CN118055647A - 像素界定层制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种可以形成像素界定层图案的组合物及方法，该组合物及方法在电极基板上实现光学密度高的着色图案，从而使颜色变清晰，还使显示器提升可靠性，延长寿命。即，实施后烘处理后，面板的光学密度满足0.80至1.5/μm要求，从而提高可见性，改善对比度。

Description

像素界定层制备方法

技术领域

本发明涉及一种利用感光性组合物制备发光显示装置像素界定层的方法。

背景技术

平板显示装置广泛应用液晶显示装置(LCD:Liquid crystal display device)、有机发光显示装置(OLED:Organic light emitting display device)等。其中，有机发光显示装置具有功耗低、响应速度快、色彩再现率高、亮度高、视野角度宽大等优点。

所述有机发光显示装置采用偏光膜的目的在于，遮蔽入射外界光后，从面板反射的光。其弊端在于：由于弯曲特性的缺失，不适用于将所述偏光膜应用在柔性设备时。

为了解决上述问题，以往建议采用滤色片和黑色矩阵以及上部基板上形成遮光无机膜的方法等。但，该方法在获得所愿水平的防止反射效果方面，具有局限性，且没有具体提供代替偏光膜的方法。

另外，着色遮光层，特别是黑色遮光层用于在液晶显示装置阻止红色、绿色、蓝色滤色片之间的色干扰，以提高影像品质。最近，为了使有机发光显示装置同样达到相同的目的、以低反射率提高影像可见性，正在研究所述着色遮光层的使用问题。

制造所述着色图案时，将多种有机颜料以及炭黑和无机颜料用作着色剂，其等分散的颜料分散液与其他组合物混合而形成图案。

这种图案是光学密度(Optical density,OD)越高，可见性越优异，这便于遮挡外部投射的光或下部发射的光，采用如此形成的像素制备有机发光显示器时，可以实现更清晰的颜色。但，实际上需要研究如何有效降低对于可见性影响最大的550nm附近反射率。

发明内容

所要解决的课题

本发明的目的在于，提供一种降低对于可见性影响最大的550nm波长附近反射率，以提高可见性的感光性树脂组合物。

并且，本发明的目的在于，利用所述感光性树脂组合物制备的遮光层以及包括所述遮光层的显示装置。

课题解决方案

根据本发明，像素界定层制备方法包括：感光性组合物的涂布及涂层，该感光性组合物包含颜料平均粒度大小为100nm以下的着色剂；预烘烤；曝光；显影；以及后烘处理步骤，使实施后烘处理步骤后，光学密度(Optical density,OD)为0.8至1.5/μm以下，优选地，为0.83至1.4/μm以下，进一步优选地，为0.9至1.3/μm以下；反射率超过0.01％且低于6.5％，优选地，超过0.01％且6.3％以下。

进一步优选地，所述后烘处理步骤的烤箱温度为250至270℃。

进一步优选地，所述后烘处理步骤的实施时间为60分钟至120分钟。

优选地，所述感光性组合物包含着色剂。

优选地，感光性组合物的总量中，所述着色剂的含量为17至35重量％。

优选地，所述着色剂包含无机染料、有机染料、无机颜料及有机颜料中一种以上。

优选地，所述着色剂利用分散剂；或水溶性无机盐及润湿剂；进行预处理。

优选地，所述感光性组合物包含光刻用树脂，该光刻用树脂包含丙烯酸系粘结剂树脂、cardo系粘结剂树脂或其等的组合。

优选地，所述丙烯酸系粘结剂树脂的重量平均分子量为3,000g/mol至150,000g/mol。

优选地，所述cardo系粘结剂树脂包括以下化学式1表示的重复结构：

<化学式1>

所述化学式1中，

1)R¹及R²相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclylgroup)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkylgroup)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

2)R¹及R²可以在相邻的基之间形成环，

3)m或n相互独立地为0至4的整数，

4)A₁及A₂相互独立地为以下化学式2或化学式3，

<化学式2>

<化学式3>

所述化学式2及化学式3中，

4-1)*表示相连部位，

4-2)R³～R⁶相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclylgroup)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkylgroup)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

4-3)R³～R⁶可以在相邻的基之间形成环，

4-4)Y¹及Y²相互独立地为以下化学式化学式6或化学式7，

<化学式6>

<化学式7>

所述化学式6及化学式7中，

4-4-1)*表示键合位置，

4-4-2)R⁹是氢或甲酯；

4-4-3)R¹⁰～R¹³相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，

4-4-4)L¹～L³相互独立地为：单键；伸芴基(fluorenylene group)；C₂～C₃₀的亚烷基(alkylene)；C₆～C₃₀的亚芳基(arylene)；C₂～C₃₀的杂环；C₁～C₃₀的亚烷氧基(alkoxylene)；C₂～C₃₀的亚烷基氧基(alkyleneoxy)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；C₂～C₃₀的聚氧乙烯基(polyethyleneoxygroup),

4-4-5)q及r相互独立地为0至3的整数；但，q+r＝3，

5)树脂包括化学式1表示的重复单位，其在高分子链内，A₁和A₂的比率为9:1至1:9，

6)X¹为单键；O；CO；SO2；CR'R"；SiR'R"；以下化学式4；或化学式5，6-1)R'及R"相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

6-2)R'及R"可以在相邻的基之间形成环，

<化学式4>

<化学式5>

所述化学式4及化学式5中，

6-3)*表示键合位置，

6-4)R⁷～R⁸相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclylgroup)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkylgroup)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

6-5)o及p相互独立地为0～4的整数，

7)X²是C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(heteroatom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxygroup)；伸芴基(fluorenylene group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

8)所述R'、R"、X²、L¹～L³、R¹～R⁸及R¹⁰～R¹³可以分别进一步取代为选自由以下成分组成的组的一个以上取代基：重氢；卤素(halogen)；取代或未取代为C₁～C₃₀的烷基(Alkylgroup)或C₆～C₃₀的芳基(aryl group)的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxanegroup)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C₁～C₃₀的烷基硫基(alkylthio group)；C₁～C₃₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C₁～C₃₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₃₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₃₀的炔基(alkinyl group)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；取代为重氢的C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C₃～C₃₀的脂肪族环基；C₇～C₃₀的芳基烷基(arylAlkyl group)；C₈～C₃₀的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，并且，相邻的取代基之间可以形成环。

优选地，所述cardo系树脂的重量平均分子量为1,000至100,000g/mol。

优选地，所述感光性组合物的总量中，所述cardo系树脂的含量为1至30重量％。

优选地，所述感光性组合物包含：在其总量中含量为1至40重量％的反应性不饱和化合物。

优选地，所述感光性组合物包含：在其总量中含量为0.01至10重量％的光引发剂。

又另一具体例中，优选地，本发明提供通过所述制备方法制备而成的像素界定层。

又另一具体例中，优选地，本发明提供包括所述像素界定层的有机发光显示装置。

又另一具体例中，优选地，本发明提供电子装置，该电子装置包括所述显示装置以及用于驱动所述显示装置的控制部。

发明效果

本发明在电极基板上实现光学密度高的着色图案，从而使颜色变清晰，还使显示器提升可靠性，延长寿命。OLED显示器使用的偏光板常规反射率为0.01％至6％，但，其具有不能弯曲且沉重的物理缺点。与此相反，根据本发明的像素界定层可以实现柔性显示器，可以减少显示器的厚度和重量。并且，其具有以下优点：可以通过外部反射光的阻隔和吸收，实现6.5％以下反射率。

具体实施方式

以下，参考示意图详细描述本发明的部分实施例。用参考符号表示各附图的构成要素时，即便显示在其他附图上，也尽可能地使相同的构成要素具备相同的符号。

描述本发明的过程中，认为相关公知构成或功能的详细说明会混淆本发明的要点时，可以省略对其的详细说明。本发明采用“包括”、“具有”、“组成”等时，除非使用“～仅仅”，否则可以添加其他部分。用单数表达构成要素时，除非特别明确记载，否则包括用复数表达的情况。

并且，描述本发明构成要素的过程中，可以采用第一、第二、A、B、(a)、(b)等术语。这些术语仅用于区别其构成要素与其他构成要素，该构成要素的本质、次序、顺序或数目等不受其术语的限定。

描述构成要素位置关系的过程中，提及两个以上构成要素实现“连接”、“结合”或“接入”等时，应当理解，两个以上构成要素可以直接“连接”、“结合”或“接入”，但，也可以进一步“带有”两个以上构成要素和其他构成要素，以实现“连接”、“结合”或“接入”。其中，其他构成要素可以包括在相互“连接”、“结合”或“接入”的两个以上构成要素中一个以上。

并且，层、膜、区域、板等构成要素位于另外构成要素“上”或“之上”时，对其应当理解，不仅包括位于另外构成要素“正上方”的情况，也包括其中间具备又另外构成要素的情况。反之，某构成要素位于另外部分的“正上方”时，应当理解，中间不具备又另外部分。

描述与构成要素或工作方法或制造方法等相关的时间流关系时，例如，描述“～之后”、“～接着”、“～然后”、“～之前”等时间先后关系或流程式先后关系时，既然不采用“立即”或“直接”，可以进一步包括不连续的情况。

另外，提及构成要素的数值或者与其对应的信息时，即使没有单独明确记载，也应当解释为，数值或与其对应的信息包括：由于各种因素(例如，工程因素、内部或外部冲击、噪音等)产生的误差范围。

除非另行描述，否则本说明书及所附权利要求书使用的术语在不脱离本发明思想的范围内如同下述。

除非另行描述，否则本申请中使用的术语“卤代(halo)”或“卤素(halogen)”包括氟(F)、氯(Cl)、溴(Br)及碘(I)。

除非另行描述，否则本申请中使用的术语“烷(alkyl)”或“烷基(alkyl group)”含有通过单键相连的1至60个碳，表示以直链烷基(alkyl group)、支链烷基(alkyl group)、环烷(cycloalkyl)(脂环族)基、烷(alkyl)-取代的环烷基(cycloalkyl group)、环烷(cycloalkyl)-取代的烷基(alkyl group)为代表的饱和脂肪族官能基的自由基。

除非另行描述，否则本申请中使用的术语“卤代烷基(haloalkyl group)”或“卤素烷基(halogenalkyl group)”表示卤素(halogen)取代的烷基(alkyl group)。

除非另行描述，否则本申请中使用的术语“烯烃(alkenyl)”或“炔(alkynyl)”分别具有双键或三键，含有直链型或侧链型链基，具有2至60个碳，但，这里不受此限定。

除非另行描述，否则本申请中使用的术语“环烷(cycloalkyl)”表示具有3至60个碳的环状烷，但，这里不受此限定。

本申请中使用的术语“烷氧基(Alkoxy group)”或“烷氧基(alkyloxy group)”表示键合氧自由基的烷基(Alkyl group)，除非另行描述，否则具有1至60个碳，但，这里不受此限定。

本申请中使用的术语“链烯氧基(alkenoxyl group)”、“链烯氧基(alkenoxygroup)”、“烯氧基(alkenyloxyl group)”或“烯氧基(alkenyloxy group)”表示粘合氧自由基的烯基(alkenyl group)，除非另行描述，否则具有2至60个碳，但，这里不受此限定。

除非另行描述，否则本申请中使用的术语“芳基(aryl group)”和“亚芳基(arylene group)”分别具有6至60个碳，但，这里不受此限定。本申请中，芳基(aryl group)或亚芳基(arylene group)包括单环型、环聚体、并合的多环系化合物等。例如，所述芳基(aryl group)可以包括苯基(phenyl group)、联苯(biphenyl)的一价官能基、萘(naphthalene)的一价官能基、芴基(fluorenyl group)以及取代的芴基(fluorenylgroup)。亚芳基(arylene group)可以包括伸芴基(fluorenylene group)以及取代的伸芴基(fluorenylene group)。

本申请中使用的术语“环聚体(ring assemblies)”由两个或其以上环系(单环或并合的环系)通过单键或双键直接相连，表示该环之间直接相连的数量比包含于其化合物的环系的总数少1。环聚体可以由相同或不同环系通过单键或双键直接相连。

本申请中，芳基(aryl group)包含环聚体，因此，芳基(aryl group)包括作为单环芳香族的苯环(benzene ring)通过单键相连的联苯(biphenyl)和三联苯(terphenyl)。并且，芳基(aryl group)还包括：与芳香族单环并合的芳香族环系通过单键相连的化合物，因此，例如，还包括：与作为芳香族单环的苯环(benzene ring)并合的芳香族环系，即，芴(fluorene)通过单键相连的化合物。

本申请中使用的术语“并合的多环系”表示共享至少两个原子而并合(fused)的环状，包括：并合两个以上碳氢类环系的形态以及并合至少一个杂环系且该杂环系包含至少一个杂原子(hetero atom)的形态等。所述并合的多环系可以是芳香族环、芳香族杂环、脂肪族环或其等环的组合。例如，芳基(aryl group)可以是萘基(naphthalenyl group)、菲基(phenanthrenyl group)、芴基(fluorenyl group)等，但，这里不受此限定。

本申请中使用的术语“螺环(spiro)化合物”具有‘螺接(spiro union)’，螺接表示两个环只共享一个原子而形成的连接。此时，将两个环共享的原子称作‘螺接原子’，按照包含于一化合物的螺环(spiro)原子的数量，将其分别称作‘单螺环(monospiro)-’、‘二螺环(dispiro)-’、‘三螺环(trispiro)-’化合物。

除非另行描述，否则本申请中使用的术语“芴基(fluorenyl group)”、“伸芴基(fluorenylene group)”、“芴爪基(fluorene-triyl group)"分别在以下结构中表示R、R'、R"及R'"均为氢的一价、二价或三价官能基，“取代的芴基(fluorenyl group)”、“取代的伸芴基(fluorenylene group)”或“取代的芴爪基(fluorene-triyl group)”表示取代基R、R'、R"、R'"中至少一个是氢以外的取代基，包括：R和R'相互键合，与键合其等的碳共同形成螺环(spiro)化合物的情况。本说明书中，可以不考虑一价、二价、三价等价数，将芴基(fluorenyl group)、伸芴基(fluorenylene group)、芴爪基(fluorene-triyl group)均命名为芴基(fluorene group)。

并且，所述R、R'、R"及R'"可以分别独立地为：具有1至20个碳的烷基(Alkylgroup)、具有1至20个碳的烯烃基(alkenyl group)、具有6至30个碳的芳基(aryl group)、具有2至30个碳的杂环基(heterocyclyl group)，例如，所述芳基(aryl group)可以是苯(phenyl)、联苯(biphenyl)、萘(naphthalene)、蒽(anthracene)或菲(phenanthrene)，所述杂环基(heterocyclyl group)可以是吡咯(pyrrole)、呋喃(furan)、噻吩(thiophene)、吡唑(pyrazole)、咪唑(imidazole)、三唑(triazole)、吡啶(pyridine)、嘧啶酮(pyrimidone)、哒嗪(Pyridazine)、吡嗪(pyrazine)、三嗪(triazine)、吲哚(indole)、苯并呋喃(benzo furan)、喹唑啉(quinazoline)或喹恶啉(quinoxaline)。例如，所述取代的芴基(fluorenyl group)和伸芴基(fluorenylene group)分别可以是9,9-二甲基芴(dimethyl fluorene)、9,9-二苯基芴(diphenyl fluorene)以及9,9'-螺二(spirobi)[9H-芴(fluorene)]的一价官能基或二价官能基。

本申请中使用的术语“杂环基(heterocyclyl group)”不仅包括“杂芳基(heteroaryl group)”或“杂亚芳基(hetero arylene group)”等芳香族环，还包括非芳香族环，除非另行描述，否则分别表示包含一个以上杂原子(hetero atom)且碳数为2至60的环，但，这里不受此限定。除非另行描述，否则本申请中使用的术语“杂原子(hetero atom)”表示N、O、S、P或Si，杂环基(heterocyclyl group)表示包含杂原子(hetero atom)的单环型、环聚体、并合的多环系、螺环(spiro)化合物等。

例如，“杂环基(heterocyclyl group)”还可以代替环状碳，包括：如以下化合物，包含SO₂、P＝O等杂原子(hetero atom)端基的化合物。

本申请中使用的术语“环”包括单环和多环，当然，碳氢环包括杂环，该杂环包含至少一个杂原子(hetero atom)，且包含芳香族及非芳香族环。

本申请中使用的术语“多环”包括联苯(biphenyl)、三联苯(terphenyl)等环聚体(ring assemblies)和并合(fused)的多环系及螺环(spiro)化合物，不仅包括芳香族，还包括非芳香族，当然，碳氢环包括杂环，该杂环包含至少一个杂原子(hetero atom)。

本申请中使用的术语“脂肪族环基(cyclo group)”表示除了芳香族碳氢之外的环状碳氢，包括单环型、环聚体、并合的多环系、螺环(spiro)化合物等，除非另行描述，否则表示碳数为3至60的环，但，这里不受此限定。例如，稠合芳香族环苯(benzene)和非芳香族环己烷(cyclohexane)时，同样相当于脂肪族环。

并且，连续用前缀命名时，表示按照记载的先后顺序排列取代基。例如，芳基烷氧基(aryl alkoxy group)表示取代为芳基(aryl group)的烷氧基(alkoxy group)，烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)表示取代为烷氧基(alkoxy group)的羰基(carbonylgroup)，另外，芳基羰基烯基(aryl carbonyl alkenyl group)表示取代为芳基羰基(arylcarbonyl group)的烯基(alkenyl group)，其中，芳基羰基(aryl carbonyl group)是取代为芳基(aryl group)的羰基(carbonyl group)。

并且，除非明确描述，否则本申请中使用的术语“取代或未取代的”中，“取代”表示取代为一个以上取代基，该一个以上取代基选自由由以下成分组成的组：重氢、卤素(halogen)、氨基(amino group)、腈基(nitrile group)、硝基(nitro group)、C₁～C₃₀的烷基(Alkyl group)、C₁～C₃₀的烷氧基(alkoxy group)、C₁～C₃₀的烷基胺基(alkyl aminegroup)、C₁～C₃₀的烷基噻吩基(alkylthiophene group)、C₆～C₃₀的芳基噻吩基(arylthiophene group)、C₂～C₃₀的烯基(alkenyl group)、C₂～C₃₀的炔基(alkinyl group)、C₃～C₃₀的环烷基(cyclo alkyl group)、C₆～C₃₀的芳基(aryl group)、取代为重氢的C₆～C₃₀的芳基(aryl group)、C₈～C₃₀的芳基烯基(aryl alkenyl group)、硅烷(silane group)、硼基、锗基以及C₂～C₃₀的杂环基，该C₂～C₂₀的杂环基包括至少一个杂原子，该杂原子选自由O、N、S、Si及P组成的组。并且，不受其等取代基的限定。

本申请中，与各标记及其取代基例所述芳基(aryl group)、亚芳基(arylenegroup)、杂环基(heterocyclyl group)等相对应的‘官能基名称’可以记载‘反映价数的官能基名称’，也可以记载为‘母体化合物的名称’。例如，‘菲(phenanthrene)’作为一种芳基(aryl group)'，可以分类价数记载‘基’的名称，如，将一价的‘基’记载为‘菲(phenanthryl)(基)’，将二价的‘基’记载为‘亚菲(phenanthrylene)(基)’等，但，也可以不考虑价数，记载为母体化合物的名称‘菲(phenanthrene)’。

类似地，嘧啶酮(pyrimidone)可以不考虑价数记载为‘嘧啶酮(pyrimidone)’，或者，一价时记载为嘧啶(pyrimidinyl)(基)，而二价时，可以记载为相应价数的‘基的名称’，如，亚嘧啶(pyrimidinylene)(基)等。因此，本申请中，将取代基的种类记载为母体化合物的名称时，可以表示：与母体化合物的碳原子及/或杂原子(hetero atom)键合的氢原子被退吸而形成的n价的‘基’。

并且，本说明书中，记载化合物名称或取代基名称时，可以省略表示位置的数字或字母表等。例如，可以将吡啶并(pyrido)[4,3-d]嘧啶酮(pyrimidone)记载为吡啶并嘧啶酮(pyrido pyrimidone)，将苯并呋喃(benzo furan)[2,3-d]嘧啶酮(pyrimidone)记载为苯并呋喃并嘧啶酮(benzo furan pyrimidone)，将9,9-二甲基-9H-芴(fluorene)记载为二甲基芴(fluorene)等。因此，苯并(benzo)[g]喹恶啉(quinoxaline)或苯并(benzo)[f]喹恶啉(quinoxaline)均可以记载为苯并喹恶啉(benzo quinoxaline)。

并且，除非明确记载，否则本申请采用的化学式同样适用依据以下化学式的指数定义对于取代基做出的定义。

其中，a为0的整数时，表示取代基R¹不存在，即，a为0时，形成苯环(benzene ring)的碳均键合氢，此时，可以省略与碳键合的氢的标记，并记载化学式或化合物。并且，a为1的整数时，一个取代基R¹与形成苯环(benzene ring)的碳中任一碳键合。a为2或3的整数时，其键合可以如下。a为4至6的整数时，也可以采用与此类似的方法与苯环(benzene ring)的碳进行键合。a为2以上的整数时，R¹可以相同或不相同。

本申请中，除非另行描述，否则形成环表示相邻的基相互键合而形成单环或并合的多环，单环以及形成的被并合的多环不仅包括碳氢环，还包括杂环，该杂环包含至少一个杂原子(hetero atom)，且可以包括芳香族及非芳香族环。

并且，本说明书中，除非另行描述，否则表示缩合环时，‘数字-缩合环’中，数字表示缩合的环的数量。例如，三个环相互缩合的形态可表示为3-缩合环，如，蒽(anthracene)、菲(phenanthrene)、苯并喹唑啉(benzo quinozoline)等。

另外，除非另行描述，否则本申请采用的术语“桥环化合物(bridged bicycliccompound)”是指2个环共享3个以上原子而形成环的化合物。此时共享的原子可以包含碳或杂原子(hetero atom)。

本申请中，有机电元件意指阳极和阴极之间的(若干)构件，或者，意指有机发光二极管，该有机发光二极管包括位于阳极和阴极以及其间的(若干)构件。

并且，根据情况，本申请的显示装置意指有机电元件、有机发光二极管和包括其的面板，或者，包括面板和电路的电子装置。其中，例如，电子装置包括所有的照明装置、太阳能电池、便携或移动终端(例如，智能手机、平板电脑、PDA、电子词典、PMP等)、导航终端、游戏机、各种TV、各种计算机显示器等，但，不受此限定，只要包括所述(若干)构件，任何形态的装置均可。

以下，详细描述本发明的实现例。但，这是举例说明，本发明不受此限定，本发明只由下述权利要求书的范畴界定。

根据本发明的一实现例，包含着色剂(colorant)的组合物可以用于制备红色图案、绿色图案、蓝色图案或黑色矩阵、像素界定层(PDL)。

根据本发明的一实现例，黑色像素界定层(PDL)可以进一步包含除了包含于所述着色剂的色剂之外的附加色剂，即，有机黑色颜料或黑色染料。例如，有机颜料可以单独使用或者混合有机颜料和着色颜料使用，此时的优点在于，由于混合遮光性不够的着色颜料，即使色剂的量相对增加，也不会使膜(层)的强度或基板的贴紧性下降。根据本发明的一实现例，阴性像素界定层(Negative PDL(Pixel define layer))可以包含附加色剂，即，黑色颜料或黑色染料，以代替所述着色剂中包含的色剂。

以下，详细描述各组份。

1、阴性像素界定层的制备工艺如下。

(1)涂布及涂层步骤

感光性组合物为低粘度液状试剂。为了涂布于基材之后，以一定厚度形成涂层，采用旋转涂布机或狭缝涂布机。旋转涂布机的优点在于，旋转数越高，厚度变薄，但，面积中平整度偏差缩小。为了在大面积基材上形成涂层，相较于旋转涂布机，优选地，使用狭缝涂布机，但，其弊端在于，形成涂层之后，由于残留的溶剂，表面呈现流动性，导致平整性下降。为了克服这种弊端，使用VCD(vacuum chamber dry)局部清除溶剂，以降低表面的流动性。

(2)预烘烤步骤

该工艺在一定温度及时间，采用热板或烤箱加热所述涂层的基材，局部清除涂层膜包含的溶剂。涂层膜的表面或深部未干，会在下一个工艺实施曝光时引发光掩模污染，照射紫外线光时，曝光部固化不佳，未固化时，会导致显影工艺不形成且去除图案。

(3)曝光步骤

该工艺在所述预烘烤工艺完毕时，利用形成有图案的光掩模照射光化射线(紫外线)，对于形成的膜进行固化。产生光化射线的灯具种类有LED灯或金属(水银)灯，波长有g-line(436nm)、h-line(405nm)、i-line(365nm)、Deep UV(<260nm)，可以分别或混合使用。

(4)显影步骤

所述曝光步骤照射光化射线时，由光掩模分为曝光部和非曝光部，阳性型(Positive type)时，曝光部被显影液溶解，而非曝光部则抵御住显影液而留下图案。阴性型(Negative type)时，曝光部被固化，对于显影液具有抵抗力，而非曝光部被显影。采用包含本发明所述着色剂的组合物制备的黑色像素界定层(Black PDL)为阴性型，可分成曝光部(固化)和非曝光部(显影)形成图案。

(5)后烘处理步骤

该工艺在210℃以上高温下，对于所述经过显影的基材进行加热，以去除残留的溶剂和水分。该工艺不完全去除溶剂和水分时，实施后烘处理后，工艺中残留的溶剂和水分会对元件产生影响，由此，引起黑斑或像素收缩等，对元件的寿命产生影响。

优选地，本发明所述后烘处理步骤的烤箱温度为250至270℃。并且，优选地，所述后烘处理步骤的实施时间为60分钟至120分钟。

2、形成包含着色剂的阴性像素界定层的组合物如下。

(1)光刻用树脂

根据本发明的一实施例，光刻用树脂可以包含cardo系粘结剂树脂。

所述丙烯酸系粘结剂树脂是第一乙烯性不饱和单体以及可以与其共聚的第二乙烯性不饱和单体的共聚体，是包括一个以上丙烯酸系重复单位的树脂。

所述第一乙烯性不饱和单体是包含一个以上羧基的乙烯性不饱和单体，其具体例有：丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、衣康酸(itaconic acid)、富马酸(fumaric acid)或其等的组合。所述丙烯酸系粘结剂树脂的总量中，所述第一乙烯性不饱和单体的含量可以为5重量％至50重量％，例如，10重量％至40重量％。

所述第二乙烯性不饱和单体可以是苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄基甲基醚等芳香族乙烯化合物；甲基(间)丙烯酸酯、乙基(间)丙烯酸酯、丁基(间)丙烯酸酯、2-羟乙基(间)丙烯酸酯、2-羟丁基(间)丙烯酸酯、苄基(间)丙烯酸酯、环己基(间)丙烯酸酯、苯(间)丙烯酸酯等不饱和羧酸酯化合物；2-氨基乙基(间)丙烯酸酯、2-二甲氨基乙基(间)丙烯酸酯等不饱和羧酸氨基烷基酯化合物；醋酸乙烯等羧酸乙烯酯化合物；缩水甘油(间)丙烯酸酯等不饱和羧酸缩水甘油酯化合物；(间)丙烯腈等氰化乙烯化合物；(间)丙烯酰胺等不饱和酰胺化合物；等，其等可以单独或混合两种以上使用。

所述丙烯酸系粘结剂树脂的具体例有：(间)丙烯酸/甲基丙烯酸苄基酯共聚体、(间)丙烯酸/甲基丙烯酸苄基酯/苯乙烯共聚体、(间)丙烯酸/甲基丙烯酸苄基酯/2-羟乙基甲基丙烯酸酯共聚体、(间)丙烯酸/甲基丙烯酸苄基酯/苯乙烯/2-羟乙基甲基丙烯酸酯共聚体等，但，这里不受此限定。其等还可以单独或调配两种以上使用。所述丙烯酸系粘结剂树脂的重量平均分子量可以是3,000g/mol至150,000g/mol，例如，可以是5,000g/mol至50,000g/mol，例如，可以是20,000g/mol至30,000g/mol。

cardo系树脂包括以下化学式1表示的重复结构。

<化学式1>

所述化学式1中，

1)R¹及R²相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclylgroup)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkylgroup)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

2)R¹及R²可以在相邻的基之间形成环，

3)m或n相互独立地为0至4的整数，

4)A₁及A₂相互独立地为以下化学式2或化学式3，

<化学式2>

<化学式3>

所述化学式2及化学式3中，

4-1)*表示相连部位，

4-2)R³～R⁶相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclylgroup)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkylgroup)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

4-3)R³～R⁶可以在相邻的基之间形成环，

4-4)Y¹及Y²相互独立地为以下化学式6或化学式7，

<化学式6>

<化学式7>

所述化学式6及化学式7中，

4-4-1)*表示键合位置，

4-4-2)R⁹是氢或甲酯；

4-4-3)R¹⁰～R¹³相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，

4-4-4)L¹～L³相互独立地为：单键；伸芴基(fluorenylene group)；C₂～C₃₀的亚烷基(alkylene)；C₆～C₃₀的亚芳基(arylene)；C₂～C₃₀的杂环；C₁～C₃₀的亚烷氧基(alkoxylene)；C₂～C₃₀的亚烷基氧基(alkyleneoxy)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；C₂～C₃₀的聚氧乙烯基(polyethyleneoxygroup),

4-4-5)q及r相互独立地为0至3的整数；但，q+r＝3，

5)树脂包括化学式1表示的重复单位，其在高分子链内，A₁和A₂的比率为9:1至1:9，

6)X¹为单键；O；CO；SO2；CR'R"；SiR'R"；以下化学式4；或化学式5，6-1)R'及R"相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

6-2)R'及R"可以在相邻的基之间形成环，

<化学式4>

<化学式5>

所述化学式4及化学式5中，

6-3)*表示键合位置，

6-4)R⁷～R⁸相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclylgroup)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkylgroup)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

6-5)o及p相互独立地为0～4的整数，

7)X²是C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(heteroatom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxygroup)；伸芴基(fluorenylene group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

8)所述R'、R"、X²、L¹～L³、R¹～R⁸及R¹⁰～R¹³可以分别进一步取代为选自由以下成分组成的组的一个以上取代基：重氢；卤素(halogen)；取代或未取代为C₁～C₃₀的烷基(Alkylgroup)或C₆～C₃₀的芳基(aryl group)的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxanegroup)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C₁～C₃₀的烷基硫基(alkylthio group)；C₁～C₃₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C₁～C₃₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₃₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₃₀的炔基(alkinyl group)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；取代为重氢的C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C₃～C₃₀的脂肪族环基；C₇～C₃₀的芳基烷基(arylAlkyl group)；C₈～C₃₀的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，并且，相邻的取代基之间可以形成环。

所述R'、R"、X²、L¹～L³、R¹～R⁸及R¹⁰～R¹³为芳基(aryl group)时，优选地，可以是C₆～C₃₀的芳基(aryl group)，进一步优选地，可以是C₆～C₁₈的芳基(aryl group)，例如，可以是苯(phenyl)、联苯(biphenyl)、萘(naphthyl)、三联苯(terphenyl)等。

所述R'、R"、X²、L¹～L³、R¹～R⁸及R¹⁰～R¹³为杂环基(heterocyclyl group)时，优选地，可以是C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group),进一步优选地，可以是C₂～C₁₈的杂环基(heterocyclyl group)，例如，可以是二苯并呋喃(dibenzo furan)、二苯并噻吩(dibenzothiophen)、萘并苯并噻吩(naphtho benzo thiophen)、萘并苯并呋喃(naphtho benzofuran)等。

所述R'、R"、R¹～R⁸及R¹⁰～R¹³为芴基(fluorenyl group)时，优选地，可以是9,9-二甲基-9H-芴(fluorene)、9,9-二苯(diphenyl)-9H-芴基(fluorenyl group)、9,9'-螺二(spirobi)芴(fluorene)等。

所述L¹～L³为亚芳基(arylene group)时，优选地，可以是C₆～C₃₀的亚芳基(arylene group)，进一步优选地，可以是C₆～C₁₈的亚芳基(arylene group)，例如，可以是苯(phenyl)、联苯(biphenyl)、萘(naphthyl)、三联苯(terphenyl)等。

所述R'、R"、X²、R¹～R⁸及R¹⁰～R¹³为烷基(Alkyl group)时，优选地，可以是C₁～C₁₀的烷基(Alkyl group)，例如，可以是甲基、t-丁基等。

所述R'、R"、X²、R¹～R⁸及R¹⁰～R¹³为烃氧基(alkoxy group)时，优选地，可以是C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)，进一步优选地，可以是C₁～C₁₀的烃氧基(alkoxy group)，例如，可以是甲氧基(methoxy)、t-丁氧基(butoxy)等。

所述R'、R"、X²、L¹～L³、R¹～R⁸及R¹⁰～R¹³的相邻的基之间实施键合而形成的环可以是C₆～C₆₀的芳香族环基；芴基(fluorenyl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₆₀的杂环基(heterocyclyl group)；或C₃～C₆₀的脂肪族环基，例如，相邻的基之间相互键合而形成芳香族环时，优选地，可以形成C₆～C₂₀的芳香族环，进一步优选地，可以形成C₆～C₁₄的芳香族环，例如，可以形成苯(benzene)、萘(naphthalene)、菲(phenanthrene)等。

例如，所述cardo系树脂可以混合以下组份中两种以上制备：9,9-双(4-环氧乙烷甲氧基苯基)芴等含芴化合物；苯四羧酸二酐、萘四羧酸二酐、联苯四羧酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、均苯四甲酸二酐、环丁烷四羧酸二酐、苝四羧酸二酐、四氢呋喃四羧酸二酐、四氢邻苯二甲酸酐等酐化合物；乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等甘醇化合物；甲醇、乙醇、丙醇、n-丁醇、环己醇、苄醇等乙醇化合物；丙二醇单甲醚乙酸酯、N-甲基吡咯烷酮等溶剂类化合物；三苯基磷等磷化合物；以及四甲基氯化铵、溴化四乙铵、苄基二乙铵、三乙铵、三丁铵、苄基三乙基氯化铵等铵或铵盐化合物。

所述cardo系树脂的重量平均分子量为1,000至100,000g/mol，优选地，可以是1,000至50,000g/mol，进一步优选地，可以是1,000至30,000g/mol。如果所述树脂的重量平均分子量包括在所述范围内，在制备遮光层时，不产生残渣，图案形成效果佳，且显影时，膜厚无损失，可获得良好的图案。在所述感光性树脂组合物的总量中，所述树脂的含量为1至30重量％，进一步优选地，含量可以是3至20重量％。所述树脂的含量包括在所述范围内时，可以获得优异的感应度、显影性及粘附性(贴紧性)。

(2)反应性不饱和化合物

反应性不饱和化合物是阴性图案必备的组份，具有乙烯(ethylene)性不饱和双键,因此，在图案形成工艺实施曝光时,可以引发足够的聚合，形成耐热性、耐光性及耐化学性优异的图案。

所述反应性不饱和化合物的具体例有：乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、双酚A环氧丙烯酸酯、乙二醇单甲醚丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三季戊四醇八丙烯酸酯等。

所述反应性不饱和化合物的在售产品例如以下。

例如，所述(甲基)丙烯酸的二官能酯有：东亚合成化学工业(株)公司的aronyxM-210、M-240、M-6200等；日本化学(株)公司的KAYARAD HDDA、HX-220、R-604等；大阪有机化学工业(株)公司的V-260、V-312、V-335 HP等。

例如，所述(甲基)丙烯酸的三官能酯有：东亚合成化学工业(株)公司的aronyxM-309、M-400、M-405、M-450、M-7100、M-8030、M-8060等；日本化学(株)公司的KAYARAD TMPTA、DPCA-20、DPCA-60、DPCA-120等；大阪有机化学工业(株)公司的V-295、V-300、V-360等。

上述产品可以单独使用或者一同使用两种以上。

为了具有更优异的显影性，所述反应性不饱和化合物可以用酸酐处理后使用。在所述感光性树脂组合物的总量中，所述反应性不饱和化合物的含量可以是1至40重量％，例如，可以是1至20重量％。所述反应性不饱和化合物的含量包括在所述范围内时，在图案形成工艺实施曝光时引发足够的固化，因此，可靠性优异，图案的耐热性、耐光性及耐化学性优异，清晰度及贴紧性也优异。

(3)光引发剂

要想通过光刻机呈现出阴性图案，需要使用光自由基引发剂。所述光引发剂在330至380nm区中摩尔吸光系数(molar absorption coefficient)为10,000(L/mol·㎝)以上，所述光引发剂发生5重量％减量的温度为200℃以下。其中，可以通过beer-Lambert Law计算摩尔吸光系数。并且，利用TGA，在氮气气氛下，以每分钟5℃的速度升温至300℃，检测了重量的减量。

所述光聚合引发剂通常用于感光性树脂组合物，例如，可以采用苯乙酮系化合物、二苯酮系化合物、噻吨酮系化合物、二苯乙醇酮系化合物、三嗪系化合物等。

例如，所述苯乙酮系化合物有：2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二丁氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、p-t-丁基三氯苯乙酮、p-t-丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2'-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-吗啉基丙-1-酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉基苯)-丁烷-1-酮等。

例如，所述二苯酮系化合物有：二苯酮、苯甲酰苯甲酸、苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯酮、羟基二苯酮、丙烯酸化二苯酮、4,4'-双(二甲氨基)二苯酮、4,4'-双(二乙氨基)二苯酮、4,4'-二甲氨基二苯酮、4,4'-二氯二苯酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯酮等。

例如，所述噻吨酮系化合物有：噻吨酮、2-氯噻酮、2-甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮等。

例如，所述二苯乙醇酮系化合物有：二苯乙醇酮、二苯乙醇酮甲醚、二苯乙醇酮乙醚、二苯乙醇酮异丙醚、二苯乙醇酮异丁醚、苄基二甲基酮缩醇等。

例如，所述三嗪系化合物有：2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(p-甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(p-甲苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-联二苯4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、双(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪,2-(萘并1-醇)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘并1-醇)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、2-4-三氯甲基(4'-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪等。

除了化合物之外，所述光引发剂还可以采用咔唑系化合物、二酮类化合物、硼酸锍系化合物、重氮系化合物、咪唑系化合物、非咪唑系化合物等。

所述光引发剂作为自由基聚合引发剂，可以采用过氧化物系化合物、偶氮双系化合物等。

例如，所述过氧化物系化合物有：过氧化甲乙酮、过氧化甲基异丁基甲酮、过氧化环己酮、过氧化甲基环己酮、过氧化乙酰丙酮等的过氧化酮类；过氧化异丁酰、过氧化2,4-二氯苯甲酰、过氧化o-甲基苯甲酰、过氧化双-3,5,5-三甲基己酰等的过氧化二酰基类；2,4,4,-三甲基戊基-2-过氧化氢、过氧化氢二异丙苯、过氧化氢异丙苯、t-丁基过氧化氢等的过氧化氢类；过氧化二异丙苯、2,5-二甲基-2,5-二(t-丁基过氧化)己烷、1,3-双(t-丁氧基异丙基)苯、t-丁基过氧化戊酸正丁酯等的过氧化二烷基类；2,4,4-三甲基戊基过氧化苯氧基乙酸酯、α-过氧化新癸酸枯酯、t-丁基过氧化苯甲酸、二-t-丁基过氧化三甲基己二酸等的烷基琥珀酸酯类；二-3-甲氧基过氧化二碳酸丁酯、二-2-乙基己基过氧化二碳酸、双-4-t-环己基过氧化二碳酸丁酯、二异丙基过氧化二碳酸、乙酰基过氧化环已基磺酰、t-过氧化芳基碳酸丁酯等的过碳酸盐等。

例如，所述偶氮双系化合物有：1,1'-偶氮双环己烷-1-甲腈、2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、2,2,-偶氮双(异丁酸甲酯)、2,2'-偶氮双(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、α,α'-偶氮双(异丁腈)及4,4'-偶氮双(4-氰基戊酸)等。

所述光引发剂吸光跃迁至激发态后，传递其能量，从而与发生化学反应的光增感剂一同使用。例如，所述光增感剂有：三缩四乙二醇双-3-巯基丙酸酯,季戊四醇四-3-巯基丙酸酯,二季戊四醇四-3-巯基丙酸酯等。

在所述感光性组合物的总量中，所述光引发剂的含量可以是0.01至10重量％，例如，可以是0.1至5重量％。所述光引发剂的含量包括在所述范围内时，在图案形成工艺实施曝光时引发足够的固化，因此，可靠性优异，图案的耐热性、耐光性及耐化学性优异，清晰度及贴紧性也优异。另外，还可以防止未反应的引发剂引起的透射率降低。

(4)着色剂(Colorant)

有机颜料及无机颜料和染料均可用作所述着色剂。

所述着色剂可采用红色颜料、绿色颜料、蓝色颜料、黄色颜料、黑色颜料等。

例如，所述红色颜料有：C.I.红色颜料254、C.I.红色颜料255、C.I.红色颜料264、C.I.红色颜料270、C.I.红色颜料272、C.I.红色颜料177、C.I.红色颜料89等。

例如，所述绿色颜料有：取代卤素(halogen)的铜酞菁颜料，如，C.I.绿色颜料36、C.I.绿色颜料7等。

例如，所述蓝色颜料有：C.I.蓝色颜料15:6、C.I.蓝色颜料15、C.I.蓝色颜料15:1、C.I.蓝色颜料15:2、C.I.蓝色颜料15:3、C.I.蓝色颜料15:4、C.I.蓝色颜料15:5、C.I.蓝色颜料16等铜酞菁颜料。

例如，所述黄色颜料有：C.I.黄色颜料139等异吲哚啉(isoindoline)系颜料、C.I.黄色颜料138等喹酞酮(quinophthalone)系颜料、C.I.黄色颜料150等镍复合颜料等。

例如，所述黑色颜料有：内酰胺黑(lactam black)、苯胺黑(aniline black)、派力奥根黑(perylene black)、钛黑、炭黑等。

并且，根据实现例，感光性树脂组合物内着色剂可以包含颜料、染料或其等的组合。例如，所述染料可以包含酞菁系化合物。

以上诸组分可单独或混合两种以上用作所述颜料及染料，这里不受此限定。

可以采用以上组份中的所述黑色颜料来使遮光层有效实施遮光。采用所述黑色颜料时，也可以与蒽醌系颜料、苝系颜料、酞菁系颜料、偶氮系颜料等调色修复剂一同使用。

为了在所述感光性树脂组合物上分散所述颜料，可以一同使用分散剂。具体地，所述颜料可以采用分散剂进行表面预处理后使用，或者，在制备所述感光性树脂组合物时，与所述颜料一同添加分散剂后使用。

所述分散剂可以采用非离子型分散剂、负离子型分散剂、正离子型分散剂等。所述分散剂的具体例有：聚亚烷基二醇(polyalkylene glycol)及其酯、聚氧化亚烷基(polyoxyalkylene)、氧化亚烷基多元醇酯附加物、醇亚烷基氧化物附加物、磺酸酯、磺酸盐、羧酸酯、羧酸盐、氧化亚烷基烷基酰胺附加物、烷基胺(alkyl amine)等，其等可以单独或混合两种以上使用。

所述分散剂的在售产品例如，BYK公司的DISPERBYK-101、DISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-160、DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-165、DISPERBYK-166、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、DISPERBYK-182、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001等；EFKA化学公司的EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-100、EFKA-400、EFKA-450等；Zeneka公司的Solsperse 5000、Solsperse 12000、Solsperse 13240、Solsperse 13940、Solsperse 17000、Solsperse20000、Solsperse 24000GR、Solsperse 27000、Solsperse 28000等；或者Ajinomoto公司的PB711、PB821等。

在所述感光性树脂组合物的总量中，所述分散剂的含量可以是0.1重量％至15重量％。分散剂的含量包括在所述范围内时，组合物的分散性优异，随之，在制备遮光层时，稳定性、显影性及模式性优异。

所述颜料还可以利用水溶性无机盐和润湿剂进行预处理后使用。颜料经过所述预处理后使用时，可以实现颜料平均粒径的精细化。

所述预处理经过以下步骤实现：将所述颜料与水溶性无机盐及润湿剂一同进行捏合(kneading)；然后，过滤和冲洗在所述捏合步骤获得的颜料。

所述捏合可以在40℃至100℃温度下实施，所述过滤和冲洗可以使用水等冲洗无机盐并过滤。

例如，所述水溶性无机盐有：氯化钠、氯化钾等，但，这里不受此限定。

所述润湿剂均匀混合所述颜料和所述水溶性无机盐，从而起到使颜料变得容易粉碎的介质作用，例如，其有：乙二醇单乙醚(ethylene glycol monoethylether)、丙二醇单甲醚(Propylene Glycol Monomethyl Ether)、二乙二醇单甲醚(diethylene GlycolMonomethyl Ether)等亚烷基二醇单烷基醚(alkylene glycol monoalkyl ether)；乙醇(ethanol)、异丙醇(isopropanol)、丁醇(butanol)、己醇(hexanol)、环己醇(cyclohexanol)、乙二醇(ethylene glycol)、二乙二醇(diethylene glycol)、聚乙二醇(polyethylene glycol)、聚乙二醇丙三醇(glycerin polyethylene glycol)等乙醇(alcohol)等，其等可以单独或混合两种以上使用。

经过所述捏合步骤的颜料可以具有100nm以下的平均粒径。颜料的平均粒径包括在所述范围内时，不仅耐热性及耐光性优异，还可以有效形成精细的图案。

在所述感光性树脂组合物的总量中，所述颜料的含量可以是1％至40重量％，更具体地，含量可以是17至35重量％。所述颜料包括在所述范围内时，色彩再现率优异，图案的固化性及贴紧性也优异。

(5)溶剂

所述溶剂可以采用与所述cardo系树脂、所述反应性不饱和化合物、所述颜料、所述cardo系化合物及所述引发剂具有相容性且不反应的物质。

例如，所述溶剂有：甲醇、乙醇(ethanol)等的乙醇(alcohol)类；二氯乙醚、n-丁基醚、二异戊醚、苯甲醚、四氢呋喃等的醚类；乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚等的乙二醇醚类；乙酸甲氧基乙酯、乙酸乙氧基乙酯、二乙氧基乙酸乙酯等的乙酸乙二醇乙醚类；甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙醚等的卡必醇类；丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等的丙二醇烷基醚乙酸酯类；甲苯、二甲苯等的芳香族碳氢类；甲基乙基酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、甲基-n-丙基甲酮、甲基-n-丁基酮、甲基-n-二正戊基酮、2-庚酮等的酮类；醋酸乙酯、醋酸-n-丁酯、醋酸异丁酯等的饱和脂肪族单羧酸烷基酯类；乳酸甲酯、乳酸乙酯等的乳酸酯类；氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸甲酯、氧乙酸丁酯等的氧乙酸烷基酯类；甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等的烷氧基乙酸烷基酯类；3-氧丙酸甲酯、3-氧丙酸乙酯等的3-氧丙酸烷基酯类；3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯等的3-烷氧基丙酸烷基酯类；2-氧丙酸甲酯、2-氧丙酸乙酯、2-氧丙酸丙酯等的2-氧丙酸烷基酯类；2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯等的2-烷氧基丙酸烷基酯类；2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯等的2-氧基-2-甲基丙酸酯类；2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等的2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基类的单氧基单羧酸烷基酯类；2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁烷酸甲酯等的酯类；丙酮酸乙酯等的酮酸酯类等。

并且，可以采用N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰苯胺、N-甲基乙酰胺、N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、苄基乙醚、二己醚、乙酰丙酮、异佛尔酮(Isophorone)、已酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇(benzyl alcohol)、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、γ-丁内酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯、乙二醇苯醚乙酸酯等的高沸点溶剂。

考虑到所述溶剂的相溶性和反应性，可以采用乙二醇单乙醚(ethylene glycolmonoethyl ether)等的乙二醇醚类；乙酸乙氧基乙酯等的乙酸乙二醇烷氧醚类；2-羟基丙酸乙酯等的醚类；二乙二醇单甲醚等的卡必醇类；丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等的丙二醇烷基醚乙酸酯类。

在所述感光性树脂组合物的总量中，所述溶剂可以以余量包括在内，具体地，含量可以是40至90重量％。所述溶剂的含量包括在所述范围内时，可以使所述感光性树脂组合物具有适当的粘度，从而在制备图案层时，实现优异的工艺性。

(6)其他添加剂

为了在涂布所述感光性组合物时，防止出现斑痕或斑点、改善平整性能以及防范未显影而生成残渣，可以进一步包含：丙二酸；3-氨基-1,2-丙二醇；包含乙烯基或(甲基)丙烯酰氧基(acryloxy group)的硅烷系偶联剂；平整剂；氟系表面活性剂；自由基聚合引发剂等添加剂。

例如，为了改善与基板之间的贴紧性等，所述感光性树脂组合物可以进一步包含硅烷系偶联剂，该硅烷系偶联剂具有乙烯基、羧基、甲基丙烯酸氧基、异氰酸酯基、环氧基等的反应性取代基。

例如，所述硅烷系偶联剂有三甲氧基硅烷基苯甲酸、γ甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ异氰酸酯丙基三氧基硅烷、γ缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、β环氧环己基乙基三甲氧基硅烷等，其等可以单独或混合两种以上使用。

所述感光性树脂组合物的100重量份中，所述硅烷系偶联剂的重量份可以是0.01重量份至10重量份。硅烷系偶联剂的重量份包括在所述范围内时，贴紧性及储存性等优异。

并且，所述感光性树脂组合物可以根据需要，进一步包含表面活性剂，例如，氟系表面活性剂，该表面活性剂具有提升涂层性及防止出现瑕疵的效果。

所述氟系表面活性剂可以使用以下在售氟系表面活性剂：BM Chemie公司的等；大日本油墨化学工业(株)公司的机甲包F/>同款F/>同款F/>同款F/>等；住友3M(株)公司的猪油/>同款/>同款同款/>等；朝日玻璃(株)公司的藏红花/>同款/>同款同款/>同款/>等；东丽硅(株)公司的/>同款/>同款等。

感光性树脂组合物的100重量份中，所述表面活性剂的重量份可以是0.001重量份至5重量份。表面活性剂的重量份包括在所述范围内时，可以保证涂层均匀性，不会发生斑痕，玻璃基板的润湿性(wetting)优异。并且，所述感光性树脂组合物可以在不损害物理属性的范围内，添加一定量的抗氧化剂、稳定剂等其他添加剂。

另一实现例可以利用所述感光性树脂组合物，在有机发光元件电极的像素分离部实施光刻。

以下，具体记载本发明的合成例及实施例，但，本发明的合成例及实施例不受此限定。

(黑色感光性组合物的制备)

合成例1：(化学式8表示9,9-Bis[4-(glycidyloxy)phenyl]fluorene的制备)

9,9'-双酚芴20g(Sigma aldrich公司)、氯化缩水甘油(Sigma aldrich公司)8.67g、无水碳酸钾30g和二甲基甲酰胺100ml倒入设有蒸馏管的300ml 3-口圆底烧瓶中，升温至80℃，使其反应4小时，然后，降温至25℃，过滤反应液，然后，将过滤液搅拌滴入1000ml水中，过滤析出的粉末，然后，用水清洗，在40℃进行减压及烘干，获得以下化合物8表示的9,9-双(4-环氧丙基氧代苯基)芴(9,9-Bis[4-(glycidyloxy)phenyl]fluorene)25g。采用HPLC分析获取粉末的纯度，其结果，纯度为98％。

<化学式8>

合成例2：cardo系粘结剂树脂的制备

将合成例1中获得的化合物125g(54mmol)、丙烯酸8g(大井化金公司)、三乙基苄基氯化铵(benzyl triethylammonium chloride)0.2g(大井化金公司)、对苯二酚0.2g(大井化金公司)和丙二醇甲醚乙酸酯52g(Sigma aldrich公司)倒入设有蒸馏管的300ml3-口圆底烧瓶中，在110℃搅拌6小时。反应结束后，进一步倒入联苯四羧酸二酐8g(MitsubishiGas公司)以及四氢化邻苯二甲酸1.8g(Sigma aldrich公司)，然后，在110℃搅拌6小时。反应结束后，回收反应液进行分析，其结果，获得分子量为4,580且固态粉末含量为45％的cardo系粘结剂树脂。

制备例1：黑色颜料分散液的制备

利用涂料摇动器(Asada公司),将Irgaphor Black S 100 CF(黑色颜料/BASF公司)15g、Disperbyk 163 8.5g(BYK公司)及SR-3613(SMS公司)6.5g、丙二醇甲醚乙酸酯70g以及直径为0.5mm的氧化锆珠100g(Toray公司)分散10小时，获得分散液。

采用下表1的组份制备感光性组合液。

具体地，溶剂中溶解引发剂，然后，常温搅拌，其中添加粘结剂树脂及聚合性化合物，常温搅拌。接着，获得的所述反应物中加入着色剂以及其他添加剂，常温搅拌。接着，过滤三次所述生成物，去除杂质，制备感光性树脂组合物。

【表1】

利用所述感光性组合物制备阴性像素界定层(negative PDL)的方法如下。

(1)涂布及涂层步骤

在清洗干净且蒸镀有10cm*10cm金属的基板上，利用旋转涂布机以特定厚度涂布感光性组合物，然后，利用真空干燥腔室(VCD,vacuum chamber dry)去除部分溶剂，形成涂膜。所述感光性组合物的涂层经由VCD后形成膜的厚度为2.0微米至1.7微米。

(2)预烘烤步骤

在热板(hot plate)上，以80℃至120℃加热50秒至200秒，以便于去除所述获得的涂膜内含有的溶剂。该工艺去除一定量的溶剂，以便于在实施下一个工艺(曝光)步骤时，减少像素形态的掩膜污染，制备出状态干净的图案。

(3)曝光步骤

在通过上述方法获得的涂膜上夹杂像素状掩膜，以便于形成所需图案和一定厚度。然后，通过曝光机照射190nm至600nm光化射线。优选地，可以照射具有ghi-line的金属或LED灯光源，以形成图案。为形成图案照射的是曝光量为20至150mJ/cm²且阴性类型的光敏抗蚀剂材料。

(4)显影步骤

实施所述曝光步骤之后，接着，通过浸渍(dipping)法，采用TMAH(四甲基羟铵)2.38wt％显影液，在23±2℃显影一定时间(分钟)，然后，用去离子水(DIwater)冲洗，溶解未曝光部分并去除，仅保留曝光部分，以形成图像图案。

(5)后烘处理步骤

为了获得经过所述显影得到的图像图案，在烤箱以210至300℃实施后烘处理(post baking)，后烘处理(post baking)时间为30分钟至120分钟，完全去除溶剂以及显影步骤中涂膜吸收的去离子水(DI water，水分)，固化图案而形成膜。

(6)光学密度检测

通过上述(1)至(5)步骤，采用感光性组合物在基板上形成图案之后，检测了光学密度。采用感光性组合物，在10cm x 10cm裸玻璃(bare glass)基板上实施涂层并实施后烘处理，然后，使用X-Rite公司的361T Transmission Densitometer，检测了基板的光学密度。

(7)反射率检测

为了检测反射率，采用包含着色剂的组合物，在玻璃表面上实施涂层、曝光、显影，制备了评测用基板，该评测用基板包括通过后烘处理制成的阴性像素界定层。为了了解到该评测用基板的物理属性，采用反射率检测仪(konica minolta公司的CM-26d)，在550nm波长检测了SCI反射率。

【表2】

采用所述实施例1至3以及对比例1至4制备的感光性组合物的涂膜，检测及对比了不同光学密度下的反射率和透射率。

参考上表2的对比例1至4可知，光学密度为0.8/μm以下或1.5/μm以上时，反射率超过6.5％，不能充分阻隔外部反射光。并且，参考上表2的对比例1至2可知，光学密度为0.8/μm以下时，由于透射率过高，起不到遮光膜应该发挥的作用。

参考实施例1至2可知，光学密度对应于优选范围时，即，对应于0.8至1.50/μm时，反射率为6.5％以下，透射率为3.0％以下，此时，可以阻隔外部反射光，提高显示器的可见性，满足遮光层和像素界定层的条件。

上述说明仅仅是举例说明了本发明，只要是本发明所属技术领域的通常技术人员，就可以在不脱离本发明实质特性的范围内，进行多种变形。

因此，本说明书揭示的实施例用于描述本发明，而非用于限定本发明，本发明的思想和范畴不受这种实施例的限定。本发明的权利要求范围应当依据下附权利要求书进行解释，应当解释为，包括在与其同等范围内的所有技术均落入本发明的权利要求范围。

Claims (20)

1.一种像素界定层制备方法，其特征在于：

包括：感光性组合物的涂布及涂层；预烘烤；曝光；显影；及后烘处理步骤，

实施后烘处理后，涂膜的光学密度为0.80/μm～1.5/μm，反射率超过0.01％且低于6.5％。

2.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的反射率超过0.01％且6.3％以下。

3.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的光学密度为0.83/μm至1.4/μm。

4.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：实施所述后烘处理后，涂膜的光学密度为0.9/μm至1.3/μm。

5.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的烤箱温度为250至270℃。

6.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的实施时间为60分钟至120分钟。

7.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含着色剂。

8.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：感光性组合物的总量中，所述着色剂的含量为17至35重量％。

9.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂包含无机染料、有机染料、无机颜料及有机颜料中一种以上。

10.根据权利要求7所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂利用分散剂；或水溶性无机盐及润湿剂；进行预处理。

11.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含光刻用树脂，该光刻用树脂包含丙烯酸系粘结剂树脂、cardo系粘结剂树脂或其等的组合。

12.根据权利要求11所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述丙烯酸系粘结剂树脂的重量平均分子量为3,000g/mol至150,000g/mol。

13.根据权利要求11所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述cardo系粘结剂树脂包括以下化学式1表示的重复结构：

<化学式1>

所述化学式1中，

1)R¹及R²相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxygroup)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonylgroup)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

2)R¹及R²可以在相邻的基之间形成环，

3)m或n相互独立地为0至4的整数，

4)A₁及A₂相互独立地为以下化学式2或化学式3，

<化学式2>

<化学式3>

所述化学式2及化学式3中，

4-1)*表示相连部位，

4-2)R³～R⁶相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxygroup)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonylgroup)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

4-3)R³～R⁶可以在相邻的基之间形成环，

4-4)Y¹及Y²相互独立地为以下化学式6或化学式7，

<化学式6>

<化学式7>

所述化学式6及化学式7中，

4-4-1)*表示键合位置，

4-4-2)R⁹是氢或甲酯；

4-4-3)R¹⁰～R¹³相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclylgroup)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkylgroup)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

4-4-4)L¹～L³相互独立地为：单键；伸芴基(fluorenylene group)；C₂～C₃₀的亚烷基(alkylene)；C₆～C₃₀的亚芳基(arylene)；C₂～C₃₀的杂环；C₁～C₃₀的亚烷氧基(alkoxylene)；C₂～C₃₀的亚烷基氧基(alkyleneoxy)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；C₂～C₃₀的聚氧乙烯基(polyethyleneoxy group),

4-4-5)q及r相互独立地为0至3的整数；但，q+r＝3，

5)树脂包括化学式1表示的重复单位，其在高分子链内，A₁和A₂的比率为9:1至1:9，

6)X¹为单键；O；CO；SO2；CR'R"；SiR'R"；以下化学式4；或化学式5，

6-1)R'及R"相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclylgroup)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkylgroup)；C₂～C₂₀的烯基(alkenylgroup)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

6-2)R'及R"可以在相邻的基之间形成环，

<化学式4>

<化学式5>

所述化学式4及化学式5中，

6-3)*表示键合位置，

6-4)R⁷～R⁸相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₂₀的烯基(alkenylgroup)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxygroup)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonylgroup)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

6-5)o及p相互独立地为0～4的整数，

7)X²是C₆～C₃₀的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)；C₆～C₃₀的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C₁～C₂₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₂₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₂₀的炔基(alkinyl group)；C₁～C₂₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳氧基(aryloxygroup)；伸芴基(fluorenylene group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C₁～C₂₀的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，

8)所述R'、R"、X²、L¹～L³、R¹～R⁸及R¹⁰～R¹³可以分别进一步取代为选自由以下成分组成的组的一个以上取代基：重氢；卤素(halogen)；取代或未取代为C₁～C₃₀的烷基(Alkylgroup)或C₆～C₃₀的芳基(aryl group)的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxanegroup)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C₁～C₃₀的烷基硫基(alkylthio group)；C₁～C₃₀的烃氧基(alkoxy group)；C₆～C₃₀的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C₁～C₃₀的烷基(Alkyl group)；C₂～C₃₀的烯基(alkenyl group)；C₂～C₃₀的炔基(alkinyl group)；C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；取代为重氢的C₆～C₃₀的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C₂～C₃₀的杂环基(heterocyclyl group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C₃～C₃₀的脂肪族环基；C₇～C₃₀的芳基烷基(arylAlkylgroup)；C₈～C₃₀的芳基烯基(arylalkenyl group)；以及其等的组合，并且，相邻的取代基之间可以形成环。

14.根据权利要求11所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述cardo系树脂的重量平均分子量为1,000至100,000g/mol。

15.根据权利要求11所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物的总量中，所述cardo系树脂的含量为1至30重量％。

16.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含：在其总量中含量为1至40重量％的反应性不饱和化合物。

17.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含：在其总量中含量为0.01至10重量％的光引发剂。

18.一种根据权利要求1制备而成的像素界定层。

19.一种包括权利要求18所述像素界定层的有机发光显示装置。

20.一种电子装置，其特征在于：包括权利要求19所述显示装置以及用于驱动所述显示装置的控制部。