CN116670589A - 树脂、树脂组合物以及利用其的显示装置 - Google Patents

树脂、树脂组合物以及利用其的显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN116670589A
CN116670589A CN202180067925.6A CN202180067925A CN116670589A CN 116670589 A CN116670589 A CN 116670589A CN 202180067925 A CN202180067925 A CN 202180067925A CN 116670589 A CN116670589 A CN 116670589A
Authority
CN
China
Prior art keywords
group
groups
chemical formula
alkyl
heteroatom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202180067925.6A
Other languages
English (en)
Inventor
李昌珉
高润锺
裵俊
金俊基
林宰贤
全书呈
文成允
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DukSan Neolux Co Ltd
Original Assignee
DukSan Neolux Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DukSan Neolux Co Ltd filed Critical DukSan Neolux Co Ltd
Publication of CN116670589A publication Critical patent/CN116670589A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/26—Esters of unsaturated alcohols
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549—Organic PV cells

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Abstract

根据本发明的一实施例，可以提供采用光引发剂的显示面板，该光引发剂具有的官能基可以形成键合强度弱的自由基，使树脂组合物在较低的温度下进行分解，由此形成的图案会脱气排放量更少且感应度高，以提供可靠性更高的显示面板。

Description

树脂、树脂组合物以及利用其的显示装置
技术领域
本发明涉及一种感光性树脂组合物以及可以利用其实现更清晰画质的显示装置。
背景技术
平板显示装置广泛应用液晶显示装置(LCD:Liquid crystal display device)、有机发光显示装置(OLED:Organic light emitting display device)等。其中，特别是，有机发光显示装置具有功耗低、响应速度快、色彩再现率高、亮度高、视野角度宽大等优点。
所述有机发光显示装置采用偏光膜的目的在于，遮蔽入射外界光后，从面板反射的光。其弊端在于：由于弯曲特性的缺失，不适用于将所述偏光膜应用在柔性设备时。
为了解决上述问题，以往建议采用滤色片和黑色矩阵以及上部基板上形成遮光无机膜的方法等。但，该方法在获得所愿水平的防止反射效果方面，具有局限性，且没有具体提供代替偏光膜的方法。
另外，着色图案作为液晶显示装置中的红色、绿色、蓝色滤色片，不仅用于液晶显示器，还用于有机发光显示器。
制造所述着色图案时，将多种有机颜料以及炭黑和无机颜料用作着色剂，其等分散的颜料分散液与其他组合物混合而形成图案。
有机发光显示器通过上述方法形成像素时，可以呈现出更清晰的颜色。但，着色图案脱气量多，这种脱气会缩短显示器的寿命。
【先行技术文献】
【专利文献】
发明内容
所要解决的课题
为了解决传统技术的上述弊端，本发明一实现例通过在电极基板上实现脱气量少的着色图案，从而提供颜色清晰且可靠性高的像素。
课题解决方案
本发明提供一种感光性树脂组合物，其包括：碱性可溶树脂；反应性不饱和化合物；320nm至380nm区中最大摩尔吸光系数(molar absorption coefficient)为10,000(L/mol·㎝)以上且在200℃以下发生5重量％减量的光引发剂；着色剂(Colorant)；以及溶剂。
优选地，所述碱性可溶树脂包括以下化学式(1)表示的重复单位：
化学式(1)：
所述化学式(1)中，
1)*表示以重复单位实现键连接的部分，
2)R1及R2相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclicgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
3)R1及R2可以分别与相邻的基形成环，
4)a及b相互独立地为0至4的整数，
5)X1是单键、O、CO、SO2、CR'R"、SiR'R"、化学式(A)或化学式(B)，
6)X2是C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(heteroatom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxygroup)；或其等的组合，
7)R'及R"相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclicgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
8)R'及R"可以分别与相邻的基形成环，
9)A1及A2相互独立地为化学式(C)或化学式(D)，
10)树脂包括化学式(1)表示的重复单位，其在高分子链内，化学式(C)和化学式(D)的比率满足1:9至9:1，
化学式(A)：
化学式(B)：
所述化学式(A)及化学式(B)中，
11-1)*表示键合位置，
11-2)X3是O、S、SO2或NR'，
11-3)R'是氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
11-4)R3～R6相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
11-5)R3～R6可以分别与相邻的基形成环，
11-6)c～f相互独立地为0至4的整数，
化学式(C):
化学式(D):
所述化学式(C)及化学式(D)中，
12-1)*表示键合位置，
12-2)R7～R10相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
12-3)Y1及Y2相互独立地为化学式(E)或化学式(F)，
化学式(E)：
化学式(F)：
所述化学式(E)及化学式(F)中，
13-1)*表示键合位置，
13-2)R11～R15相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
13-3)L1～L3相互独立地为：单键、C1～C30的亚烷基(alkylene)、C6～C30的亚芳基(arylene)或C2～C30的杂环，
13-4)g及h相互独立地为0至3的整数；但，g+h＝3，
14)所述R1～R15、R'、R"、X1～X2、L1～L3以及相邻的基之间相互实施键合而形成的环可以分别进一步取代为选自由以下成分组成的组的一个以上取代基：重氢；卤素(halogen)；取代或未取代为C1～C30的烷基(Alkyl group)或C6～C30的芳基(aryl group)的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C1～C30的烷基(Alkylgroup)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(aryl group)；取代为重氢的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclic group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，并且，相邻的取代基之间可以形成环。
根据本发明，优选地，所述碱性可溶树脂的重量平均分子量为1,000至100,000g/mol。
并且，树脂包括所述化学式(1)表示的重复单位，其在高分子链内，化学式(E)和化学式(F)的比率为2:0至1:1。
并且，优选地，所述感光性树脂组合物的总量中，所述反应性不饱和化合物的含量为1至40重量％。
并且，进一步优选地，所述反应性不饱和化合物包含以下化学式(2)表示的化合物：
化学式(2)：
所述化学式(2)中，Z1～Z4中2个以上相互独立地具有以下化学式(G)的结构；其余的Z1～Z4相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；甲基；乙基；甲基羟基；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
化学式(G)：
所述化学式(G)中，
1)t是1至20的整数，
2)L4是单键、C1～C30的亚烷基(alkylene)、C6～C30的亚芳基(arylene)或C2～C30的杂环，
3)Y3为以下化学式(H)或化学式(I)，
化学式(H)：
化学式(I)：
所述化学式(H)中，R21是氢；重氢；卤素(halogen)；甲基；乙基；甲基羟基；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
并且，优选地，所述感光性树脂组合物的总量中，所述着色剂的含量为5至40重量％。
并且，优选地，所述着色剂包括：黑色、红色、蓝色、绿色、黄色、紫色、橙色、白色、银色或金黄色无机染料、有机染料、无机颜料及有机颜料中至少一种以上。
并且，优选地，所述感光性树脂组合物的总量中，所述光引发剂的含量为0.01至10重量％。
并且，进一步优选地，所述光引发剂包含以下化学式(3)表示的化合物。
化学式(3)：
所述化学式(3)中，
1)u1～u3相互独立地为0或1的整数，
2)L5及L8为以下化学式(J),
3)L6、L7及L9相互独立地为：C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C3～C30的脂肪族环基；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)；C1～C30的亚烷基(alkylene)或C6～C30的亚芳基(arylene)，
化学式(J)：
所述化学式(J)中，R31是氢；重氢；卤素(halogen)；甲基；乙基；甲基羟基；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)。
并且，优选地，所述化学式(3)的L6、L7及L9相互独立地为以下化学式(K)至化学式(N)中之一：
化学式(K)：
化学式(L)：
化学式(M)：
化学式(N)：
所述化学式(M)及化学式(N)中，
1)A是氢；O；S；硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；硝基(nitro group)；腈基(nitrile group)；取代或未取代为C1～C30的烷基(Alkyl group)、C6～C30的芳基(aryl group)或C2～C30的杂环基(heterocyclicgroup)的氨基(amino group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烷基(Alkyl group)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxygroup)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(aryl group)；取代为重氢的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclic group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，
2)R32～R34相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclicgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
3)T是S、O或Se。
并且，本发明一具体例提供一种由本发明所述感光性树脂组合物形成的图案或膜。
并且，优选地，根据本发明的显示装置包括：形成于基板上的第一电极；面对第一电极设置的第二电极；由权利要求1所述感光性树脂组合物形成的图案或膜。
并且，优选地，所述图案是彩色部或彩色分隔部。
并且，优选地，根据本发明的电子装置包括：所述根据本发明的显示装置以及用于驱动所述显示装置的控制部。
发明效果
根据本发明一实施例的树脂组合物采用光引发剂，该光引发剂具有的官能基可以形成键合强度弱的自由基，使树脂组合物在较低的温度下进行分解，由此形成的图案会脱气排放量更少且感应度高，以提供可靠性更高的显示面板。
附图说明
图1及图2示出了本发明的实施例及对比例检测的摩尔吸光系数及5％重量减量温度。
图3大概示出了根据本发明一具体例的显示装置。
*附图标记*
1：基板 2：TFT 3：TFT层
4：第一电极 5：像素分离部 6：有机层
7：第二电极 8：封装层 9：TSP(Touch Screen Panel)
10：彩色部 11：彩色分隔部 12：平整层
具体实施方式
本发明提供一种感光性树脂组合物，其包括：碱性可溶树脂；反应性不饱和化合物；320nm至380nm区中最大摩尔吸光系数(molar absorption coefficient)为10,000(L/mol·㎝)以上且在200℃以下发生5重量％减量的光引发剂；着色剂(Colorant)；以及溶剂。
优选地，所述碱性可溶树脂包括以下化学式(1)表示的重复单位。
化学式(1)
以下，参考示意图详细描述本发明的部分实施例。用参考符号表示各附图的构成要素时，即便显示在其他附图上，也尽可能地使相同的构成要素具备相同的符号。
描述本发明的过程中，认为相关公知构成或功能的详细说明会混淆本发明的要点时，可以省略对其的详细说明。本发明采用“包括”、“具有”、“组成”等时，除非使用“～仅仅”，否则可以添加其他部分。用单数表达构成要素时，除非特别明确记载，否则包括用复数表达的情况。
并且，描述本发明构成要素的过程中，可以采用第一、第二、A、B、(a)、(b)等术语。这些术语仅用于区别其构成要素与其他构成要素，该构成要素的本质、次序、顺序或数目等不受其术语的限定。
描述构成要素位置关系的过程中，提及两个以上构成要素实现“连接”、“结合”或“接入”等时，应当理解，两个以上构成要素可以直接“连接”、“结合”或“接入”，但，也可以进一步“带有”两个以上构成要素和其他构成要素，以实现“连接”、“结合”或“接入”。其中，其他构成要素可以包括在相互“连接”、“结合”或“接入”的两个以上构成要素中一个以上。
并且，层、膜、区域、板等构成要素位于另外构成要素“上”或“之上”时，对其应当理解，不仅包括位于另外构成要素“正上方”的情况，也包括其中间具备又另外构成要素的情况。反之，某构成要素位于另外部分的“正上方”时，应当理解，中间不具备又另外部分。
描述与构成要素或工作方法或制造方法等相关的时间流关系时，例如，描述“～之后”、“～接着”、“～然后”、“～之前”等时间先后关系或流程式先后关系时，既然不采用“立即”或“直接”，可以进一步包括不连续的情况。
另外，提及构成要素的数值或者与其对应的信息时，即使没有单独明确记载，也应当解释为，数值或与其对应的信息包括：由于各种因素(例如，工程因素、内部或外部冲击、噪音等)产生的误差范围。
除非另行描述，否则本说明书及所附权利要求书使用的术语在不脱离本发明思想的范围内如同下述。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“卤代(halo)”或“卤素(halogen)”包括氟(F)、氯(Cl)、溴(Br)及碘(I)。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“烷(alkyl)”或“烷基(alkyl group)”含有通过单键相连的1至60个碳，表示以直链烷基(alkyl group)、支链烷基(alkyl group)、环烷(cycloalkyl)(脂环族)基、烷(alkyl)-取代的环烷基(cycloalkyl group)、环烷(cycloalkyl)-取代的烷基(alkyl group)为代表的饱和脂肪族官能基的自由基。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“卤代烷基(haloalkyl group)”或“卤素烷基(halogenalkyl group)”表示卤素(halogen)取代的烷基(alkyl group)。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“烯烃(alkenyl)”或“炔(alkynyl)”分别具有双键或三键，含有直链型或侧链型链基，具有2至60个碳，但，这里不受此限定。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“环烷(cycloalkyl)”表示具有3至60个碳的环状烷，但，这里不受此限定。
本申请中使用的术语“烷氧基(Alkoxy group)”或“烷氧基(alkyloxy group)”表示键合氧自由基的烷基(Alkyl group)，除非另行描述，否则具有1至60个碳，但，这里不受此限定。
本申请中使用的术语“链烯氧基(alkenoxyl group)”、“链烯氧基(alkenoxygroup)”、“烯氧基(alkenyloxyl group)”或“烯氧基(alkenyloxy group)”表示粘合氧自由基的烯基(alkenyl group)，除非另行描述，否则具有2至60个碳，但，这里不受此限定。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“芳基(aryl group)”和“亚芳基(arylene group)”分别具有6至60个碳，但，这里不受此限定。本申请中，芳基(aryl group)或亚芳基(arylene group)包括单环型、环聚体、并合的多环系化合物等。例如，所述芳基(aryl group)可以包括苯基(phenyl group)、联苯(biphenyl)的一价官能基、萘(naphthalene)的一价官能基、芴基(fluorenyl group)以及取代的芴基(fluorenylgroup)。亚芳基(arylene group)可以包括伸芴基(fluorenylene group)以及取代的伸芴基(fluorenylene group)。
本申请中使用的术语“环聚体(ring assemblies)”由两个或其以上环系(单环或并合的环系)通过单键或双键直接相连，表示该环之间直接相连的数量比包含于其化合物的环系的总数少1。环聚体可以由相同或不同环系通过单键或双键直接相连。
本申请中，芳基(aryl group)包含环聚体，因此，芳基(aryl group)包括作为单环芳香族的苯环(benzene ring)通过单键相连的联苯(biphenyl)和三联苯(terphenyl)。并且，芳基(aryl group)还包括：与芳香族单环并合的芳香族环系通过单键相连的化合物，因此，例如，还包括：与作为芳香族单环的苯环(benzene ring)并合的芳香族环系，即，芴(fluorene)通过单键相连的化合物。
本申请中使用的术语“并合的多环系”表示共享至少两个原子而并合(fused)的环状，包括：并合两个以上碳氢类环系的形态以及并合至少一个杂环系且该杂环系包含至少一个杂原子(hetero atom)的形态等。所述并合的多环系可以是芳香族环、芳香族杂环、脂肪族环或其等环的组合。例如，芳基(aryl group)可以是萘基(naphthalenyl group)、菲基(phenanthrenyl group)、芴基(fluorenyl group)等，但，这里不受此限定。
本申请中使用的术语“螺环(spiro)化合物”具有‘螺接(spiro union)’，螺接表示两个环只共享一个原子而形成的连接。此时，将两个环共享的原子称作‘螺接原子’，按照包含于一化合物的螺环(spiro)原子的数量，将其分别称作‘单螺环(monospiro)-’、‘二螺环(dispiro)-’、‘三螺环(trispiro)-’化合物。
除非另行描述，否则本申请中使用的术语“芴基(fluorenyl group)”、“伸芴基(fluorenylene group)”、“芴爪基(fluorene-triyl group)"分别在以下结构中表示R、R'、R"及R'"均为氢的一价、二价或三价官能基，“取代的芴基(fluorenyl group)”、“取代的伸芴基(fluorenylene group)”或“取代的芴爪基(fluorene-triyl group)”表示取代基R、R'、R"、R'"中至少一个是氢以外的取代基，包括：R和R'相互键合，与键合其等的碳共同形成螺环(spiro)化合物的情况。本说明书中，可以不考虑一价、二价、三价等价数，将芴基(fluorenyl group)、伸芴基(fluorenylene group)、芴爪基(fluorene-triyl group)均命名为芴基(fluorene group)。
并且，所述R、R'、R"及R'"可以分别独立地表示具有1至20个碳的烷基(Alkylgroup)、具有1至20个碳的烯烃基(alkenyl group)、具有6至30个碳的芳基(aryl group)、具有2至30个碳的杂环基(heterocyclic group)，例如，所述芳基(aryl group)可以是苯(phenyl)、联苯(biphenyl)、萘(naphthalene)、蒽(anthracene)或菲(phenanthrene)，所述杂环基(heterocyclic group)可以是吡咯(pyrrole)、呋喃(furan)、噻吩(thiophene)、吡唑(pyrazole)、咪唑(imidazole)、三唑(triazole)、吡啶(pyridine)、嘧啶酮(pyrimidone)、哒嗪(Pyridazine)、吡嗪(pyrazine)、三嗪(triazine)、吲哚(indole)、苯并呋喃(benzo furan)、喹唑啉(quinazoline)或喹恶啉(quinoxaline)。例如，所述取代的芴基(fluorenyl group)和伸芴基(fluorenylene group)分别可以是9,9-二甲基芴(dimethyl fluorene)、9,9-二苯基芴(diphenyl fluorene)以及9,9'-螺二(spirobi)[9H-芴(fluorene)]的一价官能基或二价官能基。
本申请中使用的术语“杂环基(heterocyclic group)”不仅包括“杂芳基(heteroaryl group)”或“杂亚芳基(hetero arylene group)”等芳香族环，还包括非芳香族环，除非另行描述，否则分别表示包含一个以上杂原子(hetero atom)且碳数为2至60的环，但，这里不受此限定。除非另行描述，否则本申请中使用的术语“杂原子(hetero atom)”表示N、O、S、P或Si，杂环基(heterocyclic group)表示包含杂原子(hetero atom)的单环型、环聚体、并合的多环系、螺环(spiro)化合物等。
例如，“杂环基(heterocyclic group)”还可以代替环状碳,包括：如以下化合物，包含SO2、P＝O等杂原子(hetero atom)端基的化合物。
本申请中使用的术语“环”包括单环和多环，当然，碳氢环包括杂环，该杂环包含至少一个杂原子(hetero atom)，且包含芳香族及非芳香族环。
本申请中使用的术语“多环”包括联苯(biphenyl)、三联苯(terphenyl)等环聚体(ring assemblies)和并合(fused)的多环系及螺环(spiro)化合物，不仅包括芳香族，还包括非芳香族，当然，碳氢环包括杂环，该杂环包含至少一个杂原子(hetero atom)。
本申请中使用的术语“脂肪族环基(cyclo group)”表示除了芳香族碳氢之外的环状碳氢，包括单环型、环聚体、并合的多环系、螺环(spiro)化合物等，除非另行描述，否则表示碳数为3至60的环，但，这里不受此限定。例如，融合芳香族环苯(benzene)和非芳香族环苯烷(cyclohexane)时，同样相当于脂肪族环。
并且，连续用前缀命名时，表示按照记载的先后顺序排列取代基。例如，芳基烷氧基(aryl alkoxy group)表示取代为芳基(aryl group)的烷氧基(alkoxy group)，烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)表示取代为烷氧基(alkoxy group)的羰基(carbonylgroup)，另外，芳基羰基烯基(aryl carbonyl alkenyl group)表示取代为芳基羰基(arylcarbonyl group)的烯基(alkenyl group)，其中，芳基羰基(aryl carbonyl group)是取代为芳基(aryl group)的羰基(carbonyl group)。
并且，除非明确描述，否则本申请中使用的术语“取代”或“未取代的”中，“取代”表示取代为一个以上取代基，该一个以上取代基选自由由以下成分组成的组：重氢、卤素(halogen)、氨基(amino group)、腈基(nitrile group)、硝基(nitro group)、C1～C20的烷基(Alkyl group)、C1～C20的烷氧基(alkoxy group)、C1～C20的烷基胺基(alkyl aminegroup)、C1～C20的烷基噻吩基(alkyl thiophene group)、C6～C20的芳基噻吩基(arylthiophene group)、C2～C20的烯基(alkenyl group)、C2～C20的炔基(alkinyl group)、C3～C20的环烷基(cycloalkyl group)、C6～C20的芳基(aryl group)、取代为重氢的C6～C20的芳基(aryl group)、C8～C20的芳基烯基(aryl alkenyl group)、硅烷(silane group)、硼基、锗基以及C2～C20的杂环基，该C2～C20的杂环基包括至少一个杂原子，该杂原子选自由O、N、S、Si及P组成的组。并且，不受其等取代基的限定。
本申请中，与各标记及其取代基例所述芳基(aryl group)、亚芳基(arylenegroup)、杂环基(heterocyclic group)等相对应的‘官能基名称’可以记载‘反映价数的官能基名称’，也可以记载为‘母体化合物的名称’。例如，‘菲(phenanthrene)’作为一种芳基(aryl group)'，可以分类价数记载‘基’的名称，如，将一价的‘基’记载为‘菲(phenanthryl)(基)’，将二价的‘基’记载为‘亚菲(phenanthrylene)(基)’等，但，也可以不考虑价数，记载为母体化合物的名称‘菲(phenanthrene)’。
类似地，嘧啶酮(pyrimidone)可以不考虑价数记载为‘嘧啶酮(pyrimidone)’，或者，一价时记载为嘧啶(pyrimidinyl)(基)，而二价时，可以记载为相应价数的‘基的名称’，如，亚嘧啶(pyrimidinylene)(基)等。因此，本申请中，将取代基的种类记载为母体化合物的名称时，可以表示：与母体化合物的碳原子及/或杂原子(hetero atom)键合的氢原子被退吸而形成的n价的‘基’。
并且，本说明书中，记载化合物名称或取代基名称时，可以省略表示位置的数字或字母表等。例如，可以将吡啶并(pyrido)[4,3-d]嘧啶酮(pyrimidone)记载为吡啶并嘧啶酮(pyrido pyrimidone)，将苯并呋喃(benzo furan)[2,3-d]嘧啶酮(pyrimidone)记载为苯并呋喃并嘧啶酮(benzo furan pyrimidone)，将9,9-二甲基-9H-芴(fluorene)记载为二甲基芴(fluorene)等。因此，苯并(benzo)[g]喹恶啉(quinoxaline)或苯并(benzo)[f]喹恶啉(quinoxaline)均可以记载为苯并喹恶啉(benzo quinoxaline)。
并且，除非明确记载，否则本申请采用的化学式同样适用依据以下化学式的指数定义对于取代基做出的定义。
其中，a为0的整数时，表示取代基R1不存在，即，a为0时，形成苯环(benzene ring)的碳均键合氢，此时，可以省略与碳键合的氢的标记，并记载化学式或化合物。并且，a为1的整数时，一个取代基R1与形成苯环(benzene ring)的碳中任一碳键合。a为2或3的整数时，其键合可以如下。a为4至6的整数时，也可以采用与其类似的方法与苯环(benzene ring)的碳进行键合。a为2以上的整数时，R1可以相同或不相同。
本申请中，除非另行描述，否则形成环表示相邻的基相互键合而形成单环或并合的多环，单环以及形成的被并合的多环不仅包括碳氢环，还包括杂环，该杂环包含至少一个杂原子(hetero atom)，且可以包括芳香族及非芳香族环。
并且，本说明书中，除非另行描述，否则表示缩合环时，‘数字-缩合环’中，数字表示缩合的环的数量。例如，三个环相互缩合的形态可表示为3-缩合环，如，蒽(anthracene)、菲(phenanthrene)、苯并喹唑啉(benzo quinozoline)等。
另外，除非另行描述，否则本申请采用的术语“桥环化合物(bridged bicycliccompound)”是指2个环共享3个以上原子而形成环的化合物。此时共享的原子可以包含碳或杂原子(hetero atom)。
本申请中，有机电元器件意指阳极和阴极之间的(若干)构件，或者，意指有机发光二极管，该有机发光二极管包括位于阳极和阴极以及其间的(若干)构件。
并且，根据情况，本申请的显示装置意指有机电元器件、有机发光二极管和包括其的面板，或者，包括面板和电路的电子装置。其中，例如，电子装置包括所有的照明装置、太阳能电池、便携或移动终端(例如，智能手机、平板电脑、PDA、电子词典、PMP等)、导航终端、游戏机、各种TV、各种计算机显示器等，但，不受此限定，只要包括所述(若干)构件，任何形态的装置均可。
以下，详细描述本发明的实现例。但，这是举例说明，本发明不受此限定，本发明只由下述权利要求书的范畴界定。以下，具体描述各种成分。
根据本发明一实施例的感光性树脂组合物包括：碱性可溶树脂；反应性不饱和化合物；320nm至380nm区中最大摩尔吸光系数(molar absorption coefficient)为10,000(L/mol·㎝)以上且在200℃以下发生5重量％减量的光引发剂；着色剂(Colorant)；以及溶剂。
优选地，所述碱性可溶树脂包括以下化学式(1)表示的重复单位。
(1)碱性可溶树脂
根据本发明一实施例的粘结剂树脂包括以下化学式(1)示出结构的重复单位。
化学式(1)
所述化学式(1)中，
1)*表示以重复单位实现键连接的部分，
2)R1及R2相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclicgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
3)R1及R2可以分别与相邻的基形成环，
4)a及b相互独立地为0至4的整数，
5)X1是单键、O、CO、SO2、CR'R"、SiR'R"、化学式(A)或化学式(B)；优选地，是化学式(A)或化学式(B)，进一步优选地，是化学式(A)，
6)X2是C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(heteroatom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxygroup)；或其等的组合，
7)R'及R"相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclicgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
8)R'及R"可以分别与相邻的基形成环，
9)A1及A2相互独立地为化学式(C)或化学式(D)，
10)树脂包括化学式(1)表示的重复单位，其在高分子链内，化学式(C)和化学式(D)的比率满足1:9至9:1，
所述R'及R"相互实施键合而形成环时，举例如下。
所述化学式(A)及化学式(B)的具体一例如下。
化学式(A)：
化学式(B)：
所述化学式(A)及化学式(B)中，
11-1)*表示键合位置，
11-2)X3是O、S、SO2或NR'，
11-3)R'是氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
11-4)R3～R6相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
11-5)R3～R6可以分别与相邻的基形成环，
11-6)c～f相互独立地为0至4的整数。
所述化学式(C)及化学式(D)的具体一例如下。
化学式(C)：
化学式(D)：
所述化学式(C)及化学式(D)中，
12-1)*表示键合位置，
12-2)R7～R10相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
12-3)Y1及Y2是化学式(E)或化学式(F)。
所述化学式(E)和化学式(F)的具体一例如下。
化学式(E)：
化学式(F)：
所述化学式(E)及化学式(F)中，
13-1)*表示键合位置，
13-2)R11～R15相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
13-3)L1～L3相互独立地为：单键、C1～C30的亚烷基(alkylene)、C6～C30的亚芳基(arylene)或C2～C30的杂环，
13-4)g及h相互独立地为0至3的整数；但，g+h＝3，
14)所述R1～R15、R'、R"、X1～X2、L1～L3以及相邻的基之间相互实施键合而形成的环可以分别进一步取代为选自由以下成分组成的组的一个以上取代基：重氢；卤素(halogen)；取代或未取代为C1～C30的烷基(Alkyl group)或C6～C30的芳基(aryl group)的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C1～C30的烷基(Alkylgroup)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(aryl group)；取代为重氢的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclic group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，并且，相邻的取代基之间可以形成环。
所述R1～R15、R'、R"及X1～X2为芳基(aryl group)时，优选地，可以是C6～C30的芳基(aryl group)，进一步优选地，可以是C6～C18的芳基(aryl group)，例如，可以是苯(phenyl)、联苯(biphenyl)、萘(naphthyl)、三联苯(terphenyl)等。
所述R1～R15、R'、R"、X1～X2及L1～L3为杂环基(heterocyclic group)时，优选地，可以是C2～C30的杂环基(heterocyclic group),进一步优选地，可以是C2～C18的杂环基(heterocyclic group)，例如，可以是二苯并呋喃(dibenzo furan)、二苯并噻吩(dibenzothiophen)、萘并苯并噻吩(naphtho benzo thiophen)、萘并苯并呋喃(naphtho benzofuran)等。
所述R1～R15、R'、R"及X1～X2为芴基(fluorenyl group)时，优选地，可以是9,9-二甲基-9H-芴(fluorene)、9,9-二苯(diphenyl)-9H-芴基(fluorenyl group)、9,9'-螺二(spirobi)芴(fluorene)等。
所述L1～L3为亚芳基(arylene)时，优选地，可以是C6～C30的亚芳基(arylene)，进一步优选地，可以是C6～C18的亚芳基(arylene)，例如，可以是苯(phenyl)、联苯(biphenyl)、萘(naphthyl)、三联苯(terphenyl)等。
所述R1～R15、R'及R"为烷基(Alkyl group)时，优选地，可以是C1～C10的烷基(Alkyl group)，例如，可以是甲基、t-丁基等。
所述R1～R15、R'及R"为烃氧基(alkoxy group)时，优选地，可以是C1～C20的烃氧基(alkoxy group)，进一步优选地，可以是C1～C10的烃氧基(alkoxy group)，例如，可以是甲氧基(methoxy)、t-丁氧基(butoxy)等。
所述R1～R15、R'、R"、X1～X2及L1的相邻的基之间实施键合而形成的环可以是C6～C60的芳香族环基；芴基(fluorenyl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(heteroatom)的C2～C60的杂环基(heterocyclic group)；或C3～C60的脂肪族环基，例如，相邻的基之间相互键合而形成芳香族环时，优选地，可以形成C6～C20的芳香族环，进一步优选地，可以形成C6～C14的芳香族环，例如，可以形成苯(benzene)、萘(naphthalene)、菲(phenanthrene)等。
优选地，树脂包括所述化学式(1)表示的重复单位，其在高分子链内，化学式(E)和化学式(F)的比率为2:0至1:1，进一步优选地，该比率为1.5:0.5。化学式(F)的比率高于化学式(E)的比率时，由于贴紧性过高，可能会产生残渣，脱气产生量也会大幅增加。化学式(E)和化学式(F)的比率为1.5:0.5时，图案的清晰度最优异，脱气量也可符合。
根据本发明，树脂的重量平均分子量为1,000至100,000g/mol，优选地，可以是1,000至50,000g/mol，进一步优选地，可以是1,000至30,000g/mol。如果所述树脂的重量平均分子量包括在所述范围内，在制造图案层时，不产生残渣，图案形成效果佳，且显影时，膜厚无损失，可获得良好的图案。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述树脂的含量可以是1至30重量％，进一步优选地，含量可以是3至20重量％。所述树脂的含量包括在所述范围内时，可以获得优异的感应度、显影性及粘附性(贴紧性)。
除了所述树脂之外，所述感光性树脂组合物还可以进一步包括丙烯酸系树脂。所述丙烯酸系树脂是第一乙烯性不饱和单体以及可以与其共聚的第二乙烯性不饱和单体的共聚体，可以是包括一个以上丙烯酸系重复单位的树脂。
(2)反应性不饱和化合物
根据本发明一实施例的感光性树脂组合物包括以下化学式(2)示出结构的反应性不饱和化合物。
化学式(2)
所述化学式(2)中，Z1～Z4中2个以上相互独立地具有以下化学式(G)的结构；其余的Z1～Z4相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；甲基；乙基；甲基羟基；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)。
所述化学式(G)的具体一例如下。
化学式(G)：
所述化学式(G)中，
1)t是1至20的整数，
2)L4是单键、C1～C30的亚烷基(alkylene)、C6～C30的亚芳基(arylene)或C2～C30的杂环，
3)Y3为以下化学式(H)或化学式(I)。
所述化学式(H)或化学式(I)的具体一例如下。
化学式(H)：
化学式(I)
所述化学式(H)中，R21是氢；重氢；卤素(halogen)；甲基；乙基；甲基羟基；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)。
所述化学式(2)示出结构的多种丙烯酸系化合物可以单独使用或者混合使用两种以上。其例有：可以采用具有至少2个乙烯(ethylene)性不饱和双键的(甲基)丙烯酸的多官能酯。
本说明书中，“(甲基)丙烯酸”可以是甲基丙烯酸(methacrylic acid)、丙烯酸或者甲基丙烯酸(methacrylic acid)和丙烯酸的混合物。
所述反应性不饱和化合物具有所述乙烯(ethylene)性不饱和双键,因此，在图案形成工艺实施曝光时,可以引发足够的聚合，形成耐热性、耐光性及耐化学性优异的图案。
例如，所述反应性不饱和化合物可以是选自以下成分的一种以上：乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、双酚A环氧丙烯酸酯、乙二醇单甲醚丙烯酸酯及三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，但，这里不受此限定。
所述反应性不饱和化合物的在售产品例如以下。
*例如，所述(甲基)丙烯酸的二官能酯有：东亚合成化学工业㈱公司的aronyxM-210、M-240、M-6200等；日本化学㈱公司的KAYARAD HDDA、HX-220、R-604等；大阪有机化学工业㈱公司的V-260、V-312、V-335HP等。
例如，所述(甲基)丙烯酸的三官能酯有：东亚合成化学工业㈱公司的aronyxM-309、M-400、M-405、M-450、M-7100、M-8030、M-8060；日本化学㈱公司的KAYARAD TMPTA、DPCA-20、DPCA-60、DPCA-120等；大阪有机化学工业㈱公司的V-295、V-300、V-360等。
上述产品可以单独使用或者一同使用两种以上。
为了具有更优异的显影性，所述反应性不饱和化合物可以用酸酐处理后使用。所述感光性树脂组合物的总量中，所述反应性不饱和化合物的含量可以是1至40重量％，例如，可以是1至20重量％。所述反应性不饱和化合物的含量包括在所述范围内时，在图案形成工艺实施曝光时引发足够的固化，因此，可靠性优异，图案的耐热性、耐光性及耐化学性优异，清晰度及贴紧性也优异。
(3)光引发剂
*要显示出光刻负片的图案，需要使用自由基型光引发剂。所述光引发剂在320至380nm区，最大摩尔吸光系数(molar absorption coefficient)为10,000(L/mol·㎝)以上，在200℃以下，发生5重量％减量。其中，可以通过beer-Lambert Law计算320至380nm区的最大摩尔吸光系数。并且，利用TGA，在氮气气氛下，以每分钟5℃的速度升温至300℃，检测重量的减量。
本发明一实施例的感光性树脂组合物包含以下化学式(3)示出结构的光引发剂。
化学式(3)：
所述化学式(3)中，
1)u1～u3相互独立地为0或1的整数，
2)L5及L8为以下化学式(J)，
3)L6、L7及L9相互独立地为：C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C3～C3的脂肪族环基；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)；C1～C30的亚烷基(alkylene)或C6～C30的亚芳基(arylene)。
所述化学式(J)的具体一例如下。
化学式(J)：
所述化学式(J)中，R31是氢；重氢；卤素(halogen)；甲基；乙基；甲基羟基；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)。
并且，进一步优选地，所述化学式(3)的L6、L7及L9相互独立地为以下化学式(K)至化学式(N)中之一。
所述化学式(K)至化学式(N)的具体一例如下。
化学式(K)：
化学式(L)：
化学式(M)：
化学式(N)：
所述化学式(M)及化学式(N)中，
1)A是氢；O；S；硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；硝基(nitro group)；腈基(nitrile group)；取代或未取代为C1～C30的烷基(Alkyl group)、C6～C30的芳基(aryl group)或C2～C30的杂环基(heterocyclicgroup)的氨基(amino group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烷基(Alkyl group)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxygroup)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(aryl group)；取代为重氢的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclic group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，
2)R32～R34相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclicgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
3)T是S、O或Se。
本发明一实施例的感光性树脂组合物可以单独或混合两种以上使用所述化学式(3)的肟酯(oxime ester)系化合物。
引发剂可以混合使用所述肟酯(oxime ester)系化合物，用于感光性树脂组合物中，例如，可以采用苯乙酮系化合物、二苯酮系化合物、噻吨酮系化合物、二苯乙醇酮系化合物、三嗪系化合物等。
例如，所述苯乙酮系化合物有：2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二丁氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、p-t-丁基三氯苯乙酮、p-t-丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2'-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-吗啉基丙-1-酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-l吗啉基苯)-丁烷-1-酮等。
例如，所述二苯酮系化合物有：二苯酮、苯甲酰苯甲酸、苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯酮、羟基二苯酮、丙烯酸化二苯酮、4,4'-双(二甲氨基)二苯酮、4,4'-双(二乙氨基)二苯酮、4,4'-二甲氨基二苯酮、4,4'-二氯二苯酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯酮等。
例如，所述噻吨酮系化合物有：噻吨酮、2-氯噻酮、2-甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮等。
例如，所述二苯乙醇酮系化合物有：二苯乙醇酮、二苯乙醇酮甲醚、二苯乙醇酮乙醚、二苯乙醇酮异丙醚、二苯乙醇酮异丁醚、苄基二甲基酮缩醇等。
例如，所述三嗪系化合物有：2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(p-甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(p-甲苯基)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-联二苯4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、双(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪,2-(萘并1-醇)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘并1-醇)-4,6-双(三氯甲基)-s-三嗪、2-4-三氯甲基(胡椒基)-6-三嗪、2-4-三氯甲基(4'-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪等。
所述引发剂除了化合物之外，还可以采用咔唑系化合物、二酮类化合物、硼酸锍系化合物、重氮系化合物、咪唑系化合物、非咪唑系化合物等。
所述引发剂作为自由基聚合引发剂，可以采用过氧化物系化合物、偶氮双系化合物等。
例如，所述过氧化物系化合物有：过氧化甲乙酮、过氧化甲基异丁基甲酮、过氧化环己酮、过氧化甲基环己酮、过氧化乙酰丙酮等的过氧化酮类；过氧化异丁酰、过氧化2,4-二氯苯甲酰、过氧化o-甲基苯甲酰、过氧化双-3,5,5-三甲基己酰等的过氧化二酰基类；2,4,4,-三甲基戊基-2-过氧化氢、过氧化氢二异丙苯、过氧化氢异丙苯、t-丁基过氧化氢等的过氧化氢类；过氧化二异丙苯、2,5-二甲基-2,5-二(t-丁基过氧化)己烷、1,3-双(t-丁氧基异丙基)苯、t-丁基过氧化戊酸正丁酯等的过氧化二烷基类；2,4,4-三甲基戊基过氧化苯氧基乙酸酯、α-过氧化新癸酸枯酯、t-丁基过氧化苯甲酸、二-t-丁基过氧化三甲基己二酸等的烷基琥珀酸酯类；二-3-甲氧基过氧化二碳酸丁酯、二-2-乙基己基过氧化二碳酸、双-4-t-环己基过氧化二碳酸丁酯、二异丙基过氧化二碳酸、乙酰基过氧化环已基磺酰、t-过氧化芳基碳酸丁酯等的过碳酸盐等。
例如，所述偶氮双系化合物有：1,1'-偶氮双环己烷-1-甲腈、2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、2,2,-偶氮双(异丁酸甲酯)、2,2'-偶氮双(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、α,α'-偶氮双(异丁腈)及4,4'-偶氮双(4-氰基戊酸)等。
所述光引发剂吸光跃迁至激发态后，传递其能量，从而与产生化学反应的光增感剂一同使用。例如，所述光增感剂有：三缩四乙二醇双-3-巯基丙酸酯,季戊四醇四-3-巯基丙酸酯,二季戊四醇四-3-巯基丙酸酯等。
优选地，所述光引发剂的320至380nm区最大摩尔吸光系数(molar absorptioncoefficient)为10,000(L/mol·㎝)以上，进一步优选地，为5,000至40,000(L/mol·㎝)。光引发剂的320至380nm区最大摩尔吸光系数为5,000至40,000(L/mol·㎝)时，具有感应度高、模式性优异的优点。反之，320至380nm区最大摩尔吸光系数未达到5,000(L/mol·㎝)时，存在以下弊端：由于感应度低，在实时曝光步骤时，图案形成不完整，而超过40,000(L/mol·㎝)时，其弊端在于，在曝光步骤，难以通过调整曝光量来调节图案大小及孔尺寸。
优选地，所述光引发剂的5重量％减量温度为200℃以下，进一步优选地，为150至200℃。光引发剂的5重量％减量温度为150至200℃时，具有最终形成的图案脱气少的优点，而不到150℃时，在保存安全性上存在弊端，200℃以上时，由于脱气多，存在可靠性低的弊端。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述光引发剂的含量可以是0.01至10重量％，例如，可以是0.1至5重量％。所述光引发剂的含量包括在所述范围内时，在图案形成工艺实施曝光时引发足够的固化，因此，可靠性优异，图案的耐热性、耐光性及耐化学性优异，清晰度及贴紧性也优异。另外，还可以防止未反应的引发剂引起的透射率降低。
(4)着色剂(Colorant)
为图案着色时，可以分别独立或同时使用色素，如，颜料及染料，有机颜料和无机颜料均可用作颜料。
所述颜料有红色颜料、绿色颜料、蓝色颜料、黄色颜料、黑色颜料等。使用所述颜料时，可以单独或混合两种以上使用，这里不受其等示例的限制。
例如，所述红色颜料有：C.I.红色颜料254、C.I.红色颜料255、C.I.红色颜料264、C.I.红色颜料270、C.I.红色颜料272、C.I.红色颜料177、C.I.红色颜料89等。
例如，所述绿色颜料有：取代卤素(halogen)的铜酞菁颜料，如，C.I.绿色颜料36、C.I.绿色颜料7等。
例如，所述蓝色颜料有：C.I.蓝色颜料15:6、C.I.蓝色颜料15、C.I.蓝色颜料15:1、C.I.蓝色颜料15:2、C.I.蓝色颜料15:3、C.I.蓝色颜料15:4、C.I.蓝色颜料15:5、C.I.蓝色颜料16等铜酞菁颜料。
例如，所述黄色颜料有：C.I.黄色颜料139等异吲哚啉(isoindoline)系颜料、C.I.黄色颜料138等喹酞酮(quinophthalone)系颜料、C.I.黄色颜料150等镍复合颜料等。
例如，所述黑色颜料有：苯并呋喃酮黑(benzofuranone black)、内酰胺黑(lactamblack)、苯胺黑(aniline black)、派力奥根黑(perylene black)、钛黑、炭黑等。
为了在所述感光性树脂组合物上分散所述颜料，可以一同使用分散剂。具体地，所述颜料可以采用分散剂进行表面预处理后使用，或者，在制备所述感光性树脂组合物时，与所述颜料一同添加分散剂后使用。所述分散剂可以采用非离子型分散剂、负离子型分散剂、正离子型分散剂等。
所述分散剂的具体例有：聚亚烷基二醇(polyalkylene glycol)及其酯、聚氧化亚烷基(polyoxyalkylene)、氧化亚烷基多元醇酯附加物、醇亚烷基氧化物附加物、磺酸酯、磺酸盐、羧酸酯、羧酸盐、氧化亚烷基烷基酰胺附加物、烷基胺(alkyl amine)等，其等可以单独或混合两种以上使用。
所述分散剂的在售产品例如，BYK公司的DISPERBYK-101、DISPERBYK-130、DISPERBYK-140、DISPERBYK-160、DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-165、DISPERBYK-166、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、DISPERBYK-182、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001等；和BASF公司的EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-100、EFKA-400、EFKA-450；以及Zeneka公司的Solsperse 5000、Solsperse 12000、Solsperse 13240、Solsperse 13940、Solsperse 17000、Solsperse20000、Solsperse 24000GR、Solsperse 27000、Solsperse 28000等；或者Ajinomoto公司的PB711、PB821等。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述分散剂的含量可以是0.1至15重量％。所述分散剂的含量包括在所述范围内时，所述感光性树脂组合物的分散性优异，随之，在制备遮光层时，稳定性、显影性及模式性优异。
所述颜料还可以利用水溶性无机盐和润湿剂进行预处理后使用。如上所述，所述颜料经过预处理后使用时，可以实现颜料初级粒度的精细化。所述预处理经过以下步骤实现：将所述颜料与水溶性无机盐及润湿剂一同进行捏合(kneading)；然后，过滤和冲洗在所述捏合步骤获得的颜料。所述捏合可以在40℃至100℃温度下实施，所述过滤和冲洗可以使用水等冲洗无机盐并过滤。
例如，所述水溶性无机盐有：氯化钠、氯化钾等，但，这里不受此限定。
所述润湿剂均匀混合所述颜料和所述水溶性无机盐，从而起到使颜料变得容易粉碎的介质作用，例如，其有：乙二醇单乙醚(ethylene glycol monoethyl ether)、丙二醇单甲醚(Propylene Glycol Monomethyl Ether)、二乙二醇单甲醚(diethylene GlycolMonomethyl Ether)等亚烷基二醇单烷基醚(alkylene glycol monoalkyl ether)；乙醇(ethanol)、异丙醇(isopropanol)、丁醇(butanol)、己醇(hexanol)、环己醇(cyclohexanol)、乙二醇(ethylene glycol)、二乙二醇(diethylene glycol)、聚乙二醇(polyethylene glycol)、聚乙二醇丙三醇(glycerin polyethylene glycol)等乙醇(alcohol)等，其等可以单独或混合两种以上使用。
经过所述捏合步骤的颜料可以具有20nm至110nm的平均粒径。颜料的平均粒径包括在所述范围内时，耐热性及耐光性优异，且可以有效形成精细的图案。
另外，所述染料的具体例中，C.I.溶剂染料有：C.I.溶剂黄4、14、15、16、21、23、24、38、56、62、63、68、79、82、93、94、98、99、151、162、163等黄色染料；C.I.溶剂红8、45、49、89、111、122、125、130、132、146、179等红色染料；C.I.溶剂橙2、7、11、15、26、41、45、56、62等橙色染料；C.I.溶剂蓝5、35、36、37、44、59、67、70等蓝色染料；C.I.溶剂紫8、9、13、14、36、37、47、49等紫色染料；C.I.溶剂绿1、3、4、5、7、28、29、32、33、34、35等绿色染料等。
其中的C.I.溶剂染料中，优选地，采用有机溶剂溶解性优异的C.I.溶剂黄14、16、21、56、151、79、93；C.I.溶剂红8、49、89、111、122、132、146、179；C.I.溶剂橙41、45、62；C.I.溶剂蓝35、36、44、45、70；C.I.溶剂紫13。特别是，进一步优选地，采用C.I.溶剂黄21、79；C.I.溶剂红8、122、132；C.I.溶剂橙45、62。
并且，C.I.酸性染料有：C.I.酸性黄1、3、7、9、11、17、23、25、29、34、36、38、40、42、54、65、72、73、76、79、98、99、111、112、113、114、116、119、123、128、134、135、138、139、140、144、150、155、157、160、161、163、168、169、172、177、178、179、184、190、193、196、197、199、202、203、204、205、207、212、214、220、221、228、230、232、235、238、240、242、243、251等黄色染料；C.I.酸性红1、4、8、14、17、18、26、27、29、31、34、35、37、42、44、50、51、52、57、66、73、80、87、88、91、92、94、97、103、111、114、129、133、134、138、143、145、150、151、158、176、182、183、198、206、211、215、216、217、227、228、249、252、257、258、260、261、266、268、270、274、277、280、281、195、308、312、315、316、339、341、345、346、349、382、383、394、401、412、417、418、422、426等红色染料；C.I.酸性橙6、7、8、10、12、26、50、51、52、56、62、63、64、74、75、94、95、107、108、169、173等橙色染料；C.I.酸性蓝1、7、9、15、18、23、25、27、29、40、42、45、51、62、70、74、80、83、86、87、90、92、96、103、112、113、120、129、138、147、150、158、171、182、192、210、242、243、256、259、267、278、280、285、290、296、315、324:1、335、340等蓝色染料；C.I.酸性紫6B、7、9、17、19、66等紫色染料；C.I.酸性绿1、3、5、9、16、25、27、50、58、63、65、80、104、105、106、109等绿色染料等。
所述酸性染料中，优选地，采用有机溶剂溶解性优异的C.I.酸性黄42；C.I.酸性红92；C.I.酸性蓝80、90；C.I.酸性紫66；C.I.酸性绿27。
并且，C.I.直接染料有：C.I.直接黄2、33、34、35、38、39、43、47、50、54、58、68、69、70、71、86、93、94、95、98、102、108、109、129、136、138、141等黄色染料；C.I.直接红79、82、83、84、91、92、96、97、98、99、105、106、107、172、173、176、177、179、181、182、184、204、207、211、213、218、220、221、222、232、233、234、241、243、246、250等红色染料；C.I.直接橙34、39、41、46、50、52、56、57、61、64、65、68、70、96、97、106、107等橙色染料；C.I.直接蓝38、44、57、70、77、80、81、84、85、86、90、93、94、95、97、98、99、100、101、106、107、108、109、113、114、115、117、119、137、149、150、153、155、156、158、159、160、161、162、163、164、166、167、170、171、172、173、188、189、190、192、193、194、196、198、199、200、207、209、210、212、213、214、222、228、229、237、238、242、243、244、245、247、248、250、251、252、256、257、259、260、268、274、275、293等蓝色染料；C.I.直接紫47、52、54、59、60、65、66、79、80、81、82、84、89、90、93、95、96、103、104等紫色染料；C.I.直接绿25、27、31、32、34、37、63、65、66、67、68、69、72、77、79、82等绿色染料等。
并且，C.I.媒介染料有：C.I.媒介黄5、8、10、16、20、26、30、31、33、42、43、45、56、61、62、65等黄色染料；C.I.媒介红1、2、3、4、9、11、12、14、17、18、19、22、23、24、25、26、30、32、33、36、37、38、39、41、43、45、46、48、53、56、63、71、74、85、86、88、90、94、95等红色染料；C.I.媒介橙3、4、5、8、12、13、14、20、21、23、24、28、29、32、34、35、36、37、42、43、47、48等橙色染料；C.I.媒介蓝1、2、3、7、8、9、12、13、15、16、19、20、21、22、23、24、26、30、31、32、39、40、41、43、44、48、49、53、61、74、77、83、84等蓝色染料；C.I.媒介紫1、2、4、5、7、14、22、24、30、31、32、37、40、41、44、45、47、48、53、58等紫色染料；C.I.媒介绿1、3、4、5、10、15、19、26、29、33、34、35、41、43、53等绿色染料等。
本发明中，所述染料可以分别单独或组合两种以上使用。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述颜料及染料的含量可以是5至40重量％，更具体地，可以是8至30重量％。所述颜料的含量包括在所述范围内时，在550nm波长具有0.5/μm以上吸光度，图案的固化性及贴紧性优异。
(5)溶剂
所述溶剂与所述粘结剂树脂、所述反应性不饱和化合物、所述颜料及所述引发剂具有相溶性，可以采用不反应的物质。
例如，所述溶剂有：甲醇、乙醇(ethanol)等的乙醇(alcohol)类；二氯乙醚、n-丁基醚、二异戊醚、苯甲醚、四氢呋喃等的醚类；乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚等的乙二醇醚类；乙酸甲氧基乙酯、乙酸乙氧基乙酯、二乙氧基乙酸乙酯等的乙酸乙二醇乙醚类；甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙醚等的卡必醇类；丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等的丙二醇烷基醚乙酸酯类；甲苯、二甲苯等的芳香族碳氢类；甲基乙基酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、甲基-n-丙基甲酮、甲基-n-丁基酮、甲基-n-二正戊基酮、2-庚酮等的酮类；醋酸乙酯、醋酸-n-丁酯、醋酸异丁酯等的饱和脂肪族单羧酸烷基酯类；乳酸甲酯、乳酸乙酯等的乳酸酯类；氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸甲酯、氧乙酸丁酯等的氧乙酸烷基酯类；甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等的烷氧基乙酸烷基酯类；3-氧丙酸甲酯、3-氧丙酸乙酯等的3-氧丙酸烷基酯类；3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯等的3-烷氧基丙酸烷基酯类；2-氧丙酸甲酯、2-氧丙酸乙酯、2-氧丙酸丙酯等的2-氧丙酸烷基酯类；2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯等的2-烷氧基丙酸烷基酯类；2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯等的2-氧基-2-甲基丙酸酯类；2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等的2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基类的单氧基单羧酸烷基酯类；2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、羟基乙酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁烷酸甲酯等的酯类；丙酮酸乙酯等的酮酸酯类等。
并且，可以采用N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰苯胺、N-甲基乙酰胺、N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、苄基乙醚、二己醚、乙酰丙酮、异佛尔酮(Isophorone)、已酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇(benzyl alcohol)、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、γ-丁内酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯、乙二醇苯醚乙酸酯等的高沸点溶剂。
考虑到所述溶剂的相溶性和反应性，可以采用乙二醇单乙醚(ethylene glycolmonoethyl ether)等的乙二醇醚类；乙酸乙氧基乙酯等的乙酸乙二醇烷氧醚类；2-羟基丙酸乙酯等的醚类；二乙二醇单甲醚等的卡必醇类；丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等的丙二醇烷基醚乙酸酯类。
所述感光性树脂组合物的总量中，所述溶剂可以以余量包括在内，具体地，含量可以是50至90重量％。所述溶剂的含量包括在所述范围内时，可以使所述感光性树脂组合物具有适当的粘度，从而在制备图案层时，实现优异的工艺性。
并且，本发明的又另一具体例可以提供显示装置。
以下，参考图3描述显示装置。根据本发明实施例的显示装置包括：形成于基板1上的第一电极4；面对第一电极设置的第二电极7；由本发明所述感光性树脂组合物形成的图案或膜。所述图案或膜以聚合物为必需成分形成感光性树脂组合物，该聚合物将所述化学式(1)示出结构单位为主要成分。
根据本发明实施例的显示装置中，所述感光性树脂组合物的相关内容与所述本发明实施例的感光性树脂组合物相同，在此省略。
所述显示装置可以包括有机发光元件和滤色片，可以利用所述本发明的感光性组合物，在有机发光元件的上部形成滤色片。
所述有机发光元件可以通过像素分离部5分成红色有机发光元件、绿色有机发光元件、蓝色有机发光元件、朱黄色有机发光元件、白色有机发光元件的等。所述有机发光元件可以依次层叠有第一电极、有机层6及第二电极，第二电极上形成有包含有机及无机材料的封装层8，以屏蔽水分和氧气。
所述滤色片位于所述封装层的上部，可以包括：沿着垂直于所述有机发光元件的方向排列的彩色部10以及用于分离出所述彩色部的彩色分隔部11。
根据本发明的感光性组合物包含于所述彩色部或者彩色分隔部，缩小有机发光元件发射的光的波长范围，以提高色纯度，并且，遮蔽从有机发光元件外部入射的光，以提升室外的可视性。
根据本发明的感光性组合物可以包含红色颜料或红色染料，形成沿着垂直于红色有机发光元件的方向排列的红色彩色部。
根据本发明的感光性组合物可以包含绿色颜料或绿色染料，形成沿着垂直于绿色有机发光元件的方向排列的绿色彩色部。
根据本发明的感光性组合物可以包含蓝色颜料或蓝色染料，形成沿着垂直于蓝色有机发光元件的方向排列的蓝色彩色部。
根据本发明的感光性组合物可以包含黑色颜料或黑色染料，形成沿着垂直于所述像素分离部的方向排列的彩色分隔部。
采用本发明所述的感光性组合物形成滤色片的彩色部或彩色分隔部时，脱气产生量少，可以形成尺寸微小的图案，制造出高清晰度滤色片。
所述显示装置可以在基板1与第一电极4之间包括TFT层3，该TFT层3包括TFT(ThinFilm Transistor：2)，所述TFT层上可以包括平整层12。并且，所述封装层8与所述滤色片之间，可以包括触摸操作显示装置的多个功能层，如，TSP(Touch Screen Panel：9)层。
根据本发明的感光性组合物可以在所述TSP层上实现光刻，以形成滤色片。本发明所述组合物可以在所述TSP层上实现光刻来形成彩色部或彩色分隔部，并且，可以同时包含于彩色部和彩色分隔部。
以下，具体描述本发明的合成例和实施例，但，本发明不受合成例和实施例的限定。
(合成例1)
(化合物1-1的制备)
9,9'-双酚芴20g(Sigma aldrich公司)、氯化缩水甘油(Sigma aldrich公司)8.67g、无水碳酸钾30g和二甲基甲酰胺100ml倒入设有蒸馏管的300ml3-口圆底烧瓶中，升温至80℃，使其反应4小时，然后，降温至25℃，过滤反应液，然后，将过滤液搅拌滴入1000ml水中，过滤析出的粉末，然后，用水清洗，在40℃进行减压及烘干，获得化合物1-1(25g)。采用HPLC分析获取粉末的纯度，其结果，纯度为98％。
<化合物1-1>
(合成例2)
(化合物2-1至2-3的制备)
将合成例1中获得的化合物1-1 25g(54mmol)、丙烯酸8g(大井化金公司)、三乙基苄基氯化铵(benzyl triethylammonium chloride)0.2g(大井化金公司)、对苯二酚0.2g(大井化金公司)和甲苯(toluene)52g(Sigma aldrich公司)倒入设有蒸馏管的300ml 3-口圆底烧瓶中，在110℃搅拌6小时。反应结束后，通过减压蒸馏，去除甲苯(toluene)而获得生成物。将硅胶60(230～400mesh，Merck公司)500g充入直径为220mm的玻璃柱，然后，充入生成物20g，以4:1容积比率混合己烷和乙酸乙酯制备10L溶剂备用，然后，利用该溶剂10L进行分离，分离出化合物2-1至化合物2-3。
<化合物2-1>
<化合物2-2>
<化合物2-3>
(合成例3至9)
(聚合物1-1至聚合物1-7的制备)
如下表1，将合成例2获得的化合物2-1、化合物2-2和化合物2-3分别倒入设有蒸馏管的50ml 3-口圆底烧瓶中，将四乙基溴化铵0.1g(大井化金公司)、对苯二酚0.03g(大井化金公司)以及丙二醇甲醚乙酸酯8.05g(Sigma aldrich公司)倒入设有蒸馏管的50ml 3-口圆底烧瓶中，进一步倒入联苯四羧酸二酐1.22g(Mitsubishi Gas社)以及四氢化邻苯二甲酸0.38g(Sigma aldrich公司)，然后，在110℃搅拌6小时。反应结束后，回收反应液，获得包括重复单位的聚合物1-1至1-7，该重复单位与化合物2-1、2-2及2-3相同，其形态呈溶液，含有45％固态粉末。利用凝胶渗透色谱(Gel Permeation Chromatography,GPC)(Agilent公司)分析了合成的高分子的重量平均分子量(Mw)。
【表1】
(合成例10)
(化合物3-1的制备)
在连接有冷却水的3-口圆底烧瓶，将三氯硅烷(trichloro silane)(Gelest公司)20g(0.147mol)以及6-氯-1-己烯(6-chloro-1-hexene)(Aldrich公司)17.51g(0.147mol)溶入乙酸乙酯(ethyl acetate)200ml中，加入铂(0)-1,3-二乙烯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷复合物(Platinum(0)-1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex)溶液(2wt％in xylene/Aldrich公司)0.02g，通入氮气，升温至75℃，使其反应5小时，然后，用0.1μm聚四氟乙烯膜过滤溶液，去除铂催化剂。然后，在常温滴入甲醇15.6g(0.487mol)，滴入时间为30分钟，接着，再次升温至50℃，使其进一步反应2小时，然后，减压蒸馏反应液，去除溶剂。将由此获得的6-己基三甲氧基氯硅烷(6-Chlorohexyltrimethoxysilane)24g(0.1mol)、甲醇钠(Sodium methoxide)(Aldrich公司)8g(0.15mol)、硫化氢THF溶液(Hydrogen sulfide THF solution)(浓度为0.8M)187ml(0.15mol)及甲醇100ml倒入高压釜中，使其在100℃反应2小时。冷却反应液，然后，在常温滴入氯化氢甲醇(Hydrogenchloride in methanol)(浓度为1.25M)100ml，滴入时间为30分钟，过滤去除生成的盐，然后，实施减压蒸馏而获得化合物3-1(23g)。
<化合物3-1>
(合成例11)
(化合物3-2的制备)
采用与合成例10相同的方法进行合成，获得化合物3-2(24g)，但，所述合成例10中，用9-氯-1-壬烯(9-Chloro-1-nonene)(AK Scientific公司)
23.7g(0.147mol)来代替6-氯-1-己烯(6-chloro-1-hexene)的步骤除外。
<化合物3-2>
(合成例12)
(化合物3-3的制备)
采用与合成例10相同的方法进行合成，获得化合物3-3(26g)，但，所述合成例10中，用12-氯-1-十二烯(12-Chloro-1-dodecene)(Atomax Chemicals公司)30g(0.147mol)来代替6-氯-1-己烯(6-chloro-1-hexene)的步骤除外。
<化合物3-3>
(合成例13)
(化合物3-4的制备)
采用与合成例10相同的方法进行合成，获得化合物3-4(24g)，但，所述合成例10中，用乙醇(Aldrich公司)22.4g(0.487mol)来代替去除铂金后所加入甲醇的步骤除外。
<化合物3-4>
(合成例14)
(化合物3-5的制备)
采用与合成例10相同的方法进行合成，获得化合物3-5(27g)，但，所述合成例10中，用1-丁醇(1-butanol)(Aldrich公司)36g(0.487mol)来代替去除铂金后所加入甲醇的步骤除外。
<化合物3-5>
(合成例15)
(化合物3-6的制备)
采用与合成例10相同的方法进行合成，获得化合物3-6(22g)，但，所述合成例10中，用甲基二氯硅烷(dichloromethylsilane)18g(0.147mol)来代替三氯甲硅烷(trichlorosilane)的步骤除外。
<化合物3-6>
(合成例16)
(聚合物2-1的制备)
合成例3制备的聚合物1-1溶液360g中加入KBM 803[3-(三甲氧基甲硅烷基)-1-丙硫醇(3-(Trimethoxysilyl)-1-propanethiol)]6.36g(34mmol)(Shinetsu公司)，即，化合物3-7。升温至60℃，然后，搅拌4小时，获得取代硅烷基团的阳(茎)基环(cardo)系粘结剂树脂聚合物2-1，如化合物3-7。
<化合物3-7>
(合成例17至合成例22)
(聚合物2-2至聚合物2-7的制备)
采用与所述合成例16相同的方法，制备取代硅烷基团的阳(茎)基环(cardo)系粘结剂树脂聚合物2-2至聚合物2-7，但，所述合成例16中，用下表2中记载的聚合物1-2至聚合物1-7来代替聚合物1-1溶液的步骤除外。
所述合成例16至合成例22合成的聚合物2-1至聚合物2-7的重量平均分子量如下表2。
【表2】
(合成例23)
(聚合物3-1的制备)
所述合成例3制备的聚合物1-1的溶液360g中加入6-(三甲氧基甲硅烷基)-1-己硫醇(6-(Trimethoxysilyl)-1-hexanethiol)(化合物3-1)8.1g(34mmol)，升温至60℃，然后，搅拌4小时，获得取代硅烷基团的阳(茎)基环(cardo)系粘结剂树脂聚合物3-1，如化合物3-1。
(合成例24至合成例29)
(聚合物3-2至聚合物3-7的制备)
采用与所述合成例23相同的方法，制备取代硅烷基团的阳(茎)基环(cardo)系粘结剂树脂聚合物3-2至聚合物3-7，但，所述合成例23中，用下表3中记载的聚合物1-2至聚合物1-7来代替聚合物1-1溶液的步骤除外。
所述合成例23至合成例29合成的聚合物3-1至聚合物3-7的重量平均分子量如下表3。
【表3】
(合成例30)
(聚合物4-1的制备)
所述合成例3制备的聚合物1-1溶液360g中加入6-(三乙氧基甲硅烷基)-1-己硫醇(6-(Triethoxysilyl)-1-hexanethiol)(化合物3-4)9.53g(34mmol)，升温至60℃，然后，搅拌4小时，获得取代硅烷基团的阳(茎)基环(cardo)系粘结剂树脂聚合物4-1，如化合物3-4。
(合成例31至合成例36)
(聚合物4-2至聚合物4-7的制备)
采用与所述合成例30相同的方法，制备取代硅烷基团的阳(茎)基环(cardo)系粘结剂树脂聚合物4-2至聚合物4-7，但，所述合成例30中，用下表4中记载的聚合物1-2至聚合物1-7来代替聚合物1-1溶液的步骤除外。
所述合成例30至合成例36合成的聚合物4-1至聚合物4-7的重量平均分子量如下表4。
【表4】
(合成例37)
(化合物4-1的制备)
将季戊四醇(pentaerythritol)20g(Sigma aldrich公司)、丙烯酸42.77g(Sigmaaldrich公司)与甲苯(toluene)100g一同倒入设有蒸馏管及分水蒸馏接受管的300ml 3-口圆底烧瓶中，加入硫酸1g，然后，升温至110℃，使其反应8小时，然后，降温至25℃，用Na2CO310wt％水溶液200ml清洗3次，用水200ml冲洗1次，然后，在40℃减压烘干上层的有机液，获得化合物4-1(50g)。
<化合物4-1>
(合成例38)
(化合物5-1的制备)
将1-萘甲醚(1-methoxynaphthalene)(TCI公司)10g以及3-oxo-3-苯丙酰氯(3-oxo-3-phenylpropanoyl chloride)12.7g与二氯乙烷(dichloro ethane)120mL一同倒入N2气氛的300mL 3口圆底烧瓶中进行搅拌，使其溶解，然后，在5℃进行冷却。一点一点地加入氯化铝(aluminum chloride)(Aldrich公司)9.27g，加入时间为30分钟，然后，搅拌1小时，升温至常温，搅拌2小时。反应液中加入1N HCl水溶液100mL进行搅拌，然后，取出有机层，用蒸馏水100mL清洗3次，然后，实施减压蒸馏，用硅胶柱进行分离，获得化合物5-113.4g。
<化合物5-1>
(合成例39)
(化合物5-2的制备)
将合成例38获得的化合物5-1 10g以及N,N-二甲基甲酰胺(N,N-Dimethylformamide)(Aldrich公司)27.8g倒入N2气氛的100mL 3口圆底烧瓶中，使其溶解，然后，冷却至5℃，将35wt％HCl水溶液5.5g和醋酸异丁酯(isobutyl acetate)(Aldrich公司)8g滴入30分钟反应器中，使其反应10小时。反应之后，用蒸馏水100mL清洗5次，然后，实施减压蒸馏，用硅胶柱进行分离，获得化合物5-2 5.48g。
<化合物5-2>
(合成例40)
(化合物5-3的制备)
将合成例39获得的化合物5-2 5g以及乙酰氯(acetyl chloride)1.4g与二氯乙烷(dichloro ethane)50mL一同倒入N2气氛的100mL 3口口圆底烧瓶中，使其溶解，然后，冷却至5℃，滴入30分钟三乙胺(triethyl amine)1.8g，然后，升温至常温，搅拌2小时。用蒸馏水100mL清洗3次，然后，实施减压蒸馏，用硅胶柱进行分离，获得化合物5-3 4.5g。
<化合物5-3>
(制备例1)
(红色颜料分散液的制备)
将Irgaphor Red BT-CF(红色颜料/BASF公司)15g、Disperbyk 1638.5g(BYK公司)、合成例2获得的高分子溶液6.5g、丙二醇甲醚乙酸酯70g以及直径为0.5mm的氧化锆珠100g(Toray公司)利用涂料摇动器(Asada公司)分散10小时，获得分散液。
(实验例1)
(光引发剂化合物的摩尔吸光系数及5％重量减量温度的检测)
利用紫外-可见光谱仪(UV-Vis spectrometer)UV-2600(Shimadzu公司)检测所述合成例40制备的化合物5-3、OXE-02(BASF公司)、1-羟基环己基苯基甲酮(1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone)的320nm至380nm区最大摩尔吸光系数，利用TGA Q50(TA公司)检测上述三种化合物的5％重量减量温度，检测值如下表5。
【表5】
如上表5，如图1所示，OXE-02发生5％重量减量的温度为250℃以上，这数值相较于化合物5-3相对高，据检测结果，338nm波长区的320nm至380nm区最大摩尔吸光系数为21,000(L/mol·㎝)。
另外，1-羟基环己基苯基甲酮(1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone)的320nm至380nm区最大摩尔吸光系数为330nm中2400(L/mol·㎝)，非常低，且140℃附近重量减量快。
反之，如图2所示，合成例40合成的化合物5-3在188.53℃发生了5％重量减量，据检测结果，332nm波长的320nm至380nm区最大摩尔吸光系数为16,000(L/mol·㎝)。
(实施例1至10)
采用下表6的组份制备感光性组合液。
【表6】
(对比例1至对比例9)
采用下表7的组份制备感光性组合液。
【表7】
利用上表6及表7中组合液制备遮光层的方法(光刻步骤)如下：
(1)涂布及形成涂膜步骤
清洗干净的10cm*10cm ITO/Ag基板上，利用旋涂机涂布所述黑色感光性树脂组合物，涂布厚度为1.5μm。然后，在100℃温度下，加热1分钟，去除溶剂，形成涂膜。
(2)曝光步骤
在上述获得的涂膜上，夹杂给定形态的掩膜，以便于形成所需图案。然后，照射190nm至500nm光化射线。曝光机采用MA-6，曝光量为以100mJ/cm2的标准照射。
(3)显影步骤
实施所述曝光步骤之后，接着，通过浸渍(dipping)法，采用AZEM公司的AX 300MIF显影液，在25℃显影1分钟，然后，用水冲洗，溶解未曝光部分并去除，仅保留曝光部分，以形成图像图案。
(4)后处理步骤
为了获得在耐热性、耐光性、贴紧性、抗裂性、耐化学性、高强度、储存安全性等方面优异的图案，在230℃的烤箱，对于所述通过显影获得的图像图案，进行后烘处理(postbaking)，处理时间为30分钟。
(5)脱气检测
通过上述(1)、(2)、(3)及(4)步骤，将实施例1至10及对比例1至9的感光性组合物置于玻璃基板上形成涂膜，然后，以1cm x 3cm的尺寸进行切割，分别制作6个试片备用。使用JAI公司的JTD-505Ⅲ，在250℃分别捕捉了脱气，脱气捕捉时间为30分钟。使用Shimadzu公司的QP2020GC/MS，对于甲苯(toluene)黑色试片(100、500、1,000ppm)进行检测，然后，编制校准曲线，检测已捕捉样品的脱气产生量。
对于如此获得的图案的脱气产生量；以及形成于基板的图案的最高清晰度(基材上尺寸最小的图案)进行检测，检测结果如下表8及表9。
【表8】
【表9】
如上表8，实施例1至5将未包含硅烷取代基的聚合物1-1至聚合物1-5用作粘结剂树脂，此时，相较于将含有硅烷取代基的聚合物2-1至聚合物2-5用作粘结剂树脂的实施例6至10，脱气产生量低。
并且，实施例6至10的基材上尺寸(size)最小的图案比实施例1至5小。其原因可能是因为：使用取代硅烷的粘结剂树脂时，会使与基板之间的贴紧性得到提升，这会导致在实施PR工艺后，最终图案清晰度得到提升的同时，脱气产生量也会增加。
上表9的对比例1至4也表现出了与所述实施例1至10相似的倾向。对比例3及4使用了已取代硅烷取代基的聚合物2-6及2-7，此时，相较于对比例1及2，该对比例1及2使用了尚未取代硅烷取代基的聚合物1-6及1-7，基材上尺寸最小图案的大小变小，提升了清晰度，还增加了脱气产生量。
对于上表8的实施例1至10与上表9的对比例1至对比例4进行对比可知，对比例1至对比例4使用的聚合物1-6、1-7、2-6、2-7是聚合物主链(backbone)聚合一种单体而成，因此，根据单体的结构，相较于聚合物1-1至1-5及聚合物2-1至2-5，相对地具有线性形态。
反之，实施例1至10使用的聚合物1-1至1-5及聚合物2-1至2-5是聚合物主链聚合了结构分别不同的三种单体，因此，相较于聚合物1-6、1-7、2-6及2-7，相对地具有网状结构。
聚合物1-1至1-5及聚合物2-1至2-5由于其结构特征，会与周围的化合物实现有效的分子间键合，因此，其结构更适用于光刻工艺，随之，实施例1至10相较于对比例1至对比例4，实施显影工艺时，清晰度更高，脱气产生量少。
并且，参考所述表9的对比例5可知，将丙烯酸粘结剂(SR-6100)用作粘结剂树脂时，相较于实施例1至10及对比例1至4，清晰度和脱气特性显著降低。
上表6的实施例1与上表7的对比例6及7均包含相同的碱性可溶树脂(聚合物1-1)，且包含分别不同的光引发剂。实施例1将化合物5-3用作光引发剂，而对比例6及7分别将OXE-02(BASF公司)及1-羟基环己基苯基甲酮(1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone)用作光引发剂。
依据上表8及表9，对于实施例1与对比例6及7的脱气产生量进行对比可知，对比例6使用了5％重量减量温度为200℃以上的OXE-02(BASF公司)，其脱气产生量多于实施例1及对比例7。
并且，对于实施例1与对比例6及7的基材上最小图案的尺寸可知，对比例7将320至380nm区最大摩尔吸光系数为2400(L/mol·㎝)(@330nm)的1-羟基环己基苯基甲酮(1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone)用作光引发剂，其相较于实施例1及对比例6，基材上最小图案的尺寸最大。
鉴于此，320至380nm区最大摩尔吸光系数未达到5000(L/mol·㎝)时，存在以下弊端：由于感应度低，在实施曝光步骤时，图案形成不完整，清晰度会降低。
根据本发明，化合物5-3的320nm至380nm区最大摩尔吸光系数为10,000(L/mol·㎝)以上，5重量％减量的条件为200℃以下，相较于不符合上述条件的光引发剂，基材上最小图案的尺寸小，脱气产生量少，以使清晰度得到大幅提升。
上表6的实施例6与上表7的对比例8及9均包含相同的碱性可溶树脂(聚合物2-1)，且包含分别不同的光引发剂。实施例6将化合物5-3用作光引发剂，而对比例8及9分别将OXE-02(BASF公司)及1-羟基环己基苯基甲酮(1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone)用作光引发剂。
对于实施例6与对比例8及9的基材上最小图案尺寸以及脱气产生量进行对比时，以及，所述实施例1与对比例6及7的基材上最小图案尺寸以及脱气产生量进行对比时，结果呈现出相同的倾向。
上述说明仅仅是举例说明了本发明，只要是本发明所属技术领域的通常技术人员，就可以在不脱离本发明实质特性的范围内，进行多种变形。
因此，本说明书揭示的实施例用于描述本发明，而非用于限定本发明，本发明的思想和范畴不受这种实施例的限定。本发明的权利要求范围应当依据下附权利要求书进行解释，应当解释为，包括在与其同等范围内的所有技术均落入本发明的权利要求范围。

Claims (15)

1.一种感应性树脂组合物，其特征在于，包括：
碱性可溶树脂；
反应性不饱和化合物；
光引发剂，其320nm至380nm区最大摩尔吸光系数(molar absorption coefficient)为10,000(L/mol·㎝)以上且在200℃以下发生5重量％减量；
着色剂(Colorant)；以及
溶剂。
2.根据权利要求1所述的感应性树脂组合物，其特征在于：所述碱性可溶树脂包括以下化学式(1)表示的重复单位：
化学式(1)：
所述化学式(1)中，
1)*表示以重复单位实现键连接的部分，
2)R1及R2相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxygroup)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonylgroup)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
3)R1及R2可以分别与相邻的基形成环，
4)a及b相互独立地为0至4的整数，
5)X1是单键、O、CO、SO2、CR'R"、SiR'R"、化学式(A)或化学式(B)，
6)X2是C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(heteroatom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxygroup)；或其等的组合，
7)R'及R"相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxygroup)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonylgroup)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
8)R'及R"可以分别与相邻的基形成环，
9)A1及A2相互独立地为化学式(C)或化学式(D)，
10)树脂包括化学式(1)表示的重复单位，其在高分子链内，化学式(C)和化学式(D)的比率满足1:9至9:1，
化学式(A)：
化学式(B)：
所述化学式(A)及化学式(B)中，
11-1)*表示键合位置，
11-2)X3是O、S、SO2或NR'，
11-3)R'是氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
11-4)R3～R6相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclicgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
11-5)R3～R6可以分别与相邻的基形成环，
11-6)c～f相互独立地为0至4的整数，
化学式(C)：
化学式(D)
所述化学式(C)及化学式(D)中，
12-1)*表示键合位置，
12-2)R7～R10相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclicgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
12-3)Y1及Y2相互独立地为化学式(E)或化学式(F)，
化学式(E)：
化学式(F)：
所述化学式(E)及化学式(F)中，
13-1)*表示键合位置，
13-2)R11～R15相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclicgroup)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkylgroup)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)，
13-3)L1～L3相互独立地为：单键、C1～C30的亚烷基(alkylene)、C6～C30的亚芳基(arylene)或C2～C30的杂环，
13-4)g及h相互独立地为0至3的整数；但，g+h＝3，
14)所述R1～R15、R'、R"、X1～X2、L1～L3以及相邻的基之间相互实施键合而形成的环可以分别进一步取代为选自由以下成分组成的组的一个以上取代基：重氢；卤素(halogen)；取代或未取代为C1～C30的烷基(Alkyl group)或C6～C30的芳基(aryl group)的硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；氨基(amino group)；硝基(nitro group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C1～C30的烷基(Alkylgroup)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(aryl group)；取代为重氢的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclic group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，并且，相邻的取代基之间可以形成环。
3.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：所述碱性可溶树脂的重量平均分子量为1,000至100,000g/mol。
4.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：树脂包括所述化学式(1)表示的重复单位，其在高分子链内，化学式(E)和化学式(F)的比率为2:0至1:1。
5.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：在所述感光性树脂组合物的总量中，所述反应性不饱和化合物的含量为1至40重量％。
6.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：所述反应性不饱和化合物包含以下化学式(2)表示的化合物：
化学式(2)：
所述化学式(2)中，Z1～Z4中2个以上相互独立地具有以下化学式(G)的结构；其余的Z1～Z4相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；甲基；乙基；甲基羟基；C6～C30的芳基(arylgroup)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)，
化学式(G)：
所述化学式(G)中，
1)t是1至20的整数，
2)L4是单键、C1～C30的亚烷基(alkylene)、C6～C30的亚芳基(arylene)或C2～C30的杂环，
3)Y3为以下化学式(H)或化学式(I)，
化学式(H)：
化学式(I)：
所述化学式(H)中，R21是氢；重氢；卤素(halogen)；甲基；乙基；甲基羟基；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)。
7.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：所述感光性树脂组合物的总量中，所述着色剂的含量为5至40重量％。
8.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：所述着色剂包括：黑色、红色、蓝色、绿色、黄色、紫色、橙色、白色、银色或金黄色无机染料、有机染料、无机颜料及有机颜料中至少一种以上。
9.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：所述感光性树脂组合物的总量中，所述光引发剂的含量为0.01至10重量％。
10.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于：所述引发剂包含以下化学式(3)表示的化合物：
化学式(3)：
所述化学式(3)中，
1)u1～u3相互独立地为0或1的整数，
2)L5及L8为以下化学式(J),
3)L6、L7及L9相互独立地为：C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C3～C30的脂肪族环基；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxygroup)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonylgroup)；醚基(ether group)；C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl group)；C1～C30的亚烷基(alkylene)或C6～C30的亚芳基(arylene)，
化学式(J)：
所述化学式(J)中，R31是氢；重氢；卤素(halogen)；甲基；乙基；甲基羟基；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenylgroup)；羰基(carbonyl group)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)。
11.根据权利要求10所述的感光性树脂组合物，其特征在于：所述化学式(3)的L6、L7及L9相互独立地为以下化学式(K)至化学式(N)中之一：
化学式(K)：
化学式(L)：
化学式(M)：
化学式(N)：
所述化学式(M)及化学式(N)中，
1)A是氢；O；S；硅烷基(silane group)；硅氧烷基(Siloxane group)；硼基；锗基；氰基(cyano group)；硝基(nitro group)；腈基(nitrile group)；取代或未取代为C1～C30的烷基(Alkyl group)、C6～C30的芳基(aryl group)或C2～C30的杂环基(heterocyclic group)的氨基(amino group)；C1～C30的烷基硫基(alkylthio group)；C1～C30的烷基(Alkylgroup)；C1～C30的烃氧基(alkoxy group)；C6～C30的芳基烷氧基(aryl alkoxy group)；C2～C30的烯基(alkenyl group)；C2～C30的炔基(alkinyl group)；C6～C30的芳基(arylgroup)；取代为重氢的C6～C30的芳基(aryl group)；芴基(fluorenyl group)；C2～C30的杂环基(heterocyclic group)，其包含选自由O、N、S、Si及P组成的组的至少一个杂原子(hetero atom)；C3～C30的脂肪族环基；C7～C30的芳基烷基(aryl Alkyl group)；C8～C30的芳基烯基(aryl alkenyl group)；以及其等的组合，
2)R32～R34相互独立地为：氢；重氢；卤素(halogen)；C6～C30的芳基(aryl group)；包含O、N、S、Si及P中至少一个杂原子(hetero atom)的C2～C30的杂环基(heterocyclic group)；C6～C30的脂肪族环和芳香族环的稠合环基(cyclo group)；C1～C20的烷基(Alkyl group)；C2～C20的烯基(alkenyl group)；C2～C20的炔基(alkinyl group)；C1～C20的烃氧基(alkoxygroup)；C6～C30的芳氧基(aryloxy group)；芴基(fluorenyl group)；羰基(carbonylgroup)；醚基(ether group)；或C1～C20的烷氧羰基(alkoxy carbonyl
group)，
3)T是S、O或Se。
12.一种由权利要求1所述感光性组合物形成的图案或膜。
13.一种显示装置，其特征在于，包括：形成于基板上的第一电极；面对第一电极设置的第二电极；由权利要求1所述感光性树脂组合物形成的图案或膜。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其特征在于：所述图案是彩色部或彩色分隔部。
15.一种电子装置，其特征在于，包括权利要求13所述显示装置；以及用于驱动所述显示装置的控制部。
CN202180067925.6A 2020-10-06 2021-10-04 树脂、树脂组合物以及利用其的显示装置 Pending CN116670589A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200128620A KR20220045693A (ko) 2020-10-06 2020-10-06 수지, 수지 조성물 및 이를 이용한 표시장치
KR10-2020-0128620 2020-10-06
PCT/KR2021/013547 WO2022075673A1 (ko) 2020-10-06 2021-10-04 수지, 수지 조성물 및 이를 이용한 표시장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN116670589A true CN116670589A (zh) 2023-08-29

Family

ID=81125861

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202180067925.6A Pending CN116670589A (zh) 2020-10-06 2021-10-04 树脂、树脂组合物以及利用其的显示装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20230408914A1 (zh)
KR (1) KR20220045693A (zh)
CN (1) CN116670589A (zh)
WO (1) WO2022075673A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220108287A (ko) * 2021-01-26 2022-08-03 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5359100B2 (ja) * 2008-08-01 2013-12-04 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物
JP5315909B2 (ja) * 2008-10-08 2013-10-16 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。
KR101355152B1 (ko) * 2010-07-21 2014-01-27 주식회사 엘지화학 광중합 개시제 및 이를 이용한 감광성 수지 조성물
KR102408921B1 (ko) * 2015-01-07 2022-06-14 삼성디스플레이 주식회사 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스의 제조방법
JP6931700B2 (ja) * 2017-07-13 2021-09-08 富士フイルム株式会社 組成物、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ

Also Published As

Publication number Publication date
US20230408914A1 (en) 2023-12-21
KR20220045693A (ko) 2022-04-13
WO2022075673A1 (ko) 2022-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11920025B2 (en) Resin, resin composition, and display device using same
KR20220094479A (ko) 수지, 수지 조성물 및 이를 이용한 표시장치
CN111247484B (zh) 具有改善的粘附力或粘接性的光敏树脂组合物及使用其的遮光层
CN115997168A (zh) 反射率低的感光性树脂组合物以及利用其的遮光层
KR20220075465A (ko) 수지 조성물 및 이를 이용한 표시장치
JP2022122980A (ja) 感光性樹脂組成物及び表示装置
CN116670589A (zh) 树脂、树脂组合物以及利用其的显示装置
KR102607463B1 (ko) 화소정의층의 제조 방법
KR102607467B1 (ko) 화소정의층의 제조 방법
KR102607468B1 (ko) 화소정의층의 제조 방법
KR102607464B1 (ko) 화소정의층의 제조 방법
KR102607465B1 (ko) 화소정의층의 제조 방법
US20240276783A1 (en) Method for preparing pixel define layer
US20240192589A1 (en) Method for preparing pixel define layer
US20240196661A1 (en) Method for preparing pixel define layer
US20240192594A1 (en) Method for preparing pixel define layer
KR20240025888A (ko) 저반사율의 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
KR20220084914A (ko) 수지, 수지 조성물 및 이를 이용한 표시장치
KR20220056740A (ko) 무기 입자를 포함한 광경화 조성물 및 표시장치
KR20220165556A (ko) 무기 입자를 포함한 광경화 조성물
CN118119248A (zh) 像素界定层制备方法
CN117858597A (zh) 像素界定层制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination