CN117805953A - 折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置 - Google Patents

折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置 Download PDF

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CN117805953A CN202311259448.0A CN202311259448A CN117805953A CN 117805953 A CN117805953 A CN 117805953A CN 202311259448 A CN202311259448 A CN 202311259448A CN 117805953 A CN117805953 A CN 117805953A
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Abstract

本揭示内容提供一种折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置，折反射光学膜设置于一基材的一表面且包含一反射膜以及一消光膜。反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射金属膜的主要成分为铝。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜。消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，深色金属膜的主要成分为金属铬，深色氧化膜的主要成分为氧化铬。借此，有助于达到光线经过多次反射后仍保持明亮清晰且低杂散光的效果。

Description

折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置
技术领域
本揭示内容是有关于一种成像光学镜头、取像装置及电子装置，且特别是有关于一种具有折反射光学膜以降低杂散光的成像光学镜头、取像装置及电子装置。
背景技术
近年来日趋流行以移动装置的微型光学镜头进行摄影拍照，其中长焦摄像镜头负责拍摄远距离景物而达到放大主题的功能，提供清晰的远景拍摄品质且得到更好凸显主题的拍摄体验，成为消费者选择长焦摄像镜头的重点。但具备长焦距的摄像镜头往往具有过于庞大的体积，难以达成微型光学镜头的目的。
习知技术应用潜望式镜头，虽能降低光学系统占用高度比重，但仍需依赖反射元件，无法进一步压缩体积。再者，另一种应用折反射望远镜的概念，使用相对短的镜头筒即可实现长焦摄像，但因光线多次反射后容易有杂散光的生成，进而影响成像品质。
发明内容
本揭示内容的折反射光学膜、成像光学镜头、取像装置及电子装置通过在基材的相对位置镀上反射膜与消光膜的设计方式，可达到光线经过多次反射后仍保持明亮清晰且低杂散光的效果。通过反射金属膜的入光侧配置多层的氧化膜，使光线在膜层间以建设性干涉达到提高反射光目的，有助于强化感光元件的入光量，并在反射金属膜另一侧亦配置氧化膜，以防止金属氧化失去光泽导致反射强度减弱，并可进一步减少因多次反射后杂散光的生成。再者，通过在非有效光路区配置消光膜，且通过抗反射膜层的设计，再加上金属铬的低穿透特性以及氧化铬提供深色的效果，有助于在非有效光路区达到低反射、低透光度的光学镀膜设计，降低多余杂光的产生以强化光学成像品质。
依据本揭示内容一实施方式提供一种折反射光学膜，折反射光学膜设置于一基材的一表面，且折反射光学膜包含一反射膜以及一消光膜。反射膜设置于基材的一有效光路区，且反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射金属膜的主要成分为铝。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜，其中第一反射氧化膜包含至少二种膜层，各膜层的主要成分为氧化物，反射金属膜较第一反射氧化膜远离基材，且第二反射氧化膜较反射金属膜远离基材。消光膜设置于基材的一非有效光路区，其中消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，深色金属膜的主要成分为金属铬，深色氧化膜的主要成分为氧化铬，且深色膜较第一抗反射膜远离基材。
依据本揭示内容另一实施方式提供一种成像光学镜头，成像光学镜头由光路的物侧至像侧依序包含一折反射透镜组以及一长焦透镜组。折反射透镜组包含至少一透镜，透镜具有一物侧表面朝向物侧以及一像侧表面朝向像侧，且透镜的至少一表面具一折反射光学膜。折反射光学膜包含一反射膜以及一消光膜。反射膜设置于透镜的一有效光路区，且反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射金属膜的主要成分为铝。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜，第一反射氧化膜包含至少二种膜层，各膜层的主要成分为氧化物，反射金属膜较第一反射氧化膜远离透镜，且第二反射氧化膜较反射金属膜远离透镜。消光膜设置于透镜的一非有效光路区，其中消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，深色金属膜的主要成分为金属铬，深色氧化膜的主要成分为氧化铬，且深色膜较第一抗反射膜远离透镜。
依据本揭示内容另一实施方式提供一种取像装置，包含如前段所述的成像光学镜头以及一电子感光元件。电子感光元件设置于成像光学镜头的一成像面。
依据本揭示内容另一实施方式提供一种电子装置，包含如前段所述的取像装置。
附图说明
为让本揭示内容的上述和其他目的、特征、优点与实施例能更明显易懂，所附附图的说明如下：
图1是绘示依照本揭示内容第一实施例的折反射光学膜的反射膜的反射率与波长的关系图；
图2是绘示依照本揭示内容第二实施例的折反射光学膜的消光膜中深色膜的反射率及穿透率与波长的关系图；
图3是绘示依照本揭示内容第四实施例的成像光学镜头的示意图；
图4是绘示依照本揭示内容第五实施例的成像光学镜头的示意图；
图5是绘示依照本揭示内容第六实施例的电子装置的示意图；
图6是绘示依照本揭示内容第七实施例的电子装置的示意图；
图7A绘示依照本揭示内容第八实施例的电子装置的一侧的示意图；以及
图7B绘示依照图7A中电子装置的另一侧的示意图。
【符号说明】
1,2:成像光学镜头
11,21:折反射透镜组
12,22:长焦透镜组
E1:第一透镜
E2:第二透镜
E3:第三透镜
E4:第四透镜
E5:第五透镜
E6:滤光元件
IMG:成像面
IS:电子感光元件
SR1:第一反射面
SR2:第二反射面
ST1:第一穿透面
ST2:第二穿透面
ST3:第三穿透面
ST4:第四穿透面
ST5:第五穿透面
ST6:第六穿透面
ST7:第七穿透面
ST8:第八穿透面
SE1:第一消光面
SE2:第二消光面
SE3:第三消光面
SE4:第四消光面
100,200,300:电子装置
110,120,130,210,220,230,240,250,260,270,280,290,310,320,330,340:取像装置
101,201:闪光灯模块
304:使用者界面
Nro-s1:基材高折射率氧化膜的折射率
Nro-s2:基材低折射率氧化膜的折射率
Nro-a1:空气高折射率氧化膜的折射率
Nro-a2:空气低折射率氧化膜的折射率
Tea-s:第一抗反射膜的总膜厚
Ted:深色膜的总膜厚
Ted-cr:深色金属膜的总膜厚
tTKe:消光膜的总膜厚
Tro-s:第一反射氧化膜的总膜厚
Tro-a:第二反射氧化膜的总膜厚
Trm:反射金属膜的总膜厚
T4070-e:消光膜于波长400nm至700nm的平均穿透率
R4070-e:消光膜于波长400nm至700nm的平均反射率
R4070-r:反射膜于波长400nm至700nm的平均反射率
具体实施方式
本揭示内容的一实施方式提供一种折反射光学膜，折反射光学膜设置于一基材的一表面，且折反射光学膜包含一反射膜以及一消光膜。反射膜设置于基材的一有效光路区，且反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射金属膜的主要成分为铝。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜，其中第一反射氧化膜包含至少二种膜层，各膜层的主要成分为氧化物，反射金属膜较第一反射氧化膜远离基材，且第二反射氧化膜较反射金属膜远离基材。消光膜设置于基材的一非有效光路区，其中消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，深色金属膜的主要成分为金属铬，深色氧化膜的主要成分为氧化铬，且深色膜较第一抗反射膜远离基材。
借此，本揭示内容的折反射光学膜通过在基材的相对位置镀上反射膜与消光膜的设计方式，可达到光线经过多次反射后仍保持明亮清晰且低杂散光的效果。通过反射金属膜的入光侧配置多层的氧化膜，使光线在膜层间以建设性干涉达到提高反射光目的，有助于强化感光元件的入光量，并在反射金属膜另一侧亦配置氧化膜，以防止金属氧化失去光泽导致反射强度减弱，并可进一步减少因多次反射后杂散光的生成。再者，通过在非有效光路区配置消光膜，且通过抗反射膜层的设计，再加上金属铬的低穿透特性以及氧化铬提供深色的效果，有助于在非有效光路区达到低反射、低透光度的光学镀膜设计，降低多余杂光的产生以强化光学成像品质。
第一反射氧化膜的总膜厚为Tro-s，第二反射氧化膜的总膜厚为Tro-a，其可满足下列条件：0.88≤Tro-s/Tro-a≤1.50。借此，通过配置第一反射氧化膜与第二反射氧化膜的厚度比例，有助于提高反射光与金属抗氧化的目的。或者，其可满足下列条件：0.89≤Tro-s/Tro-a≤1.40。或者，其可满足下列条件：0.90≤Tro-s/Tro-a≤1.30。或者，其可满足下列条件：0.92≤Tro-s/Tro-a≤1.20。或者，其可满足下列条件：0.95≤Tro-s/Tro-a≤1.10。或者，其可满足下列条件：0.98≤Tro-s/Tro-a≤1.05。
在本揭示内容所述的折反射光学膜中，其中基材可为塑胶基材，且基材具有折反射光学膜的表面为一曲面。借此，通过将折反射光学膜配置在具有曲面的基材上，有助于提升光学设计的自由度。
反射金属膜的总膜厚为Trm，第一反射氧化膜的总膜厚为Tro-s，其可满足下列条件：1.05≤Trm/Tro-s≤4.90。借此，通过提高第一反射氧化膜层的膜厚比例，有助于强化反射率。或者，其可满足下列条件：1.08≤Trm/Tro-s≤4.00。或者，其可满足下列条件：1.10≤Trm/Tro-s≤3.00。或者，其可满足下列条件：1.12≤Trm/Tro-s≤2.50。或者，其可满足下列条件：1.13≤Trm/Tro-s≤2.00。或者，其可满足下列条件：1.15≤Trm/Tro-s≤1.50。
反射金属膜的总膜厚为Trm，第二反射氧化膜的总膜厚为Tro-a，其可满足下列条件：0.88≤Trm/Tro-a≤10.00。借此，通过提高第二反射氧化膜层的膜厚比例，有助于提高镀膜的耐用性与保持反射金属膜的反射效果。或者，其可满足下列条件：0.95≤Trm/Tro-a≤8.00。或者，其可满足下列条件：1.00≤Trm/Tro-a≤5.00。或者，其可满足下列条件：1.05≤Trm/Tro-a≤3.00。或者，其可满足下列条件：1.10≤Trm/Tro-a≤2.00。或者，其可满足下列条件：1.15≤Trm/Tro-a≤1.50。
第一反射氧化膜可包含一基材高折射率氧化膜与一基材低折射率氧化膜，基材低折射率氧化膜较基材高折射率氧化膜远离基材，基材高折射率氧化膜的折射率为Nro-s1，基材低折射率氧化膜的折射率为Nro-s2，其可满足下列条件：Nro-s1>Nro-s2。借此，当光线自基材射入反射膜时，通过多层折射率相异的氧化物膜层交替堆叠，有助于达到提高反射光目的。
基材高折射率氧化膜的折射率为Nro-s1，基材低折射率氧化膜的折射率为Nro-s2，其可满足下列条件：2.00≤Nro-s1≤4.00；以及1.00≤Nro-s2≤1.80。借此，当光线自基材射入反射膜时，通过多层折射率相异的氧化物膜层交替堆叠，使光线在膜层间以建设性干涉并强化反射膜的反射能力。或者，其可满足下列条件：2.05≤Nro-s1≤3.50；以及1.10≤Nro-s2≤1.75。或者，其可满足下列条件：2.10≤Nro-s1≤3.00；以及1.20≤Nro-s2≤1.70。或者，其可满足下列条件：2.15≤Nro-s1≤2.80；以及1.30≤Nro-s2≤1.65。或者，其可满足下列条件：2.20≤Nro-s1≤2.50；以及1.35≤Nro-s2≤1.55。或者，其可满足下列条件：2.25≤Nro-s1≤2.40；以及1.40≤Nro-s2≤1.50。
第二反射氧化膜可包含一空气高折射率氧化膜与一空气低折射率氧化膜，空气高折射率氧化膜较空气低折射率氧化膜远离基材，空气高折射率氧化膜的折射率为Nro-a1，空气低折射率氧化膜的折射率为Nro-a2，其可满足下列条件：Nro-a1>Nro-a2。借此，当光线自空气射入反射膜时，通过多层折射率相异的氧化物膜层交替堆叠，有助于达到提高反射光目的以及增加金属抗氧化的能力。
空气高折射率氧化膜的折射率为Nro-a1，空气低折射率氧化膜的折射率为Nro-a2，其可满足下列条件：2.00≤Nro-a1≤4.00；以及1.00≤Nro-a2≤1.80。借此，当光线自空气射入反射膜时，通过多层折射率相异的氧化物膜层交替堆叠，使光线在膜层间以建设性干涉并强化反射膜的反射能力以及增加金属抗氧化的能力。或者，其可满足下列条件：2.05≤Nro-a1≤3.50；以及1.10≤Nro-a2≤1.75。或者，其可满足下列条件：2.10≤Nro-a1≤3.00；以及1.20≤Nro-a2≤1.70。或者，其可满足下列条件：2.15≤Nro-a1≤2.80；以及1.30≤Nro-a2≤1.65。或者，其可满足下列条件：2.20≤Nro-a1≤2.50；以及1.35≤Nro-a2≤1.55。或者，其可满足下列条件：2.25≤Nro-a1≤2.40；以及1.40≤Nro-a2≤1.50。
反射膜于波长400nm至700nm的平均反射率为R4070-r，其可满足下列条件：90.0％≤R4070-r。借此，可有效提升反射膜层的反射率，有助于增加光学照度。或者，其可满足下列条件：91.0％≤R4070-r。或者，其可满足下列条件：92.0％≤R4070-r。或者，其可满足下列条件：93.0％≤R4070-r。或者，其可满足下列条件：94.0％≤R4070-r。或者，其可满足下列条件：95.0％≤R4070-r。
消光膜的总膜厚为tTKe，其可满足下列条件：200nm≤tTKe≤2000nm。借此，通过控制消光膜的总膜厚，有助于达到低反射、低透光度的目的。或者，其可满足下列条件：300nm≤tTKe≤1800nm。或者，其可满足下列条件：400nm≤tTKe≤1500nm。或者，其可满足下列条件：500nm≤tTKe≤1200nm。或者，其可满足下列条件：550nm≤tTKe≤1000nm。或者，其可满足下列条件：600nm≤tTKe≤800nm。
消光膜的总膜厚为tTKe，深色膜的总膜厚为Ted，其可满足下列条件：0.10≤Ted/tTKe≤0.95。借此，通过控制深色膜的膜厚占消光膜整体膜厚的比例，有助于防止不必要的光线进入光学系统影响成像品质。或者，其可满足下列条件：0.20≤Ted/tTKe≤0.90。或者，其可满足下列条件：0.30≤Ted/tTKe≤0.80。或者，其可满足下列条件：0.40≤Ted/tTKe≤0.70。或者，其可满足下列条件：0.45≤Ted/tTKe≤0.75。或者，其可满足下列条件：0.50≤Ted/tTKe≤0.60。
第一抗反射膜的总膜厚为Tea-s，其可满足下列条件：50nm≤Tea-s≤1000nm。借此，通过控制第一抗反射膜达到特定厚度，使反射光容易在间隔的膜层表面产生破坏性干涉现象，有助于提升抗反射效果。或者，其可满足下列条件：60nm≤Tea-s≤800nm。或者，其可满足下列条件：70nm≤Tea-s≤600nm。或者，其可满足下列条件：80nm≤Tea-s≤400nm。或者，其可满足下列条件：85nm≤Tea-s≤300nm。或者，其可满足下列条件：90nm≤Tea-s≤200nm。
深色膜的总膜厚为Ted，深色金属膜的总膜厚为Ted-cr，其可满足下列条件：0.05≤Ted-cr/Ted≤0.85。借此，通过调控深色金属膜厚占深色膜膜厚的比例，有助于强化消光膜具备低透光度的特性。或者，其可满足下列条件：0.10≤Ted-cr/Ted≤0.75。或者，其可满足下列条件：0.15≤Ted-cr/Ted≤0.65。或者，其可满足下列条件：0.20≤Ted-cr/Ted≤0.55。或者，其可满足下列条件：0.25≤Ted-cr/Ted≤0.50。或者，其可满足下列条件：0.30≤Ted-cr/Ted≤0.45。
消光膜于波长400nm至700nm的平均反射率为R4070-e，消光膜于波长400nm至700nm的平均穿透率为T4070-e，其可满足下列条件：0％<R4070-e≤1.00％；以及0％<100×T4070-e≤5.00％。借此，维持消光膜低反射、低透光度的光学镀膜设计，有助于减少杂散光的生成。或者，其可满足下列条件：0.01％≤R4070-e≤0.80％；以及0.01％≤100×T4070-e≤4.00％。或者，其可满足下列条件：0.02％≤R4070-e≤0.60％；以及0.10％≤100×T4070-e≤2.00％。或者，其可满足下列条件：0.03％≤R4070-e≤0.40％；以及0.20％≤100×T4070-e≤1.00％。或者，其可满足下列条件：0.04％≤R4070-e≤0.30％；以及0.25％≤100×T4070-e≤0.75％。或者，其可满足下列条件：0.05％≤R4070-e≤0.20％；以及0.30％≤100×T4070-e≤0.45％。
消光膜可还包含一第二抗反射膜，第二抗反射膜较深色膜远离基材。借此，通过在深色膜外侧配置抗反射膜，有助于提升由外侧至内侧方向上的抗反射效果。
消光膜可还包含一渐变折射率膜，渐变折射率膜具有多个孔洞，远离基材的孔洞相对大于靠近基材的孔洞，且渐变折射率膜较深色膜远离基材。借此，有助于提升由外侧至内侧方向上的抗反射效果。
上述本揭示内容的折反射光学膜中的各技术特征皆可组合配置，而达到对应的功效。
本揭示内容的另一实施方式提供一种成像光学镜头，成像光学镜头由光路的物侧至像侧依序包含一折反射透镜组以及一长焦透镜组。折反射透镜组包含至少一透镜，所述透镜具有一物侧表面朝向物侧以及一像侧表面朝向像侧，且所述透镜的至少一表面具一折反射光学膜。其中，折反射光学膜包含一反射膜及一消光膜。反射膜设置于所述透镜的一有效光路区，且反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射金属膜的主要成分为铝。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜，第一反射氧化膜包含至少二种膜层，各膜层的主要成分为氧化物，反射金属膜较第一反射氧化膜远离透镜，且第二反射氧化膜较反射金属膜远离透镜。消光膜设置于所述透镜的一非有效光路区，其中消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，深色金属膜的主要成分为金属铬，深色氧化膜的主要成分为氧化铬，且深色膜较第一抗反射膜远离透镜。借此，通过将折反射光学膜镀制在成像光学镜头上，有助于减少成像光学镜头的总长与总体积，以及有助于减少光学元件配置的需求。
依据本揭示内容的成像光学镜头，透镜可为塑胶透镜，且所述透镜具有折反射光学膜的表面为一曲面。借此，通过将折反射光学膜配置在具有曲面的透镜上，有助于提升光学设计的自由度。
依据本揭示内容的成像光学镜头，折反射透镜组可包含一穿透区与一反射区，穿透区与反射区皆位于透镜的有效光路区，且反射区包含所述反射膜。反射区可包含一第一反射面与一第二反射面，且第二反射面位于透镜的物侧表面。借此，通过在透镜上设置反射膜，有助于光路缩减的配置减少成像光学镜头的总长，并在透镜相同厚度下，可达到更小的视场角度。
依据本揭示内容的成像光学镜头，穿透区可包含至少一穿透面，且穿透面位于透镜的物侧表面。非有效光路区可包含至少一消光面，消光面位于透镜的物侧表面且位于穿透面与第二反射面间，且消光面包含消光膜。借此，通过在穿透面与反射面间配置消光膜，有助于避免外部光线于非有效光路区进入成像光学镜头，减少不必要的光斑的生成而影响成像品质。
依据本揭示内容的成像光学镜头，第一反射面可位于透镜的像侧表面。穿透区可包含一第一穿透面与一最后穿透面，第一穿透面位于透镜的物侧表面，且最后穿透面位于透镜的像侧表面。非有效光路区可包含一第一消光面与一第二消光面，第一消光面位于透镜的物侧表面且位于第一穿透面与第二反射面间，第二消光面位于透镜的像侧表面且位于第一反射面与最后穿透面间，且第一消光面与第二消光面皆包含消光膜。借此，通过在透镜的物侧与像侧配置消光膜，前者有助于避免外部光线于非有效光路区进入成像光学镜头，后者有助于避免光线经过多次反射后在非有效光路区形成杂散光，进而减少不必要的光斑的生成而影响成像品质。
依据本揭示内容的成像光学镜头，长焦透镜组可包含至少二透镜。借此，可增加成像光学镜头设计的自由度，有助于提升成像品质。再者，至少二透镜的至少一表面可包含至少一反曲点。借此，有助于周边影像像差修正与补偿。
依据本揭示内容的成像光学镜头，第二反射面的物侧可包含消光膜。借此，通过在反射膜外侧配置消光膜，有助于提升成像光学镜头由外侧至内侧方向上的抗反射效果。
依据本揭示内容的成像光学镜头，折反射透镜组可包含一第一透镜、一第二透镜、一穿透区及一反射区，且第一透镜较第二透镜靠近物侧。穿透区与反射区可皆位于透镜的有效光路区，且反射区包含反射膜。反射区可包含一第一反射面与一第二反射面，第一反射面位于第二透镜的一像侧表面，且第二反射面位于第一透镜的一物侧表面。借此，通过在第一透镜与第二透镜上设置反射膜，有助于光路缩减的配置减少成像光学镜头的总长，并在透镜相同厚度下，可达到更小的视场角度。
依据本揭示内容的成像光学镜头，非有效光路区可包含至少一消光面，消光面位于第一透镜的物侧表面且位于穿透区的第一穿透面与第二反射面间，且消光面包含消光膜。借此，通过在穿透面与反射面间配置消光膜，有助于避免外部光线于非有效光路区进入成像光学镜头，减少不必要的光斑的生成而影响成像品质。
依据本揭示内容的成像光学镜头，第二透镜物侧表面近中心轴处可为凸面，长焦透镜组可包含至少三透镜，且至少三透镜的至少一表面可包含至少一反曲点。借此，有助于汇聚自第二反射面后的光线，提升进光量。
依据本揭示内容的成像光学镜头，第二反射面的物侧可包含消光膜。借此，通过在反射膜外侧配置消光膜，有助于提升成像光学镜头由外侧至内侧方向上的抗反射效果。
上述本揭示内容的成像光学镜头中的各技术特征皆可组合配置，而达到对应的功效。
本揭示内容所述的光路区，可分成有效光路区与非有效光路区，所述的有效光路区，是依据入射光线由物侧经过成像光学镜头并成像在成像面。所述的非有效光路区，是依据入射光线由物侧经过成像光学镜头并无成像在成像面，其中光学镜头的非有效光路区皆可适用于本揭示内容所述的消光膜，亦可使用光学涂层，例如：环氧树脂或是含有丙烯酸酯聚合物为基底的速干型墨水形成的黑色涂墨层(black ink spraying layer)、化学气相沉积的黑化镀膜层或是光阻墨层(Photoresistive coating layer)等具有光线吸收效果的深色涂层，光学涂层具容易涂覆与粘着在元件表面的特性并适合大量加工制造。
本揭示内容所述的有效光线，是依据入射光线由物侧经过透镜的有效光路区并成像在成像面上的所述多个光线，不包含经过透镜的非有效光路区形成的杂散光。
本揭示内容所述的中心轴，其表示一轴心对称的光学系统，包含至少两个旋转对称的反射面或是折射面所共同的轴。所述的近中心轴处，其表示在中心轴附近包含中心轴的相对窄的区域。
本揭示内容所述的基材可以是透镜或是光学元件，所述的光学元件可为一种滤光元件(Filter)、平板玻璃(Cover glass)、光路转折元件、绕射元件(如菲涅耳透镜(Fresnellens))、遮光元件、环形间隔元件、镜筒元件或是设置感光元件上的微透镜(Micro lens)。滤光元件可包含蓝玻璃(Blue glass)、红外截止滤光片(IR cut filter)、吸收型彩色滤光片(color filter)、带通干涉滤光片(Bandpass filter)或是光学低通滤波片(Low-passfilter)。平板玻璃可包含成像光学镜头最物侧端的保护镜、感光元件基板周边的玻璃片或是用于保护感光元件的玻璃片。光路转折元件可包含棱镜或是反射镜。遮光元件、环形间隔元件与镜筒元件可在光学有效径区设置玻璃或塑胶材质的平板，在该平板的至少一表面设置抗反射膜。
本揭示内容所述的外侧表示较邻近空气的一侧，内侧表示较邻近基材的一侧。
本揭示内容所述的抗反射膜，可以是具备抗反射效果的高低折射率膜或是渐变折射率膜，亦可以是在高低折射率膜于外侧具有渐变折射率膜。所述的渐变折射率膜具多个孔洞，且远离基材的孔洞相对大于靠近基材的孔洞，其中渐变折射率膜的外侧至内侧皆可进行表面造孔制程，形成由外侧至内侧折射率逐渐改变的设计，有助于减少因膜层间折射率差异过大产生反射光。渐变折射率膜的膜厚量测方式可于断面图中，选择至少前三高的顶点且量测该顶点与垂直于内侧膜层表面切线方向上的高度，并计算平均值。其中渐变折射率膜的主要材质为金属氧化物，可为氧化铝，或可为AlN、Al(OH)3或含铝混合物。所述的高低折射率膜，可包含高折射率膜与低折射率膜且交替堆叠配置，高折射率膜材料的折射率大于2.0，低折射率膜材料的折射率小于1.8。高低折射率膜镀膜材料(括号中数值为波长＝587.6nm的折射率)可为：MgF2(1.3777)、SiO2(1.4585)、Al2O3(1.7682)、HfO2(1.8935)、ZnO(1.9269)、Sc2O3(1.9872)、AlN(2.0294)、Si3N4(2.0381)、Ta2O5(2.1306)、ZrO2(2.1588)、ZnS(2.2719)、Nb2O5(2.3403)、TiO2(2.6142)或TiN(3.1307)。
本揭示内容所述的抗反射膜，可以配置在透镜或是光学元件的物侧表面或是像侧表面，或是配置在至少一表面具有相位次波长结构(Meta Lens)的曲面元件的物侧表面或是像侧表面，亦或是在深色膜的外侧配置抗反射膜。
本揭示内容所述的抗反射镀膜为相长干涉作用原理，可在一般镜片表面镀膜层，亦可在塑胶基材表面上可制镀单或多层薄膜，使用物理气相沉积(PVD)，如蒸发沉积或溅射沉积等，或使用化学气相沉积法(CVD)，如超高真空化学气相沉积、微波电浆辅助化学气相沉积、电浆增强化学气相沉积法或原子层沉积法(ALD)等。使用ALD制作镀膜具最佳化价值，在成本与品质间取得平衡，并在最适当折射率的镜片材质上制作，可使抗反射效果达到最佳效果。
本揭示内容所述的反射膜，其中反射金属膜的主要成分可选自以下材料的至少一种，包含：银、金、铜、铝、铂或铑等；其中反射氧化膜的主要成分可选自以下材料的至少一种，氧化物包含：SiO、SiO2、TiO2、Al2O3、CeO2、ZrO2、ZnO、CrO、Cr2O3、Nb2O5或Ta2O5等，亦或是选自SiN、MgF2、ZnS或AlN等。
本揭示内容所述的反射金属膜，可依据能够将光线进行反射并最终成像在成像面上的金属膜层，反射金属膜可以是单一膜层或是至少一层的光学镀膜设计。
本揭示内容所述的成像光学镜头，其光学元件与电子感光元件间可具有空气层或不具有空气层，当本揭示内容光学镜头为光学元件与电子感光元件间具有空气层的光学系统设计，光学元件的物侧表面与像侧表面中至少一表面或两表面皆制作抗反射膜层；当本揭示内容光学镜头为光学元件与电子感光元件间不具有空气层的光学系统设计，可在光学元件的物侧表面制作抗反射膜层。
本揭示内容所述的各个膜层的相对位置关系，是在相同位置情况下，沿着垂直于基材表面切线的方向，依据此方向的相对关系。
本揭示内容所述的反射率以单镜片并且以镜片内部的反射情形进行量测数据，反射率皆以0度入射角的数据作为比较基准，若镀膜配置在多个元件或多个表面上，则可为经过多个元件或多个表面后的综合数据。
本揭示内容的反射率与穿透率皆是依据光线自基材至空气方向的量测结果。
本揭示内容所述的主要材质可表示该材质占整体的重量比例至少50％以上。
本揭示内容所述的靠近基材表面的第一层镀膜，材料配置可为TiO2、AlN、Al2O3、氢氧化铝Al(OH)3或含铝混合物，或可为氧化锌，氧化镁；或可为上述的氧化铝、氧化锌、氧化镁至少一种与其他金属氧化物的混合材料，具有致密结构的特性，可强化材料与基材表面间附着性以避免镀膜脱落，达到镀膜制程中的基材表面保护效果，有效强化基材的环境耐候性。
本揭示内容所述的全视场为中心视场(0Field)至最大像高视场(1.0Field)的范围，全视场范围涵盖镜片表面的光学有效区域。
本揭示内容所述的镜片表面切线斜率，是以中心轴为水平方向下进行计算，切线斜率在近中心轴位置为无限大(Infinity,INF,∞)。
本揭示内容所述的补正镜片，尤其是塑胶镜片因厚度与高温会导致面形变化误差过大，当膜层数越多则使温度影响面形精度越明显，通过镜片补正技术有效解决塑胶表面镀膜时的温度效应问题，有助维持镜片镀膜完整性与塑胶镜片高精度，为达成高品质成像光学镜头的关键技术。
本揭示内容所述的镜片补正技术如应用模流(Moldflow)分析方法、曲线拟合函数方法或波前误差方法等，但不以此为限。其中模流分析方法通过模流分析找出镜片表面于Z轴收缩的立体轮廓节点，转成非球面曲线后再与原始曲线比较差异，同时考虑材料收缩率与面形变形趋势计算得到补正值。其中曲线拟合函数方法通过量测元件表面轮廓误差，以函数进行曲线拟合后并配合最佳化演算法将拟合曲线逼近量测点得到补正值。函数如指数(Exponential)或多项式(Polynomial)等，演算法如高斯牛顿法(Gauss Newton)、单形演算法(Simplex Algorithm)或最大陡降法(Steepest Descent Method)等。其中波前误差方法通过干涉仪量测光学系统波前误差(成像误差)数据，以原始设计值波前误差综合分析制造组装产生的波前误差，再经光学软件优化得到补正值。
本揭示内容提供的成像光学镜头可为一种微型镜头设计，亦可多方面应用于移动产品、数字平板、三维(3D)影像撷取、数字相机、智能电视、网络监控设备、体感游戏机、行车记录仪、倒车显影装置、穿戴式产品或空拍机等电子装置中。
本揭示内容的另一实施方式提供一种取像装置，包含如前段所述的成像光学镜头以及一电子感光元件。电子感光元件设置于成像光学镜头的一成像面。
在本揭示内容的取像装置中，至少一透镜的至少一表面具有一渐变折射率膜，渐变折射率膜具有多个孔洞，且远离所述透镜的孔洞相对大于靠近所述透镜的孔洞。
在本揭示内容的取像装置中，成像光学镜头包含至少一光学元件，至少一光学元件的至少一表面具有一渐变折射率膜，渐变折射率膜具有多个孔洞，且远离光学元件的孔洞相对大于靠近光学元件的孔洞。
取像装置是为一相机模块，取像装置包含成像光学镜头、驱动装置组以及电子感光元件，其中相机模块包含本揭示内容的成像光学镜头以及一承载成像光学镜头的镜筒。取像装置利用成像光学镜头聚光且对被摄物进行摄像并配合驱动装置组进行影像对焦，最后成像于电子感光元件，并将影像数据输出。
取像装置可为广角取像装置、超广角取像装置、望远取像装置(可包含光路转折元件)或TOF模块(Time-Of-Flight；飞时测距模块)，但并不以此配置为限。另外，取像装置与其他构件的连接关系可依照取像装置的类型适应性调整，在此不另绘示及详述。
取像装置可搭载一感光度佳及低杂讯的电子感光元件(如CMOS、CCD)设置于成像光学镜头的成像面，可真实呈现成像光学镜头的良好成像品质。此外，取像装置更可包含影像稳定模块，其可为加速计、陀螺仪或霍尔元件(Hall Effect Sensor)等动能感测元件，但不以此为限。通过调整成像光学镜头不同轴向的变化以补偿拍摄瞬间因晃动而产生的模糊影像，进一步提升动态以及低照度场景拍摄的成像品质，并提供例如光学防手震(OpticalImage Stabilization,OIS)、电子防手震(Electronic Image Stabilization,EIS)等进阶的影像补偿功能。
取像装置可对应电子装置外侧的一非圆形开口进行取像。
驱动装置组可为自动对焦模块，其驱动方式可使用如音圈马达、微机电系统、压电系统、或记忆金属等驱动系统。驱动装置可让成像光学镜头取得较佳的成像位置，可提供被摄物于不同物距的状态下，皆能拍摄清晰影像。
本揭示内容的另一实施方式提供一种电子装置，包含如前段所述的取像装置。借此，可提升成像品质。较佳地，前述电子装置皆可进一步包含控制单元、显示单元、储存单元、暂储存单元或其组合。
电子装置是一智能手机，电子装置包含取像装置、闪光灯模块、对焦辅助模块、影像信号处理器(Image Signal Processor,ISP)、使用者界面以及影像软件处理器，其中取像装置可为前置镜头或后置镜头。当使用者通过使用者界面对被摄物进行拍摄，电子装置利用取像装置聚光取像，启动闪光灯模块进行补光，并使用对焦辅助模块提供的被摄物物距信息进行快速对焦，再加上影像信号处理器以及影像软件处理器进行影像最佳化处理，来进一步提升影像镜头所产生的影像品质。对焦辅助模块可采用红外线或激光对焦辅助系统来达到快速对焦，使用者界面可采用触控屏幕或实体拍摄按钮，配合影像处理软件的多样化功能进行影像拍摄以及影像处理。
根据上述实施方式，以下提出具体实施例并配合附图予以详细说明。
<第一比较例>
第一比较例的折反射光学膜设置于一基材的一表面，基材的材质为塑胶。
第一比较例的折反射光学膜包含一反射膜以及一消光膜。反射膜设置于基材的一有效光路区，且反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜，第二反射氧化膜包含一空气高折射率氧化膜与一空气低折射率氧化膜。消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，深色金属膜的主要成分为金属铬。
在第一比较例的折反射光学膜中，反射膜为七层结构，而反射膜的各层细节请参表1A。
再请参照表1B，其是呈现第一比较例的折反射光学膜中反射膜的不同膜层的参数，其中Tro-s为第一反射氧化膜的总膜厚，Tro-a为第二反射氧化膜的总膜厚，Trm为反射金属膜的总膜厚，Nro-a1为空气高折射率氧化膜的折射率，Nro-a2为空气低折射率氧化膜的折射率。
再请参照表1C，其是呈现第一比较例的折反射光学膜的参数，其中R4070-r为反射膜于波长400nm至700nm的平均反射率，R4070-e为消光膜于波长400nm至700nm的平均反射率，T4070-e为消光膜于波长400nm至700nm的平均穿透率。
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以下各实施例表格中数据的定义若与表1A至表1C的定义相同者，将不再加以赘述。
<第一实施例>
第一实施例的折反射光学膜设置于一基材的一表面，基材的材质为塑胶。
第一实施例的折反射光学膜包含一反射膜以及一消光膜。反射膜设置于基材的一有效光路区，且反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜，第一反射氧化膜包含一基材高折射率氧化膜与一基材低折射率氧化膜，第二反射氧化膜包含一空气高折射率氧化膜与一空气低折射率氧化膜，反射金属膜较第一反射氧化膜远离基材，且第二反射氧化膜较反射金属膜远离基材。消光膜设置于基材的一非有效光路区，其中消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，深色金属膜的主要成分为金属铬且深色膜较第一抗反射膜远离基材。
在第一实施例的折反射光学膜中，反射膜为五层结构，所述五层结构由基材的表面向空气侧依序为第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层与第五膜层，而反射膜的各层细节请参表2A。
如表2A所示，第一膜层的材质为TiO2，膜厚为54nm，折射率为2.32；第二膜层的材质为SiO2，膜厚为74nm，折射率为1.47；第三膜层的材质为Al，膜厚为150nm；第四膜层的材质为SiO2，膜厚为74nm，折射率为1.47；以及第五膜层的材质为TiO2，膜厚为52nm，折射率为2.32。
再请参照表2B，其是呈现第一实施例的折反射光学膜中反射膜的Tro-s/Tro-a、Trm/Tro-s、Trm/Tro-a、Nro-a1、Nro-a2、Nro-s1与Nro-s2的数值，其中Nro-s1为基材高折射率氧化膜的折射率，Nro-s2为基材低折射率氧化膜的折射率。具体而言，Trm表示反射金属膜的总膜厚，即为第三膜层的膜厚；Tro-s表示第一反射氧化膜的总膜厚，即为第一膜层与第二膜层的厚度总和；Tro-a表示第二反射氧化膜的总膜厚，即为第四膜层与第五膜层的厚度总和；Nro-s1表示基材高折射率氧化膜于第一反射氧化膜的折射率，即为第一膜层的折射率；Nro-s2表示基材低折射率氧化膜于第一反射氧化膜的折射率，即为第二膜层的折射率；Nro-a1表示空气高折射率氧化膜于第二反射氧化膜的折射率，即为第五膜层的折射率；以及所述的Nro-a2表示空气低折射率氧化膜于第二反射氧化膜的折射率，即为第四膜层的折射率。
如表2B所示，当光线自基材射入反射膜时，第一反射氧化膜作为增反射膜的功用，有助于提高反射效率，第二反射氧化膜作为保护层，有助于增加金属抗氧化的能力；反过来说，当光线自空气射入反射膜时，第二反射氧化膜作为增反射膜与保护层的功用，有助于提高反射效率以及增加金属抗氧化的能力，第一反射氧化膜有助于增加反射金属层与基材的黏附效果。再者，第一实施例满足下列条件：Tro-s/Tro-a＝1.02；Trm/Tro-s＝1.17；Trm/Tro-a＝1.19；Nro-s1＝2.32；Nro-s2＝1.47；Nro-a1＝2.32；以及Nro-a2＝1.47。
再请参照表2C，其是呈现第一实施例的折反射光学膜的R4070-r的数值。
再请同时参照图1与表2D，图1是绘示依照本揭示内容第一实施例的折反射光学膜的反射膜的反射率与波长的关系图，表2D是呈现第一实施例的折反射光学膜的反射膜于波长400nm至700nm的反射率数值。再者，以下数据是在光线自基材射入反射膜的状况下进行测量而得。
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<第二实施例>
第二实施例的折反射光学膜设置于一基材的一表面，基材的材质为塑胶。
第二实施例的折反射光学膜包含一反射膜以及一消光膜。反射膜设置于基材的一有效光路区，且反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜，第一反射氧化膜包含一基材高折射率氧化膜与一基材低折射率氧化膜，第二反射氧化膜包含一空气高折射率氧化膜与一空气低折射率氧化膜，反射金属膜较第一反射氧化膜远离基材，且第二反射氧化膜较反射金属膜远离基材。消光膜设置于基材的一非有效光路区，其中消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，深色金属膜的主要成分为金属铬且深色膜较第一抗反射膜远离基材。
在第二实施例的折反射光学膜中，消光膜为十四层结构，所述十四层结构由基材的表面向空气侧依序为第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九膜层、第十膜层、第十一膜层、第十二膜层、第十三膜层与第十四膜层，而消光膜的各层细节请参表3A。
如表3A所示，第一膜层的材质为TiO2，折射率为2.32；第二膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第三膜层的材质为TiO2，折射率为2.32；第四膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第五膜层的材质为Cr；第六膜层的材质为Cr2O3，折射率为2.32；第七膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第八膜层的材质为Cr；第九膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第十膜层的材质为Cr；第十一膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第十二膜层的材质为Cr2O3，折射率为2.32；第十三膜层的材质为Cr；以及第十四膜层的材质为SiO2，折射率为1.47。
再请参照表3B，其是呈现第一实施例的折反射光学膜中消光膜的不同膜层的参数，其中tTKe为消光膜的总膜厚，Tea-s为第一抗反射膜的总膜厚，Ted为深色膜的总膜厚，Ted-cr为深色金属膜的总膜厚。
具体而言，表3B的数据是在光线自基材射入消光膜的状况下进行测量而得，其中tTKe表示消光膜的总膜厚，即为第一膜层至第十四膜层的厚度总和；Tea-s表示第一抗反射膜的总膜厚，即为第一膜层、第二膜层、第三膜层与第四膜层的厚度总和；Ted表示深色膜的总膜厚，即为第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九膜层、第十膜层、第十一膜层、第十二膜层、第十三膜层与第十四膜层的厚度总和；以及Ted-cr表示深色金属膜的总膜厚，即为第五膜层、第八膜层、第十膜层与第十三膜层的厚度总和。再者，第二实施例满足下列条件：tTKe＝488nm；Ted/tTKe＝0.79；Tea-s＝102nm；以及Ted-cr/Ted＝0.38。
再请参照表3C，其是呈现第二实施例的折反射光学膜的R4070-e与100×T4070-e的数值。
再请同时参照图2与表3D，图2是绘示依照本揭示内容第二实施例的折反射光学膜的消光膜中深色膜的反射率及穿透率与波长的关系图，表3D是呈现第二实施例的折反射光学膜的消光膜中深色膜于波长400nm至700nm的反射率与穿透率的数值。再者，以下数据是在光线自基材射入消光膜的状况下进行测量而得。
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以下各实施例表格中数据的定义若与表1A至表3D的定义相同者，将不再加以赘述。
<第三实施例>
第三实施例的折反射光学膜设置于一基材的一表面，基材的材质为塑胶。
第三实施例的折反射光学膜包含一反射膜以及一消光膜。反射膜设置于基材的一有效光路区，且反射膜包含一反射金属膜及一反射氧化膜。反射氧化膜包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜，第一反射氧化膜包含一基材高折射率氧化膜与一基材低折射率氧化膜，第二反射氧化膜包含一空气高折射率氧化膜与一空气低折射率氧化膜，反射金属膜较第一反射氧化膜远离基材，且第二反射氧化膜较反射金属膜远离基材。消光膜设置于基材的一非有效光路区，其中消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，深色金属膜的主要成分为金属铬且深色膜较第一抗反射膜远离基材。
在第三实施例的折反射光学膜中，消光膜为二十层结构，所述二十层结构由基材的表面向空气侧依序为第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九膜层、第十膜层、第十一膜层、第十二膜层、第十三膜层、第十四膜层、第十五膜层、第十六膜层、第十七膜层、第十八膜层、第十九膜层与第二十膜层，而消光膜的各层细节请参表4A。
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如表4A所示，第一膜层的材质为TiO2，折射率为2.32；第二膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第三膜层的材质为TiO2，折射率为2.32；第四膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第五膜层的材质为Cr；第六膜层的材质为Cr2O3，折射率为2.32；第七膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第八膜层的材质为Cr；第九膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第十膜层的材质为Cr；第十一膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第十二膜层的材质为Cr2O3，折射率为2.32；第十三膜层的材质为Cr；第十四膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第十五膜层的材质为TiO2，折射率为2.32；第十六膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第十七膜层的材质为TiO2，折射率为2.32；第十八膜层的材质为SiO2，折射率为1.47；第十九膜层的材质为TiO2，折射率为2.32；以及第二十膜层的材质为SiO2，折射率为1.47。
再请参照表4B，其是呈现第二实施例的折反射光学膜中消光膜的tTKe、Tea-s、Ted/tTKe与Ted-cr/Ted的数值。
具体而言，表4B的数据是在光线自基材射入消光膜的状况下进行测量而得，其中tTKe表示消光膜的总膜厚，即为第一膜层至第二十膜层的厚度总和；Tea-s表示第一抗反射膜的总膜厚，即为第一膜层、第二膜层、第三膜层与第四膜层的厚度总和；Ted表示深色膜的总膜厚，即为第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九膜层、第十膜层、第十一膜层、第十二膜层、第十三膜层与第十四膜层的厚度总和；以及Ted-cr表示深色金属膜的总膜厚，即为第五膜层、第八膜层、第十膜层与第十三膜层的厚度总和。再者，第二抗反射膜的配置，即为第十五膜层、第十六膜层、第十七膜层、第十八膜层、第十九膜层与第二十膜层的膜层设计。再者，第三实施例满足下列条件：tTKe＝735nm；Ted/tTKe＝0.53；Tea-s＝102nm；以及Ted-cr/Ted＝0.38。
<第四实施例>
请参照图3，其是绘示依照本揭示内容第四实施例的成像光学镜头1的示意图。成像光学镜头1包含一折反射透镜组11、一长焦透镜组12、一滤光元件E6以及成像面IMG，其中折反射透镜组11包含第一透镜E1，长焦透镜组12包含第二透镜E2与第三透镜E3，而电子感光元件IS设置于成像光学镜头1的成像面IMG。
折反射透镜组11的第一透镜E1具折反射光学膜，且折反射透镜组11包含一穿透区与一反射区，穿透区与反射区皆位于第一透镜E1的有效光路区。反射区包含一第一反射面SR1与一第二反射面SR2，且第二反射面SR2位于第一透镜E1的物侧表面。穿透区包含第一穿透面ST1与第二穿透面ST2，第一穿透面ST1位于第一透镜E1的物侧表面，第二穿透面ST2位于第一透镜E1的像侧表面。第一透镜E1的非有效光路区包含第一消光面SE1与第二消光面SE2，第一消光面SE1位于第一透镜E1的物侧表面，第二消光面SE2位于第一透镜E1的像侧表面。
在成像光学镜头1中，依光路行经顺序为第一穿透面ST1、第一反射面SR1、第二反射面SR2、第二穿透面ST2、第二透镜E2、第三透镜E3、滤光元件E6与成像面IMG，而第二穿透面ST2为本实施例的最后穿透面。
第二透镜E2物侧表面包含一反曲点，第二透镜E2像侧表面包含一反曲点，第三透镜E3物侧表面包含二反曲点，第三透镜E3像侧表面包含一反曲点。
第一反射面SR1与第二反射面SR2皆包含本揭示内容的折反射光学膜的反射膜，其中第一消光面SE1位于第一穿透面ST1与第二反射面SR2间的非有效光路区，第二消光面SE2位于第一反射面SR1与第二穿透面ST2间的非有效光路区，且第一消光面SE1与第二消光面SE2皆可包含本揭示内容的折反射光学膜的消光膜。再者，第一消光面SE1的消光膜可进一步延伸至第二反射面SR2的物侧区域。
再者，折反射光学膜可为前述第一实施例至第三实施例中的折反射光学膜，是以相同的结构或细节在此不另赘述。
<第五实施例>
请参照图4，其是绘示依照本揭示内容第五实施例的成像光学镜头2的示意图。成像光学镜头2包含一折反射透镜组21、一长焦透镜组22、滤光元件E6以及成像面IMG，其中折反射透镜组21包含第一透镜E1与第二透镜E2，长焦透镜组22包含第三透镜E3、第四透镜E4与第五透镜E5，而电子感光元件IS设置于成像光学镜头2的成像面IMG。
折反射透镜组21的第一透镜E1与第二透镜E2皆具折反射光学膜，且折反射透镜组21包含一穿透区与一反射区，穿透区与反射区皆位于第一透镜E1与第二透镜E2的有效光路区。反射区包含一第一反射面SR1与一第二反射面SR2，第一反射面SR1位于第二透镜E2的像侧表面，且第二反射面SR2位于第一透镜E1的物侧表面。穿透区包含第一穿透面ST1、第二穿透面ST2、第三穿透面ST3、第四穿透面ST4、第五穿透面ST5、第六穿透面ST6、第七穿透面ST7与第八穿透面ST8，其中第一穿透面ST1位于第一透镜E1的物侧表面，第二穿透面ST2、第五穿透面ST5与第六穿透面ST6位于第一透镜E1的像侧表面，第三穿透面ST3、第四穿透面ST4与第七穿透面ST7位于第二透镜E2的物侧表面，而第八穿透面ST8位于第二透镜E2的像侧表面。第一透镜E1的非有效光路区包含第一消光面SE1与第二消光面SE2，第二透镜E2的非有效光路区包含第三消光面SE3与第四消光面SE4，其中第一消光面SE1位于第一透镜E1的物侧表面，第二消光面SE2位于第一透镜E1的像侧表面，第三消光面SE3位于第二透镜E2的物侧表面，第四消光面SE4位于第二透镜E2的像侧表面。
在成像光学镜头2中，依光路行经顺序为第一穿透面ST1、第二穿透面ST2、第三穿透面ST3、第一反射面SR1、第四穿透面ST4、第五穿透面ST5、第二反射面SR2、第六穿透面ST6、第七穿透面ST7、第八穿透面ST8、第三透镜E3、第四透镜E4、第五透镜E5、滤光元件E6与成像面IMG，其中第三穿透面ST3与第四穿透面ST4为同一表面，第四穿透面ST4较第三穿透面ST3靠近中心轴，第五穿透面ST5与第六穿透面ST6为同一表面，第六穿透面ST6较第五穿透面ST5靠近中心轴，而第八穿透面ST8为本实施例的最后穿透面。
第一反射面SR1与第二反射面SR2皆包含本揭示内容的折反射光学膜的反射膜，其中第一消光面SE1位于第一穿透面ST1与第二反射面SR2间的非有效光路区，第二消光面SE2位于第二穿透面ST2与第五穿透面ST5间的非有效光路区，第三消光面SE3位于第四穿透面ST4与第七穿透面ST7间的非有效光路区，且第四消光面SE4位于第一反射面SR1与第八穿透面ST8间的非有效光路区。再者，第一消光面SE1可包含本揭示内容的折反射光学膜的消光膜，且第二消光面SE2、第三消光面SE3、第四消光面SE4亦可包含消光膜或是使用光学涂层。
第二透镜物侧表面近中心轴处为凸面，第三透镜E3物侧表面包含一反曲点，第三透镜E3像侧表面包含一反曲点，第四透镜E4物侧表面包含一反曲点，第四透镜E4像侧表面包含一反曲点，第五透镜E5物侧表面包含三反曲点。
再者，折反射光学膜可为前述第一实施例至第三实施例中的折反射光学膜，是以相同的结构或细节在此不另赘述。
<第六实施例>
请参照图5，其是绘示依照本揭示内容第六实施例的电子装置100的示意图。第六实施例的电子装置100是一智能手机，电子装置100包含取像装置110、120、130以及闪光灯模块101。
第六实施例的电子装置100中的取像装置110、120、130皆可包含本揭示内容的成像光学镜头，且皆可与前述第四实施例与第五实施例中的成像光学镜头1、2相同或具有类似的结构，在此不另赘述。
详细来说，取像装置110可为超广角取像装置，取像装置120可为广角取像装置，取像装置130可为望远取像装置(可包含光路转折元件)，或另可为其他种类的取像装置，并不限于此配置方式。
<第七实施例>
请参照图6，其是绘示依照本揭示内容第七实施例200的电子装置的示意图。由图6可知，第七实施例的电子装置200是一智能手机，电子装置200包含取像装置210、220、230、240、250、260、270、280、290以及闪光灯模块201。
第七实施例的电子装置200中的取像装置210、220、230、240、250、260、270、280、290皆可包含本揭示内容的成像光学镜头，且皆可与前述第四实施例与第五实施例中的成像光学镜头1、2相同或具有类似的结构，在此不另赘述。
详细来说，取像装置210、220可分别为超广角取像装置，取像装置230、240可分别为广角取像装置，取像装置250、260可分别为望远取像装置，取像装置270、280可分别为望远取像装置(可包含光路转折元件)，取像装置290可为TOF模块，或另可为其他种类的取像装置，并不限于此配置方式。
<第八实施例>
请参照图7A与图7B，图7A绘示依照本揭示内容第八实施例的电子装置300的一侧的示意图，图7B绘示依照图7A中电子装置300的另一侧的示意图。由图7A以及图7B可知，第八实施例的电子装置300是一智能手机，电子装置300包含取像装置310、320、330、340以及使用者界面304。
第八实施例的电子装置300中的取像装置310、320、330、340皆可包含本揭示内容的成像光学镜头，且皆可与前述第四实施例与第五实施例中的成像光学镜头1、2相同或具有类似的结构，在此不另赘述。
详细来说，取像装置310可对应电子装置300外侧的一非圆形开口进行取像，取像装置320、330、340则分别为望远取像装置、广角取像装置以及超广角取像装置，或另可为其他种类的取像装置，并不限于此配置方式。
虽然本揭示内容已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本揭示内容，任何熟悉此技艺者，在不脱离本揭示内容的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰，因此本揭示内容的保护范围当视所附的权利要求所界定者为准。

Claims (32)

1.一种折反射光学膜，设置于一基材的一表面，其特征在于，该折反射光学膜包含：
一反射膜，设置于该基材的一有效光路区，且该反射膜包含：
一反射金属膜，该反射金属膜的主要成分为铝；及
一反射氧化膜，包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜，其中该第一反射氧化膜包含至少二种膜层，各该膜层的主要成分为氧化物，该反射金属膜较该第一反射氧化膜远离该基材，且该第二反射氧化膜较该反射金属膜远离该基材；以及
一消光膜，设置于该基材的一非有效光路区，其中该消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，该深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，该深色金属膜的主要成分为金属铬，该深色氧化膜的主要成分为氧化铬，且该深色膜较该第一抗反射膜远离该基材。
2.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该第一反射氧化膜的总膜厚为Tro-s，该第二反射氧化膜的总膜厚为Tro-a，其满足下列条件：
0.88≤Tro-s/Tro-a≤1.50。
3.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该基材为塑胶基材，且该基材具有该折反射光学膜的该表面为一曲面。
4.如权利要求3所述的折反射光学膜，其特征在于，该反射金属膜的总膜厚为Trm，该第一反射氧化膜的总膜厚为Tro-s，其满足下列条件：
1.05≤Trm/Tro-s≤4.90。
5.如权利要求3所述的折反射光学膜，其特征在于，该反射金属膜的总膜厚为Trm，该第二反射氧化膜的总膜厚为Tro-a，其满足下列条件：
0.88≤Trm/Tro-a≤10.00。
6.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该第一反射氧化膜包含一基材高折射率氧化膜与一基材低折射率氧化膜，该基材低折射率氧化膜较该基材高折射率氧化膜远离该基材，该基材高折射率氧化膜的折射率为Nro-s1，该基材低折射率氧化膜的折射率为Nro-s2，其满足下列条件：
Nro-s1>Nro-s2。
7.如权利要求6所述的折反射光学膜，其特征在于，该基材高折射率氧化膜的折射率为Nro-s1，该基材低折射率氧化膜的折射率为Nro-s2，其满足下列条件：
2.00≤Nro-s1≤4.00；以及
1.00≤Nro-s2≤1.80。
8.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该第二反射氧化膜包含一空气高折射率氧化膜与一空气低折射率氧化膜，该空气高折射率氧化膜较该空气低折射率氧化膜远离该基材，该空气高折射率氧化膜的折射率为Nro-a1，该空气低折射率氧化膜的折射率为Nro-a2，其满足下列条件：
Nro-a1>Nro-a2。
9.如权利要求8所述的折反射光学膜，其特征在于，该空气高折射率氧化膜的折射率为Nro-a1，该空气低折射率氧化膜的折射率为Nro-a2，其满足下列条件：
2.00≤Nro-a1≤4.00；以及
1.00≤Nro-a2≤1.80。
10.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该反射膜于波长400nm至700nm的平均反射率为R4070-r，其满足下列条件：
90.0％≤R4070-r。
11.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该消光膜的总膜厚为tTKe，其满足下列条件：
200nm≤tTKe≤2000nm。
12.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该消光膜的总膜厚为tTKe，该深色膜的总膜厚为Ted，其满足下列条件：
0.10≤Ted/tTKe≤0.95。
13.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该第一抗反射膜的总膜厚为Tea-s，其满足下列条件：
50nm≤Tea-s≤1000nm。
14.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该深色膜的总膜厚为Ted，该深色金属膜的总膜厚为Ted-cr，其满足下列条件：
0.05≤Ted-cr/Ted≤0.85。
15.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该消光膜于波长400nm至700nm的平均反射率为R4070-e，该消光膜于波长400nm至700nm的平均穿透率为T4070-e，其满足下列条件：
0％<R4070-e≤1.00％；以及
0％<100×T4070-e≤5.00％。
16.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该消光膜还包含：
一第二抗反射膜，该第二抗反射膜较该深色膜远离该基材。
17.如权利要求1所述的折反射光学膜，其特征在于，该消光膜还包含：
一渐变折射率膜，该渐变折射率膜具有多个孔洞，远离该基材的所述多个孔洞相对大于靠近该基材的所述多个孔洞，且该渐变折射率膜较该深色膜远离该基材。
18.一种成像光学镜头，其特征在于，该成像光学镜头由光路的物侧至像侧依序包含：
一折反射透镜组，包含至少一透镜，该透镜具有一物侧表面朝向物侧以及一像侧表面朝向像侧，且该透镜的至少一表面具一折反射光学膜；以及
一长焦透镜组；
其中，该折反射光学膜包含：
一反射膜，设置于该透镜的一有效光路区，且该反射膜包含：
一反射金属膜，该反射金属膜的主要成分为铝；及
一反射氧化膜，包含一第一反射氧化膜与一第二反射氧化膜，该第一反射氧化膜包含至少二种膜层，各该膜层的主要成分为氧化物，该反射金属膜较该第一反射氧化膜远离该透镜，且该第二反射氧化膜较该反射金属膜远离该透镜；及
一消光膜，设置于该透镜的一非有效光路区，其中该消光膜包含一深色膜与一第一抗反射膜，该深色膜包含一深色金属膜与一深色氧化膜，该深色金属膜的主要成分为金属铬，该深色氧化膜的主要成分为氧化铬，且该深色膜较该第一抗反射膜远离该透镜。
19.如权利要求18所述的成像光学镜头，其特征在于，该透镜为塑胶透镜，且该透镜具有该折反射光学膜的该表面为一曲面。
20.如权利要求18所述的成像光学镜头，其特征在于：
该折反射透镜组包含一穿透区与一反射区，该穿透区与该反射区皆位于该透镜的该有效光路区，且该反射区包含该反射膜；以及
该反射区包含一第一反射面与一第二反射面，且该第二反射面位于该透镜的该物侧表面。
21.如权利要求20所述的成像光学镜头，其特征在于：
该穿透区包含至少一穿透面，且该穿透面位于该透镜的该物侧表面；以及
该非有效光路区包含至少一消光面，该消光面位于该透镜的该物侧表面且位于该穿透面与该第二反射面之间，且该消光面包含该消光膜。
22.如权利要求20所述的成像光学镜头，其特征在于：
该第一反射面位于该透镜的该像侧表面；
该穿透区包含一第一穿透面与一最后穿透面，该第一穿透面位于该透镜的该物侧表面，且该最后穿透面位于该透镜的该像侧表面；以及
该非有效光路区包含一第一消光面与一第二消光面，该第一消光面位于该透镜的该物侧表面且位于该第一穿透面与该第二反射面之间，该第二消光面位于该透镜的该像侧表面且位于该第一反射面与该最后穿透面之间，且该第一消光面与该第二消光面皆包含该消光膜。
23.如权利要求22所述的成像光学镜头，其特征在于，该长焦透镜组包含至少二透镜，该至少二透镜的至少一表面包含至少一反曲点。
24.如权利要求20所述的成像光学镜头，其特征在于，该第二反射面的物侧包含该消光膜。
25.如权利要求18所述的成像光学镜头，其特征在于：
该折反射透镜组包含一第一透镜、一第二透镜、一穿透区及一反射区，且该第一透镜较该第二透镜靠近物侧；
该穿透区与该反射区皆位于该透镜的该有效光路区，且该反射区包含该反射膜；以及
该反射区包含一第一反射面与一第二反射面，该第一反射面位于该第二透镜的一像侧表面，且该第二反射面位于该第一透镜的一物侧表面。
26.如权利要求25所述的成像光学镜头，其特征在于，该非有效光路区包含至少一消光面，该消光面位于该第一透镜的该物侧表面且位于该穿透区的一第一穿透面与该第二反射面之间，且该消光面包含该消光膜。
27.如权利要求26所述的成像光学镜头，其特征在于，该第二透镜物侧表面近中心轴处为凸面，该长焦透镜组包含至少三透镜，且该至少三透镜的至少一表面包含至少一反曲点。
28.如权利要求26所述的成像光学镜头，其特征在于，该第二反射面的物侧包含该消光膜。
29.一种取像装置，其特征在于，包含：
如权利要求18所述的成像光学镜头；以及
一电子感光元件，设置于该成像光学镜头的一成像面。
30.如权利要求29所述的取像装置，其特征在于，至少一该透镜的至少一该表面具有一渐变折射率膜，该渐变折射率膜具有多个孔洞，且远离该透镜的所述多个孔洞相对大于靠近该透镜的所述多个孔洞。
31.如权利要求29所述的取像装置，其特征在于，该成像光学镜头包含至少一光学元件，至少一该光学元件的至少一表面具有一渐变折射率膜，该渐变折射率膜具有多个孔洞，且远离该光学元件的所述多个孔洞相对大于靠近该光学元件的所述多个孔洞。
32.一种电子装置，其特征在于，包含：
如权利要求29所述的取像装置。
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