地示出本发明的一个实施方式涉及的光学膜的截面图。
[图2]为示意性地示出本发明的一个实施方式涉及的光学层叠体的截面图。
附图标记说明
10光学膜,11光吸收各向异性层,12基材层,20椭圆偏光板,21偏光层,22第1相位差层,23第2相位差层,30光学层叠体。
具体实施方式
以下,参照附图对光学膜、光学层叠体及卷绕体的优选实施方式进行说明。
(光学膜)
图1为示意性地示出本发明的一个实施方式涉及的光学膜的截面图。光学膜10具有光吸收各向异性层11。光吸收各向异性层11包含1种以上的二向色性色素、和形成近晶相的液晶性化合物或其聚合物,并且在与光吸收各向异性层的面垂直的方向上具有吸收轴。光学膜10的雾度为2.0%以下。
光学膜10可以为光吸收各向异性层11,也可以如图1所示的那样具有光吸收各向异性层11和基材层12。光吸收各向异性层11与基材层12优选直接相接。基材层12可以是涂布用于形成光吸收各向异性层11的第1组合物(后述)的层,也可以构成该层的一部分。基材层12可用具有单层结构,也可以具有多层结构。基材层12的详情在后文中说明。
如上述那样,将含有包含形成近晶相的液晶性化合物或其聚合物并且在垂直方向上具有吸收轴的光吸收各向异性层11的光学膜10的雾度设定为2.0%以下。由此,能够抑制下述情况:在将包含使用形成近晶相的液晶性化合物而形成的光吸收各向异性层11的光学膜10以后述的光学层叠体的形式应用于显示装置并进行彩色显示、从倾斜方向观看显示画面时,观看到白线状的不均。
光学膜10的雾度优选为1.8%以下,更优选为1.5%以下,进一步优选为1.2%以下,也可以为1.0%以下,通常大于0。光学膜10的雾度可以利用后述的实施例中记载的方法来测定。
作为使光学膜10的雾度在上述范围内的方法,可举出:调整光吸收各向异性层11中包含的流平剂等添加剂的种类及含量的方法;调整光吸收各向异性层11的厚度等的方法;调整对用于形成光吸收各向异性层的第1组合物(后述)的涂布层进行干燥的温度的方法;调整基材层12的种类、表面状态的方法;等等。
光吸收各向异性层11可以包含硅系流平剂。由此,在形成后述的光吸收各向异性层11之际,在基材层12上涂布第1组合物时,能够抑制第1组合物的凹陷的产生,能够抑制光学膜10的粘连(blocking)。
通过使光吸收各向异性层11包含硅系流平剂,从而容易将光学膜10的雾度调整至上述范围内。另一方面,在使用形成向列相的液晶性化合物来形成光吸收各向异性层的情况下,即使利用除硅系流平剂以外的流平剂,光学膜10的雾度也小,也不易观看到上述的白线状的不均。由此认为,上述的白线状的不均容易在光学膜10具有包含形成近晶相的液晶性化合物或其聚合物的光吸收各向异性层11的情况下产生。硅系流平剂的详情在后文中说明。
光吸收各向异性层11优选满足下述式(1)及(2)的关系。
Ax(z=60°)/Ax≥5.0 (1)
Ay(z=60°)/Ay≥5.0 (2)
[式(1)及(2)中,
Ax及Ay是光吸收各向异性层11的波长380nm以上780nm以下的范围内的吸收极大波长的吸光度,并且分别表示沿x轴方向及y轴方向振动的直线偏振光的吸光度。
Ax(z=60°)是上述吸收极大波长处的吸光度,并且表示使光吸收各向异性层11以y轴为旋转轴旋转了60°时的沿x轴方向振动的直线偏振光的吸光度。
Ay(z=60°)是上述吸收极大波长处的吸光度,并且表示使光吸收各向异性层11以x轴为旋转轴旋转了60°时的沿y轴方向振动的直线偏振光的吸光度。
其中,x轴为光吸收各向异性层11的面内的任意一个方向,
y轴为在光吸收各向异性层11的面内与前述x轴正交的方向。]
就上述式(1)中的Ax(z=60°)/Ax、及式(2)中的Ay(z=60°)/Ay而言,其数值越大,则表示越优异的光吸收各向异性,它们各自独立地可以为例如7以上,也可以为10以上,另外,也可以为50以下。
对于满足上述式(1)及(2)的关系的光吸收各向异性层11而言,认为二向色性色素的吸收轴沿与其平面垂直的方向取向,因此,光吸收各向异性层11能够有效地吸收来自倾斜方向的光。满足上述式(1)及(2)的关系的光吸收各向异性层11例如可以通过光吸收各向异性层11的厚度、光吸收各向异性层11的制造工序的条件(后述)、用于得到光吸收各向异性层11的第1组合物中包含的二向色性色素及液晶性化合物的种类或含量等来调整。
(光学层叠体)
图2为示意性地示出本发明的一个实施方式涉及的光学层叠体的截面图。光学层叠体30具有光学膜10和椭圆偏光板20,作为光学膜10,可以使用上文中说明的光学膜。光学层叠体30中包含的光学膜10可以为光吸收各向异性层11,也可以如图2所示的那样为光吸收各向异性层11与基材层12的层叠体。椭圆偏光板20也可以为防反射膜。
光学层叠体30中,光学膜10与椭圆偏光板20可以直接相接,也可以介由贴合层而层叠。贴合层为粘合剂层或粘接剂层。
光学膜10优选设置于椭圆偏光板20的偏光层21侧(观看侧)。光学膜10具有基材层12的情况下,可以如图2所示的那样在光吸收各向异性层11侧层叠椭圆偏光板20,也可以在基材层12侧层叠椭圆偏光板20。通过在椭圆偏光板20的观看侧层叠光学膜10,从而在将光学层叠体30应用于显示装置时,能够降低在白色显示时从正面观看的情况下的正面色相与从斜向观看的情况下的斜向色相的色相差。另外,如上述的那样,在进行应用了光学层叠体30的显示装置的白色显示并从倾斜方向观看显示画面时,能够抑制观看到白线状的不均的情况。
椭圆偏光板20可以从观看侧起依次具备偏光层21、及具有面内相位差的第1相位差层22。第1相位差层22可以包含具有彼此不同的面内相位差的2层以上的相位差层。为了高度达成作为防反射膜的椭圆偏光板20的防反射功能,优选包含具有可见光全域内的λ/4板功能(即π/2的相位差功能)的λ/4相位差层。λ/4相位差层优选为逆波长分散性的λ/4相位差层。第1相位差层22也可以是将正波长分散性的具有λ/2板功能的相位差层(λ/2相位差层)与正波长分散性的λ/4相位差层组合而成的。
从能补偿倾斜方向上的防反射功能的观点考虑,椭圆偏光板20可以还包含在厚度方向上具有各向异性的第2相位差层23(正C板)。
在构成第1相位差层22的相位差层及第2相位差层23由包含后述的液晶性化合物的组合物得到的情况下,这些相位差层各自独立地可以形成倾斜取向状态,也可以形成胆甾型取向状态。
椭圆偏光板20包含第1相位差层22及第2相位差层23的情况下,光学层叠体30中的椭圆偏光板20可以从光学膜10侧起依次具有偏光层21、第1相位差层22、及第2相位差层23,也可以依次具有偏光层21、第2相位差层23、及第1相位差层22。在构成椭圆偏光板20的层之间可以具有贴合层。贴合层为粘合剂层或粘接剂层。
椭圆偏光板20中包含的偏光层21具有光吸收各向异性。偏光层21的详情在后文中说明,但偏光层21例如是作为具有光吸收各向异性的色素的二向色性色素进行单轴取向而成的层。二向色性色素进行单轴取向而成的偏光层可举出:通过在使聚乙烯醇系树脂等聚合物中含浸有碘、有机二向色性染料的状态下进行单轴拉伸而形成的偏光层;由包含二向色性色素的聚合性液晶化合物的聚合物形成的偏光层,其是通过利用包含聚合性液晶化合物及二向色性色素的组合物并使二向色性色素及聚合性液晶化合物取向而形成的。这样的偏光层可以通过利用被包封于拉伸膜、聚合性液晶化合物的聚合物中的二向色性色素对光进行各向异性吸收而呈现出偏光功能。偏光层21也可以制成在其一面或两面层叠保护膜而得到的偏光板之后组装至光学层叠体30中。关于偏光板的详情,在后文中说明。
椭圆偏光板20中包含的第1相位差层22的对于波长λ[nm]的光而言的面内相位差即R(λ)优选满足下述式(3)所示的光学特性,优选满足下述式(3)、下述式(4)及下述式(5)所示的光学特性。
100nm<Re(550)<160nm (3)
Re(450)/Re(550)≤1.00 (4)
1.00≤Re(650)/Re(550) (5)
[式(3)~(5)中,
Re(550)表示第1相位差层的对于波长550nm的光而言的面内相位差值(面内延迟),
Re(450)表示第1相位差层的对于波长450nm的光而言的面内相位差值,
Re(650)表示第1相位差层的对于波长650nm的光而言的面内相位差值。]
若上述式(4)的“Re(450)/Re(550)”大于1.0,则具备λ/4相位差层的椭圆偏光板20中的短波长侧的漏光增大。“Re(450)/Re(550)”优选为0.70以上1.00以下,更优选为0.80以上0.95以下,进一步优选为0.80以上0.92以下,特别优选为0.82以上0.88以下。“Re(450)/Re(550)”的值可以通过调整构成第1相位差层22的多个相位差层的层叠角度、相位差值、在为了得到构成第1相位差层22的相位差层而使用聚合性液晶化合物的情况下调整聚合性液晶化合物的混合比率来任意地调整。
第1相位差层22及构成第1相位差层22的相位差层的面内相位差值可以通过这些层的厚度来调整。面内相位差值由下述式(6)确定,因此,为了使波长λ[nm]处的面内相位差值(Re(λ))为所期望的值,调整Δn(λ)和膜厚d即可。第1相位差层22及构成第1相位差层22的相位差层的厚度各自独立地优选为0.5μm~5μm,更优选为1μm~3μm。该厚度可以利用干涉膜厚计、激光显微镜或触针式膜厚计来测定。需要说明的是,在为了得到构成第1相位差层22的相位差层而使用聚合性液晶化合物的情况下,Δn(λ)取决于该聚合性液晶化合物的分子结构。
Re(λ)=d×Δn(λ) (6)
[式(6)中,
Re(λ)表示波长λ[nm]处的相位差层的面内相位差值,
d表示相位差层的厚度,
Δn(λ)表示波长λ[nm]处的相位差层的双折射率。]
椭圆偏光板20中包含的第2相位差层23优选为正C板。正C板的波长550nm处的厚度方向的相位差值Rth(550)通常为-170nm以上-10nm以下的范围,优选为-150nm以上-20nm以下的范围,更优选为-100nm以上-40nm以下的范围。若正C板的厚度方向的相位差值为该范围,则能够进一步提高防止从倾斜方向的反射的特性。
第1相位差层22及第2相位差层23为液晶固化膜(后述)的情况下,第1相位差层22及第2相位差层23可以以与支撑它们的第3基材层(后述)层叠的状态组装至光学层叠体30中。在该情况下,构成第1相位差层22的相位差层与第3基材层可以直接相接,第2相位差层23与第3基材层可以直接相接。
(卷绕体)
卷绕体是将光学膜卷绕成卷状而得到的,作为光学膜,可以使用上文中说明的光学膜。卷绕体中,光学膜所具有的光吸收各向异性层优选包含硅系流平剂。由此,容易得到抑制了光学膜的粘连的卷绕体。构成卷绕体的光学膜优选具有基材层及光吸收各向异性层,该光学膜通常优选为长条状的光学膜(以下,有时称为“长条光学膜”。)。
卷绕体的卷径(直径)例如可以为50mm以上1000mm以下。被卷绕成卷状而形成卷绕体的长条光学膜例如可以在作为卷绕体的卷绕方向的长度方向上具有5m以上10000m以下的长度,也可以为5m以上5000m以下,也可以为100m以上5000m以下,也可以为500m以上3000m以下,也可以为1000m以上3000m以下。可以在作为卷绕体的卷绕轴方向的宽度方向上具有300mm以上5000mm以下的长度,也可以为500mm以上3000mm以下,也可以为500mm以上2500mm以下,也可以为500mm以上2000mm以下。
卷绕体例如可以通过下述方式得到:从将基材层卷绕而得到的基材层卷抽出基材层并进行输送,在该基材层上形成光吸收各向异性层,将所得到的长条光学膜卷绕成卷状。卷绕体可以通过所谓的辊对辊(roll-to-roll)方式来制造,即,一边对长条状的基材层进行输送,一边连续地形成光吸收各向异性层。基材层构成待形成光吸收各向异性层的层的一部分的情况下,可以将该层从卷抽出,并在该层上形成光吸收各向异性层。
通过在从卷绕体抽出的光学膜上层叠椭圆偏光板,能够得到长条状的光学层叠体。对于长条状的光学层叠体而言,可以对其进行卷绕而制成光学层叠体的卷绕体。
以下,对光学膜、光学层叠体及卷绕体所具有的各层、该层中包含的成分的详情等进行详述。
(光吸收各向异性层)
光吸收各向异性层包含1种以上的二向色性色素、和形成近晶相的液晶性化合物或其聚合物,并且在与光吸收各向异性层的面垂直的方向上具有吸收轴。由此,光吸收各向异性层能够具有来自正面方向的光容易透过、容易吸收来自倾斜方向的光这样的特性。
光吸收各向异性层包含1种二向色性色素即可,也可以包含2种以上的二向色性色素。关于二向色性色素的详情,在后文中说明。
光吸收各向异性层包含形成近晶相的液晶性化合物或其聚合物,该液晶性化合物优选为聚合性液晶化合物。液晶性化合物的聚合物可以显示出液晶性,也可以不显示液晶性。光吸收各向异性层可以由包含液晶性化合物的第1组合物形成,也可以为第1组合物中的聚合性液晶化合物进行聚合固化而成的液晶固化膜(聚合性液晶化合物的固化物层)。
第1组合物中包含的液晶性化合物只要是具有液晶性的化合物即可,没有特别限定,可以为低分子的液晶性化合物,也可以为高分子的液晶性化合物。液晶性化合物可以为具有聚合性基团的聚合性液晶化合物。光吸收各向异性层包含液晶性化合物的聚合物的情况下,该液晶性化合物通常为聚合性液晶化合物。关于液晶性化合物的详情,在后文中说明。
光吸收各向异性层的厚度优选为0.2μm以上5.0μm以下,更优选为0.5μm以上4.0μm以下,进一步优选为0.5μm以上3.0μm以下。若光吸收各向异性层的厚度变小,则来自倾斜方向的光吸收容易变弱,若厚度变大,则容易使二向色性色素的取向紊乱,因此容易降低正面方向的透过特性。
(二向色性色素)
所谓二向色性色素,是指具有分子的长轴方向上的吸光度与分子的短轴方向上的吸光度不同的性质的色素。作为二向色性色素,优选具有吸收可见光的特性,更优选在波长380~680nm的范围内具有吸收极大波长(λmax)。
作为这样的二向色性色素,例如,可举出吖啶色素、噁嗪色素、菁色素、萘色素、偶氮色素、及蒽醌色素等,其中,优选为偶氮色素。作为偶氮色素,可举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、及茋偶氮色素等,优选为双偶氮色素及三偶氮色素。二向色性色素可以单独也可以组合2种以上,但优选根据光吸收各向异性层中要求光吸收各向异性的波长范围而组合使用2种以上。
作为偶氮色素,例如,可举出式(7)表示的化合物。
T1-A1(-N=N-A2)p-N=N-A3-T2 (7)
[式(7)中,
A1、A2、及A3彼此独立地表示可具有取代基的1,4-亚苯基、可具有取代基的萘-1,4-二基、可具有取代基的苯甲酸苯基酯基、可具有取代基的4,4’-亚茋基、或可具有取代基的2价杂环基,
T1及T2表示吸电子基团或电子释放基团,位于相对于偶氮键面内而言实质上呈180°的位置。
p表示0~4的整数,在p为2以上的情况下,各个A2彼此可以相同也可以不同。
在于可见光区域内显示出吸收的范围内,-N=N-键可以替换为-C=C-、-COO-、-NHCO-、-N=CH-键。]
相对于光吸收各向异性层100质量份而言,光吸收各向异性层中的二向色性色素的含量优选为0.1质量份以上30质量份以下,也可以为0.5质量份以上20质量份以下,也可以为1质量份以上10质量份以下,也可以为1质量份以上5质量份以下。光吸收各向异性层中的二向色性色素的含有比例可以以相对于用于形成光吸收各向异性层的第1组合物的固态成分100质量份而言的二向色性色素的比例的形式算出。光吸收各向异性层包含2种以上的二向色性色素时的二向色性色素的含量是指其合计量。所谓第1组合物的固态成分,是指从第1组合物中除去有机溶剂等挥发性成分后的全部成分。
关于第1组合物中包含的二向色性色素的含量(在包含多种的情况下为其合计量),从获得良好的光吸收特性的观点考虑,相对于液晶性化合物100质量份而言,通常为1质量份以上60质量份以下,优选为1质量份以上40质量份以下,更优选为1质量份以上20质量份以下。二向色性色素的含量比该范围少时,则光吸收变得不充分,得不到充分的光吸收各向异性特性,比该范围多时,存在阻碍液晶性化合物的液晶分子的取向的情况。
(液晶性化合物及其聚合物)
用于形成光吸收各向异性层的第1组合物中包含的液晶性化合物是为了通过宾主相互作用使二向色性色素取向而使用的。该液晶性化合物可以为低分子的液晶性化合物,也可以为高分子的液晶性化合物。该液晶性化合物也可以为聚合性液晶化合物。本实施方式的液晶性化合物是能够形成近晶型液晶相的化合物。
聚合性液晶化合物是具有聚合性基团并且具有液晶性的化合物。聚合性基团是指参与聚合反应的基团,优选为光聚合性基团。此处,所谓光聚合性基团,是指能利用由后述的光聚合引发剂产生的活性自由基、酸等参与聚合反应的基团。作为聚合性基团,可举出乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰基氧基、甲基丙烯酰基氧基、氧杂环丙基、氧杂环丁基等。其中,优选为丙烯酰基氧基、甲基丙烯酰基氧基、乙烯基氧基、氧杂环丙基、及氧杂环丁基,更优选为甲基丙烯酰基氧基或丙烯酰基氧基。液晶性可以为热致液晶也可以为溶致液晶,在与上述的二向色性色素混合的情况下,优选为热致液晶。
在通过聚合反应而以液晶固化膜的形式呈现光吸收各向异性特性时,聚合性液晶化合物所显示的液晶状态为近晶相,从光学特性的高性能化的观点考虑,优选为高阶近晶相。其中,更优选为形成近晶B相、近晶D相、近晶E相、近晶F相、近晶G相、近晶H相、近晶I相、近晶J相、近晶K相、或近晶L相的高阶近晶型液晶化合物,进一步优选为形成近晶B相、近晶F相或近晶I相的高阶近晶型液晶性化合物。若聚合性液晶化合物所形成的液晶相为这些高阶近晶相,则能够制造光吸收各向异性特性更高的光吸收各向异性层。这样光吸收各向异性特性高的光吸收各向异性层在X射线衍射测定中可得到来自六角相、结晶相之类的高阶结构的布拉格峰。该布拉格峰是来自分子取向的周期结构的峰,对于光吸收各向异性层而言,其周期间隔可以为从可获得更高的光吸收各向异性特性这样的观点考虑,优选光吸收各向异性层包含以近晶相的状态进行了取向的聚合性液晶化合物的聚合物。
聚合性液晶化合物可以为单体,也可以为聚合性基团进行聚合而得到的低聚物,也可以为聚合物。作为这样的聚合性液晶化合物,可以使用已知的聚合性液晶化合物,例如可举出日本特开2020-76920号公报及日本专利第6728581号公报等中记载的聚合性液晶化合物。
液晶性化合物为上述的高分子的液晶性化合物的情况下,作为该液晶性聚合物,可以使用已知的液晶性聚合物,例如可举出日本特开2011-237513号公报等中记载的液晶性聚合物。
液晶性化合物可以单独使用1种,也可以组合使用2种以上。相对于光吸收各向异性层100质量份而言,光吸收各向异性层中的液晶性化合物的含量优选为40质量份以上99.9质量份以下,也可以为60质量份以上99质量份以下,也可以为70质量份以上99质量份以下。若液晶性化合物的含量在上述范围内,则有形成光吸收各向异性层时的液晶性化合物的取向性变高的倾向。光吸收各向异性层中的液晶性化合物或其聚合物的含有比例可以以相对于用于形成光吸收各向异性层的第1组合物的固态成分100质量份而言的液晶性化合物的比例的形式算出。
(光吸收各向异性层的形成方法)
光吸收各向异性层例如可以通过在基材层上涂布包含二向色性色素和液晶性化合物的第1组合物而形成。对于通过涂布第1组合物而形成的涂布层,可以进行用于将溶剂等除去的干燥处理等从而形成光吸收各向异性层。第1组合物包含聚合性液晶化合物的情况下,可以对干燥处理后的涂布层进行活性能量射线的照射等而使聚合性液晶化合物聚合,由此形成作为液晶固化膜的光吸收各向异性层。第1组合物可以涂布至基材层表面,也可以涂布至形成于基材层表面的第1取向层的表面。
第1组合物中的二向色性色素的含量(在包含多种的情况下为其合计量)可以根据二向色性色素的种类等而适宜地确定,从获得良好的光吸收特性的观点考虑,例如,相对于液晶性化合物100质量份而言,可以为1质量份以上60质量份以下,也可以为1质量份以上40质量份以下,也可以为1质量份以上20质量份以下。若二向色性色素的含量比上述的范围少,则光吸收各向异性层的光吸收能力变得不充分,有时得不到充分的光吸收各向异性。若二向色性色素的含量比上述的范围多,则有时阻碍液晶性化合物的取向。
第1组合物可以除了二向色性色素及液晶性化合物之外还包含溶剂。通常液晶性化合物的粘度高,因此,在很多情况下,使其溶解于溶剂而制成包含溶剂的第1组合物,由此,向基材层的涂布变得容易,作为结果,容易形成光吸收各向异性层。作为溶剂,优选为能将液晶性化合物完全溶解的溶剂,另外,优选为对于液晶性化合物的聚合反应而言为非活性的溶剂。作为溶剂,例如,可举出甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、乙二醇甲基醚、乙二醇丁基醚、及丙二醇单甲基醚等醇溶剂;乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁内酯、丙二醇甲基醚乙酸酯、及乳酸乙酯等酯溶剂;丙酮、甲基乙基酮、环戊酮、环己酮、2-庚酮、及甲基异丁基酮等酮溶剂;戊烷、己烷、及庚烷等脂肪族烃溶剂;甲苯及二甲苯等芳香族烃溶剂;乙腈等腈溶剂;四氢呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶剂;氯仿及氯苯等含氯溶剂;二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、及1,3-二甲基-2-咪唑啉酮等酰胺系溶剂等。这些溶剂可以单独使用,也可以组合使用2种以上。
相对于第1组合物的总量而言,第1组合物中的溶剂的含量优选为50~98质量%。换言之,第1组合物中的固态成分的含量优选为2~50质量%,更优选为5~30质量%,进一步优选为5~15质量%。若该固态成分的含量为2质量%以上,则容易确保光吸收各向异性层的厚度。若该固态成分的含量为50质量%以下,则第1组合物的粘度变低,因此容易以大致均匀的厚度形成光吸收各向异性层,有不易在光吸收各向异性层中产生不均的倾向。另外,即使在残留有溶剂的状态下,也容易施加热,因此,能够一边使溶剂挥发一边使第1组合物的涂布层相转变为液晶相,容易使液晶性化合物及二向色性色素进行取向,从这方面来看也是有利的。所述固态成分的含量可以考虑要制造的光吸收各向异性层的厚度来进行确定。
第1组合物优选还包含流平剂,也可以包含光聚合引发剂或热聚合引发剂等聚合引发剂、抗氧化剂、光敏化剂等添加剂。在基材层表面上直接涂布第1组合物时(不使用第1取向层时),第1组合物优选还包含取向促进剂。
所谓流平剂,是具有调整组合物的流动性、使涂布组合物而得到的膜更平坦的功能的添加剂。第1组合物可以包含硅系流平剂、聚丙烯酸酯系流平剂、全氟烷基系等氟系流平剂,优选包含硅系流平剂。通过使第1组合物包含硅系流平剂,从而容易抑制光吸收各向异性层的粘连。第1组合物含有硅系流平剂的情况下,其含量可举出例如作为光吸收各向异性层中的含量而进行说明的后述范围。
硅系流平剂是包含硅原子的流平剂,优选使用具有聚有机硅氧烷骨架的流平剂等。作为与聚有机硅氧烷中的硅原子(形成硅氧烷键的硅原子)键合的基团,可举出烃基等。其中,优选为碳原子数1~10的烷基、碳原子数1~10的烷氧基、碳原子数1~10的酯基、及芳基,更优选为甲基及苯基,进一步优选为甲基。与上述硅原子键合的基团可以仅为1种,也可以为2种以上。硅氧烷单元的重复数(聚合度)没有特别限定,但优选为2~10000,更优选为3~5000,进一步优选为5~1000。
硅系流平剂可以使用市售品。作为硅系流平剂的市售品,例如可举出BYK-300、BYK-302、BYK-306、BYK-307、BYK-310、BY K-313、BYK-315N、BYK-320、BYK-322、BYK-323、BYK-325、BYK-330、BYK-331、BYK-333、BYK-337、BYK-342、BYK-345、BYK-346、BYK-347、BYK-348、BYK-349、BYK-370、BYK-377、BYK-378、BYK-3455、BYK-UV3510(以上为BYK ChemieJapan K.K.制)、KF-945、KF-6015、KF-6020(以上为信越化学工业(株)制)、TEGORad2300、TEGORad2200N、TEGORad2011(Degussa公司制),作为在聚醚链中加成有(甲基)丙烯酰基等自由基聚合性基团的硅系流平剂,可举出BYK-UV3500、BYK-UV3505、BYK-3510、BYK-UV3530、BYK-UV3570、BYK-UV3575、BYK-UV3576(以上为BYK Chemie Japan K.K.制)、KP-422、KP-416、KP-418、KP-410、KP-411、KP-412、KP-413、KP-423、KP-414、KP-415、KP-420、KP-983(以上为信越化学工业(株)制)等。
相对于光学膜的光吸收各向异性层中包含的液晶化合物或其聚合物的总量100质量份而言,硅系流平剂优选为0.01质量份以上5.0质量份以下,更优选为0.05质量份以上3.0质量份以下,进一步优选为0.05质量份以上2.0质量份以下,更进一步优选为0.1质量份以上1.0质量份以下,特别优选为0.1质量份以上0.5质量份以下。光吸收各向异性层中的液晶性化合物或其聚合物的含量、及硅系流平剂的含量可以作为用于形成光吸收各向异性层的第1组合物中的液晶性化合物及硅系流平剂的含量而算出。通过使硅系流平剂的含量在上述的范围内,从而容易将光学膜的雾度调整至上述范围内。通过使硅系流平剂的含量为5.0质量份以下,从而容易抑制在基材层上涂布第1组合物时的凹陷。
聚合引发剂可在第1组合物包含聚合性液晶化合物等参与聚合反应的化合物的情况下使用,是能引发该化合物的聚合反应的化合物。作为引发聚合性液晶化合物的聚合反应的聚合引发剂,从不依赖于热致液晶的相状态这样的观点考虑,优选为通过光的作用而产生活性自由基的光聚合引发剂。
光聚合引发剂只要是能引发聚合性液晶化合物等的聚合反应的化合物即可,可以使用已知的光聚合引发剂。具体而言,可举出能够通过光的作用而产生活性自由基或酸的光聚合引发剂,其中,优选为通过光的作用而产生自由基的光聚合引发剂。光聚合引发剂可以单独使用或者组合使用两种以上。
光聚合引发剂可以使用已知的光聚合引发剂。例如,作为产生活性自由基的光聚合引发剂,可以使用:
自裂解型的苯偶姻系化合物、苯乙酮系化合物、羟基苯乙酮系化合物、α-氨基苯乙酮系化合物、肟酯系化合物、酰基氧化膦系化合物、偶氮系化合物等,以及,
夺氢型的二苯甲酮系化合物、烷基苯酮系化合物、安息香醚系化合物、苯偶酰缩酮系化合物、二苯并环庚酮系化合物、蒽醌系化合物、呫吨酮系化合物、噻吨酮系化合物、卤代苯乙酮系化合物、二烷氧基苯乙酮系化合物、卤代双咪唑系化合物、卤代三嗪系化合物、三嗪系化合物等。
作为产生酸的光聚合引发剂,可以使用碘鎓盐及锍盐等。
从低温时的反应效率优异这样的观点考虑,光聚合引发剂优选为自裂解型的光聚合引发剂,特别优选为苯乙酮系化合物、羟基苯乙酮系化合物、α-氨基苯乙酮系化合物、肟酯系化合物。
第1组合物中的聚合引发剂的含量可以根据聚合性液晶化合物的种类及其量而适宜地调节,相对于聚合性液晶化合物的含量100质量份而言,通常为0.1~30质量份,优选为0.5~10质量份,更优选为0.5~8质量份。若聚合引发剂的含量在上述范围内,则能够在不使聚合性液晶化合物的取向紊乱的情况下进行聚合。
取向促进剂是指促进聚合性液晶化合物沿所期望的方向的液晶取向的材料。作为促进聚合性液晶化合物沿垂直方向的取向的取向促进剂,可举出由非金属原子形成的离子性化合物及非离子性硅烷化合物等。形成光吸收各向异性层的第1组合物优选包含由非金属原子形成的离子性化合物及非离子性硅烷化合物中的至少1种,更优选同时包含由非金属原子形成的离子性化合物及非离子性硅烷化合物。
作为硅烷化合物,可使用后述的非离子性硅烷化合物、含有硅烷的离子性化合物等,通过使用这些硅烷化合物,能够提高垂直取向控制力。这些硅烷化合物可以单独使用1种,也可以组合2种以上而使用,还可以与其他材料混合而使用。硅烷化合物为非离子性硅烷化合物的情况下,从容易提高垂直取向控制力的观点考虑,优选为在分子末端具有烷基的硅烷化合物,更优选为具有碳原子数3~30的烷基的硅烷化合物。
形成光吸收各向异性层的第1组合物包含由非金属原子形成的离子性化合物的情况下,在形成于基材层上的第1组合物的干燥涂膜中,通过静电相互作用而呈现对聚合性液晶化合物的垂直取向控制力,有聚合性液晶化合物在干燥涂膜内沿与基材层的表面垂直的方向取向的倾向。由此,能够保持聚合性液晶化合物进行了垂直取向的状态并形成作为液晶固化膜的光吸收各向异性层。
作为由非金属原子形成的离子性化合物,例如,可举出鎓盐(更具体而言为氮原子具有正电荷的季铵盐、叔锍盐、及磷原子具有正电荷的季鏻盐等)。这些鎓盐之中,从能进一步提高聚合性液晶化合物的垂直取向性的观点考虑,优选为季鎓盐,从提高获得性及量产性的观点考虑,更优选为季鏻盐或季铵盐。鎓盐可以在分子内具有2个以上的季鎓盐部位,也可以为低聚物、聚合物。
离子性化合物的分子量优选为100以上10,000以下。若分子量在上述的范围内,则容易在确保第1组合物的涂布性的情况下提高聚合性液晶化合物的垂直取向性。离子性化合物的分子量更优选为5000以下,进一步优选为3000以下。
作为离子性化合物的阳离子成分,例如,可举出无机阳离子及有机阳离子。其中,从不易产生聚合性液晶化合物的取向缺陷的方面考虑,优选为有机阳离子。作为有机阳离子,例如,可举出咪唑鎓阳离子、吡啶鎓阳离子、铵阳离子、锍阳离子及鏻阳离子等。
离子性化合物通常具有抗衡阴离子。作为成为上述阳离子成分的抗衡离子的阴离子成分,例如,可举出无机阴离子及有机阴离子。其中,从不易产生聚合性液晶化合物的取向缺陷的方面考虑,优选有机阴离子。需要说明的是,阳离子与阴离子并非必须一对一地对应。
作为阴离子成分,具体而言,例如可举出以下的这样的阴离子成分。
氯化物阴离子〔Cl-〕,
溴化物阴离子〔Br-〕,
碘化物阴离子〔I-〕,
四氯铝酸根阴离子〔AlCl4 -〕,
七氯二铝酸根阴离子〔Al2Cl7 -〕,
四氟硼酸根阴离子〔BF4 -〕,
六氟磷酸根阴离子〔PF6 -〕,
高氯酸根阴离子〔ClO4 -〕,
硝酸根阴离子〔NO3 -〕,
乙酸根阴离子〔CH3COO-〕,
三氟乙酸根阴离子〔CF3COO-〕,
氟磺酸根阴离子〔FSO3 -〕,
甲磺酸根阴离子〔CH3SO3 -〕,
三氟甲磺酸根阴离子〔CF3SO3 -〕,
对甲苯磺酸根阴离子〔p-CH3C6H4SO3 -〕,
双(氟磺酰基)亚胺阴离子〔(FSO2)2N-〕,
双(三氟甲磺酰基)亚胺阴离子〔(CF3SO2)2N-〕,
三(三氟甲磺酰基)甲烷阴离子〔(CF3SO2)3C-〕,
六氟砷酸根阴离子〔AsF6 -〕,
六氟锑酸根阴离子〔SbF6 -〕,
六氟铌酸根阴离子〔NbF6 -〕,
六氟钽酸根阴离子〔TaF6 -〕,
二甲基次膦酸根阴离子〔(CH3)2POO-〕,
(多)氢氟氟化物((Poly)hydrofluorofluoride)阴离子〔F(HF)n-〕(例如,n表示1~3的整数),
二氰胺阴离子〔(CN)2N-〕,
硫氰根阴离子〔SCN-〕,
全氟丁磺酸根阴离子〔C4F9SO3 -〕,
双(五氟乙磺酰基)亚胺阴离子〔(C2F5SO2)2N-〕,
全氟丁酸根阴离子〔C3F7COO-〕,以及
(三氟甲磺酰基)(三氟甲基羰基)亚胺阴离子〔(CF3SO2)(CF3CO)N-〕。
离子性化合物的具体例可以从上述阳离子成分与阴离子成分的组合中适宜地选择。关于作为具体的阳离子成分与阴离子成分的组合的化合物,可举出以下这样的化合物。
(吡啶鎓盐)
N-己基吡啶鎓六氟磷酸盐,
N-辛基吡啶鎓六氟磷酸盐,
N-甲基-4-己基吡啶鎓六氟磷酸盐,
N-丁基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸盐,
N-辛基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸盐,
N-己基吡啶鎓双(氟磺酰基)亚胺,
N-辛基吡啶鎓双(氟磺酰基)亚胺,
N-甲基-4-己基吡啶鎓双(氟磺酰基)亚胺,
N-丁基-4-甲基吡啶鎓双(氟磺酰基)亚胺,
N-辛基-4-甲基吡啶鎓双(氟磺酰基)亚胺,
N-己基吡啶鎓双(三氟甲磺酰基)亚胺,
N-辛基吡啶鎓双(三氟甲磺酰基)亚胺,
N-甲基-4-己基吡啶鎓双(三氟甲磺酰基)亚胺,
N-丁基-4-甲基吡啶鎓双(三氟甲磺酰基)亚胺,
N-辛基-4-甲基吡啶鎓双(三氟甲磺酰基)亚胺,
N-己基吡啶鎓对甲苯磺酸盐,
N-辛基吡啶鎓对甲苯磺酸盐,
N-甲基-4-己基吡啶鎓对甲苯磺酸盐,
N-丁基-4-甲基吡啶鎓对甲苯磺酸盐,以及
N-辛基-4-甲基吡啶鎓对甲苯磺酸盐。
(咪唑鎓盐)
1-乙基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸盐,
1-乙基-3-甲基咪唑鎓双(氟磺酰基)亚胺,
1-乙基-3-甲基咪唑鎓双(三氟甲磺酰基)亚胺,
1-乙基-3-甲基咪唑鎓对甲苯磺酸盐,
1-丁基-3-甲基咪唑鎓甲烷磺酸盐等。
(吡咯烷鎓盐)
N-丁基-N-甲基吡咯烷鎓六氟磷酸盐,
N-丁基-N-甲基吡咯烷鎓双(氟磺酰基)亚胺,
N-丁基-N-甲基吡咯烷鎓双(三氟甲磺酰基)亚胺,
N-丁基-N-甲基吡咯烷鎓对甲苯磺酸盐等。
(铵盐)
四丁基铵六氟磷酸盐,
四丁基铵双(氟磺酰基)亚胺,
四己基铵双(氟磺酰基)亚胺,
三辛基甲基铵双(氟磺酰基)亚胺,
(2-羟基乙基)三甲基铵双(氟磺酰基)亚胺,
四丁基铵双(三氟甲磺酰基)亚胺,
四己基铵双(三氟甲磺酰基)亚胺,
三辛基甲基铵双(三氟甲磺酰基)亚胺,
(2-羟基乙基)三甲基铵双(三氟甲磺酰基)亚胺,
四丁基铵对甲苯磺酸盐,
四己基铵对甲苯磺酸盐,
三辛基甲基铵对甲苯磺酸盐,
(2-羟基乙基)三甲基铵对甲苯磺酸盐,
(2-羟基乙基)三甲基铵二甲基次膦酸盐,
1-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)-1,1,1-三丁基铵双(三氟甲磺酰基)亚胺,
1-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)-1,1,1-三甲基铵双(三氟甲磺酰基)亚胺,
1-(3-三甲氧基甲硅烷基丁基)-1,1,1-三丁基铵双(三氟甲磺酰基)亚胺,
1-(3-三甲氧基甲硅烷基丁基)-1,1,1-三甲基铵双(三氟甲磺酰基)亚胺,
N-{(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基甲酰基氧基乙基)}-N,N,N-三甲基铵双(三氟甲磺酰基)亚胺,以及
N-[2-{3-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基氨基)-1-氧代丙氧基}乙基]-N,N,N-三甲基铵双(三氟甲磺酰基)亚胺。
(鏻盐)
三丁基(2-甲氧基乙基)鏻双(三氟甲磺酰基)亚胺,
三丁基甲基鏻双(三氟甲磺酰基)亚胺,
1,1,1-三甲基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]鏻双(三氟甲磺酰基)亚胺,
1,1,1-三甲基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]鏻双(三氟甲磺酰基)亚胺,
1,1,1-三甲基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]鏻双(三氟甲磺酰基)亚胺,
1,1,1-三甲基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]鏻双(三氟甲磺酰基)亚胺,
1,1,1-三丁基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]鏻双(三氟甲磺酰基)亚胺,
1,1,1-三丁基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]鏻双(三氟甲磺酰基)亚胺,以及
1,1,1-三丁基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]鏻双(三氟甲磺酰基)亚胺。
这些离子性化合物各自可以单独使用,也可以组合使用2种以上。
从能进一步提高聚合性液晶化合物的垂直取向性的观点考虑,离子性化合物优选在阳离子部位的分子结构中具有Si元素及/或F元素。若离子性化合物在阳离子部位的分子结构中具有Si元素及/或F元素,则容易使离子性化合物在光吸收各向异性层的表面上偏析。其中,作为构成元素全部为非金属元素的离子性化合物,优选为下述离子性化合物(i)~(iii)等。
离子性化合物(i):
[化学式1]
离子性化合物(ii):
[化学式2]
离子性化合物(iii)
[化学式3]
作为提高聚合性液晶化合物的垂直取向性的方法,例如,使用具有链长在一定程度上较长的烷基的表面活性剂对基材表面进行处理的方法是已知的(例如,参见“液晶便览”的第2章液晶的取向和物性(丸善株式会社发行)等)。这样的利用表面活性剂提高液晶化合物的垂直取向性的方法也可以适用于离子性化合物。即,通过使用具有链长在一定程度上较长的烷基的离子性化合物对基材层表面进行处理,能够有效地提高聚合性液晶化合物的垂直取向性。
具体而言,离子性化合物优选满足下述关系:
5<M<16。
上述关系的M由下述式表示。
M=(直接键合于具有正电荷的原子上的取代基之中的到分子链末端为止的共价键数最多的取代基的、从具有正电荷的原子到分子链末端为止的共价键数)÷(具有正电荷的原子的数量)
通过使离子性化合物满足上述的关系,能够有效地提高聚合性液晶化合物的垂直取向性。
在离子性化合物的分子中存在2个以上的具有正电荷的原子的情况下,对于含有2个以上的具有正电荷的原子的取代基,将从视作基点的具有正电荷的原子起算、到最近的其他具有正电荷的原子为止的共价键数作为上述M的定义中记载的“从具有正电荷的原子到分子链末端为止的共价键数”。在离子性化合物为具有2个以上的重复单元的低聚物、聚合物的情况下,将结构单元视作一个分子,算出上述M。在具有正电荷的原子被组入环结构中的情况下,将经由环结构到该具有正电荷的原子为止的共价键数、或到键合于环结构的取代基的末端为止的共价键数之中共价键数较多的一方作为上述M的定义中记载的“从具有正电荷的原子到分子链末端为止的共价键数”。
在形成光吸收各向异性层的聚合性液晶组合物包含离子性化合物的情况下,其含量通常相对于第1组合物的固态成分而言优选为0.01~5质量%,更优选为0.05~4质量%,进一步优选为0.1~3质量%。若离子性化合物的含量在上述范围内,则能够维持第1组合物的良好的涂布性,并且有效地促进聚合性液晶化合物的垂直取向性。
在形成光吸收各向异性层的第1组合物包含非离子性硅烷化合物的情况下,存在下述倾向:非离子性硅烷化合物使第1组合物的表面张力降低,在基材层上由第1组合物形成的干燥涂膜中,在干燥涂膜的与基材层呈相反侧的面存在非离子性硅烷化合物,提高对聚合性液晶化合物的垂直取向控制力,在干燥涂膜内聚合性液晶化合物沿与基材层表面垂直的方向进行取向。由此,能够保持聚合性液晶化合物进行了垂直取向的状态并形成作为液晶固化膜的光吸收各向异性层。
非离子性硅烷化合物是非离子性并且包含Si元素的化合物。作为非离子性硅烷化合物,例如,可举出聚硅烷这样的硅聚合物、硅油及有机硅树脂这样的有机硅树脂、以及有机硅低聚物、倍半硅氧烷及烷氧基硅烷这样的有机无机硅烷化合物(更具体而言为硅烷偶联剂等)、流平剂的项中记载的含硅烷的化合物等。
非离子性硅烷化合物可以为有机硅单体类型的化合物,也可以为有机硅低聚物(聚合物)类型的化合物。将有机硅低聚物以(单体)-(单体)共聚物的形式表示时,可举出3-巯基丙基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、3-巯基丙基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、3-巯基丙基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物及3-巯基丙基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物这样的含有巯基丙基的共聚物;巯基甲基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、巯基甲基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、巯基甲基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物及巯基甲基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物这样的含有巯基甲基的共聚物;3-甲基丙烯酰基氧基丙基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、3-甲基丙烯酰基氧基丙基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、3-甲基丙烯酰基氧基丙基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、3-甲基丙烯酰基氧基丙基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、3-甲基丙烯酰基氧基丙基甲基二甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、3-甲基丙烯酰基氧基丙基甲基二甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、3-甲基丙烯酰基氧基丙基甲基二乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物及3-甲基丙烯酰基氧基丙基甲基二乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物这样的含有甲基丙烯酰基氧基丙基的共聚物;3-丙烯酰基氧基丙基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、3-丙烯酰基氧基丙基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、3-丙烯酰基氧基丙基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、3-丙烯酰基氧基丙基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、3-丙烯酰基氧基丙基甲基二甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、3-丙烯酰基氧基丙基甲基二甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、3-丙烯酰基氧基丙基甲基二乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物及3-丙烯酰基氧基丙基甲基二乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物这样的含有丙烯酰基氧基丙基的共聚物;乙烯基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、乙烯基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、乙烯基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、乙烯基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、乙烯基甲基二甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、乙烯基甲基二甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、乙烯基甲基二乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物及乙烯基甲基二乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物这样的含有乙烯基的共聚物;3-氨基丙基三甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、3-氨基丙基三甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、3-氨基丙基三乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、3-氨基丙基三乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物、3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物、3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷-四甲氧基硅烷共聚物及3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷-四乙氧基硅烷共聚物这样的含有氨基的共聚物等。这些非离子性硅烷化合物可以单独使用1种,或者也可以组合使用2种以上。其中,从进一步提高与相邻层的密合性的观点考虑,优选为硅烷偶联剂。
硅烷偶联剂是在末端具有选自由乙烯基、环氧基、苯乙烯基、甲基丙烯酸系基团、丙烯酸系基团、氨基、异氰脲酸酯基、脲基、巯基、异氰酸酯基、羧基、及羟基组成的组中的至少1种这样的官能团、和至少1个烷氧基甲硅烷基或硅烷醇基的包含Si元素的化合物。通过适宜地选定这些官能团,能够赋予光吸收各向异性层的机械强度的提高、光吸收各向异性层的表面改性、光吸收各向异性层与相邻层(例如,基材层)的密合性提高等优异的效果。从密合性的观点考虑,硅烷偶联剂优选为具有烷氧基甲硅烷基和另一个不同的反应基团(例如,上述官能团)的硅烷偶联剂。硅烷偶联剂优选为具有烷氧基甲硅烷基和极性基团的硅烷偶联剂。若硅烷偶联剂在其分子内具有至少1个烷氧基甲硅烷基、和至少1个极性基团,则有容易进一步提高聚合性液晶化合物的垂直取向性、可显著获得促进垂直取向的效果的倾向。作为极性基团,例如,可举出环氧基、氨基、异氰脲酸酯基、巯基、羧基及羟基。极性基团可以为了控制硅烷偶联剂的反应性而适宜地具有取代基或保护基。
作为硅烷偶联剂,具体而言,例如可举出乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-三乙氧基甲硅烷基-N-(1,3-二甲基-丁叉)丙基胺、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰基氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基二甲氧基甲基硅烷、及3-环氧丙氧基丙基乙氧基二甲基硅烷。
作为市售的硅烷偶联剂,例如,可举出KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22-161A、KF6001、KBM-1003、KBE-1003、KBM-303、KBM-402、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-1403、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-602、KBM-603、KBM-903、KBE-903、KBE-9103、KBM-573、KBM-575、KBM-9659、KBE-585、KBM-802、KBM-803、KBE-846、及KBE-9007这样的信越化学工业(株)制的硅烷偶联剂。
在形成光吸收各向异性层的聚合性液晶组合物包含非离子性硅烷化合物的情况下,其含量通常相对于第1组合物的固态成分而言优选为0.01质量%~5质量%,更优选为0.05质量%~4质量%,进一步优选为0.1质量%~3质量%。若非离子性硅烷化合物的含量在前述范围内,则能够维持第1组合物的良好的涂布性,并且有效地促进聚合性液晶化合物的垂直取向性。
通过使形成光吸收各向异性层的第1组合物包含离子性化合物及非离子性硅烷化合物这两者,从而在基材层上由第1组合物形成的干燥涂膜中,利用来自离子性化合物的静电相互作用、和来自非离子性硅烷化合物的表面张力降低效果,容易进一步促进聚合性液晶化合物的垂直取向。由此,能够保持聚合性液晶化合物更加精度良好地垂直取向的状态而形成作为液晶固化膜的光吸收各向异性层。
第1组合物可以通过对二向色性色素及液晶性化合物、以及根据需要使用的溶剂、取向促进剂、聚合引发剂及流平剂等添加剂进行搅拌而得到。
作为涂布第1组合物的方法,可举出旋涂法、挤出法、凹版涂覆法、模涂法、刮棒涂覆法、涂布器法等涂布法、柔版法等印刷法等已知的方法。
优选对在基材层上形成的第1组合物的涂布层进行干燥处理。第1组合物包含溶剂的情况下,可以通过对涂布层进行干燥而将涂布层中的溶剂除去。作为干燥方法,可举出已知的方法,可举出自然干燥法、加热干燥法、通风干燥法、减压干燥法等中的1种以上方法。
干燥处理中的干燥条件可以根据第1组合物中包含的成分而适宜地确定。例如,干燥处理中的干燥温度为50℃以上150℃以下,也可以为60℃以上120℃以下。干燥处理中的干燥时间为15秒以上10分钟以下,也可以为0.5分钟以上5分钟以下。
在干燥处理中进行加热处理的情况下,可以加热至使第1组合物中包含的液晶性化合物发生相变的液晶相转变温度以上的温度,由此,在将涂布层中的溶剂除去的同时使液晶性化合物取向。尤其是在使形成近晶相的液晶性化合物沿着与光吸收各向异性层的面垂直的方向取向的情况下,优选在转变为近晶相的温度区域内进行加热。由此,能够使液晶性化合物沿着与光吸收各向异性层的面垂直的方向取向,伴随着液晶性化合物的取向,还能够使二向色性色素取向。
或者,在基材层表面设置第1取向层的情况下,可以利用第1取向层的取向控制力使涂布层中的液晶性化合物及二向色性色素取向。
在第1组合物不包含聚合性液晶化合物的情况下,可以在如上述那样使液晶性化合物及二向色性色素取向后将溶剂除去,由此得到光吸收各向异性层。
在第1组合物包含聚合性液晶化合物的情况下,可以对形成于基材层上的涂布层进行干燥,在使聚合性液晶化合物及二向色性色素进行了取向的状态下照射活性能量射线,使聚合性液晶化合物进行聚合固化,由此形成液晶性化合物及二向色性色素取向了的光吸收各向异性层。
作为使聚合性液晶化合物聚合的方法,优选为光聚合。光聚合可通过向包含在基材层上涂布包含聚合性液晶化合物的第1组合物而得到的涂布层的层叠结构体照射活性能量射线来实施。作为照射的活性能量射线,可根据涂布层中包含的聚合性液晶化合物的种类(尤其是聚合性液晶化合物所具有的光聚合性官能团的种类)、包含光聚合引发剂时的光聚合引发剂的种类、以及它们的量而适宜地选择。具体而言,可举出选自由可见光、紫外光、红外光、X射线、α射线、β射线、及γ射线组成的组中的一种以上的光。其中,从容易控制聚合反应的进行的方面、及可以使用作为光聚合装置而在本领域中广泛应用的装置这样的方面考虑,优选为紫外光,优选以能利用紫外光进行光聚合的方式选择聚合性液晶化合物的种类。
作为活性能量射线的光源,例如,可举出低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、氙灯、卤素灯、碳弧灯、钨灯、镓灯、准分子激光、发出波长范围380~440nm的光的LED光源、化学灯、黑光灯、微波激发汞灯、金属卤化物灯等。
紫外线照射强度通常为10mW/cm2~3,000mW/cm2。紫外线照射强度优选为对阳离子聚合引发剂或自由基聚合引发剂的活化有效的波长区域中的强度。照射光的时间通常为0.1秒~10分钟,优选为1秒~5分钟,更优选为5秒~3分钟,进一步优选为10秒~1分钟。以这样的紫外线照射强度进行1次或多次照射时,其累积光量为10mJ/cm2~3,000mJ/cm2,优选为50mJ/cm2~2,000mJ/cm2,更优选为100mJ/cm2~1,000mJ/cm2。在累积光量为该范围以下时,存在聚合性液晶化合物的固化变得不充分、在将光吸收各向异性层转印于被粘物时得不到良好的转印性的情况。相反地,在累积光量为该范围以上时,存在光吸收各向异性层着色的情况。
第1取向层使液晶性化合物的液晶取向容易进行。液晶取向的状态根据第1取向层及液晶性化合物的性质而变化,其组合可以任意选择。
在第1取向层由取向性聚合物形成的情况下,取向控制力可以通过表面状态、摩擦条件而任意地调整。在第1取向层由光取向性聚合物形成的情况下,可以通过偏振光照射条件等而任意地调整取向控制力。另外,也可以通过选择液晶性化合物的表面张力、液晶性等物性来控制液晶取向。
作为第1取向层,优选为不溶于在第1取向层上形成光吸收各向异性层时所使用的溶剂、而且具有用于进行溶剂的除去、液晶的取向的加热处理中的耐热性的取向层。作为第1取向层,可举出由取向性聚合物形成的聚合物取向层、光取向层及沟槽(groove)取向层、沿取向方向进行了拉伸的拉伸膜等,在应用于长条的卷状膜的情况下,从能够容易地控制取向方向的方面考虑,优选为光取向层。
第1取向层的厚度通常为10nm~5000nm的范围,优选为10nm~1000nm的范围,更优选为30~300nm。
作为摩擦取向层中使用的取向性聚合物,可举出在分子内具有酰胺键的聚酰胺、明胶类、在分子内具有酰亚胺键的聚酰亚胺及作为其水解物的聚酰胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯酰胺、聚噁唑、聚乙烯亚胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯类等。其中,优选为聚乙烯醇。这些取向性聚合物可以单独使用,也可以组合使用2种以上。
作为摩擦的方法,可举出下述方法:使通过将取向性聚合物组合物涂布于构成基材层的层并进行退火而以构成基材层表面的方式形成的取向性聚合物的膜与缠绕有摩擦布并进行旋转的摩擦辊接触。
光取向层由具有光反应性基团的聚合物、低聚物或单体形成。对于光取向层而言,可通过向将用于形成光取向层的组合物涂布于构成基材层的层而形成的涂布层照射偏振光而获得取向控制力。从可以通过对照射的偏振光的偏振方向进行选择来任意地控制取向控制力的方向的方面考虑,更优选为光取向层。
所谓光反应性基团,是指通过照射光而产生液晶取向能力的基团。具体而言,是发生通过照射光而产生的分子的取向诱发或异构化反应、二聚化反应、光交联反应或光分解反应这样的成为液晶取向能力的来源的光反应的基团。该光反应性基团之中,发生二聚化反应或光交联反应的基团从取向性优异的方面考虑是优选的。作为能发生以上这样的反应的光反应性基团,优选为具有不饱和键、尤其是双键的基团,更优选为具有选自由碳-碳双键(C=C键)、碳-氮双键(C=N键)、氮-氮双键(N=N键)、及碳-氧双键(C=O键)组成的组中的至少一种的基团。
作为具有C=C键的光反应性基团,例如,可举出乙烯基、多烯基、茋基、茋唑基、茋唑鎓基、查尔酮基及肉桂酰基等。从容易控制反应性这一点、光取向时的取向控制力的呈现的观点考虑,优选为查尔酮基及肉桂酰基。作为具有C=N键的光反应性基团,可举出具有芳香族席夫碱及芳香族腙等结构的基团。作为具有N=N键的光反应性基团,可举出偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族杂环偶氮基、双偶氮基及甲臜基等、以氧化偶氮苯为基本结构的基团。作为具有C=O键的光反应性基团,可举出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及马来酰亚胺基等。这些基团可以具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙基氧基、氰基、烷氧基羰基、羟基、磺酸基及卤代烷基等取代基。
为了照射偏振光,可以为从用于形成光取向层的组合物的涂布层的膜面直接照射偏振光的方式,也可以为从基底层侧照射偏振光、使偏振光透过从而进行照射的方式。另外,该偏振光特别优选实质上为平行光。照射的偏振光的波长为具有光反应性基团的聚合物或单体的光反应性基团可吸收光能的波长区域的波长即可。具体而言,特别优选为波长250~400nm的范围的UV(紫外光)。作为该偏振光照射中使用的光源,可举出氙灯、高压汞灯、超高压汞灯、金属卤化物灯、KrF、ArF等紫外光激光等,更优选为高压汞灯、超高压汞灯及金属卤化物灯。这些灯的波长313nm的紫外光的发光强度大,因此优选。可以使来自上述光源的光通过适当的偏光片而进行照射,由此照射偏振光。作为所述偏光片,可以使用偏振滤光片、格兰-汤普森、格兰-泰勒等的偏光棱镜、线栅型的偏光片。
(基材层)
基材层可以构成光学膜的一部分,对光吸收各向异性层进行支撑。基材层可以为待涂布用于形成光吸收各向异性层的第1组合物的层。基材层可以为单层结构,也可以为多层结构。在形成光吸收各向异性层时,使用上述的第1取向层的情况下,在基材层的表面上,在待形成光吸收各向异性层的一侧形成第1取向层即可。
基材层可以包含膜基材、涂层、及玻璃基材中的1种以上。基材层优选包含膜基材,也可以为膜基材与其他层的层叠体。基材层例如可以为在膜基材的一面或两面形成涂层而得到的带有涂层的膜、在膜基材的与光吸收各向异性层侧相反的一侧的表面层叠保护膜而得到的带有保护膜的膜、或者在膜基材的一个表面形成涂层并且在另一个表面层叠保护膜而得到的膜等。
构成膜基材的树脂优选为选自由聚酰亚胺系树脂、纤维素酯系树脂、环状烯烃系树脂、聚酯系树脂、及(甲基)丙烯酸系树脂组成的组中的1种以上,更优选为选自由聚酯系树脂及(甲基)丙烯酸系树脂组成的组中的1种以上。
作为构成膜基材的树脂,例如,可举出聚乙烯、聚丙烯等烯烃树脂;具有环系或降冰片烯结构的环状烯烃系树脂;聚乙烯醇;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂;(甲基)丙烯酸系树脂;三乙酸纤维素、二乙酸纤维素及纤维素乙酸酯丙酸酯等纤维素酯系树脂;聚酰亚胺系树脂;聚碳酸酯;聚砜;聚醚砜;聚醚酮;聚苯硫醚;聚苯醚等。所谓“(甲基)丙烯-”,是指“丙烯-”及“甲基丙烯-”中的至少一者。对于(甲基)丙烯酰基等的表述而言也同样。
作为膜基材,可以使用市售的纤维素酯树脂膜。作为这样的纤维素酯树脂膜,可举出“Fujitac Film”(Fuji Photo Film Co.,Lt d.制);“KC8UX2M”、“KC8UY”及“KC4UY”(以上为KONI CA MINOLTA Opto株式会社制)等。
作为构成膜基材的环状烯烃树脂,也可以使用市售的环状烯烃系树脂。作为这样的环状烯烃系树脂,可举出“Topas”(注册商标)(Ticona公司(德国)制)、“ARTON”(注册商标)(JSR株式会社制)、“ZEONOR(ゼオノア)”(注册商标)、“ZEONEX(ゼオネックス)”(注册商标)(以上为日本Zeon株式会社制)及“Apel”(注册商标)(三井化学株式会社制)。这些环状烯烃系树脂可以通过溶剂流延法、熔融挤出法等已知的手段进行制膜而制成膜基材。
作为膜基材,也可以使用市售的环状烯烃系树脂基材。作为这样的环状烯烃系树脂基材,可举出“Escena”(注册商标)、“SC A40”(注册商标)(以上为积水化学工业株式会社制)、“ZEON ORFILM”(注册商标)(OPTES株式会社制)及“ARTONFILM”(注册商标)(JSR株式会社制)。
在基材层为涂层的情况下,例如,可以使用上述的带有涂层的膜,在该带有涂层的膜上形成光吸收各向异性层,将膜基材剥离从而得到光学膜。或者,也可以在将该膜基材剥离之前将光吸收各向异性层与椭圆偏光板层叠,然后将膜基材剥离。通过在膜基材的待形成涂层的一侧的表面进行经由脱模剂等的涂布等而形成脱模层的脱模处理,从而膜基材变得容易剥离。通过这样将膜基材剥离,能够以光学膜的形式将作为基材层的涂层和光吸收各向异性层应用于光学层叠体或显示装置。
作为涂层,可举出:在膜基材的表面涂布硬涂剂、易粘接组合物或偶联剂等而形成的层;通过在涂布反应性单体或具有反应性的聚合物等之后照射活性能量射线而使他们进行接枝聚合从而形成的层;等等。作为带有涂层的膜,优选为具有硬涂层作为涂层的硬涂膜。基材层为硬涂膜的情况下,优选在硬涂层侧层叠光吸收各向异性层。作为涂层,优选为硬涂层。
硬涂层优选为包含活性能量射线固化型树脂的固化性组合物的固化物层,更优选为包含紫外线固化型树脂的组合物的固化物层。包含紫外线固化型树脂的固化性组合物优选包含(甲基)丙烯酸系化合物作为固化性成分,硬涂层优选由(甲基)丙烯酸系树脂形成。(甲基)丙烯酸系化合物为具有至少1个(甲基)丙烯酰基的化合物,可以为单体、低聚物或聚合物。
作为(甲基)丙烯酸系化合物,例如可举出:单官能(甲基)丙烯酸酯化合物、多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等(甲基)丙烯酸酯化合物;多官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物等氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物;多官能环氧(甲基)丙烯酸酯化合物等环氧(甲基)丙烯酸酯化合物;羧基改性环氧(甲基)丙烯酸酯化合物;聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物等。它们可以使用1种或2种以上。它们之中,优选为多官能(甲基)丙烯酸酯化合物或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物,更优选将多官能(甲基)丙烯酸酯化合物与氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯组合。
相对于固化性组合物的固态成分100质量份而言,多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的含量优选为50质量份以上100质量份以下,更优选为60质量份以上95质量份以下,进一步优选为70质量份以上90质量份以下。本说明书中,所谓固化性组合物的固态成分,在固化性组合物中含有溶剂的情况下,是指从固化性组合物中除去溶剂后的成分的合计量。
固化性组合物可以除了固化性成分之外还包含聚合引发剂。作为聚合引发剂,可举出光聚合引发剂及自由基聚合引发剂等,可以使用已知的聚合引发剂。
对于固化性组合物而言,可以在涂布于膜基材后照射活性能量射线,由此使(甲基)丙烯酸系化合物等固化性成分聚合从而固化。
硬涂层优选在JIS K 5600-5-4:1999“涂料一般试验方法-第5部:涂膜的机械性质-第4节:刮擦硬度(铅笔法)”中所规定的铅笔硬度试验(将膜基材置于玻璃板上来测定)中显示为8B或比8B更硬的值,也可以为5B或比5B更硬。
构成带有保护膜的膜的保护膜以可剥离的方式设置于构成基材层的膜基材。保护膜可以具有树脂膜与粘合剂层形成的多层结构,也可以为由单层结构的树脂膜形成的自粘合性的膜。作为具有多层结构的保护膜中使用的树脂膜,可举出由作为构成膜基材的树脂而例示的树脂形成的膜。作为自粘合性的膜,可举出使用了聚丙烯系树脂及聚乙烯系树脂等的膜。保护膜通常在将光吸收各向异性层应用于显示装置后等时除去。
可以对基材层的待形成光吸收各向异性层的一侧的表面实施表面处理。作为表面处理方法,可举出针对膜基材的上述表面而在真空至大气压的气氛下进行电晕处理或等离子体处理的方法、进行激光处理的方法、进行臭氧处理的方法、进行火焰处理的方法、对基材层的上述表面进行皂化处理的方法等。
基材层的厚度可以为1μm以上500μm以下,也可以为1μm以上300μm以下,也可以为1μm以上150μm以下。
基材层可包含的膜基材的厚度从为能够进行实用上的操作的程度的质量的观点考虑优选较薄,但若过薄,则强度降低,有加工性差的倾向。从该观点考虑,膜基材的厚度各自独立地优选为30μm以上150μm以下,更优选为40μm以上100μm以下,进一步优选为40μm以上80μm以下。
基材层可包含的涂层的厚度若过薄,则强度降低,若过厚,则有产生破裂等的倾向。从该观点考虑,涂层的厚度优选为1μm以上50μm以下,更优选为1μm以上30μm以下,进一步优选为1μm以上10μm以下,更进一步优选为1μm以上5μm以下。
如上述的那样应用于光学层叠体或显示装置的光学膜可以为光吸收各向异性层,也可以具有基材层。在光学层叠体或显示装置中,可以将基材层整体或基材层的一部分作为光学膜的基材层而组入,也可以在被粘物上层叠基材层与光吸收各向异性层的层叠体之后,将基材层整体或基材层的一部分剥离除去,由此得到组入有光学膜的光学层叠体或显示装置。由此,能够将光学层叠体、显示装置进一步薄膜化。
(偏光层)
偏光层具有在使无偏振光的光入射时使具有与吸收轴正交的振动面的直线偏振光透过的性质。偏光层可以为:使具有吸收各向异性的色素吸附于聚乙烯醇系树脂等聚合物而得到的拉伸偏光膜(以下,有时将使用了聚乙烯醇系树脂作为聚合物的拉伸偏光膜称为“PVA偏光膜”。);包含将含有具有吸收各向异性的色素及具有液晶性的化合物的第2组合物涂布于基材膜而形成的液晶固化膜的偏光层的液晶偏光膜。作为具有吸收各向异性的色素,可举出二向色性色素。PVA偏光膜中包含的二向色性色素优选为碘。
PVA偏光膜可以经由下述工序得到:对聚乙烯醇系树脂膜(以下,有时称为“PVA系膜”。)进行单轴拉伸的工序;通过将PVA系膜用二向色性色素染色而使该二向色性色素吸附的工序;利用硼酸水溶液对吸附有二向色性色素的PVA系膜进行处理的工序;以及根据需要在基于硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序;等等。
作为PVA偏光膜的偏光层的厚度通常为30μm以下,优选为18μm以下,更优选为15μm以下,进一步优选为10μm以下。该厚度通常为1μm以上,例如可以为5μm以上。
PVA系膜的单轴拉伸可以在基于二向色性色素的染色之前、或与染色同时、或在染色之后进行。在染色之后进行单轴拉伸的情况下,该单轴拉伸可以在硼酸处理之前进行,也可以在硼酸处理中进行。当然,也可以在此处所示的多个阶段进行单轴拉伸。在单轴拉伸中,可以采用在圆周速度不同的辊间沿膜搬运方向进行单轴拉伸的方法、使用热辊沿膜搬运方向进行单轴拉伸的方法、使用拉幅机沿宽度方向进行拉伸的方法等。单轴拉伸可以通过在大气中进行拉伸的干式拉伸来实施,也可以通过在使用水等溶剂使PVA系膜溶胀的状态下进行拉伸的湿式拉伸来实施。拉伸倍率通常为3~8倍左右。另外,也可以在热塑性树脂膜上涂布包含聚乙烯醇的水溶液后实施干燥处理,与热塑性树脂膜一起通过上述方法进行拉伸。
PVA系膜的基于二向色性色素的染色例如可以通过在含有二向色性色素的水溶液中浸渍PVA系膜的方法来进行。作为二向色性色素,具体而言,可使用碘、二向色性有机染料。
从能任意地控制色相的方面、以及能够大幅度地薄型化的方面、进一步由于不存在基于热的拉伸缓和而具有非收缩性的方面考虑,由含有具有吸收各向异性的色素及具有液晶性的化合物的第2组合物形成的液晶偏光膜可以合适地用于例如柔性显示器用途。
液晶偏光膜例如可以通过下述方式得到:在第2基材层上涂布第2组合物,使第2组合物中包含的二向色性色素取向而形成偏光层。液晶偏光膜中包含的偏光层中,二向色性色素、及具有液晶性的化合物或其聚合物相对于第2基材层面进行了水平取向。
关于液晶偏光膜中包含的偏光层的厚度,为0.1μm以上5μm以下,更优选为0.3μm以上4μm以下,进一步优选为0.5μm以上3μm以下。若上述厚度比该范围小,则有时得不到必要的光吸收,并且,若上述厚度比该范围大,则有由第2取向层(后述)产生的取向控制力降低、容易产生取向缺陷的倾向。
对于液晶偏光膜中包含的偏光层(液晶固化膜)而言,对于波长λ[nm]的光而言的取向方向的吸光度A1(λ)、与相对于该取向方向的面内而言垂直的方向的吸光度A2(λ)之比(二向色性比;A1/A2)为7以上时是优选的,为20以上时是更优选的,进一步优选为40以上。二向色性比的值越大,可以说是吸收选择性越优异的偏光层。虽然也取决于二向色性色素的种类,但在液晶偏光膜中包含的液晶固化膜以向列型液晶相的状态进行了固化的情况下,上述二向色性比为5~10左右。
通过将吸收波长不同的2种以上的二向色性色素混合,能够制作各种色相的偏光层,能够制成在可见光全域内具有吸收的偏光层。通过制成具有这样的吸收特性的偏光层,能拓展至各种用途中。
作为第2基材层,可举出作为光学膜所具有的基材层而说明过的基材层。第2基材层可以在制成防反射膜时剥离除去,也可以不剥离除去而用作偏光层的保护膜。作为液晶偏光膜中使用的二向色性色素,可举出光吸收各向异性层中所使用的二向色性色素等。作为具有液晶性的化合物,可以使用棒状液晶化合物、圆盘状液晶化合物、及它们的混合物。作为具有液晶性的化合物,优选为聚合性液晶化合物。具有液晶性的化合物可以为显示出向列型液晶相的热致性液晶化合物,也可以为显示出近晶型液晶相的热致性液晶化合物。具有液晶性的化合物及聚合性液晶化合物也可以使用光吸收各向异性层中所使用的液晶性化合物。
液晶偏光膜可以包含第2取向层。第2取向层优选为能使具有液晶性的化合物相对于液晶偏光膜的面而言沿水平方向取向的水平取向层。第2取向层可以举出由取向性聚合物形成的聚合物取向层、由光取向聚合物形成的光取向层、在层表面具有凹凸图案、多个沟槽(槽)的沟槽取向层。从取向角的精度及品质等的观点考虑,第2取向层优选为光取向层。作为构成第2取向层的上述各取向层,可举出在第1取向层中说明过的取向层。
(偏光板)
偏光板是在偏光层的一面或两面具有保护膜的直线偏光板。保护膜可以使用热塑性树脂膜。热塑性树脂膜可以为了提高与偏光层的密合性而实施表面处理(例如,电晕处理等),也可以形成有底漆层(也称为底涂层)等薄层。偏光层与保护膜可以直接相接,也可以介由贴合层(粘合剂层或粘接剂层)而层叠。
作为构成热塑性树脂膜的热塑性树脂,优选为透明膜,例如,可举出三乙酸纤维素等纤维素树脂;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂;聚醚砜树脂;聚砜树脂;聚碳酸酯树脂;尼龙、芳香族聚酰胺等聚酰胺树脂;聚酰亚胺树脂;聚乙烯、聚丙烯、乙烯·丙烯共聚物等聚烯烃树脂;具有环系及降冰片烯结构的环状聚烯烃树脂(也称为降冰片烯系树脂);(甲基)丙烯酸树脂;聚芳酯树脂;聚苯乙烯树脂;聚乙烯醇树脂等。其中,热塑性树脂膜优选为环状聚烯烃系树脂膜、纤维素酯系树脂膜、聚酯系树脂膜或(甲基)丙烯酸系树脂膜。
保护膜可以是在热塑性树脂膜上形成硬涂层而得到的。硬涂层可以形成于热塑性树脂膜的一面,也可以形成于两面。通过设置硬涂层,能够制成提高了硬度及耐划伤性的热塑性树脂膜。硬涂层是例如活性能量射线固化型树脂、优选为紫外线固化型树脂的固化层。作为紫外线固化型树脂,例如可举出(甲基)丙烯酸系树脂、有机硅系树脂、聚酯系树脂、氨基甲酸酯系树脂、酰胺系树脂、环氧系树脂等。硬涂层可以为了提高强度而包含添加剂。添加剂没有特别限定,可举出无机系微粒、有机系微粒或它们的混合物。
保护膜的厚度优选为5μm以上150μm以下,也可以为10μm以上100μm以下,也可以为10μm以上80μm以下。
(第1相位差层、第2相位差层)
第1相位差层及第2相位差层(以下,有时将它们合并称为“相位差层”。)可以为拉伸膜,也可以为包含液晶固化膜的液晶膜,优选为液晶膜。
相位差层为拉伸膜的情况下,拉伸膜可以使用以往已知的拉伸膜,可以使用通过对树脂膜进行单轴拉伸或双轴拉伸而赋予了相位差的拉伸膜。作为树脂膜,可以使用三乙酸纤维素及二乙酸纤维素等纤维素膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯及聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜、聚(甲基)丙烯酸甲酯及聚(甲基)丙烯酸乙酯等丙烯酸树脂膜、聚碳酸酯膜、聚醚砜膜、聚砜膜、聚酰亚胺膜、聚烯烃膜、聚降冰片烯膜等,但并不限定于此。
相位差层为拉伸膜的情况下,相位差层的厚度通常为5μm以上200μm以下,优选为10μm以上80μm以下,进一步优选为40μm以下。
相位差层为液晶膜的情况下,对于液晶膜而言,可以将包含具有液晶性的化合物的第3组合物涂布于第3基材层而形成液晶固化膜。
作为第3基材层,可举出在基材层中说明过的基材层。第3基材层可以在制成防反射膜时剥离除去,也可以不剥离除去而用作相位差层的保护膜。作为液晶性化合物,可以使用具有聚合性基团、尤其是光聚合性基团的液晶性化合物即聚合性液晶化合物。作为聚合性液晶化合物,例如可以使用在相位差膜领域中以往已知的聚合性液晶化合物。所谓光聚合性基团,是指能利用由光聚合引发剂产生的反应活性种、例如活性自由基、酸等参与聚合反应的基团。作为光聚合性基团,可举出乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰基氧基、甲基丙烯酰基氧基、氧杂环丙基、氧杂环丁基等。其中,优选为丙烯酰基氧基、甲基丙烯酰基氧基、乙烯基氧基、氧杂环丙基及氧杂环丁基,更优选为丙烯酰基氧基。关于液晶性,可以为热致性液晶,也可以为溶致性液晶,但从能进行精密的膜厚控制的方面考虑,优选为热致性液晶。另外,作为热致性液晶中的相有序结构,可以为向列型液晶,也可以为近晶型液晶。另外,可以为棒状液晶,也可以为圆盘状液晶。聚合性液晶化合物可以单独使用或者组合使用两种以上。
第1相位差层中包含的λ/4相位差层为包含使聚合性液晶化合物聚合固化而得到的液晶固化膜的液晶膜的情况下,作为聚合性液晶化合物,从呈现逆波长分散性的观点考虑,优选为在与分子长轴方向垂直的方向上进一步具有双折射性的、以T字型或H型具有介晶结构的液晶,从可获得更强的分散的观点考虑,更优选为T字型液晶,作为T字型液晶的结构,具体而言,例如可举出下述式(8)表示的化合物。
[化学式4]
[式(8)中,
Ar表示可具有取代基的二价芳香族基团。优选在该二价芳香族基团中包含氮原子、氧原子、硫原子中的至少1个以上。在二价基团Ar中包含的芳香族基团为2个以上的情况下,2个以上的芳香族基团彼此可以通过单键、-CO-O-、-O-等二价的键合基团进行键合。
G1及G2各自独立地表示二价芳香族基团或二价脂环式烃基。此处,该二价芳香族基团或二价脂环式烃基中包含的氢原子可以被卤素原子、碳原子数1~4的烷基、碳原子数1~4的氟烷基、碳原子数1~4的烷氧基、氰基或硝基取代,构成该二价芳香族基团或二价脂环式烃基的碳原子可以被氧原子、硫原子或氮原子取代。
L1、L2、B1及B2各自独立地为单键或二价连接基团。
k、l各自独立地表示0~3的整数,并且满足1≤k+l的关系。此处,2≤k+l的情况下,B1及B2、G1及G2各自可以彼此相同,也可以不同。
E1及E2各自独立地表示碳原子数1~17的烷烃二基,此处,烷烃二基中包含的氢原子可以被卤素原子取代,该烷烃二基中包含的-CH2-可以被-O-、-S-、-COO-取代,在具有多个-O-、-S-、-COO-的情况下,彼此不相邻。
P1及P2彼此独立地表示聚合性基团或氢原子,至少1个为聚合性基团。]
G1及G2各自独立地优选为可以被选自由卤素原子及碳原子数1~4的烷基组成的组中的至少1个取代基取代的1,4-亚苯基二基、可以被选自由卤素原子及碳原子数1~4的烷基组成的组中的至少1个取代基取代的1,4-环己烷二基,更优选为被甲基取代的1,4-亚苯基二基、未取代的1,4-亚苯基二基、或未取代的1,4-反式-环己烷二基,特别优选为未取代的1,4-亚苯基二基、或未取代的1,4-反式-环己烷二基。
另外,优选存在有多个的G1及G2中的至少1个为二价脂环式烃基,另外,更优选与L1或L2键合的G1及G2中的至少1个为二价脂环式烃基。
L1及L2各自独立地优选为单键、碳原子数1~4的亚烷基、-O-、-S-、-Ra1ORa2-、-Ra3COORa4-、-Ra5OCORa6-、Ra7OC=OORa8-、-N=N-、-CRc=CRd-、或C≡C-。此处,Ra1~Ra8各自独立地表示单键、或碳原子数1~4的亚烷基,Rc及Rd表示碳原子数1~4的烷基或氢原子。L1及L2各自独立地更优选为单键、-ORa2-1-、-CH2-、-CH2CH2-、-COORa4-1-、或OCORa6-1-。此处,Ra2-1、Ra4-1、Ra6-1各自独立地表示单键、-CH2-、-CH2CH2-中的任一者。L1及L2各自独立地进一步优选为单键、-O-、-CH2CH2-、-COO-、-COOCH2CH2-、或OCO-。
B1及B2各自独立地优选为单键、碳原子数1~4的亚烷基、-O-、-S-、-Ra9ORa10-、-Ra11COORa12-、-Ra13OCORa14-、或Ra15OC=OORa16-。此处,Ra9~Ra16各自独立地表示单键、或碳原子数1~4的亚烷基。B1及B2各自独立地更优选为单键、-ORa10-1-、-CH2-、-CH2CH2-、-COORa12 -1-、或OCORa14-1-。此处,Ra10-1、Ra12-1、Ra14-1各自独立地表示单键、-CH2-、-CH2CH2-中的任一者。B1及B2各自独立地进一步优选为单键、-O-、-CH2CH2-、-COO-、-COOCH2CH2-、-OCO-、或OCOCH2CH2-。
就k及l而言,从呈现逆波长分散性的观点考虑,优选2≤k+l≤6的范围,优选k+l=4,更优选k=2并且l=2。k=2并且l=2时呈对称结构,故优选。
E1及E2各自独立地优选为碳原子数1~17的烷烃二基,更优选为碳原子数4~12的烷烃二基。
作为P1或P2表示的聚合性基团,可举出环氧基、乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰基氧基、甲基丙烯酰基氧基、氧杂环丙基、及氧杂环丁基等。其中,优选为丙烯酰基氧基、甲基丙烯酰基氧基、乙烯基氧基、氧杂环丙基及氧杂环丁基,更优选为丙烯酰基氧基。
Ar优选具有选自可具有取代基的芳香族烃环、可具有取代基的芳香族杂环、及吸电子性基团中的至少一者。作为该芳香族烃环,例如,可举出苯环、萘环、蒽环等,优选为苯环、萘环。作为该芳香族杂环,可举出呋喃环、苯并呋喃环、吡咯环、吲哚环、噻吩环、苯并噻吩环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、三唑环、三嗪环、吡咯啉环、咪唑环、吡唑环、噻唑环、苯并噻唑环、噻吩并噻唑环、噁唑环、苯并噁唑环、及菲咯啉环等。其中,优选具有噻唑环、苯并噻唑环、或苯并呋喃环,进一步优选具有苯并噻唑基。另外,在Ar中含有氮原子的情况下,该氮原子优选具有π电子。
式(8)中,Ar表示的2价芳香族基团中包含的π电子的总数Nπ优选为8以上,更优选为10以上,进一步优选为14以上,特别优选为16以上。另外,优选为30以下,更优选为26以下,进一步优选为24以下。
作为Ar表示的芳香族基团,例如可优选举出以下的基团。
[化学式5]
[式(Ar-1)~式(Ar-23)中,
符号*表示连接部,
Z0、Z1及Z2各自独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数1~12的烷基、氰基、硝基、碳原子数1~12的烷基亚磺酰基、碳原子数1~12的烷基磺酰基、羧基、碳原子数1~12的氟烷基、碳原子数1~6的烷氧基、碳原子数1~12的烷基硫基、碳原子数1~12的N-烷基氨基、碳原子数2~12的N,N-二烷基氨基、碳原子数1~12的N-烷基氨磺酰基或碳原子数2~12的N,N-二烷基氨磺酰基。
Q1及Q2各自独立地表示-CR2’R3’-、-S-、-NH-、-NR2’-、-CO-或O-,R2’及R3’各自独立地表示氢原子或碳原子数1~4的烷基。
J1、及J2各自独立地表示碳原子、或氮原子。
Y1、Y2及Y3各自独立地表示可经取代的芳香族烃基或芳香族杂环基。
W1及W2各自独立地表示氢原子、氰基、甲基或卤素原子。
m表示0~6的整数。]
作为Y1、Y2及Y3中的芳香族烃基,可举出苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基等碳原子数6~20的芳香族烃基,优选为苯基、萘基,更优选为苯基。作为芳香族杂环基,可举出呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基等包含至少1个氮原子、氧原子、硫原子等杂原子的碳原子数4~20的芳香族杂环基,优选为呋喃基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基。
Y1、Y2及Y3各自独立地可以为可经取代的多环系芳香族烃基或多环系芳香族杂环基。多环系芳香族烃基是指稠合多环系芳香族烃基、或源自芳香环集合的基团。多环系芳香族杂环基是指稠合多环系芳香族杂环基、或源自芳香环集合的基团。
Z0、Z1及Z2各自独立地优选为氢原子、卤素原子、碳原子数1~12的烷基、氰基、硝基、碳原子数1~12的烷氧基,Z0进一步优选为氢原子、碳原子数1~12的烷基、氰基,Z1及Z2进一步优选为氢原子、氟原子、氯原子、甲基、氰基。
Q1及Q2优选为-NH-、-S-、-NR2’-、-O-,R2’优选为氢原子。其中,特别优选为-S-、-O-、-NH-。
式(Ar-1)~(Ar-23)表示的化合物之中,式(Ar-6)及式(Ar-7)表示的化合物从分子的稳定性的观点考虑是优选的。
式(Ar-16)~(Ar-23)表示的化合物中,Y1可以与其所键合的氮原子及Z0一起形成芳香族杂环基。作为芳香族杂环基,可举出作为Ar可以具有的芳香族杂环而在前面叙述的例子,例如,可举出吡咯环、咪唑环、吡咯啉环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、吲哚环、喹啉环、异喹啉环、嘌呤环、吡咯烷环等。该芳香族杂环基可具有取代基。另外,Y1也可以与其所键合的氮原子及Z0一起形成为前述的可经取代的多环系芳香族烃基或多环系芳香族杂环基。例如,可举出苯并呋喃环、苯并噻唑环、苯并噁唑环等。
聚合性液晶化合物之中,极大吸收波长为300~400nm的化合物是优选的。在包含聚合性液晶化合物的第3组合物中含有光聚合引发剂的情况下,有在长期保管时进行聚合性液晶化合物的聚合反应及凝胶化的担忧。但是,聚合性液晶化合物的极大吸收波长为300~400nm时,即使在保管中暴露于紫外光,也能够有效地抑制源自光聚合引发剂的反应活性种的产生及由该反应活性种引起的聚合性液晶化合物的聚合反应及凝胶化的进行。因此,从第3组合物的长期稳定性的方面来看是有利的,能够提高第1相位差层中包含的液晶固化膜的取向性及膜厚的均匀性。需要说明的是,聚合性液晶化合物的极大吸收波长可以在溶剂中使用紫外可见分光光度计来测定。该溶剂是能将聚合性液晶化合物溶解的溶剂,例如可举出氯仿等。
相对于第3组合物的固态成分100质量份而言,第3组合物中的聚合性液晶化合物的含量例如为70~99.5质量份,优选为80~99质量份,更优选为85~98质量份,进一步优选为90~95质量份。聚合性液晶化合物的含量在上述范围内时,从得到的液晶固化膜的取向性的观点考虑是有利的。需要说明的是,所谓第3组合物的固态成分,是指从第3组合物中除去有机溶剂等挥发性成分后的全部成分。
作为液晶膜的相位差层(构成第1相位差层的相位差层或第2相位差层)可以包含第3取向层。第3取向层根据使液晶性化合物取向的方向来选择即可,可以为垂直取向层,也可以为水平取向层。第3取向层是作为取向控制力而使其呈现水平取向的材料时,液晶性化合物能够形成水平取向或混合取向,为使其呈现垂直取向的材料时,液晶性化合物能够形成垂直取向或倾斜取向。水平、垂直等的表述表示以第1相位差层或第2相位差层的平面为基准时的、进行了取向的液晶性化合物的长轴的方向。例如,所谓垂直取向,是指在与第1相位差层或第2相位差层的平面垂直的方向上具有进行了取向的液晶性化合物的长轴。此处所谓垂直,是指相对于第1相位差层或第2相位差层的平面而言为90°±20°。作为第3取向层,可举出在第1取向层及第2取向层中说明过的取向层。
液晶膜的厚度优选为0.5μm以上5μm以下,更优选为1μm以上3μm以下。
(贴合层)
贴合层为粘合剂层或粘接剂层。
贴合层为粘合剂层的情况下,是使用粘合剂组合物形成的粘合剂层。粘合剂组合物或粘合剂组合物的反应产物是通过将其本身贴附于被粘物来呈现粘接性的物质,被称为所谓的压敏型粘接剂。另外,使用后述的活性能量射线固化型粘合剂组合物形成的粘合剂层可以通过照射活性能量射线来调整交联度、粘接力。
作为粘合剂组合物,可以没有特别限制地使用以往已知的光学透明性优异的粘合剂,例如,可以使用含有丙烯酸系聚合物、氨基甲酸酯聚合物、有机硅聚合物、聚乙烯醚等基础聚合物的粘合剂组合物。另外,粘合剂组合物可以为活性能量射线固化型粘合剂组合物、或热固化型粘合剂组合物等。它们之中,将透明性、粘合力、再剥离性(再操作性)、耐气候性、耐热性等优异的丙烯酸树脂作为基础聚合物的粘合剂组合物是优选的。粘合剂层优选由包含(甲基)丙烯酸树脂、交联剂、硅烷化合物的粘合剂组合物的反应产物构成,也可以包含其他成分。
用于形成粘合剂层的粘合剂组合物可以包含例如丙烯酸系聚合物、氨基甲酸酯聚合物、有机硅聚合物、聚乙烯醚等基础聚合物。粘合剂组合物可以为活性能量射线固化型粘合剂、热固化型粘合剂等。它们之中,将透明性、粘合力、再剥离性(再操作性)、耐气候性、耐热性等优异的(甲基)丙烯酸树脂作为基础聚合物的粘合剂是优选的。粘合剂层优选由包含(甲基)丙烯酸树脂、交联剂、硅烷化合物的粘合剂的反应产物构成,也可以包含其他成分。
粘合剂层可以使用活性能量射线固化型粘合剂形成。对于活性能量射线固化型粘合剂而言,通过在上述的粘合剂组合物中配合多官能性丙烯酸酯等紫外线固化性化合物,并在形成粘合剂层后照射紫外线而使其固化,能够形成更硬的粘合剂层。活性能量射线固化型粘合剂具有受到紫外线、电子束等能量射线的照射而固化的性质。活性能量射线固化型粘合剂在能量射线照射前也具有粘合性,因此,具有能够与被粘物密合、通过能量射线的照射而固化并调整密合力的性质。
粘合剂层的厚度没有特别限定,通常为5μm以上300μm以下,也可以为10μm以上250μm以下,也可以为15μm以上100μm以下,也可以为20μm以上50μm以下。
贴合层为粘接剂层的情况下,粘接剂层可以使用粘接剂组合物形成。作为用于形成粘接剂层的粘接剂组合物,为除压敏型粘接剂(粘合剂)以外的粘接剂,例如可举出水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂。
作为水系粘接剂,例如,可举出使聚乙烯醇树脂在水中溶解或分散而得到的粘接剂。关于使用水系粘接剂时的干燥方法,没有特别限定,例如,可以采用使用热风干燥机、红外线干燥机进行干燥的方法。
作为活性能量射线固化型粘接剂,例如,可举出包含通过紫外线、可见光、电子束、X射线这样的活性能量射线的照射而固化的固化性化合物的无溶剂型的活性能量射线固化型粘接剂。通过使用无溶剂型的活性能量射线固化型粘接剂,能够提高层间的密合性。
贴合层为粘接剂层时的厚度优选为0.1μm以上,也可以为0.5μm以上,另外,优选为10μm以下,也可以为5μm以下。
(显示装置)
上述的光学膜或光学层叠体可以应用于显示装置。作为显示装置,可举出有机EL显示装置。有机EL显示装置可以具有将上述的光学层叠体介由粘合剂层而层叠于图像显示元件的结构。有机EL显示装置中,以从观看侧起按光吸收各向异性层、椭圆偏光板、及图像显示元件的顺序配置的方式组装有光学层叠体。作为粘合剂层,可举出作为贴合层而说明过的粘合剂层。
实施例
以下,示出实施例及比较例来更具体地说明本发明,但本发明不受这些例子的限定。只要没有特别记载,则实施例及比较例中的“%”及“份”是质量%及质量份。
[基材层的准备]
(硬涂层(HC层)形成用组合物(1)的制备)
将下述的成分混合,于80℃的温度搅拌1小时,由此制备HC层形成用组合物(1)。
二季戊四醇六丙烯酸酯:50份
氨基甲酸酯丙烯酸酯(DAICEL allnex Ltd.制“EBECRYL 4858”):50份
2-[4-(甲基硫基)苯甲酰基]-2-(4-吗啉基)丙烷(BASF公司制“Irgacure 907”,自由基聚合引发剂):3份
甲基乙基酮(溶剂):10份
(硬涂层(HC层)形成用组合物(2)的准备)
作为HC层形成用组合物(2),准备ARONIX(注册商标)UV3701,东亚合成公司制)。
(取向膜形成用组合物(1)的制备)
使硅烷偶联剂“KBE-9103”(信越化学工业株式会社制)溶解于将乙醇与水按9:1(重量比)的比例混合而成的混合溶剂,得到固态成分为1%的取向膜形成用组合物(1)(垂直取向)。
(基材层(1)[层结构:PET膜/脱模层/HC层(1)]的准备)
在实施了脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(LINTE C公司制SP-PLR382050)的脱模层(脱模处理面)上,利用棒涂法涂布上述的HC层形成用组合物(1),于80℃的温度进行干燥。使用UV照射装置(SPOT CURE SP-7;USHIO INC.制),向HC层形成用组合物(1)的涂布层照射曝光量为500mJ/cm2(以365nm为基准)的紫外线,由此得到在PET膜表面形成有HC层(1)的基材层(1)。基材层(1)具有PET膜/脱模层/HC层(1)的层结构。利用接触式膜厚计测定的HC层(1)的厚度为2μm。
(基材层(2)[TAC膜]的准备)
作为基材层(2),准备三乙酸纤维素(TAC)膜(KC4UY-TA C,KONICA MINOLTA公司制)。TAC膜为包含紫外线吸收剂的膜。
(基材层(3)[层结构:COP膜/HC层(2)]的准备)
对环烯烃聚合物(COP)膜(ZF-14-50,日本Zeon公司制)实施电晕处理。针对COP膜的电晕处理面,利用凹版涂布法涂布上述的HC层形成用组合物(2),形成涂布层。于100℃的温度对COP膜上的涂布层进行3分钟干燥后,使用高压汞灯,在累积光量为500mJ/cm2的条件下照射紫外线,形成厚度为2μm的HC层(2),得到基材层(3)。基材层(3)具有COP膜/HC层(2)的层结构。
(基材层(4)[层结构:(甲基)丙烯酸系膜/HC层(2)]的准备)
利用超级混合器将(甲基)丙烯酸系树脂70%及橡胶粒子30%混合,利用双螺杆挤出机进行熔融混炼,制成粒料。作为(甲基)丙烯酸系树脂,使用甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸甲酯=96%/4%(质量比)的共聚物。作为橡胶粒子,使用下述橡胶粒子,该橡胶粒子为三层结构的弹性体粒子,其中,最内层由使用少量的甲基丙烯酸烯丙酯与甲基丙烯酸甲酯进行聚合而得到的硬质的聚合物形成,中间层由以丙烯酸丁酯作为主成分、进一步使用苯乙烯及少量的甲基丙烯酸烯丙酯进行聚合而得到的软质的弹性体形成,最外层由使用少量的丙烯酸乙酯与甲基丙烯酸甲酯进行聚合而得到的硬质的聚合物形成,到作为中间层的弹性体为止的平均粒径为240nm。该橡胶粒子中,最内层与中间层的合计质量为粒子整体的70%。
将上述粒料投入直径为65mm的单螺杆挤出机中,经由设定温度为275℃的T型模挤出,将所挤出的树脂用金属辊和橡胶制弹性辊夹持,得到厚度为80μm的(甲基)丙烯酸系膜。
接着,对上文中得到的(甲基)丙烯酸系膜的一面实施电晕处理,针对该电晕处理面,利用凹版涂布法涂布上述的HC层形成用组合物(2),形成涂布层。于100℃的温度对(甲基)丙烯酸系膜上的涂布层进行3分钟干燥后,使用高压汞灯,在累积光量为500mJ/cm2的条件下照射紫外线,形成厚度为2μm的HC层(2),得到基材层(4)。基材层(4)具有(甲基)丙烯酸系膜/HC层(2)的层结构。
(基材层(5)[层结构:COP膜/垂直取向膜(1)]的准备)
在日本Zeon株式会社制的COP膜(ZF-14-50)上实施电晕处理。用棒涂机在COP膜的电晕处理面涂布上述的取向膜形成用组合物(1),于120℃的温度进行1分钟干燥,得到形成有垂直取向膜(1)的基材层(5)。基材层(5)具有COP膜/垂直取向膜(1)的层结构。利用椭圆偏振计测定的垂直取向膜(1)的厚度为100nm。
(基材层(6)[层结构:TAC膜/水平取向膜]的准备)
在三乙酸纤维素(TAC)膜(KC8UX 2M,KONICA MINOLT A(株)制)上,利用棒涂法涂布聚乙烯醇(聚乙烯醇1000完全皂化型,和光纯药工业株式会社制)的2质量%水溶液,对其进行干燥,在TAC膜上形成厚度为0.1μm的干燥涂膜。接着,对所得到的干燥涂膜的表面实施摩擦处理,由此形成具有取向控制力的水平取向膜。摩擦处理中,使用半自动摩擦装置(商品名:LQ-008型,常阳工学株式会社制),利用布(商品名:YA-20-RW,吉川化工株式会社制)在压入量为0.15mm、转速为500rpm、16.7mm/s的条件下进行。
[偏光板的准备]
(偏光层的制作)
将平均聚合度为约2,400、皂化度为99.9摩尔%以上的厚度为30μm的聚乙烯醇系树脂膜在温度为30℃的纯水中浸渍后,于30℃的温度在碘/碘化钾/水的重量比为0.02/2/100的水溶液中浸渍从而进行碘染色(碘染色工序)。于56.5℃的温度将经过碘染色工序的聚乙烯醇系树脂膜在碘化钾/硼酸/水的重量比为12/5/100的水溶液中浸渍,进行硼酸处理(硼酸处理工序)。利用温度为8℃的纯水对经过硼酸处理工序的聚乙烯醇系树脂膜进行洗涤后,于65℃的温度进行干燥,得到碘在聚乙烯醇系树脂膜上吸附取向而成的偏光层(拉伸后的厚度为12μm)。此时,在碘染色工序和硼酸处理工序中进行了拉伸。该拉伸中的总拉伸倍率为5.3倍。
(水系粘接剂的制备)
在水100份中添加羧基改性聚乙烯醇(KURARAY POVAL KL 318,KURARAY公司制)3份、和水溶性聚酰胺环氧树脂(Sumire z resin 650(固态成分浓度为30%的水溶液),Sumika Chemtex制)1.5份,制备水系粘接剂。
(偏光板的制作)
利用夹持辊将上文中制作的偏光层、与经皂化处理的三乙酸纤维素(TAC)膜(KC4UY-TAC,KONICA MINOLTA公司制)介由上述水系粘接剂贴合。一边对所得到的贴合物施加张力,一边于60℃的温度进行2分钟干燥,得到在偏光层的一面具有TAC膜的偏光板。偏光板具有TAC膜/粘接剂层/偏光层的层结构。
将偏光板的偏光层面作为入射面,利用分光光度计(V7100,日本分光制)进行偏光板的光学特性的测定,结果,可见度校正单体透过率为42.7%,可见度校正偏光度为99.991%。
[椭圆偏光板的准备]
(光取向膜形成用组合物的制备)
下述结构的光取向性材料(重均分子量:50000,m:n=50:50)依照日本特开2021-196514中记载的方法来制造。将光取向性材料2份和环戊酮(溶剂)98份作为成分来进行混合,于80℃的温度对所得到的混合物进行1小时搅拌,由此制备光取向膜形成用组合物。
光取向性材料:
[化学式6]
(聚合性液晶化合物的制造)
分别制备具有下文所示的结构的聚合性液晶化合物(L1)及聚合性液晶化合物(L2)。聚合性液晶化合物(L1)是与日本特开2019-003177中记载的方法同样地准备的。聚合性液晶化合物(L2)是与日本特开2009-173893号公报中记载的方法同样地准备的。
聚合性液晶化合物(L1):
[化学式7]
聚合性液晶化合物(L2):
[化学式8]
使聚合性液晶化合物(L1)1mg溶解于氯仿10mL中,得到溶液。将所得到的溶液装入光程长度为1cm的测定用比色皿中作为测定用试样,将测定用试样设置于紫外可见分光光度计(株式会社岛津制作所制“UV-2450”),对吸收光谱进行测定。从所得到的吸收光谱读取成为极大吸收度的波长,结果,波长300~400nm的范围内的极大吸收波长λmax为356nm。
(第1相位差层形成用组合物的制备)
将聚合性液晶化合物(L1)及聚合性液晶化合物(L2)以90:10的质量比混合,得到混合物。向所得到的混合物100份中添加流平剂“BYK-361N”(BYK Chemie公司制)0.1份、和作为光聚合引发剂的“Irgacure OXE-03”(BASF Japan株式会社制)3份。进一步,以固态成分浓度成为13%的方式添加N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)。于80℃的温度将该混合物搅拌1小时,由此制备第1相位差层形成用组合物。
(第1相位差膜的制作)
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(Diafoil T140E25,三菱树脂(株)制)上,利用棒涂机涂布上文中制备的光取向膜形成用组合物。于120℃对所得到的涂布膜进行2分钟干燥后,冷却至室温,形成干燥被膜。然后,使用UV照射装置(SPOT CURE SP-9;USHIOINC.制),照射偏振紫外光100mJ(以313nm为基准),得到光取向膜。使用日本分光株式会社制的椭圆偏振计M-220测定的光取向膜的厚度为100nm。
在所得到的光取向膜上,利用棒涂机涂布上文中制备的第1相位差层形成用组合物,形成涂布层。于120℃的温度对该涂布层进行2分钟加热干燥后,冷却至室温,得到干燥被膜。接着,使用高压汞灯(USHIO INC.制“Unicure VB-15201BY-A”),在氮气氛下向上述干燥被膜照射曝光量为500mJ/cm2(以365nm为基准)的紫外光,由此,形成聚合性液晶化合物以相对于PET膜的面内而言沿水平方向取向的状态进行固化而得到的第1相位差层,得到第1相位差膜。第1相位差膜具有PET膜/光取向膜/第1相位差层(水平取向液晶固化膜)的层结构。使用Olympus株式会社制的激光显微镜LEXT OLS4100测定的第1相位差层的厚度为2.0μm。
(第1相位差层的面内相位差值Re(λ)的测定)
对第1相位差膜的第1相位差层侧实施电晕处理,介由厚度为25μm的压敏式粘合剂(LINTEC公司制)而贴合于玻璃,将第1相位差膜的PET膜剥离除去,得到测定样品。通过PET膜的剥离除去,光取向膜也同时被剥离,因此,测定样品的层结构为玻璃/压敏式粘合剂/第1相位差层(水平取向液晶固化膜)。玻璃的面内相位差值几乎可视为0(零),因此,可以由测定样品的面内相位差值算出第1相位差层的面内相位差值。测定样品的面内相位差值使用王子计测机器株式会社制的KOBRA-WR来测定。需要说明的是,对于波长450nm、550nm及650nm的光而言的测定样品的面内相位差值是利用由对于波长448.2nm、498.6nm、548.4nm、587.3nm、628.7nm、748.6nm的光而言的面内相位差值的测定结果得到的柯西色散公式求出的。
第1相位差层的波长λ[nm]处的面内相位差值Re(λ)为:Re(450)=122nm,Re(550)=140nm,Re(650)=144nm,各波长处的面内相位差值的关系如下所述。
Re(450)/Re(550)=0.87
Re(650)/Re(550)=1.03
(取向膜形成用组合物(2)的制备)
将0.5份的聚酰亚胺(日产化学工业株式会社制“SUNEVER SE-610”)、72.3份的N-甲基-2-吡咯烷酮、18.1份的2-丁氧基乙醇、9.1份的乙基环己烷、及0.01份的DPHA(新中村化学制)混合,得到取向膜形成用组合物(2)(垂直取向)。
(第2相位差层形成用组合物的制备)
向具有下文所示的结构的聚合性液晶化合物LC242:Paliocolor LC242(BASF公司,注册商标)100份中添加流平剂(DIC公司制“F-556”)0.1份、和聚合引发剂Irg369 3份,以固态成分浓度成为13%的方式添加环戊酮,对它们进行混合,得到第2相位差层形成用组合物。
[化学式9]
(第2相位差膜的制作)
针对聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(Diafoil T140E25三菱树脂(株)制),使用电晕处理装置(AGF-B10,春日电机株式会社制),在输出功率为0.3kW、处理速度为3m/分钟的条件下实施1次电晕处理。在实施了电晕处理的PET膜上,使用棒涂机涂布上文中制备的取向膜形成用组合物(2),于80℃的温度进行1分钟干燥,得到垂直取向膜(2)。利用椭圆偏振计对所得到的垂直取向膜(2)的厚度进行测定,结果为0.2μm。
在上文中得到的垂直取向膜(2)上涂布上文中制备的第2相位差层形成用组合物,于80℃的温度进行1分钟干燥后,冷却至室温,得到干燥被膜。接着,使用高压汞灯(USHIOINC.制“Unicure VB-15201BY-A”),在氮气氛下,在波长365nm处的累积光量为500mJ/cm2的条件下照射紫外线,由此,形成聚合性液晶化合物以相对于PET膜的面内而言沿垂直方向取向的状态进行固化而得到的第2相位差层,得到第2相位差膜。第2相位差膜具有PET膜/垂直取向膜(2)/第2相位差层(垂直取向液晶固化膜)的层结构。
(第2相位差层的厚度方向的相位差值Rth(λ)的测定)
对第2相位差膜的第2相位差层侧实施电晕处理,介由厚度为25μm的压敏式粘合剂(LINTEC公司制)而贴合于玻璃,将PET膜剥离除去,得到用于测定第2相位差层的厚度方向的相位差值的测定样品。通过PET膜的剥离除去,垂直取向膜(2)也同时被剥离,因此,测定样品的层结构为玻璃/压敏式粘合剂/第2相位差层(垂直取向液晶固化膜)。玻璃的面内相位差值几乎可视为0(零),因此,可以由测定样品的厚度方向的相位差值算出第2相位差层的厚度方向的相位差值。测定样品的厚度方向的相位差值使用相位差测定装置(KOBRA-WPR,王子计测机器株式会社制)来测定。在测定中,使光向第2相位差层中的入射角变化,测定了正面相位差值及使其以快轴为中心倾斜40°时的相位差值。各波长处的平均折射率使用日本分光公司制的椭圆偏振计M-220来测定。另外,第2相位差层的厚度使用OpticalNanoGauge膜厚计C12562-01(Hamamatsu Photon ics Co.,Ltd.制)来测定。
根据上文测定的正面相位差值、使其以快轴为中心倾斜40°时的相位差值、平均折射率、第2相位差层的厚度的值,参考王子计测机器技术资料(https://oji-keisoku.co.jp/support/download/index.php)而算出三维折射率。由所得到的三维折射率,按照下式算出第2相位差层的波长λ[nm]处的厚度方向的相位差值Rth(λ)。
Rth(λ)
=((nx(λ)+ny(λ))/2-nz(λ))×d2
[式中,
nx(λ)表示第2相位差层的面内的波长λ[nm]处的主折射率。
ny(λ)表示在与nx(λ)相同的面内与nx(λ)正交的方向的波长λ[nm]处的折射率。
nz(λ)表示第2相位差层的厚度方向上的波长λ[nm]处的折射率,
在nx(λ)=ny(λ)的情况下,nx(λ)可以设定为第2相位差层的面内的任意方向的折射率。
d2表示第2相位差层的厚度。]
第2相位差层的Rth(550)为-70nm,Rth(450)/Rth(550)为1.10。
(椭圆偏光板的制作)
对上文中得到的第1相位差膜的第1相位差层侧实施电晕处理。介由粘合剂(LINTEC公司制,压敏式粘合剂,厚度为5μm)而将上文中制作的偏光板的偏光层侧层叠于第1相位差膜的电晕处理面,得到层叠体。在层叠体中,使偏光层的吸收轴与第1相位差层的慢轴所成的角度为45°。接着,将该层叠体的第1相位差膜的PET膜剥离,对该剥离面和第2相位差膜的第2相位差层实施电晕处理。将这些电晕处理面彼此介由粘合剂(LINTEC公司制,压敏式粘合剂,厚度为5μm)贴合,将第2相位差膜的PET膜剥离,得到椭圆偏光板。通过第1相位差膜的PET膜的剥离而也将光取向膜剥离,通过第2相位差膜的PET膜的剥离而也将垂直取向膜(2)剥离。椭圆偏光板具有TAC膜/粘接剂层/偏光层/粘合剂层/第1相位差层/粘合剂层/第2相位差层的层结构。
〔实施例1〕
(光吸收各向异性层形成用的第1组合物(1)的制备)
将下文所示的成分混合,于80℃的温度搅拌1小时,由此得到光吸收各向异性层形成用的第1组合物(1)。
聚合性液晶化合物(L3):75份
聚合性液晶化合物(L4):25份
二向色性色素(D1):0.9份
聚合引发剂(Irgacure 369,BASF公司制):6份
硅系流平剂(BYK UV3500,BYK Chemie公司制):2.0份
溶剂(邻二甲苯):670份
聚合性液晶化合物(L3)及(L4)具有下文所示的结构,并且是形成近晶相的液晶性化合物。聚合性液晶化合物(L3)及(L4)按照lub等,Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)中记载的方法来合成。
聚合性液晶化合物(L3):
[化学式10]
聚合性液晶化合物(L4):
[化学式11]
二向色性色素(D1)具有下文所示的结构。使用日本特开2013-101328号公报的实施例中记载的偶氮系色素。在氯仿溶液中测定的二向色性色素(1)的极大吸收波长为600nm。
二向色性色素(D1):
[化学式12]
(带有PET膜的光学膜(1)的制作)
将上文中准备的基材层(1)以四边形切出,使用电晕处理装置(AGF-B10,春日电机株式会社制),在输出功率为0.3kW、处理速度为3m/分钟的条件下对HC层(1)侧实施1次电晕处理。在所切出的基材层(1)的电晕处理面上,使用棒涂机涂布上文中制备的第1组合物(1)后,利用已将温度设定为95℃的干燥烘箱进行1分钟干燥。接着,使用高压汞灯(UnicureVB-15201BY-A,USHIO INC.制),照射紫外线(氮气氛下,波长:365nm,波长365nm处的累积光量:500mJ/cm2),由此形成聚合性液晶化合物及二向色性色素相对于涂膜平面而言进行了垂直取向的光吸收各向异性层。由此,得到由基材层(1)(PET膜/脱模层/HC层(1))/光吸收各向异性层形成的带有PET膜的光学膜(1)。光吸收各向异性层的厚度为1μm。
(光学层叠体(1)的制作)
使用上文中得到的带有PET膜的光学膜(1)及椭圆偏光板,对带有PET膜的光学膜(1)的光吸收各向异性层侧及椭圆偏光板的偏光板侧实施电晕处理,将这些电晕处理面彼此介由粘合剂(LINTEC公司制,压敏式粘合剂,厚度:5μm)贴合后,将基材层(1)的PET膜及脱模层剥离,得到光学层叠体(1)。光学层叠体(1)具有HC层(1)/光吸收各向异性层/粘合剂层/椭圆偏光板(TAC膜/粘接剂层/偏光层/粘合剂层/第1相位差层/粘合剂层/第2相位差层)的层结构。光学层叠体(1)包含具有HC层(1)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(1)。
〔实施例2〕
将硅系流平剂的配合量变更为1.0份,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(2)。使用第1组合物(2)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,得到带有PET膜的光学膜(2)及光学层叠体(2)。光学层叠体(2)包含具有HC层(1)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(2)。
〔实施例3〕
将硅系流平剂的配合量变更为0.80份,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(3)。使用第1组合物(3)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,得到带有PET膜的光学膜(3)及光学层叠体(3)。光学层叠体(3)包含具有HC层(1)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(3)。
〔实施例4〕
将硅系流平剂的配合量变更为0.50份,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(4)。使用第1组合物(4)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,得到带有PET膜的光学膜(4)及光学层叠体(4)。光学层叠体(4)包含具有HC层(1)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(4)。
〔实施例5〕
将硅系流平剂的配合量变更为0.20份,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(5)。使用第1组合物(5)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,得到带有PET膜的光学膜(5)及光学层叠体(5)。光学层叠体(5)包含具有HC层(1)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(5)。
〔实施例6〕
代替二向色性色素(D1)0.9份而使用二向色性色素(D1)1.5份、及具有下文所示的结构的二向色性色素(D2)1.5份,将硅系流平剂的配合量变更为0.20份,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(6)。使用第1组合物(6)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,得到带有PET膜的光学膜(6)及光学层叠体(6)。光学层叠体(6)包含具有HC层(1)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(6)。
二向色性色素(D2):
[化学式13]
〔实施例7〕
作为硅系流平剂,使用BYK UV3570(BYK Chemie公司制)0.20份来代替BYKUV3500,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(7)。使用第1组合物(7)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,得到带有PET膜的光学膜(7)及光学层叠体(7)。光学层叠体(7)包含具有HC层(1)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(7)。
〔实施例8〕
作为硅系流平剂,使用BYK UV331(BYK Chemie公司制)0.20份来代替BYK UV3500,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(8)。使用第1组合物(8)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,得到带有PET膜的光学膜(8)及光学层叠体(8)。光学层叠体(8)包含具有HC层(1)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(8)。
〔实施例9〕
(光学膜(9)的制作)
使用基材层(2)来代替基材层(1),除此以外,与实施例5的步骤同样地操作,在基材层(2)上形成光吸收各向异性层,由此得到具有基材层(2)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(9)。
(光学层叠体(9)的制作)
使用上文中得到的光学膜(9)及椭圆偏光板,对光学膜的光吸收各向异性层侧及椭圆偏光板的偏光板侧实施电晕处理,将这些电晕处理面彼此介由粘合剂(LINTEC公司制,压敏式粘合剂,厚度:5μm)贴合,得到光学层叠体(9)。光学层叠体(9)具有基材层(2)(TAC膜)/光吸收各向异性层/粘合剂层/椭圆偏光板(TAC膜/粘接剂层/偏光层/粘合剂层/第1相位差层/粘合剂层/第2相位差层)的层结构。
〔实施例10〕
(光学膜(10)的制作)
使用基材层(3)来代替基材层(1),除此以外,与实施例5的步骤同样地操作,在基材层(3)上形成光吸收各向异性层,由此得到具有基材层(3)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(10)。光吸收各向异性层形成于基材层(3)的HC层(2)侧。
(光学层叠体(10)的制作)
使用光学膜(10)来代替光学膜(9),除此以外,与实施例9的步骤同样地操作,得到光学层叠体(10)。
〔实施例11〕
(光学膜(11)的制作)
使用基材层(4)来代替基材层(1),除此以外,与实施例5的步骤同样地操作,在基材层(4)上形成光吸收各向异性层,由此得到具有基材层(4)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(11)。光吸收各向异性层形成于基材层(4)的HC层(2)侧。
(光学层叠体(11)的制作)
使用光学膜(11)来代替光学膜(9),除此以外,与实施例9的步骤同样地操作,得到光学层叠体(11)。
〔比较例1〕
(光学膜(12)的制作)
使用氟系流平剂(F556,DIC公司制)0.25份来代替硅系流平剂,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(9)。使用基材层(5)来代替基材层(1),使用第1组合物(9)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,在基材层(5)上形成光吸收各向异性层,由此得到具有基材层(5)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(12)。光吸收各向异性层形成于基材层(5)的垂直取向膜(1)侧。
(光学层叠体(12)的制作)
使用光学膜(12)来代替光学膜(9),除此以外,与实施例9的步骤同样地操作,得到光学层叠体(12)。
〔比较例2〕
(光学膜(13)的制作)
不使用硅系流平剂,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(10)。使用基材层(2)来代替基材层(1),使用第1组合物(10)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,在基材层(2)上形成光吸收各向异性层,由此得到具有基材层(2)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(13)。
(光学层叠体(13)的制作)
使用光学膜(13)来代替光学膜(9),除此以外,与实施例9的步骤同样地操作,得到光学层叠体(13)。
〔比较例3〕
(光学膜(14)的制作)
将硅系流平剂的配合量变更为6.0份,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(11)。使用基材层(2)来代替基材层(1),使用第1组合物(11)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,在基材层(2)上形成光吸收各向异性层,由此得到具有基材层(2)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(14)。
(光学层叠体(14)的制作)
使用光学膜(14)来代替光学膜(9),除此以外,与实施例9的步骤同样地操作,得到光学层叠体(14)。
〔比较例4〕
使用第1组合物(9)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例9的步骤同样地操作,得到光学膜(15)及光学层叠体(15)。
〔比较例5〕
使用基材层(4)来代替基材层(2),除此以外,与实施例9的步骤同样地操作,得到光学膜(16)及光学层叠体(16)。光吸收各向异性层形成于基材层(4)的HC层(2)侧。
〔参考例1〕
使用聚合性液晶化合物LC242(形成向列相的液晶性化合物)100份来代替聚合性液晶化合物(L3)及(L4),使用氟系流平剂(F556,DIC公司制)0.25份来代替硅系流平剂,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(12)。使用基材层(5)来代替基材层(1),使用第1组合物(12)来代替第1组合物(1),于120℃的温度进行干燥,除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,在基材层(5)上形成光吸收各向异性层,由此得到具有基材层(5)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(17),使用其得到光学层叠体(17)。光吸收各向异性层形成于基材层(5)的垂直取向膜侧。
〔参考例2〕
使用基材层(6)来代替基材层(1),使用第1组合物(9)来代替第1组合物(1),使在基材层(6)的水平取向膜上涂布的第1组合物(9)的干燥温度为120℃,除此以外,与实施例9的步骤同样地操作,得到光学膜(18)及光学层叠体(18)。
〔实施例12〕
(基材层卷(1)的准备)
从将实施了脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(LIN TEC公司制“SP-PLR382050”,宽度为700mm,厚度为38μm)卷绕而得到的卷状体,以8m/min的速度连续地抽出PET膜,在其脱模层(脱模处理面)上,使用狭缝涂布机涂布上述的HC层形成用组合物(1),于80℃的温度进行干燥,形成HC层(1)。在曝光量为500mJ/cm2(以365nm为基准)的条件下向该涂布层照射紫外光,形成厚度为2μm的HC层,得到长条状的基材层(7)。将所得到的基材层(7)卷绕成卷状,制成基材层卷(1)。基材层卷(1)中所卷绕的基材层(7)的长度为1100m。
(长条状的带有PET膜的光学膜(19)及卷绕体(1)的制作)
一边在速度为10m/min、张力为120N的条件下从基材层卷(1)连续地抽出基材层(7),在基材层(7)的HC层(1)上,使用狭缝涂布机涂布第1组合物(1)。接着,于95℃的温度进行干燥,由此除去溶剂,在曝光量为400mJ/cm2(以365nm为基准)的条件下向干燥后的涂布层照射紫外光,使涂布层中的聚合性液晶化合物固化而形成光吸收各向异性层,得到长度为1000m的长条状的带有PET膜的光学膜(19)。将该长条状的带有PET膜的光学膜(19)卷绕成卷状,得到卷绕体(1)。带有PET膜的光学膜(19)包含具有HC层(1)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(19)。
〔比较例6〕
(基材层卷(2)的准备)
从将环烯烃聚合物(COP)膜(日本Zeon公司制“ZF-14-50”,宽度为700mm)卷绕而得到的卷状体,以8m/min的速度连续地抽出COP膜,实施电晕处理。在其电晕处理面上,使用狭缝涂布机涂布上文中制备的取向膜形成用组合物(1)(垂直取向),于120℃的温度进行干燥,形成垂直取向膜,由此得到长条状的基材层(8)。
(长条状的光学膜(20)及卷绕体(2)的制作)
一边将长条状的基材层(8)连续地抽出,一边使用狭缝涂布机在基材层(8)的垂直取向膜上涂布第1组合物(9)。接着,于95℃的温度进行干燥,由此除去溶剂,在曝光量为400mJ/cm2(以365nm为基准)的条件下向干燥后的涂布层照射紫外光,使涂布层中的聚合性液晶化合物固化而形成光吸收各向异性层,得到长度为1000m的长条状的光学膜(20)。将该长条状的光学膜(20)卷绕成卷状,得到卷绕体(2)。
〔比较例7〕
一边在速度为10m/min、张力为120N的条件下从基材层卷(1)连续地抽出基材层(7),一边使用狭缝涂布机在基材层(7)的HC层(1)上涂布第1组合物(9)。接着,于100℃的温度进行干燥,由此除去溶剂,在曝光量为400mJ/cm2(以365nm为基准)的条件下向干燥后的涂布层照射紫外光,使涂布层中的聚合性液晶化合物固化而形成光吸收各向异性层,得到长度为1000m的长条状的带有PET膜的光学膜(21)。将该长条状的带有PET膜的光学膜(21)卷绕成卷状,得到卷绕体(3)。带有PET膜的光学膜(21)包含具有HC层(1)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(21)。
〔比较例8〕
使用丙烯酸系流平剂(BYK-361N,BYK-Chemie公司制)0.25份来代替硅系流平剂,除此以外,通过第1组合物(1)的制备的步骤得到第1组合物(13)。使用基材层(1),使用第1组合物(13)来代替第1组合物(1),除此以外,与实施例1的步骤同样地操作,得到带有PET膜的光学膜(22)及光学层叠体(19)。光学层叠体(19)包含具有HC层(1)/光吸收各向异性层的层结构的光学膜(22)。
[光吸收各向异性层的吸光度测定]
以光学膜的光吸收各向异性层侧成为贴合面的方式介由粘合剂(LINTEC公司制,压敏式粘合剂,厚度为25μm)而贴合于玻璃(尺寸:4cm×4cm,厚度:0.7mm)。在得到在基材层(1)及(7)上形成有光吸收各向异性层的带有PET膜的光学膜的情况下,在玻璃上贴合光学膜后,将基材层(1)及(7)的PET膜及脱模层剥离除去并将所得制品作为测定样品。对于包含基材层(2)~(6)及(8)的光学膜而言,将在玻璃上贴合光学膜而得到的制品作为测定样品。
将测定样品设置于紫外可见分光光度计(株式会社岛津制作所制“UV-2450”),以波长800nm的吸光度成为零的方式校正后,对吸光度Ax及Ay进行测定。另外,将测定样品以倾斜的方式设置于紫外可见分光光度计后,以波长800nm的吸光度成为零的方式校正之后,对吸光度Ax(z=60°)及Ay(z=60°)进行测定。吸光度Ax及Ay是光吸收各向异性层的波长380nm以上780nm以下的范围内的吸收极大波长的吸光度、并且分别是沿x轴方向及y轴方向振动的直线偏振光的吸光度,吸光度Ax(z=60°)及Ay(z=60°)是上述吸收极大波长的吸光度、并且分别是使光吸收各向异性层以y轴及x轴为旋转轴旋转了60°时的沿x轴方向及y轴方向振动的直线偏振光的吸光度。x轴为光吸收各向异性层的面内的任意方向,y轴为在光吸收各向异性层的面内与x轴正交的方向。玻璃、TAC膜、CO P膜、以及HC层(1)及(2)的吸光度可视为0(零),因此,测定样品的吸光度可以说是光吸收各向异性层的吸光度。将结果示于表1~5。
[光学膜的雾度的测定]
对于包含基材层(2)~(6)的光学膜而言,在光学膜的基材层侧介由粘合剂而贴合玻璃,制成测定用样品。在得到在基材层(1)及(7)上形成有光吸收各向异性层的带有PET膜的光学膜的情况下,从带有PET膜的光学膜剥离除去PET膜及脱模层,在HC层侧介由粘合剂而贴合玻璃。使用雾度计HZ-1(Suga Test Instruments制),按照JIS K 7105,从测定用样品的玻璃面侧入射光,对测定用样品的雾度进行测定,将其作为光学膜的雾度。将结果示于表1~5。
[光学特性的评价]
从有机EL显示器(Galaxy S9)除去整面玻璃及偏光板,取出显示装置。介由压敏式粘合剂而将上文中制作的光学层叠体的第2相位差层侧贴合于显示装置。在该状态下,使显示装置以白色并且以使亮度最大的方式发光,从倾斜方向观察,按下述的基准进行评价。将结果示于表1~5。
(评价基准)
A:观看不到线状的不均。
B:有时观看到线状的不均,但该线状的不均作为1条线而被观看到。
C:观看到线状的不均,该线状的不均作为多条线的集合体而被观看到。
[粘连的评价]
准备5张将光学膜以10cm×10cm的尺寸切出而得到的切出片。以切出片的基材层侧成为玻璃侧的方式在玻璃上重叠5张切出片,利用Kapton带将4个角固定,投入温度为90℃的烘箱中,保持5分钟。保持后,算出切出片彼此贴合的面积相对于切出片的面积(100cm2)而言的比例,按下述的基准进行评价。将结果示于表1~5。
(评价基准)
A:贴合的面积为20%以下
B:贴合的面积大于20%且为40%以下
C:贴合的面积大于40%且为90%以下
D:贴合的面积大于90%且为100%以下
[凹陷的评价]
在设置有直线偏光板的背光灯上,从正面方向及倾斜方向通过目视确认在基材层上涂布了第1组合物时的涂布表面的状态,按下述的基准进行评价。将结果示于表1~5。
A:从正面观察时透明,不存在颜色不均而完美。
B:从正面观察时透明,但从斜向观察时存在色调不均的部位。
C:从正面观察时透明,但从斜向观察时存在凹陷这样的脱色部位。
D:从正面以及从斜向均凹陷。
[卷绕体的外观评价]
将卷绕体在温度为25~30℃的环境下保管3个月以上之后,通过目视对外观进行确认,按下述的基准进行评价。将结果示于表5。
(评价基准)
A:粘连(贴合)和卷绕体的变形均观察不到。
B:局部可观察到粘连(贴合)。
C:粘连(贴合)和卷绕体的变形均可观察到。
表1]
[表2]
[表3]
[表4]
[表5]
/>
Claims (10)
1.光学膜,其为具有光吸收各向异性层的光学膜,
所述光吸收各向异性层包含1种以上的二向色性色素、和形成近晶相的液晶性化合物或其聚合物,并且在与所述光吸收各向异性层的面垂直的方向上具有吸收轴,
所述光学膜的雾度为2.0%以下。
2.如权利要求1所述的光学膜,其还具有基材层。
3.如权利要求2所述的光学膜,其中,所述基材层包含膜基材,
构成所述膜基材的树脂为选自由聚酰亚胺系树脂、纤维素酯系树脂、环状烯烃系树脂、聚酯系树脂、及(甲基)丙烯酸系树脂组成的组中的1种以上。
4.如权利要求1~3中任一项所述的光学膜,其中,所述光吸收各向异性层包含硅系流平剂。
5.如权利要求4所述的光学膜,其中,相对于所述液晶性化合物或其聚合物的总量100质量份而言,所述硅系流平剂的含量为0.01质量份以上5.0质量份以下。
6.如权利要求4所述的光学膜,其中,相对于所述液晶性化合物或其聚合物的总量100质量份而言,所述硅系流平剂的含量为0.05质量份以上1.0质量份以下。
7.如权利要求1~3中任一项所述的光学膜,其中,所述光吸收各向异性层满足下述式(1)及(2)的关系,
Ax(z=60°)/Ax≥5.0 (1)
Ay(z=60°)/Ay≥5.0 (2)
式(1)及(2)中,
Ax及Ay是所述光吸收各向异性层的波长380nm以上780nm以下的范围内的吸收极大波长的吸光度,并且分别表示沿x轴方向及y轴方向振动的直线偏振光的吸光度,
Ax(z=60°)是所述吸收极大波长处的吸光度,并且表示使所述光吸收各向异性层以所述y轴为旋转轴旋转了60°时的沿所述x轴方向振动的直线偏振光的吸光度,
Ay(z=60°)是所述吸收极大波长处的吸光度,并且表示使所述光吸收各向异性层以所述x轴为旋转轴旋转了60°时的沿所述y轴方向振动的直线偏振光的吸光度,
其中,所述x轴为所述光吸收各向异性层的面内的任意一个方向,
所述y轴为在所述光吸收各向异性层的面内与所述x轴正交的方向。
8.光学层叠体,其具有权利要求1~3中任一项所述的光学膜、和椭圆偏光板。
9.卷绕体,其为将光学膜卷绕成卷状而得到的卷绕体,
所述光学膜为权利要求1~3中任一项所述的光学膜。
10.如权利要求9所述的卷绕体,其中,所述光吸收各向异性层包含硅系流平剂。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022-206421 | 2022-12-23 | ||
JP2023196368A JP2024091458A (ja) | 2022-12-23 | 2023-11-20 | 光学フィルム、光学積層体及び巻回体 |
JP2023-196368 | 2023-11-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN118244396A true CN118244396A (zh) | 2024-06-25 |
Family
ID=91563262
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202311755783.XA Pending CN118244396A (zh) | 2022-12-23 | 2023-12-20 | 光学膜、光学层叠体及卷绕体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN118244396A (zh) |
-
2023
- 2023-12-20 CN CN202311755783.XA patent/CN118244396A/zh active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101808984B1 (ko) | 타원 편광판 | |
CN106371163B (zh) | 液晶固化膜、包含液晶固化膜的光学膜及显示装置 | |
JP6937554B2 (ja) | 積層体、積層体を含む円偏光板及び積層体を備える表示装置 | |
CN110869827A (zh) | 椭圆偏光板 | |
CN111033330B (zh) | 带光学补偿功能的相位差板 | |
CN112955318A (zh) | 垂直取向液晶固化膜及包含其的层叠体 | |
CN111712740B (zh) | 组合物 | |
CN112368143B (zh) | 层叠体 | |
JP7198683B2 (ja) | 積層体 | |
CN111684327B (zh) | 垂直取向液晶固化膜 | |
CN113661420A (zh) | 层叠体及垂直取向液晶固化膜形成用组合物 | |
JP2024031796A (ja) | 積層体及び有機el表示装置 | |
CN113906322A (zh) | 液晶固化膜形成用组合物及其用途 | |
TWI780207B (zh) | 可撓性顯示器用附光學補償功能之相位差板 | |
TW202012469A (zh) | 光學膜 | |
CN118244396A (zh) | 光学膜、光学层叠体及卷绕体 | |
WO2020022009A1 (ja) | 積層体 | |
JP2024091458A (ja) | 光学フィルム、光学積層体及び巻回体 | |
KR20210039397A (ko) | 편광판 및 액정 표시 장치 | |
WO2024042818A1 (ja) | 積層体及び有機el表示装置 | |
CN118050844A (zh) | 光学层叠体 | |
JP2024072764A (ja) | 光学積層体 | |
WO2020022010A1 (ja) | 積層体 | |
JP2024080581A (ja) | 積層体及び有機el表示装置 | |
KR20240072040A (ko) | 광학 적층체 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication |