CN115997168A - 反射率低的感光性树脂组合物以及利用其的遮光层 - Google Patents

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Abstract

根据本发明的一实施例，提供一种显示装置，其包括：感光性树脂组合物，其包含：树脂，其包含化学式(1)表示的重复单位、化学式(2)表示的染料、反应性不饱和化合物、颜料、引发剂及溶剂；以及图案层，其包含：所述感光性树脂组合物的聚合反应物。

Description

反射率低的感光性树脂组合物以及利用其的遮光层
技术领域
本发明涉及一种除了以往使用的黑色及黑色组合颜料之外，还包括染料，从而有效降低反射率的感光性树脂组合物以及利用其的着色遮光层。
背景技术
平板显示装置广泛应用液晶显示装置(LCD:Liquid crystal display device)、有机发光显示装置(OLED:Organic light emitting display device)等。其中，特别是，有机发光显示装置具有功耗低、响应速度快、色彩再现率高、亮度高、视野角度宽大等优点。
所述有机发光显示装置采用偏光膜的目的在于，遮蔽入射外界光后，从面板反射的光。其弊端在于：由于弯曲特性的缺失，不适用于将所述偏光膜应用在柔性设备时。
为了解决上述问题，以往建议采用彩色滤光片和黑色矩阵以及上部基板上形成遮光无机膜的方法等。但，该方法在获得所愿水平的防止反射效果方面，具有局限性，且没有具体提供取代偏光膜的方法。
另外，着色遮光层，特别是，黑色遮光层在液晶显示装置，用于阻止红色、绿色、蓝色彩色滤光片之间的色彩干扰，以提高影像品质。最近，有机发光显示器也同样为了达到相同的目的以及通过低反射率提高影像的可视性，研究使用所述着色遮光层。
制造所述遮光层时，将炭黑及有机颜料用作黑色着色剂，由于其等分散应用，因此，颜料分散液与其他组合物混合而形成图案。
此时，采用多种黑色或可显示黑色的组合颜料，为了达到该目的，需要研究如何有效降低550nm附近的反射率，因为550nm附近对于可视性影响最大。
【先行技术文献】
【专利文献】
(专利文献1)韩国注册专利第10-1141566号
发明内容
所要解决的课题
本发明的目的在于，提供一种可降低550nm波长的反射率，以提高可视性的感光性树脂组合物。
并且，本发明的目的在于，提供利用所述感光性树脂组合物制造的遮光层以及包括所述遮光层的显示装置。
课题解决方案
本发明一实施例的感光性树脂组合物包含：
粘结剂树脂，其包括以下化学式(1)表示的重复单位；
以下化学式(2)表示的染料；
颜料；
反应性不饱和化合物；
光引发剂；以及
溶剂，
化学式(1)：
Figure BDA0004025486640000021
所述化学式(1)中，
1)*表示以重复单位实现键连接的部分，
2)R1及R2相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclylgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
3)R1及R2可以分别与相邻的基团形成环，
4)a及b相互独立地为0至4的整数，
5)X1是单键、O、CO、SO2、CR'R"、SiR'R"、化学式(A)或化学式(B)，
6)X2是C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(heteroatom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxygroup)；或其等的组合，
7)R'及R"相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclylgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
8)R'及R"可以分别与相邻的基团形成环，
9)A1及A2相互独立地为化学式(C)或化学式(D)，
10)树脂包括化学式(1)表示的重复单位，其在高分子链内，化学式(C)和化学式(D)的比率满足1:9至9:1，
化学式(A)：
Figure BDA0004025486640000031
化学式(B)：
Figure BDA0004025486640000032
所述化学式(A)及化学式(B)中，
11-1)*表示键合位置，
11-2)X3是O、S、SO2或NR'，
11-3)R'是氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
11-4)R3～R6相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
11-5)R3～R6可以分别与相邻的基团形成环，
11-6)c～f相互独立地为0至4的整数，
化学式(C)：
Figure BDA0004025486640000041
化学式(D)：
Figure BDA0004025486640000042
所述化学式(C)及化学式(D)中，
12-1)*表示键合位置，
12-2)R7～R10相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
12-3)Y1及Y2是化学式(E)，
化学式(E)：
Figure BDA0004025486640000051
所述化学式(E)中，
13-1)*表示键合位置，
13-2)R11是氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
13-3)L1是单键、C1～C30的亚烷基(alkylene)、C6～C30的亚芳基(arylene)或C2～C30的杂环，
14)所述R1～R11、R'、R"、X1～X2、L1以及相邻的基团之间相互实施键合而形成的环分别可以进一步被选自由以下组分组成的组的一个以上取代基取代：重氢；卤素(halogen)；被C1～C30的烷基(Alkyl group)或C6～C30的芳基(aryl group)取代或未取代的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C1～C30的烷基(Alkylgroup)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(aryl group)；被重氢取代的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，
并且，相邻的取代基之间可以形成环，
化学式(2)：
Figure BDA0004025486640000061
所述化学式(2)中，
15-1)M是Zn、Cu、Ti、Fe、V＝O(vanadium oxide)、Ni、Mn或Co，
15-2)R20～R27相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
15-3)R20～R27可以分别与相邻的基团形成环，
16)所述R20～R27以及相邻的基团之间相互实施键合而形成的环分别可以进一步被选自由以下组分组成的组的一个以上取代基取代：重氢；卤素(halogen)；被C1～C30的烷基(Alkyl group)或C6～C30的芳基(aryl group)取代或未取代的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C1～C30的烷基(Alkyl group)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(aryl group)；被重氢取代的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(heteroatom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，
并且，相邻的取代基之间可以形成环，
优选地，所述感光性树脂组合物中，化学式1表示的X1是化学式(A)或化学式(B)，或者，进一步优选地，是化学式(A)。
并且，优选地，所述化学式(2)表示的染料的最大吸收波长包括在500nm至620nm区。
并且，优选地，采用所述感光性树脂组合物形成的硬化膜在550nm波长中，每1μm膜厚的光学密度为1以上，在550nm波长中，每1μm膜厚的反射率为9％以下。
并且，优选地，粘结剂树脂包括所述化学式(1)表示的重复单位，其重量平均分子量为1,000至50,000g/mol。
并且，优选地，所述感光性树脂组合物包含：包括所述化学式(1)所示重复单位的树脂1至30重量％；包含所述化学式(2)示出染料0.1至10重量％；所述颜料1至30重量％；所述反应性不饱和化合物1至40重量％；所述光引发剂0.01至10重量％；以及所述溶剂余量。
并且，优选地，本发明的图案层包含所述感光性树脂组合物的聚合反应物。
并且，优选地，所述图案层是遮光层。
并且，优选地，所述图案层是划分多个子像素的像素定义层。
并且，优选地，所述子像素内包括发光元器件，进一步优选地，包括有机发光元器件。
并且，优选地，本发明的显示装置包括所述图案层。
并且，优选地，本发明的电子装置包括所述显示装置以及用于驱动所述显示装置的控制部。
发明效果
本发明一实施例的感光性树脂组合物中，包括化学式(1)所示重复单位的高分子以1:9至9:1包含化学式(C)和化学式(D)，相较于只包含化学式(C)或化学式(D)结构之一的高分子，相对地具备非线性结构。因此，包括化学式(1)所示重复单位的高分子相较于只包含化学式(C)或化学式(D)结构之一的高分子，经过曝光步骤和显影步骤之后，染料吸附性好，从而实现高光学密度和低反射率。
并且，本发明的感光性树脂组合物中，除了黑色颜料之外，还包含所述化学式(2)表示的染料。所述化学式(2)表示的染料在500nm至620nm具有最大吸收波长，从而可以有效降低550nm附近的反射率，而550nm附近对于可视性影响最大。
由此，使根据本发明，利用感光性树脂组合物的显示装置提升可视性。
具体实施方式
本发明一实施例的感光性树脂组合物包含：粘结剂树脂，其包括以下化学式(1)表示的重复单位；以下化学式(2)表示的染料；颜料；反应性不饱和化合物；光引发剂；以及溶剂，
化学式(1)：
Figure BDA0004025486640000081
化学式(2)：
Figure BDA0004025486640000082
描述本发明的过程中，认为相关公知构成或功能的详细说明会混淆本发明的要点时，可以省略对其的详细说明。本发明采用“包括”、“具有”、“组成”等时，除非使用“～仅仅”，否则可以添加其他部分。用单数表达构成要素时，除非特别明确记载，否则包括用复数表达的情况。
并且，描述本发明构成要素的过程中，可以采用第一、第二、A、B、(a)、(b)等术语。这些术语仅用于区别其构成要素与其他构成要素，该构成要素的本质、次序、顺序或数目等不受其术语的限定。
描述构成要素位置关系的过程中，提及两个以上构成要素实现“连接”、“结合”或“接入”等时，应当理解，两个以上构成要素可以直接“连接”、“结合”或“接入”，但，也可以进一步“带有”两个以上构成要素和其他构成要素，以实现“连接”、“结合”或“接入”。其中，其他构成要素可以包括在相互“连接”、“结合”或“接入”的两个以上构成要素中一个以上。
并且，层、膜、区域、板等构成要素位于另外构成要素“上”或“之上”时，对其应当理解，不仅包括位于另外构成要素“正上方”的情况，也包括其中间具备又另外构成要素的情况。反之，某构成要素位于另外部分的“正上方”时，应当理解，中间不具备又另外部分。
描述与构成要素或工作方法或制造方法等相关的时间流关系时，例如，描述“～之后”、“～接着”、“～然后”、“～之前”等时间先后关系或流程式先后关系时，既然不采用“立即”或“直接”，可以进一步包括不连续的情况。
另外，提及构成要素的数值或者与其对应的信息时，即使没有单独明确记载，也应当解释为，数值或与其对应的信息包括：由于各种因素(例如，工程因素、内部或外部冲击、噪音)产生的误差范围。
除非另行描述，否则本说明书及所附权利要求范围使用的术语在不脱离本发明思想的范围内如同下述。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“卤代(halo)”或“卤素(halogen)”包括氟(F)、氟(Cl)、溴(Br)及碘(I)。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“烷(alkyl)”或“烷基(alkyl group)”含有通过单键相连的1至60个碳，表示以直链烷基(alkyl group)、支链烷基(alkyl group)、环烷(cycloalkyl)(脂环族)基、烷(alkyl)-取代的环烷基(cycloalkyl group)、环烷(cycloalkyl)-取代的烷基(alkyl group)为代表的饱和脂肪族官能基的自由基。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“卤代烷基(haloalkyl group)”或“卤素烷基(halogenalkyl group)”表示卤素(halogen)取代的烷基(alkyl group)。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“烯烃(alkenyl)”或“炔(alkynyl)”分别具有双键或三键，含有直链型或侧链型链基，具有2至60个碳，但，这里不受此限定。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“环烷(cycloalkyl)”表示具有3至60个碳的环状烷，但，这里不受此限定。
本申请中使用的术语“烷氧基(Alkoxy group)”或“烷氧基(alkyloxy group)”表示键合氧自由基的烷基(Alkyl Alkyl)，除非另行描述，否则具有1至60个碳，但，这里不受此限定。
本申请中使用的术语“链烯氧基(alkenoxyl group)”、“链烯氧基(alkenoxygroup)”、“烯氧基(alkenyloxyl group)”或“烯氧基(alkenyloxy group)”表示粘合氧自由基的烯基(alkenyl group)，除非另行描述，否则具有2至60个碳，但，这里不受此限定。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“芳基(aryl group)”和“亚芳基(arylenel group)”分别具有6至60个碳，但，这里不受此限定。本申请中，芳基(arylgroup)或亚芳基(arylenel group)包括单环型、环聚体、并合的多环系化合物等。例如，所述芳基(aryl group)可以包括苯基(phenyl group)、联苯(biphenyl)的一价官能基、萘(naphthalene)的一价官能基、芴基(fluorenyl group)以及取代的芴基(fluorenylgroup)。亚芳基(arylenel group)可以包括伸芴基(fluorenylene group)以及取代的伸芴基(fluorenylene group)。
本申请中使用的术语“环聚体(ring assemblies)”由两个或其以上环系"(单环或并合的环系)通过单键或双键直接相连，表示该环之间直接相连的数量比包含于其化合物的环系的总数少1。环聚体可以由相同或不同环系通过单键或双键直接相连。
本申请中，芳基(aryl group)包含环聚体，因此，芳基(aryl group)包括作为单环芳香族的苯环(benzene ring)通过单键相连的联苯(biphenyl)和三联苯(terphenyl)。并且，芳基(aryl group)还包括：与芳香族单环并合的芳香族环系通过单键相连的化合物，因此，例如，还包括：与作为芳香族单环的苯环(benzene ring)并合的芳香族环系，即，芴(fluorene)通过单键相连的化合物。
本申请中使用的术语“并合的多环系”表示共享至少两个原子而并合(fused)的环状，包括：并合两个以上碳氢类环系的形态以及并合至少一个杂环系且该杂环系包含至少一个杂原子(hetero atom)的形态等。所述并合的多环系可以是芳香族环、芳香族杂环、脂肪族环或其等环的组合。例如，芳基(aryl group)可以是萘基(naphthalenyl group)、菲基(phenanthrenyl group)、芴基(fluorenyl group)等，但，这里不受此限定。
本申请中使用的术语“螺环(spiro)化合物”具有‘螺接(spiro union)’，螺接表示两个环只共享一个原子而形成的连接。此时，将两个环共享的原子称作‘螺接原子’，按照包含于一化合物的螺环(spiro)原子的数量，将其分别称作‘单螺环(monospiro)-’、‘二螺环(dispiro)-’、‘三螺环(trispiro)-’化合物。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“芴基(fluorenyl group)”、“伸芴基(fluorenylene group)”、“芴爪基(fluorene-triyl group)"分别在以下结构中表示R、R'、R"及R'"均为氢的一价、二价或三价官能基，“取代的芴基(fluorenyl group)”、“取代的伸芴基(fluorenylene group)”或“取代的芴爪基(fluorene-triyl group)”表示取代基R、R'、R"、R'"中至少一个是氢以外的取代基，包括：R和R'相互键合，与键合其等的碳共同形成螺环(spiro)化合物的情况。本说明书中，可以不考虑一价、二价、三价等价数，将芴基(fluorenyl group)、伸芴基(fluorenylene group)、芴爪基(fluorene-triyl group)均命名为芴基(fluorene group)。
Figure BDA0004025486640000111
并且，所述R、R'、R"及R'"可以分别独立地表示具有1至20个碳的烷基(Alkylgroup)、具有1至20个碳的烯烃基、具有6至30个碳的芳基(aryl group)、具有2至30个碳的杂环基(heterocyclyl group)，例如，所述芳基(aryl group)可以是苯(phenyl)、联苯(biphenyl)、萘(naphthalene)、蒽(anthracene)或菲(phenanthrene)，所述杂环基(heterocyclyl group)可以是吡咯(pyrrole)、呋喃(furan)、噻吩(thiophene)、吡唑(pyrazole)、咪唑(imidazole)、三唑(triazole)、吡啶(pyridine)、嘧啶酮(pyrimidone)、哒嗪(Pyridazine)、吡嗪(pyrazine)、三嗪(triazine)、吲哚(indole)、苯并呋喃(benzofuran)、喹唑啉(quinazoline)或喹恶啉(quinoxaline)。例如，所述取代的芴基(fluorenylgroup)和伸芴基(fluorenylene group)分别可以是9,9-二甲基芴(dimethyl fluorene)、9,9-二苯基芴(diphenyl fluorene)以及9,9'-螺二(spirobi)[9H-芴(fluorene)]的一价官能基或二价官能基。
本申请中使用的术语“杂环基(heterocyclyl group)”不仅包括“杂芳基(heteroaryl group)”或“杂亚芳基(hetero arylenel group)”等芳香族环，还包括非芳香族环，除非另行描述，否则分别表示包含一个以上杂原子(hetero atom)且碳数为2至60的环，但，这里不受此限定。除非另行描述，否则本申请中使用的术语“杂原子(hetero atom)”表示N、O、S、P或Si，杂环基(heterocyclyl group)表示包含杂原子(hetero atom)的单环型、环聚体、并合的多环系、螺环(spiro)化合物等。
例如，“杂环基(heterocyclyl group)”还可以取代环状碳包括：如以下化合物，包含SO2、P＝O等杂原子(hetero atom)端基的化合物。
Figure BDA0004025486640000121
本申请中使用的术语“环”包括单环和多环，当然，碳氢环包括杂环，该杂环包含至少一个杂原子(hetero atom)，且包含芳香族及非芳香族环。
本申请中使用的术语“多环”包括联苯(biphenyl)、三联苯(terphenyl)等环聚体(ring assemblies)和并合(fused)的多环系以及螺环(spiro)化合物，不仅包括芳香族，还包括非芳香族，当然，碳氢环包括杂环，该杂环包含至少一个杂原子(hetero atom)。
本申请中使用的术语“脂肪族环基(cyclo group)”表示除了芳香族碳氢之外的环状碳氢，包括单环型、环聚体、并合的多环系、螺环(spiro)化合物等，除非另行描述，否则表示碳数为3至60的环，但，这里不受此限定。例如，稠合芳香族环苯(benzene)和非芳香族环苯烷(cyclohexane)时，同样相当于脂肪族环。
并且，连续用前缀命名时，表示按照记载的先后顺序排列取代基。例如，芳基烷氧基(aryl alkoxy group)表示被芳基(aryl group)取代的烷氧基(alkoxy group)，烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)表示被烷氧基(alkoxy group)取代的羰基(carbonylgroup)，另外，芳基羰基烯基(aryl carbonyl alkenyl group)表示被芳基羰基(arylcarbonyl group)取代的烯基(alkenyl group)，其中，芳基羰基(aryl carbonyl group)是被芳基(aryl group)取代的羰基(carbonyl group)。
并且，除非明确描述，否则本申请中使用的术语“取代”或“未取代的”中，“取代”表示被一个以上取代基取代，该一个以上取代基选自由C2-C20的杂环基(heterocyclylgroup)组成的组，该由C2-C20的杂环基(heterocyclyl group)组成的组包含选自由以下组分组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)：重氢、卤素(halogen)、氨基(amino group)、腈(nitrile group)、硝基(nitro group)、C1-C20的烷基(Alkyl group)、C1-C20的烷氧基(alkoxy group)、C1-C20的烷基胺基(alkyl amine group)、C1-C20的烷基噻吩基(alkylthiophene group)、C6-C20的芳基噻吩基(aryl thiophene group)、C2-C20的烯基(alkenylgroup)、C2-C20的炔基(alkinyl group)、C3-C20的环烷基(cycloalkyl group)、C6-C20的芳基(aryl group)、被重氢取代的C6-C20的芳基(aryl group)、C8-C20的芳基烯基(aryl alkenylgroup)、硅烷(silane group)、硼基、锗基和O、N、S、Si及P。
本申请中，与各标记及其取代基例所述芳基(aryl group)、亚芳基(arylenelgroup)、杂环基(heterocyclyl group)等相对应的‘官能基名称’可以记载‘反映价数的官能基名称’，也可以记载为‘母体化合物的名称’。例如，‘菲(phenanthrene)’作为一种芳基(aryl group)'，可以分类价数记载‘基’的名称，如，将一价的‘基’记载为‘菲(phenanthryl)(基)’，将二价的‘基’记载为‘亚菲(phenanthrylene)(基)’等，但，也可以不考虑价数，记载为母体化合物的名称‘菲(phenanthrene)’。
类似地，嘧啶酮(pyrimidone)可以不考虑价数记载为‘嘧啶酮(pyrimidone)’，或者，一价时记载为嘧啶(pyrimidinyl)(基)，而二价时，可以记载为相应价数的‘基的名称’，如，亚嘧啶(pyrimidinylene)(基)等。因此，本申请中，将取代基的种类记载为母体化合物的名称时，可以表示：与母体化合物的碳原子及/或杂原子(hetero atom)键合的氢原子被退吸而形成的n价的‘基’。
并且，本说明书中，记载化合物名称或取代基名称时，可以省略表示位置的数字或字母表等。例如，可以将吡啶并(pyrido)[4,3-d]嘧啶酮(pyrimidone)记载为吡啶并嘧啶酮(pyrido pyrimidone)，将苯并呋喃(benzo furan)[2,3-d]嘧啶酮(pyrimidone)记载为苯并呋喃并嘧啶酮(benzo furan pyrimidone)，将9,9-二甲基-9H-芴(fluorene)记载为二甲基芴(fluorene)等。因此，苯并(benzo)[g]喹恶啉(quinoxaline)或苯并(benzo)[f]喹恶啉(quinoxaline)均可以记载为苯并喹恶啉(benzo quinoxaline)。
并且，除非明确记载，否则本申请采用的化学式同样适用依据以下化学式的指数定义对于取代基做出的定义。
Figure BDA0004025486640000141
其中，a为0的整数时，表示取代基R1不存在，即，a为0时，形成苯环(benzene ring)的碳均键合氢，此时，可以省略与碳键合的氢的标记，并记载化学式或化合物。并且，a为1的整数时，一个取代基R1与形成苯环(benz ene ring)的碳中任一碳键合。a为2或3的整数时，其键合可以如下。a为4至6的整数时，可以采用与其类似的方法与苯环(benzene ring)的碳进行键合。a为2以上的整数时，R1可以相同或不相同。
Figure BDA0004025486640000142
除非另行描述，否则形成环表示相邻的基团相互键合而形成单环或并合的多环，单环以及形成的被并合的多环不仅包括碳氢环，还包括杂环，该杂环包含至少一个杂原子(hetero atom)，且可以包括芳香族及非芳香族环。
并且，本说明书中，除非另行描述，否则表示缩合环时，‘数字-缩合环’中，数字表示缩合的环的数量。例如，三个环相互缩合的形态可表示为3-缩合环，如，蒽(anthracene)、菲(phenanthrene)、苯并喹恶啉(benzo quinoxaline)等。
另外，除非另行描述，否则本申请采用的术语“桥环化合物(bridged bicycliccompound)”是指2个环共享3个以上原子而形成环的化合物。此时共享的原子可以包含碳或杂原子(hetero atom)。
本申请中，有机电元器件意指阳极和阴极之间的(若干)构件，或者，意指有机发光二极管，该有机发光二极管包括位于阳极和阴极以及其间的(若干)构件。
并且，根据情况，本申请的显示装置意指有机电元器件、有机发光二极管和包括其的面板，或者，包括面板和电路的电子装置。其中，例如，电子装置包括所有的照明装置、太阳能电池、便携或移动终端(例如，智能手机、平板电脑、PDA、电子词典、PMP等)、导航终端、游戏机、各种TV、各种计算机显示器等，但，不受此限定，只要包括所述(若干)构件，任何形态的装置均可。
本发明一实施例的感光性树脂组合物包含：包括以下化学式(1)所示重复单位的粘结剂树脂、以下化学式(2)表示的染料、反应性不饱和化合物、颜料、引发剂及溶剂。
树脂包括所述化学式(1)示出结构的重复单位，其在高分子链包含以下化学式(C)和化学式(D)表示的结构。具体地，高分子包括所述化学式(1)表示的重复单位，其以1:9至9:1包含化学式(C)和化学式(D)，相较于只包含所述化学式(C)或化学式(D)结构之一的高分子，相对地具有非线性结构。
因此，高分子包括化学式(1)表示的重复单位，其相较于只包含化学式(C)或化学式(D)结构之一的高分子，经过曝光步骤和显影步骤之后，染料吸附性好，从而实现高光学密度和低反射率。
并且，本发明的感光性树脂组合物中，除了黑色颜料之外，还包含所述化学式(2)表示的染料。所述化学式(2)表示的染料在500nm至620nm具有最大吸收波长，从而可以有效降低550nm附近的反射率，而550nm附近对于可视性影响最大。
由此，使根据本发明利用感光性树脂组合物的显示装置提升可视性。
以下，详细描述本发明的实现例。但，这仅仅是通过举例说明进行描述，本发明不受其限定，本发明仅根据下附权利要求书的范畴进行界定。以下，将具体描述各个成分。
(A)粘结剂树脂
本发明一实施例的粘结剂树脂包括以下化学式(1)示出结构的重复单位。
化学式(1)：
Figure BDA0004025486640000161
所述化学式(1)中，
1)*表示以重复单位实现键连接的部分，
2)R1及R2相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclylgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
3)R1及R2可以分别与相邻的基团形成环，
4)a及b相互独立地为0至4的整数，
5)X1是单键、O、CO、SO2、CR'R"、SiR'R"、化学式(A)或化学式(B)，
6)X2是C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(heteroatom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxygroup)；或其等的组合，
7)R'及R"相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclylgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
8)R'及R"可以分别与相邻的基团形成环，
9)A1及A2相互独立地为化学式(C)或化学式(D)，
10)树脂包括化学式(1)表示的重复单位，其在高分子链内，化学式(C)和化学式(D)的比率满足1:9至9:1，
所述R'及R"相互实施键合而形成环时，举例如下。
Figure BDA0004025486640000171
所述化学式(A)及化学式(B)的具体一例如下。
化学式(A)：
Figure BDA0004025486640000172
化学式(B)：
Figure BDA0004025486640000173
所述化学式(A)及化学式(B)中，
11-1)*表示键合位置，
11-2)X3是O、S、SO2或NR'，
11-3)R'是氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
11-4)R3～R6相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
11-5)R3～R6可以分别与相邻的基团形成环，
11-6)c～f相互独立地为0至4的整数。
所述化学式(C)及化学式(D)的具体一例如下。
化学式(C)：
Figure BDA0004025486640000181
化学式(D)：
Figure BDA0004025486640000182
所述化学式(C)及化学式(D)中，
12-1)*表示键合位置，
12-2)R7～R10相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
12-3)Y1及Y2是化学式(E)。
所述化学式(E)的具体一例如下。
化学式(E)：
Figure BDA0004025486640000191
所述化学式(E)中，
13-1)*表示键合位置，
13-2)R11是氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
13-3)L1是单键、C1～C30的亚烷基(alkylene)、C6～C30的亚芳基(arylene)或C2～C30的杂环，
14)所述R1～R11、R'、R"、X1～X2、L1以及相邻的基团之间相互实施键合而形成的环分别可以进一步被选自由以下组分组成的组的一个以上取代基取代：重氢；卤素(halogen)；被C1～C30的烷基(Alkyl group)或C6～C30取代或未取代的芳基(aryl group)的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C1～C30的烷基(Alkylgroup)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(aryl group)；被重氢取代的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，
并且，相邻的取代基之间可以形成环，
所述R1～R11、R'、R"及X1～X2为芳基(aryl group)时，优选地，可以是C6～C30的芳基(aryl group)，进一步优选地，可以是C6～C18的芳基(aryl group)，例如，可以是苯(phenyl)、联苯(biphenyl)、萘(naphthyl)、三联苯(terphenyl)等。
所述R1～R11、R'、R"、X1～X2及L1为杂环基(heterocyclyl group)时，优选地，可以是C2～C30的杂环基(heterocyclyl group),进一步优选地，可以是C2～C18的杂环基(heterocyclyl group)，例如，可以是二苯并呋喃(dibenzo furan)、二苯并噻吩(dibenzothiophen)、萘并苯并噻吩(naphtho benzo thiophen)、萘并苯并呋喃(naphtho benzofuran)等。
所述R1～R11、R'、R"及X1～X2为芴基(fluorenyl group)时，优选地，可以是9,9-二甲基-9H-芴(fluorene)、9,9-二苯(diphenyl)-9H-芴基(fluorenyl group)、9,9'-螺二(spirobi)芴(fluorene)等。
所述L1为亚芳基(arylene)时，优选地，可以是C6～C30的亚芳基(arylene)，进一步优选地，可以是C6～C18的亚芳基(arylene)，例如，可以是苯(phenyl)、联苯(biphenyl)、萘(naphthyl)、三联苯(terphenyl)等。
所述R1～R11、R'及R"为烷基(Alkyl group)时，优选地，可以是C1～C10的烷基(Alkyl group)，例如，可以是甲基、t-丁基等。
所述R1～R11、R'及R"为烃氧基(alkoxy group)时，优选地，可以是C1～C20的烃氧基(alkoxy group)，进一步优选地，可以是C1～C10的烃氧基(alkoxy group)，例如，可以是甲氧基(methoxy)、t-丁氧基(butoxy)等。
所述R1～R11、R'、R"、X1～X2以及在L1的相邻的基团之间实施键合而形成的环可以是C6～C60的芳香族环基；芴基(fluorenyl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C60的杂环基(heterocyclyl group)；或C3～C60的脂肪族环基，例如，相邻的基团之间相互键合而形成芳香族环时，优选地，可以形成C6～C20的芳香族环，进一步优选地，可以形成C6～C14的芳香族环，例如，可以形成苯(benzene)、萘(naphthalene)、菲(phenanthrene)等。
根据本发明，树脂的重量平均分子量为1,000至100,000g/mol，优选地，可以是1,000至50,000g/mol，进一步优选地，可以是1,000至30,000g/mol。如果所述树脂的重量平均分子量包括在所述范围内，在制造图案层时，不产生残渣，图案形成效果佳，且显影时，膜厚无损失，可获得良好的图案。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述树脂的含量可以是1至30重量％，进一步优选地，含量可以是3至20重量％。所述树脂的含量包括在所述范围内时，可以获得优异的灵敏度、显影性及粘附性(贴紧性)。
除了所述树脂之外，所述感光性树脂组合物还可以进一步包括丙烯酸系树脂。所述丙烯酸系树脂是第一乙烯性不饱和单体以及可以与其共聚的第二乙烯性不饱和单体的共聚体，可以是包括一个以上丙烯酸系重复单位的树脂。
(B)染料
本发明一实施例的染料包括以下化学式(2)表示的结构。
化学式(2)：
Figure BDA0004025486640000211
所述化学式(2)中，
15-1)M是Zn、Cu、Ti、Fe、V＝O、Ni、Mn或Co，
15-2)R20～R27相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C3～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
15-3)R20～R27可以分别与相邻的基团形成环，
16)所述R20～R27以及相邻的基团之间相互实施键合而形成的环分别可以进一步被选自由以下组分组成的组的一个以上取代基取代：重氢；卤素(halogen)；被C1～C30的烷基(Alkyl group)或C6～C30的芳基(aryl group)取代或未取代的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C1～C30的烷基(Alkyl group)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(aryl group)；被重氢取代的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(heteroatom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，
并且，相邻的取代基之间可以形成环，
所述R20～R27为芳基(aryl group)时，优选地，可以是C6～C30的芳基(arylgroup)，进一步优选地，可以是C6～C18的芳基(aryl group)，例如，可以是苯(phenyl)、联苯(biphenyl)、萘(naphthyl)、三联苯(terphenyl)等。
所述R20～R27为杂环基(heterocyclyl group)时，优选地，可以是C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)，进一步优选地，可以是C2～C18的杂环基(heterocyclyl group)，例如，可以是二苯并呋喃(dibenzo furan)、二苯并噻吩(dibenzo thiophen)、萘并苯并噻吩(naphtho benzo thiophen)、萘并苯并呋喃(naphtho benzo furan)等。
所述R20～R27为芴基(fluorenyl group)时，优选地，可以是9,9-二甲基-9H-芴(fluorene)、9,9-二苯(diphenyl)-9H-芴基(fluorenyl group)、9,9'-螺二(spirobi)芴(fluorene)等。
所述R20～R27为烷基(Alkyl group)时，优选地，可以是C1～C10的烷基(Alkylgroup)，例如，可以是甲基、t-丁基等。
所述R20～R27为烃氧基(alkoxy group)时，优选地，可以是C1～C20的烃氧基(alkoxy group)，进一步优选地，可以是C1～C10的烃氧基(alkoxy group)，例如，可以是甲氧基(methoxy)、t-丁氧基(butoxy)等。
所述R20～R27的相邻的基团之间相互实施键合而形成的环可以是C6～C60的芳香族环基；芴基(fluorenyl group)；C2～C60的杂环基(heterocyclyl group)，其包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)；或C3～C60的脂肪族环基，例如，相邻的基团之间相互实施键合而形成芳香族环时，优选地，可以形成C6～C20的芳香族环，进一步优选地，可以形成C6～C14的芳香族环，例如，可以形成苯(benzene)、萘(naphthalene)、菲(phenanthrene)等。
所述化学式(2)所示聚吡嗪(Polypyrazine)结构的染料具有高吸光度，因此，即便用量少，也可以具有高光学密度(optical density)，并在窄的特定波长，具有最大吸光度。特别是，具有可以通过取代基和中心金属的变形来实现吸收波长调节的优点。
所述染料可以与一种以上的不同着色剂混用。与不同着色剂混用的比率可以是1:99至99:1，优选地，比率可以是3:97至97:3，进一步优选地，比率可以是10:90至90:10。在所述范围内使用时，可以获得所愿的光学密度，利于图案的成形。
所述染料的具体例中，C.I.溶剂染料有：C.I.溶剂黄4、14、15、16、21、23、24、38、56、62、63、68、79、82、93、94、98、99、151、162、163等黄色染料；C.I.溶剂红8、45、49、89、111、122、125、130、132、146、179等红色染料；C.I.溶剂橙2、7、11、15、26、41、45、56、62等橙色染料；C.I.溶剂蓝5、35、36、37、44、59、67、70等蓝色染料；C.I.溶剂紫8、9、13、14、36、37、47、49等紫色染料；C.I.溶剂绿1、3、4、5、7、28、29、32、33、34、35等绿色染料等。
其中的C.I.溶剂染料中，优选地，采用有机溶剂溶解性优异的C.I.溶剂黄14、16、21、56、151、79、93；C.I.溶剂红8、49、89、111、122、132、146、179；C.I.溶剂橙41、45、62；C.I.溶剂蓝35、36、44、45、70；C.I.溶剂紫13。特别是，进一步优选地，采用C.I.溶剂黄21、79；C.I.溶剂红8、122、132；C.I.溶剂橙45、62。
并且，C.I.酸性染料有：C.I.酸性黄1、3、7、9、11、17、23、25、29、34、36、38、40、42、54、65、72、73、76、79、98、99、111、112、113、114、116、119、123、128、134、135、138、139、140、144、150、155、157、160、161、163、168、169、172、177、178、179、184、190、193、196、197、199、202、203、204、205、207、212、214、220、221、228、230、232、235、238、240、242、243、251等黄色染料；C.I.酸性红1、4、8、14、17、18、26、27、29、31、34、35、37、42、44、50、51、52、57、66、73、80、87、88、91、92、94、97、103、111、114、129、133、134、138、143、145、150、151、158、176、182、183、198、206、211、215、216、217、227、228、249、252、257、258、260、261、266、268、270、274、277、280、281、195、308、312、315、316、339、341、345、346、349、382、383、394、401、412、417、418、422、426等红色染料；C.I.酸性橙6、7、8、10、12、26、50、51、52、56、62、63、64、74、75、94、95、107、108、169、173等橙色染料；C.I.酸性蓝1、7、9、15、18、23、25、27、29、40、42、45、51、62、70、74、80、83、86、87、90、92、96、103、112、113、120、129、138、147、150、158、171、182、192、210、242、243、256、259、267、278、280、285、290、296、315、324:1、335、340等蓝色染料；C.I.酸性紫6B、7、9、17、19、66等紫色染料；C.I.酸性绿1、3、5、9、16、25、27、50、58、63、65、80、104、105、106、109等绿色染料等。
所述酸性染料中，优选地，采用有机溶剂溶解性优异的C.I.酸性黄42；C.I.酸性红92；C.I.酸性蓝80、90；C.I.酸性紫66；C.I.酸性绿27。
并且，C.I.直接染料有：C.I.直接黄2、33、34、35、38、39、43、47、50、54、58、68、69、70、71、86、93、94、95、98、102、108、109、129、136、138、141等黄色染料；C.I.直接红79、82、83、84、91、92、96、97、98、99、105、106、107、172、173、176、177、179、181、182、184、204、207、211、213、218、220、221、222、232、233、234、241、243、246、250等红色染料；C.I.直接橙34、39、41、46、50、52、56、57、61、64、65、68、70、96、97、106、107等橙色染料；C.I.直接蓝38、44、57、70、77、80、81、84、85、86、90、93、94、95、97、98、99、100、101、106、107、108、109、113、114、115、117、119、137、149、150、153、155、156、158、159、160、161、162、163、164、166、167、170、171、172、173、188、189、190、192、193、194、196、198、199、200、207、209、210、212、213、214、222、228、229、237、238、242、243、244、245、247、248、250、251、252、256、257、259、260、268、274、275、293等蓝色染料；C.I.直接紫47、52、54、59、60、65、66、79、80、81、82、84、89、90、93、95、96、103、104等紫色染料；C.I.直接绿25、27、31、32、34、37、63、65、66、67、68、69、72、77、79、82等绿色染料等。
并且，C.I.媒介染料有：C.I.媒介黄5、8、10、16、20、26、30、31、33、42、43、45、56、61、62、65等黄色染料；C.I.媒介红1、2、3、4、9、11、12、14、17、18、19、22、23、24、25、26、30、32、33、36、37、38、39、41、43、45、46、48、53、56、63、71、74、85、86、88、90、94、95等红色染料；C.I.媒介橙3、4、5、8、12、13、14、20、21、23、24、28、29、32、34、35、36、37、42、43、47、48等橙色染料；C.I.媒介蓝1、2、3、7、8、9、12、13、15、16、19、20、21、22、23、24、26、30、31、32、39、40、41、43、44、48、49、53、61、74、77、83、84等蓝色染料；C.I.媒介紫1、2、4、5、7、14、22、24、30、31、32、37、40、41、44、45、47、48、53、58等紫色染料；C.I.媒介绿1、3、4、5、10、15、19、26、29、33、34、35、41、43、53等绿色染料等。
本发明中，所述染料可以分别单独或组合两种以上使用。
所述染料的最大吸收波长是500nm至620nm，进一步优选地，包括在520nm至580nm波长区。所述染料的最大吸收波长包括在所述范围内时，采用本发明所述感光性树脂组合物的显示装置会降低由于外部可视光线的反射率，由此提高可视性。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述染料的含量可以是0.1至10重量％，进一步优选地，含量可以是0.3至8重量％。所述染料的含量包括在所述范围内时，图案的固化性及贴紧性优异，可降低550nm波长的反射率，以提高显示装置的可视性。
(C)颜料
所述颜料可以是有机颜料和无机颜料中一种以上。所述颜料可以采用红色颜料、绿色颜料、蓝色颜料、黄色颜料、黑色颜料等。
例如，所述红色颜料有：C.I.红色颜料254、C.I.红色颜料255、C.I.红色颜料264、C.I.红色颜料270、C.I.红色颜料272、C.I.红色颜料177、C.I.红色颜料89等。
例如，所述绿色颜料有：取代卤素(halogen)的铜酞菁颜料，如，C.I.绿色颜料36、C.I.绿色颜料7等。
例如，所述蓝色颜料有：C.I.蓝色颜料15:6、C.I.蓝色颜料15、C.I.蓝色颜料15:1、C.I.蓝色颜料15:2、C.I.蓝色颜料15:3、C.I.蓝色颜料15:4、C.I.蓝色颜料15:5、C.I.蓝色颜料16等铜酞菁颜料。
例如，所述黄色颜料有：C.I.黄色颜料139等异吲哚啉(isoindoline)系颜料、C.I.黄色颜料138等喹酞酮(quinophthalone)系颜料、C.I.黄色颜料150等镍复合颜料等。
例如，所述黑色颜料有：内酰胺黑(lactam black)、苯胺黑(aniline black)、派力奥根黑(perylene black)、钛黑、炭黑等。
所述颜料可以单独或混合两种以上使用，不受其等的限定。
采用感光性树脂组合物形成的图案层需要具备高遮光性时，可以采用所述黑色颜料有效遮光。采用所述黑色颜料时，也可以与蒽醌(anthraquinone)系颜料、二萘嵌苯(perylene)系颜料、酞菁(phthalocyanine)系颜料、偶氮(azo)系颜料等的色彩校正剂一同使用。
为了在所述感光性树脂组合物上分散所述颜料，可以一同使用分散剂。所述颜料可以采用分散剂进行表面预处理后使用，或者，在制备所述感光性树脂组合物时，与所述颜料一同添加分散剂后使用。
所述分散剂可以采用非离子型分散剂、负离子型分散剂、正离子型分散剂等。所述分散剂的具体例有：聚亚烷基二醇(polyalkylene glycol)及其酯、聚氧化亚烷基(polyoxyalkylene)、氧化亚烷基多元醇酯附加物、醇亚烷基氧化物附加物、磺酸酯、磺酸盐、羧酸酯、羧酸盐、氧化亚烷基烷基酰胺附加物、烷基胺(alkyl amine)等，其等可以单独或混合两种以上使用。
所述分散剂的在售产品例如，BYK公司的DISPERBYK-101、DISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-160、DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-165、DISPERBYK-166、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、DISPERBYK-182、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001等；或者BASF公司的EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-100、EFKA-400、EFKA-450等；或者Zeneka公司的Solsperse5000、Solsperse 12000、Solsperse 13240、Solsperse 13940、Solsperse 17000、Solsperse 20000、Solsperse 24000GR、Solsperse 27000、Solsperse 28000等；或者Ajinomoto公司的PB711、PB821等。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述分散剂的含量可以是0.1至15重量％。所述分散剂的含量包括在所述范围内时，所述感光性树脂组合物的分散性优异，随之，在制备遮光层时，稳定性、显影性及模式性优异。
所述颜料还可以利用水溶性无机盐和润湿剂进行预处理后使用。如上所述，所述颜料经过预处理后使用时，可以实现颜料初级粒度的精细化。所述预处理经过以下步骤实现：将所述颜料与水溶性无机盐及润湿剂一同进行捏合(kneading)；然后，过滤和冲洗在所述捏合步骤获得的颜料。所述捏合可以在40℃至100℃温度下实施，所述过滤和冲洗可以使用水等冲洗无机盐并过滤。例如，所述水溶性无机盐有：氯化钠、氯化钾等，但，这里不受此限定。
所述润湿剂均匀混合所述颜料和所述水溶性无机盐，从而起到使颜料变得容易粉碎的介质作用，例如，其有：乙二醇单乙醚(ethylene glycol monoethyl ether)、丙二醇单甲醚(Propylene Glycol Monomethyl Ether)、二乙二醇单甲醚(diethylene GlycolMonomethyl Ether)等亚烷基二醇单烷基醚(alkylene glycol monoalkyl ether)；乙醇(ethanol)、异丙醇(isopropanol)、丁醇(butanol)、己醇(hexanol)、环己醇(cyclohexanol)、乙二醇(ethylene glycol)、二乙二醇(diethylene glycol)、聚乙二醇(polyethylene glycol)、聚乙二醇丙三醇(glycerin polyethylene glycol)等乙醇(alcohol)等，其等可以单独或混合两种以上使用。
经过所述捏合步骤的颜料可以具有20nm至110nm的平均粒径。颜料的平均粒径包括在所述范围内时，耐热性及耐光性优异，且可以有效形成精细的图案。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述颜料的含量可以是1重量％至40重量％、1重量％至30重量％或2重量％至30重量％。所述颜料的含量包括在所述范围内时，所述感光性树脂组合物的色彩再现率优异，可以形成固化性及贴紧性优异的图案层。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述颜料和染料的含量可以是5至40重量％，更具体地，含量可以是8至30重量％。所述颜料和染料包括在所述范围内时，图案的清晰度和固化性及贴紧性优异。
(D)反应性不饱和化合物
所述反应性不饱和化合物可以采用一种以上酯，该酯是具有至少一个乙烯(ethylene)性不饱和双键的(甲基)丙烯酸，且单官能性或多官能性。所述反应性不饱和化合物可以是单体或低聚物。
本说明书中，“(甲基)丙烯酸”可以是甲基丙烯酸(methacrylic acid)、丙烯酸或者甲基丙烯酸(methacrylic acid)和丙烯酸的混合物。
所述反应性不饱和化合物可以是光聚合性化合物。所述反应性不饱和化合物为光聚合性化合物，因此，在图案形成工艺对于感光性树脂组合物实施曝光时引发足够的聚合，形成耐热性、耐光性及耐化学性优异的图案。
例如，所述反应性不饱和化合物可以是选自以下成分的一种以上：乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、双酚A环氧丙烯酸酯、乙二醇单甲醚丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯及三丙烯酰氧乙基磷酸盐(trisacryloyl oxy ethyl Phosphate)，但，这里不受此限定。
所述反应性不饱和化合物的在售产品例如以下。
例如，所述(甲基)丙烯酸的二官能酯有：东亚合成化学工业㈱公司的aronyxM-210、M-240、M-6200等；日本化学㈱公司的KAYARAD HDDA、HX-220、R-604等；大阪有机化学工业㈱公司的V-260、V-312、V-335 HP等。
例如，所述(甲基)丙烯酸的三官能酯有：东亚合成化学工业㈱公司的aronyxM-309、M-400、M-405、M-450、M-7100、M-8030、M-8060；日本化学㈱公司的KAYARAD TMPTA、DPCA-20、DPCA-60、DPCA-120等；大阪有机化学工业㈱公司的V-295、V-300、V-360等。
上述产品可以单独使用或者一同使用两种以上。
为了具有更优异的显影性，所述反应性不饱和化合物可以用酸酐处理后使用。所述感光性树脂组合物的总量中，所述反应性不饱和化合物的含量可以是1至40重量％，例如，可以是1至20重量％。所述反应性不饱和化合物的含量包括在所述范围内时，在图案形成工艺实施曝光时引发足够的固化，因此，可靠性优异，图案的耐热性、耐光性及耐化学性优异，清晰度及贴紧性也优异。
(E)光引发剂
*241所述引发剂可以采用光聚合引发剂、自由基聚合引发剂或其等的组合。
例如，所述光聚合引发剂可以采用苯乙酮系化合物、二苯酮系化合物、噻吨酮系化合物、二苯乙醇酮系化合物、肟系化合物和三嗪系化合物中一种以上。
例如，所述苯乙酮系化合物有：2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二丁氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、p-t-丁基三氯苯乙酮、p-t-丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2'-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-吗啉基丙-1-酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-l吗啉基苯)-丁烷-1-酮等。
例如，所述二苯酮系化合物有：二苯酮、苯甲酰苯甲酸、苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯酮、羟基二苯酮、丙烯酸化二苯酮、4,4'-双(二甲氨基)二苯酮、4,4'-双(二乙氨基)二苯酮、4,4'-二甲氨基二苯酮、4,4'-二氯二苯酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯酮等。
例如，噻吨酮系化合物有：噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮等。
例如，所述二苯乙醇酮系化合物有：二苯乙醇酮、二苯乙醇酮甲醚、二苯乙醇酮乙醚、二苯乙醇酮异丙醚、二苯乙醇酮异丁醚、苄基二甲基酮缩醇等。
例如，所述肟系化合物有：2-(o-苯甲酰肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(o-乙酰基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰)-9H-咔唑-3-醇]乙醇、O-乙氧羰基-α-氧基氨基-1-苯基丙烷-1-酮、2-二甲氨基-2-(4-甲基苄基)-1-(4-吗啉-4-醇-苯基)-丁烷-1-酮、1-(4-苯磺酰苯)-丁烷-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸,1-(4-苯磺酰苯)-辛烷-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸,1-(4-苯磺酰苯)-辛烷-1-酮肟-O-醋酸盐及1-(4-苯磺酰苯)-丁烷-1-酮肟-O-醋酸盐、1-(4-甲基磺酰-苯基)-丁烷-1-酮肟-O-醋酸盐、羟基亚氨基-(4-甲基磺酰-苯基)-乙酸乙酯-O-醋酸盐、羟基亚氨基-(4-甲基磺酰-苯基)-乙酸乙酯-O-苯甲酸等。
例如，所述三嗪系化合物有：2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(p-甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(p-甲苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-联二苯4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、双(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪,2-(萘并1-醇)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘并1-醇)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、2-4-三氯甲基(4'-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪等。
所述光聚合引发剂除了化合物，还可以采用咔唑系化合物、二酮类化合物、硼酸锍系化合物、重氮系化合物、咪唑系化合物、非咪唑系化合物等。
所述自由基聚合引发剂可以采用过氧化物系化合物、偶氮双系化合物等。
例如，所述过氧化物系化合物有：过氧化甲乙酮、过氧化甲基异丁基甲酮、过氧化环己酮、过氧化甲基环己酮、过氧化乙酰丙酮等的过氧化酮类；过氧化异丁酰、过氧化2,4-二氯苯甲酰、过氧化o-甲基苯甲酰、过氧化双-3,5,5-三甲基己酰等的过氧化二酰基类；2,4,4,-三甲基戊基-2-过氧化氢、过氧化氢二异丙苯、过氧化氢异丙苯、t-丁基过氧化氢等的过氧化氢类；过氧化二异丙苯,2,5-二甲基-2,5-二(t-丁基过氧化)己烷,1,3-双(t-丁氧基异丙基)苯,t-丁基过氧化戊酸正丁酯等的过氧化二烷基类；2,4,4-三甲基戊基过氧化苯氧基乙酸酯,α-过氧化新癸酸枯酯,t-丁基过氧化苯甲酸、二-t-丁基过氧化三甲基己二酸等的烷基琥珀酸酯类；二-3-甲氧基过氧化二碳酸丁酯,二-2-乙基己基过氧化二碳酸,双-4-t-环己基过氧化二碳酸丁酯,二异丙基过氧化二碳酸,乙酰基过氧化环已基磺酰,t-过氧化芳基碳酸丁酯等的过碳酸盐等。
例如，所述偶氮双系化合物有：1,1'-偶氮双环己烷-1-甲腈、2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、2,2,-偶氮双(异丁酸甲酯)、2,2'-偶氮双(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、α,α'-偶氮双(异丁腈)及4,4'-偶氮双(4-氰基戊酸)等。
所述引发剂吸光跃迁至激发态后，传递其能量，从而与产生化学反应的光增感剂一同使用。例如，所述光增感剂有：三缩四乙二醇双-3-巯基丙酸酯、季戊四醇四-3-巯基丙酸酯、二季戊四醇四-3-巯基丙酸酯等。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述引发剂的含量可以是0.01至10重量％或者0.1至5重量％。所述引发剂的含量包括在所述范围内时，在利用感光性树脂组合物的图案形成工艺实施曝光时引发足够的固化，因此，可靠性优异，图案的耐热性、耐光性及耐化学性优异，清晰度及贴紧性也优异。另外，还可以防止未反应的引发剂引起的透射率降低。
(F)溶剂
所述溶剂与所述粘结剂树脂、所述反应性不饱和化合物、所述颜料及所述引发剂具有相溶性，可以采用不反应的物质。
例如，所述溶剂有：甲醇、乙醇(ethanol)等的乙醇(alcohol)类；二氯乙醚、n-丁基醚、二异戊醚、苯甲醚、四氢呋喃等的醚类；乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚等的乙二醇醚类；乙酸甲氧基乙酯、乙酸乙氧基乙酯、二乙氧基乙酸乙酯等的乙酸乙二醇乙醚类；甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙醚等的卡必醇类；丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等的丙二醇烷基醚乙酸酯类；甲苯、二甲苯等的芳香族碳氢类；甲基乙基酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、甲基-n-丙基甲酮、甲基-n-丁基酮、甲基-n-二正戊基酮、2-庚酮等的酮类；醋酸乙酯、醋酸-n-丁酯、醋酸异丁酯等的饱和脂肪族单羧酸烷基酯类；乳酸甲酯、乳酸乙酯等的乳酸酯类；氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸甲酯、氧乙酸丁酯等的氧乙酸烷基酯类；甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等的烷氧基乙酸烷基酯类；3-氧丙酸甲酯、3-氧丙酸乙酯等的3-氧丙酸烷基酯类；3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯等的3-烷氧基丙酸烷基酯类；2-氧丙酸甲酯、2-氧丙酸乙酯、2-氧丙酸丙酯等的2-氧丙酸烷基酯类；2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯等的2-烷氧基丙酸烷基酯类；2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯等的2-氧基-2-甲基丙酸酯类；2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等的2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基类的单氧基单羧酸烷基酯类；2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁烷酸甲酯等的酯类；丙酮酸乙酯等的酮酸酯类等。
并且，可以采用N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰苯胺、N-甲基乙酰胺、N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、苄基乙醚、二己醚、乙酰丙酮、异佛尔酮(Isophorone)、已酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇(benzyl alcohol)、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、γ-丁内酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯、乙二醇苯醚乙酸酯等的高沸点溶剂。
考虑到所述溶剂的相溶性和反应性，可以采用乙二醇单乙醚(ethylene glycolmonoethyl ether)等的乙二醇醚类；乙酸乙氧基乙酯等的乙酸乙二醇烷氧醚类；2-羟基丙酸乙酯等的醚类；二乙二醇单甲醚等的卡必醇类；丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等的丙二醇烷基醚乙酸酯类。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述溶剂可以以余量包括在内，具体地，含量可以是50至90重量％。所述溶剂的含量包括在所述范围内时，可以使所述感光性树脂组合物具有适当的粘度，从而在制备图案层时，实现优异的工艺性。
并且，本发明的附加实施例可以提供显示装置。
本发明所述实施例的显示装置包括图案层，该图案层包含感光性树脂组合物的聚合反应物。
本发明所述实施例的显示装置中，所述感光性树脂组合物的相关内容与上述的本发明所述实施例的感光性树脂组合物相同，在此省略对其的说明。
例如，所述感光性树脂组合物的聚合反应物可以通过以下工艺形成：将感光性树脂组合物涂覆在TFT基板上，并对于涂覆的感光性树脂组合物实施固化。
所述图案层包含所述感光性树脂组合物的聚合反应物，从而具有优异的清晰度和大锥角大。
所述显示装置包含多个子像素，所述图案层可以是划分所述多个子像素的像素定义层。
例如，所述显示装置的子像素具备发光元器件，所述发光元器件可以是有机发光元器件。例如，所述有机发光元器件可以依次层叠形成有第一电极、有机层及第二电极。该示例中，所述图案层位于第一电极上，所述图案层在第一电极上具备开口部。所述开口部内及所述第一电极上配置所述有机层，所述有机层上配置第二电极。依据该图案层的开口区界定子像素的发光区，因此，所述图案层可以是像素定义层。
并且，优选地，所述图案层是遮挡光线的遮光层。
本发明一实施例的图案层可以具有大锥角。例如，本发明一实施例中，图案层的倾斜角可以是20°至40°。所述倾斜角可以是在倾斜起始之处，相对于与标识面平行的方向的倾斜角。
图案层作为所述像素定义层，具有开口部，连接开口部和非开口部的倾斜部具有倾斜角。
本发明一实施例的图案层包含所述感光性树脂组合物的聚合反应物，所述感光性树脂组合物可以无残渣地形成图案层，且由于在形成图案的过程中抑制了熔体流动(melting flow)，可以实现大倾斜角。
随之，所述图案层具有大倾斜角，缩短了倾斜部的长度，因此，可以缩减开口部之间的距离，可以密集布置子像素，使显示装置具有高清晰度。
以下，具体描述本发明的合成例和实施例，但，本发明不受合成例和实施例的限定。
(合成例1)
(化合物1-1的制备)
9,9'-双酚芴20g(Sigma aldrich公司)、氯化缩水甘油(Sigma aldrich公司)8.67g、无水碳酸钾30g和二甲基甲酰胺100ml倒入设有蒸馏管的300ml 3-口圆底烧瓶中，升温至80℃，使其反应4小时，然后，降温至25℃，过滤反应液，然后，将过滤液搅拌滴入1000ml水中，过滤析出的粉末，然后，用水清洗，在40℃进行减压及烘干，获得化合物1-1(25g)。采用HPLC分析获取粉末的纯度，其结果，纯度为98％。
<化合物1-1>
Figure BDA0004025486640000331
(合成例2)
(制备化合物2-1至2-3)
将合成例1中获得的化合物1-1 25g(54mmol)、丙烯酸8g(大井化金公司)、三乙基苄基氯化铵(benzyl triethylammonium chloride)0.2g(大井化金公司)、对苯二酚0.2g(大井化金公司)和甲苯(toluene)52g(Sigma aldrich公司)倒入设有蒸馏管的300ml 3-口圆底烧瓶中，在110℃搅拌6小时。反应结束后，通过减压蒸馏，去除甲苯(toluene)而获得生成物。将硅胶60(230～400mesh，Merck公司)500g充入直径为220mm的玻璃柱，然后，充入生成物20g，以4:1容积比率混合己烷和乙酸乙酯制备10L溶剂备用，然后，利用该溶剂10L进行分离，分离出化合物2-1至化合物2-3。
<化合物2-1>
Figure BDA0004025486640000341
<化合物2-2>
Figure BDA0004025486640000342
<化合物2-3>
Figure BDA0004025486640000343
(合成例3至9)
(制备聚合物1至7)
如下表1，将合成例2获得的化合物2-1、化合物2-2和化合物2-3分别倒入设有蒸馏管的50ml 3-口圆底烧瓶中，将四乙基溴化铵0.1g(大井化金公司)、对苯二酚0.03g(大井化金公司)和丙二醇甲醚乙酸酯8.05g(Sigma aldrich公司)倒入设有蒸馏管的50ml 3-口圆底烧瓶中，进一步倒入联苯四羧酸二酐1.22g(Mitsubishi Gas社)和四氢化邻苯二甲酸0.38g(Sigma aldrich公司)，然后，在110℃搅拌6小时。反应结束后，回收反应液，获得包括重复单位的聚合物1至7，该重复单位与化合物2-1、2-2及2-3相同，其形态呈溶液，含有45％固态粉末。利用凝胶渗透色谱(Gel Permeation Chromatography,GPC)(Agilent公司)分析了合成的高分子的重量平均分子量(Mw)。
【表1】
Figure BDA0004025486640000351
(合成例10)
(制备化合物3-1)
设有蒸馏管的250ml 3-口圆底烧瓶里倒入(Z)3,4-Dicyano-3-hexene(HongkongChemhere公司)17g、1,8-Diazabicyclo[5,4,0]-7-undecene(Aldrich公司)10g、Vanadiumtrichloride(Aldirich公司)5g及n-Pentanol(Aldrich公司)100ml，升温至120℃，搅拌18小时。通过减压蒸馏去除全部N-Pentanol，倒入甲醇(Aldrich公司)100ml，然后，搅拌30分钟，减压过滤，获得蓝色固体。通过硅胶柱色谱纯化法获得化合物3-1 11g。
<化合物3-1>
Figure BDA0004025486640000361
(合成例11)
(制备化合物3-2)
采用与合成例10相同的方法进行合成，获得化合物3-2 13.4g，但，上述合成例10中，用(Z)2-(3-Ethoxypropyl)-3-ethyl-2-butenedinitrile(Shanghai Chemicalproduct list公司)24.4g取代(Z)3,4-Dicyano-3-hexene(Hongkong Chemhere公司)17g的步骤除外。
<化合物3-2>
Figure BDA0004025486640000362
(合成例12)
(制备化合物3-3)
采用与合成例10相同的方法进行合成，获得化合物3-3 13.4g，但，上述合成例10中，用Nickel dichloride(Aldirich公司)4.1g取代Vanadium trichloride(Aldirich公司)5g的步骤除外。
<化合物3-3>
Figure BDA0004025486640000371
合成例10至合成例12合成的化合物3-1至化合物3-3的最大吸光波长如下表2。
【表2】
化合物3-1 化合物3-2 化合物3-3
吸光λmax(nm) 590 594 585
(合成例13)
(制备丙烯酸粘结剂)
将苯乙烯34.2g(Aldrich公司)、甲基丙烯酸(methacrylic acid)10.8g(Aldrich公司)、苯基马来酰亚胺9g(TCI公司)、甲基丙烯酸甲酯6g(Aldrich公司)和2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)(引发剂)6g与丙二醇单甲醚乙酸酯一同倒入具备冷却管和搅拌器的300mL烧瓶中，然后，升温至80℃，搅拌4小时，获得化合物4-1，其重量平均分子量为11,000，形态呈溶液，含有30％固态粉末。
(制备例1)
(制备黑色颜料分散液)
将Irgaphor Black S 100CF(黑色颜料/BASF公司)15g、Disperbyk 1638.5g(BYK公司)和SR-3613(SMS公司)6.5g与丙二醇甲醚乙酸酯70g和直径为0.5mm的氧化锆珠100g(Toray公司)一同利用涂料摇动器(Asada公司)分散10小时，获得分散液。
(实施例1至7)
采用下表3的组份制备感光性组合液。
【表3】
Figure BDA0004025486640000372
Figure BDA0004025486640000381
(对比例1至4)
采用下表4的组份制备感光性组合液。
【表4】
Figure BDA0004025486640000382
Figure BDA0004025486640000391
利用上表3及表4中组合液制备遮光层的方法如下：
(1)涂布及形成涂膜步骤
清洗干净的10cm*10cm玻璃基板上，利用旋涂机涂布所述黑色感光性树脂组合物，涂布厚度为1.5μm。然后，在100℃温度下，加热1分钟，去除溶剂，形成涂膜。
(2)曝光步骤
在上述获得的涂膜上，夹杂给定形态的掩膜，以便于形成所需图案。然后，照射190nm至500nm光化射线。曝光机采用MA-6，曝光量为以100mJ/cm2的标准照射。
(3)显影步骤
实施所述曝光步骤之后，接着，通过浸渍(dipping)法，采用AZEM公司的AX 300MIF显影液，在25℃显影1分钟，然后，用水冲洗，溶解未曝光部分并去除，仅保留曝光部分，以形成图像图案。
(4)后处理步骤
为了获得在耐热性、耐光性、贴紧性、抗裂性、耐化学性、高强度、储存安全性等方面优异的图案，在230℃的烤箱，对于所述通过显影获得的图像图案，进行后烘处理(postbaking)，处理时间为30分钟。
检测该图案的反射率以及形成于基板的图案的最高清晰度(基材上最小尺寸图案)计入表5和表6中。
【表5】
Figure BDA0004025486640000392
Figure BDA0004025486640000401
【表6】
Figure BDA0004025486640000402
如上表5及表6，采用合成例10至12染料的实施例1至7与对比例2及3进行对比可知，550nm波长的反射率低于采用染料的对比例1及4。由此可知，添加染料的感光性树脂组合物形成的图案相较于未添加染料的感光性树脂组合物形成的图案，反射率更低，将其应用在显示器时，可以改善可视性。
并且，采用本发明所述染料的实施例1至7在365nm区，对于透射率的降低产生的影响甚微，经验证，其相较于利用重量％相同的黑色颜料分散液的对比例1，透射率和清晰度保持相近水平的同时，可以提高光学密度，降低反射率。
反之，对比例4未采用本发明所述染料，提高了黑色颜料分散液的比率，其相较于对比例1，反射率下降了，但，365nm区的透射率得到了大幅下降，这致使光引发剂不能从光源接收到足够的能源，导致了聚合度下降，最小尺寸图案变大，清晰度下降。
对比例2或对比例3采用的聚合物6或聚合物7是聚合一种单体而成，其相较于聚合物1至5，根据单体的结构，相对地具备线性形态。反之，实施例1至7采用的聚合物1至5是聚合成具有不同结构的3种单体，其相较于聚合物6及7，相对地具有网状结构。随之，采用聚合物1至5形成图案的实施例1至实施例7经过曝光步骤和显影步骤之后，染料吸附性仍然好，经验证，其相较于采用线性结构聚合物6及7的对比例2及3，光学密度更高，反射率更低。
并且，对于采用聚合物1至5树脂的实施例1至7与采用聚合物6及7的对比例2及3，比较最小尺寸图案可知，实施例1至7形成了5.7至6.2μm的图案。鉴于此认为，实施例1至7采用的聚合物1至5基于其的结构特性，有效实现了与外围化合物之间的分子间键合，因此，该结构更适合光刻工艺，随之，在实施显影工艺时，实现了更高的清晰度。
反之，对比例2及3采用的聚合物6及7相较于聚合物1至5，相对地具备了直线状结构，其在实现最小尺寸图案时，起始于9.7至9.8μm，经验证，其清晰度相对低。
从上表6可知，如对比例5，取代本发明的碱性可溶树脂，将丙烯酸粘结剂与本发明所述染料一同使用时，由于高分子链和支链的结构及其特性差异，相较于本发明所述碱性可溶树脂，清晰度最低。
上述说明仅仅是举例说明了本发明，只要是本发明所属技术领域的通常技术人员，就可以在不脱离本发明实质特性的范围内，可以进行多种变形。
因此，本说明书揭示的实施例用于描述本发明，而非用于限定本发明，本发明的思想和范畴不受这种实施例的限定。本发明的权利要求范围应当依据下附权利要求书进行解释，应当解释为，包括在与其同等范围内的所有技术均落入本发明的权利要求范围。
【工业应用可能性】
本发明提供一种显示装置，其包括：
感光性树脂组合物，其包含：树脂，其包含化学式(1)表示的重复单位、化学式(2)表示的染料、反应性不饱和化合物、颜料、引发剂及溶剂；以及
图案层，其包含：所述感光性树脂组合物的聚合反应物。

Claims (14)

1.一种感光性树脂组合物，其特征在于：
粘结剂树脂，其包括以下化学式(1)表示的重复单位；
以下化学式(2)表示的染料；
颜料；
反应性不饱和化合物；
光引发剂；以及
溶剂，
化学式(1)：
Figure FDA0004025486630000011
所述化学式(1)中，
1)*表示以重复单位实现键连接的部分，
2)R1及R2相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxygroup)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonylgroup)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
3)R1及R2可以分别与相邻的基团形成环，
4)a及b相互独立地为0至4的整数，
5)X1是单键、O、CO、SO2、CR'R"、SiR'R"、化学式(A)或化学式(B)，
6)X2是C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(heteroatom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxygroup)；或其等的组合，
7)R'及R"相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxygroup)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonylgroup)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
8)R'及R"可以分别与相邻的基团形成环，
9)A1及A2相互独立地为化学式(C)或化学式(D)，
10)树脂包括化学式(1)表示的重复单位，其在高分子链内，化学式(C)和化学式(D)的比率满足1:9至9:1，
化学式(A)：
Figure FDA0004025486630000021
化学式(B)：
Figure FDA0004025486630000022
所述化学式(A)及化学式(B)中，
11-1)*表示键合位置，
11-2)X3是O、S、SO2或NR'，
11-3)R'是氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
11-4)R3～R6相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclylgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，11-5)R3～R6可以分别与相邻的基团形成环，
11-6)c～f相互独立地为0至4的整数，
化学式(C)：
Figure FDA0004025486630000031
化学式(D)：
Figure FDA0004025486630000032
所述化学式(C)及化学式(D)中，
12-1)*表示键合位置，
12-2)R7～R10相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclylgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
12-3)Y1及Y2是化学式(E)，
化学式(E)：
Figure FDA0004025486630000033
所述化学式(E)中，
13-1)*表示键合位置，
13-2)R11是氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
13-3)L1是单键、C1～C30的亚烷基(alkylene)、C6～C30的亚芳基(arylene)或C2～C30的杂环，
14)所述R1～R11、R'、R"、X1～X2、L1以及相邻的基团之间相互实施键合而形成的环分别可以进一步被选自由以下组分组成的组的一个以上取代基取代：重氢；卤素(halogen)；被C1～C30的烷基(Alkyl group)或C6～C30的芳基(aryl group)取代或未取代的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C1～C30的烷基(Alkylgroup)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(aryl group)；被重氢取代的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，
并且，相邻的取代基之间可以形成环，
化学式(2)：
Figure FDA0004025486630000041
所述化学式(2)中，
15-1)M是Zn、Cu、Ti、Fe、V＝O(vanadium oxide)、Ni、Mn或Co，
15-2)R20～R27相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclylgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
15-3)R20～R27可以分别与相邻的基团形成环，
16)所述R20～R27以及相邻的基团之间相互实施键合而形成的环分别可以进一步被选自由以下组分组成的组的一个以上取代基取代：重氢；卤素(halogen)；被C1～C30的烷基(Alkyl group)或C6～C30的芳基(aryl group)取代或未取代的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C1～C30的烷基(Alkyl group)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(aryl group)；被重氢取代的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclyl group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(heteroatom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，
并且，相邻的取代基之间可以形成环。
2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：所述化学式1的X1为化学式(A)或化学式(B)。
3.根据权利要求2所述的感光性树脂组合物，其特征在于：所述化学式1的X1为化学式(A)。
4.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：所述化学式(2)表示的染料的最大吸收波长包括在500nm至620nm区。
5.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：所述感光性树脂组合物形成的硬化膜在550nm波长中，每1μm膜厚的光学密度为1以上，在550nm波长中，每1μm膜厚的反射率为9％以下。
6.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：粘结剂树脂包括所述化学式(1)表示的重复单位，其重量平均分子量为1,000至50,000g/mol。
7.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：
所述感光性树脂组合物包含：
包括所述化学式(1)所示重复单位的树脂1至30重量％；
包含所述化学式(2)表示的染料0.1至10重量％；
所述颜料1至30重量％；
所述反应性不饱和化合物1至40重量％；
所述光引发剂0.01至10重量％；以及
所述溶剂余量。
8.一种图案层，其特征在于：包含权利要求1所述感光性树脂组合物的聚合反应物。
9.根据权利要求8所述的图案层，其特征在于：所述图案层为遮光层。
10.根据权利要求8所述的图案层，其特征在于：所述图案层是划分多个子像素的像素定义层。
11.根据权利要求10所述的图案层，其特征在于：所述子像素内包括发光元器件。
12.根据权利要求10所述的图案层，其特征在于：所述子像素内包括有机发光元器件。
13.一种显示装置，其特征在于：包括权利要求8至12中任一项所述的图案层。
14.一种电子装置，其特征在于：包括权利要求13所述的显示装置以及驱动所述显示装置的控制部。
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MY151065A (en) 2003-02-25 2014-03-31 Kaneka Corp Curing composition and method for preparing same, light-shielding paste, light-shielding resin and method for producing same, package for light-emitting diode, and semiconductor device
KR101246699B1 (ko) * 2007-11-29 2013-03-25 주식회사 엘지화학 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 블랙 매트릭스
JP6043645B2 (ja) * 2013-02-08 2016-12-14 富士フイルム株式会社 硬化性組成物およびカラーフィルタ
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