CN118089349A - 一种提拉干燥设备 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及一种提拉干燥设备,属于对晶圆干燥设备技术领域,本申请的提拉干燥设备,在盖体内设置有支撑块,支撑块由驱动件驱动而具有放行状态和固定状态,支撑块处于放行状态时,所述支撑块和定位块上的晶圆限位槽共线,此时,晶圆升降机构能够驱动晶圆抬升,依次经过支撑块和定位块上的晶圆限位槽,最终晶圆在晶圆升降机构支撑下停留在第一位置处;支撑块处于固定状态时,两侧的支撑块相互靠近从而与晶圆底部接触支撑住晶圆,将晶圆顶起,晶圆脱离晶圆升降机构,并被固定在第二位置处,第二位置的高度高于第一位置的高度,将由于晶圆脱离了升降机构,因此,可以避免升降机构对晶圆的影响,提高了干燥效果。
Description
技术领域
本申请属于晶圆干燥设备技术领域,尤其是涉及一种提拉干燥设备。
背景技术
提拉干燥设备是晶圆生产设备中常见的一种干燥设备。其常见结构见中国专利文献CN116682756A,包括:
槽体,用于容纳晶圆并对晶圆进行清洗。
盖体,设置在槽体上方,能够在平移机构带动下到达或者离开所述槽体的开口处,所述盖体内壁上设置有晶圆导向槽,盖体离开所述槽体的开口处时,即可通过机械手向槽体内置入晶圆,或者将晶圆从槽体内取出。
水气供给系统,用于向槽体通入清洗用水,向盖体中通入干燥用气体。
晶圆升降机构,用于带动晶圆做升降运动,晶圆先在槽体内进行清洗,清洗完毕后,在升降过程中将晶圆从晶圆盒中分离并将晶圆沿晶圆导向槽送入盖体内,此时,盖体要对准槽体的开口处。当然需要指出的是,一些设备中不使用晶圆盒盛装晶圆,晶圆被直接放置在支撑结构上。然而该文献中,晶圆的支撑仍需晶圆升降机构的支撑座进行支撑,支撑座与晶圆的接触点位于晶圆的最低点,容易汇集液体,导致晶圆难以充分干燥。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:为解决现有技术中的不足,从而提供一种干燥效果好的提拉清洗干燥设备。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种提拉干燥设备,包括:
槽体,用于容纳晶圆;
盖体,设置在槽体上方,能够在平移机构带动下到达或者离开所述槽体的开口处;
晶圆升降机构,用于将槽体内的晶圆抬升到所述盖体内或者将所述盖体内的晶圆下降到槽体内;
所述盖体包括侧板和顶盖,两侧的所述侧板的内壁具有支撑块和定位块,支撑块由驱动件驱动而具有放行状态和固定状态,支撑块处于放行状态时,所述支撑块和定位块上的晶圆限位槽共线,此时,晶圆升降机构能够驱动晶圆抬升,依次经过支撑块和定位块上的晶圆限位槽,最终晶圆在晶圆升降机构支撑下停留在第一位置处;支撑块处于固定状态时,两侧的支撑块相互靠近从而与晶圆底部接触支撑住晶圆,晶圆脱离晶圆升降机构,并被固定在第二位置处,第二位置的高度高于第一位置的高度。
优选地,本发明的提拉干燥设备,所述支撑块由旋转驱动件驱动而旋转,从而使得支撑块的底部相互靠近。
优选地,本发明的提拉干燥设备,所述旋转驱动件位于盖体外部,通过连杆与转轴连接,旋转驱动件和连杆位于盖体后端的保护壳内。
优选地,本发明的提拉干燥设备,所述支撑块下方还设置有导向块,支撑块处于放行状态时,所述导向块与所述支撑块上的晶圆限位槽共线。
优选地,本发明的提拉干燥设备,所述顶盖为圆柱形面,所述顶盖内还设置有喷气管。
优选地,本发明的提拉干燥设备,所述定位块的上方和所述导向块下方设置有喷气管。
优选地,本发明的提拉干燥设备,所述定位块的上方的喷气管的出气口对准定位块上的晶圆限位槽;所述导向块下方的喷气管的出气口沿水平方向布置。
优选地,本发明的提拉干燥设备,所述导向块,支撑块和定位块上的晶圆限位槽的底部的宽度大于中间位置的宽度。
本发明的有益效果是:
本申请的提拉干燥设备,在盖体内设置有支撑块,支撑块由驱动件驱动而具有放行状态和固定状态,支撑块处于放行状态时,所述支撑块和定位块上的晶圆限位槽共线,此时,晶圆升降机构能够驱动晶圆抬升,依次经过支撑块和定位块上的晶圆限位槽,最终晶圆在晶圆升降机构支撑下停留在第一位置处;支撑块处于固定状态时,两侧的支撑块相互靠近从而与晶圆底部接触支撑住晶圆,将晶圆顶起,晶圆脱离晶圆升降机构,并被固定在第二位置处,第二位置的高度高于第一位置的高度,将由于晶圆脱离了升降机构,因此,可以避免升降机构对晶圆的影响,提高了干燥效果。
附图说明
下面结合附图和实施例对本申请的技术方案进一步说明。
图1是本申请实施例的槽体的结构示意图;
图2是本申请实施例的盖体的立体剖视图;
图3是本申请实施例的盖体的后方立体图(保护壳前盖被隐藏);
图4是本申请实施例的盖体的纵剖视图;
图中的附图标记为:
100 槽体;
200 盖体;
201 顶盖;
202 侧板;
210 导向块;
220 支撑块;
221 旋转驱动件;
222 连杆;
223 保护壳;
230 定位块;
240 喷气管;
300 升降机构。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请保护范围的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明创造的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以通过具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请的技术方案。
实施例
本实施例提供一种提拉干燥设备,包括:
槽体100,如图1所示,用于容纳晶圆;
盖体200,如图2所示,设置在槽体100上方,能够在平移机构带动下到达或者离开所述槽体100的开口处;
晶圆升降机构300,用于将槽体100内的晶圆抬升到所述盖体200内或者将所述盖体200内的晶圆下降到槽体100内;
所述盖体200包括侧板202和顶盖201,两侧的所述侧板202的内壁具有支撑块220和定位块230,支撑块220由驱动件驱动而具有放行状态和固定状态,支撑块220处于放行状态时,所述支撑块220和定位块230上的晶圆限位槽共线,此时,晶圆升降机构300能够驱动晶圆抬升,依次经过支撑块220和定位块230上的晶圆限位槽,最终晶圆在晶圆升降机构300支撑下停留在第一位置处;支撑块220处于固定状态时,两侧的支撑块220相互靠近从而与晶圆底部接触支撑住晶圆,晶圆脱离晶圆升降机构300,并被固定在第二位置处,第二位置的高度高于第一位置的高度。
本实施例的提拉干燥设备,在盖体200内设置有支撑块220,支撑块220由驱动件驱动而具有放行状态和固定状态,支撑块220处于放行状态时,所述支撑块220和定位块230上的晶圆限位槽共线,此时,晶圆升降机构300能够驱动晶圆抬升,依次经过支撑块220和定位块230上的晶圆限位槽,最终晶圆在晶圆升降机构300支撑下停留在第一位置处;支撑块220处于固定状态时,两侧的支撑块220相互靠近从而与晶圆底部接触支撑住晶圆,将晶圆顶起,晶圆脱离晶圆升降机构300,并被固定在第二位置处,第二位置的高度高于第一位置的高度,将由于晶圆脱离了升降机构300,因此,可以避免升降机构300对晶圆的影响,提高了干燥效果。
进一步地,支撑块220处于第一位置时,先行干燥第一预设时间,旋转支撑块220处于第二位置时,再干燥第二预设时间。由于第一位置和第二位置时,晶圆与晶圆升降机构300的接触位置、晶圆与旋转支撑块220的接触位置不同,因此,能够起到更好地干燥效果。
进一步地,所述支撑块220由旋转驱动件221驱动而旋转,从而使得支撑块220的底部相互靠近,所述支撑块220绕起转轴旋转,旋转驱动件221位于盖体200外部,通过连杆222与转轴连接,如图3所示,旋转驱动件221和连杆222位于盖体200后端的保护壳223内,保护壳233起到防尘防潮的作用。
进一步地,所述支撑块220下方还设置有导向块210,支撑块220处于放行状态时,所述导向块210与所述支撑块220上的晶圆限位槽共线(晶圆限位槽的数量与每次处理的晶圆数量一致,这里的共线指一一对应共线)。导向块210起到了导向作用,使得晶圆能够方便滑入支撑块220和定位块230。旋转支撑块220的两端通过轴承进行固定。
进一步地,所述顶盖201为圆柱形面,所述顶盖201内还设置有喷气管240,所述喷气管240用于喷出加热的气体以对晶圆进行干燥。半圆形顶盖201 更符合晶圆的形状。
喷气管240中可以喷出干燥热氮气,也可以是异丙醇。
进一步地,所述定位块230的上方和所述导向块210下方也设置有喷气管240,如图4所示,喷气管240有六个,分别位于晶圆上方,左上、右上、左下和右下,多个喷气管240能够加快晶圆的干燥,提高干燥效率。所有的喷气管240均会在盖体200外汇集并与供气装置进行连接。
进一步地,如图4所示的箭头方向→所标示的是喷气管240的出气口的一种具体实施方式,所述定位块230的上方的喷气管240的出气口对准定位块230上的晶圆限位槽(至少有一组出气口沿竖直方向向下);所述导向块210下方的喷气管240的出气口沿水平方向布置。
由于导向块210、支撑块220和定位块230的晶圆限位槽共线,因此,定位块230的上方的喷气管240喷出的气体能够吹扫到晶圆限位槽内,提高干燥效果。
进一步地,所述导向块210,支撑块220和定位块230上的晶圆限位槽的底部的宽度大于中间位置的宽度,以方便晶圆进入晶圆限位槽中。
需要说明的是,与背景技术一样,晶圆在槽体100可以进行清洗操作,在槽体100内时晶圆可以放置在晶圆盒内,也可以直接被晶圆升降机构300支撑。
以上述依据本申请的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关工作人员完全可以在不偏离本项申请技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项申请的技术性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
Claims (8)
1.一种提拉干燥设备,其特征在于,包括:
槽体(100),用于容纳晶圆;
盖体(200),设置在槽体(100)上方,能够在平移机构带动下到达或者离开所述槽体(100)的开口处;
晶圆升降机构(300),用于将槽体(100)内的晶圆抬升到所述盖体(200)内或者将所述盖体(200)内的晶圆下降到槽体(100)内;
所述盖体(200)包括侧板(202)和顶盖(201),两侧的所述侧板(202)的内壁具有支撑块(220)和定位块(230),支撑块(220)由驱动件驱动而具有放行状态和固定状态,支撑块(220)处于放行状态时,所述支撑块(220)和定位块(230)上的晶圆限位槽共线,此时,晶圆升降机构(300)能够驱动晶圆抬升,依次经过支撑块(220)和定位块(230)上的晶圆限位槽,最终晶圆在晶圆升降机构(300)支撑下停留在第一位置处;支撑块(220)处于固定状态时,两侧的支撑块(220)相互靠近从而与晶圆底部接触支撑住晶圆,晶圆脱离晶圆升降机构(300),并被固定在第二位置处,第二位置的高度高于第一位置的高度。
2.根据权利要求1所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述支撑块(220)由旋转驱动件(221)驱动而旋转,从而使得所述侧板(202)两侧的两个支撑块(220)的底部相互靠近。
3.根据权利要求2所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述旋转驱动件(221)位于盖体(200)外部,通过连杆(222)与所述支撑块(220)的转轴连接,旋转驱动件(221)和连杆(222)位于盖体(200)后端的保护壳(223)内。
4.根据权利要求1所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述支撑块(220)下方还设置有导向块(210),支撑块(220)处于放行状态时,所述导向块(210)与所述支撑块(220)上的晶圆限位槽共线。
5.根据权利要求1所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述顶盖(201)为圆柱形面,所述顶盖(201)内还设置有喷气管(240)。
6.根据权利要求4所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述定位块(230)的上方和所述导向块(210)下方设置有喷气管(240)。
7.根据权利要求6所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述定位块(230)的上方的喷气管(240)的出气口对准定位块(230)上的晶圆限位槽;所述导向块(210)下方的喷气管(240)的出气口沿水平方向布置。
8.根据权利要求4所述的提拉干燥设备,其特征在于,所述导向块(210),支撑块(220)和定位块(230)上的晶圆限位槽的底部的宽度大于中间位置的宽度。
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