CN117660910A - 真空磁控溅射镀辊设备 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了真空磁控溅射镀辊设备，属于真空磁控溅射领域，其包括支撑架以及收纳箱，所述支撑架上设置有真空设备以及真空箱，所述支撑架上滑动设置有封闭门，所述封闭门上固定连接有工作架，所述真空箱内设置有用于与所述工作架滑移配合的滑轨，所述工作架上设置有用于支撑辊体的滑动座，所述工作架上转动安装有靶材，所述靶材穿过所述封闭门，所述封闭门上设置有第一驱动组件，所述封闭门远离所述真空箱的侧壁上设置有第二驱动组件，所述工作架上设置有第三驱动组件，所述支撑架与所述封闭门之间设置有辅助组件。本申请具有方便操作人员装卸靶材以及滚筒，提高靶材利用率，降低靶材打弧情况的效果。
Description
技术领域
本申请涉及真空磁控溅射的领域，尤其是涉及真空磁控溅射镀辊设备。
背景技术
目前碳纤维辊筒进行表面金属化主要有物理方法和化学方法两大类，物理方法包括溅射法、离子镀膜法、金属粉末喷涂和金属涂敷等，化学法主要采用化学镀和电镀。碳纤维与金属液的湿润性差，妨碍了碳纤维与金属的直接复合；碳纤维在高温下易与金属发生化学反应，降低复合材料的性能。真空磁控溅射法是通过直流或高频电场使惰性气体发生电离，产生等离子体，离子在电场中加速后具有一定的动能，将离子引向欲被溅射的物质制成的靶电极，并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法称为磁控溅射镀膜。磁控溅射作为一种应用广泛的真空镀膜技术，被普遍和成功地应用于许多方面，如材料表面处理、微电子、光学薄膜等。
针对上述相关技术，发明人认为现有技术中的真空磁控溅射镀辊设备，不方便装卸靶材以及辊筒，同时溅射时靶掉渣，容易产生打弧，打弧又会造成更多掉渣和大颗粒的形成，靶材利用率较低。
发明内容
为了方便操作人员装卸靶材以及滚筒，提高靶材利用率，降低靶材打弧情况，本申请提供真空磁控溅射镀辊设备。
本申请提供的真空磁控溅射镀辊设备采用如下的技术方案：
真空磁控溅射镀辊设备，包括支撑架以及收纳箱，所述支撑架上设置有真空设备以及真空箱，所述支撑架上滑动设置有封闭门，所述封闭门上固定连接有工作架，所述真空箱内设置有用于与所述工作架滑移配合的滑轨，所述工作架上设置有用于支撑辊体的滑动座，所述工作架上转动安装有靶材，所述靶材穿过所述封闭门，所述封闭门上设置有第一驱动组件，所述封闭门远离所述真空箱的侧壁上设置有第二驱动组件，所述工作架上设置有第三驱动组件，所述支撑架与所述封闭门之间设置有辅助组件，所述第一驱动组件用于驱动所述封闭门移动，所述第一驱动组件驱动所述封闭门关闭时，所述第二驱动组件驱动所述靶材转动对辊体进行磁控溅射，所述第一驱动组件驱动所述封闭门开启后，所述第三驱动组件驱动所述滑动座移动并对辊体进行释放或者重新夹持未镀膜的辊体，所述辅助组件帮助已镀膜辊筒进入所述收纳箱内，所述第一驱动组件、所述第二驱动组件、所述第三驱动组件以及所述辅助组件相互独立。
通过采用上述技术方案，在进行真空磁控溅射镀膜工作时，第一驱动组件驱动封闭门移动，封闭门打开后，操作人员可以将需要镀膜的辊体放置在工作架上，第三驱动组件驱动滑动座移动将辊体夹持，然后第一驱动组件再次驱动封闭门关闭，真空设备将真空箱内抽取真空，直至该真空腔体的本底真空度为0.001Pa-0.01Pa，保证其极限真空度大于等于 0.0005Pa，然后真空设备向真空箱内通入惰性气体如氩气（Ar），真空设备调整真空箱内的真空度至0.1Pa-1Pa，利用直流磁控溅靶材对辊体上进行沉积，同时第二驱动组件驱动靶材转动，完成辊体的镀膜需求，镀膜完成后，真空设备将惰性气体从真空箱内抽离，真空设备并向真空箱内通入空气，保持真空箱内部与外界环境的气压保持一致，第一驱动组件打开封闭门，第三驱动组件驱动滑动座移动使得滑动座停止对辊体的夹持，然后辅助组件帮助辊体进入到收纳箱内；磁控溅射工作模块采用拖拽方式与腔体分离结构，为此可以减小真空腔体积和更方便快捷装卸靶材与辊体；采用可调节辊筒安装架结构，针对直径、长度不同的辊筒，可以调整安滑动座间距，做到镀膜工作时常用靶基距范围内任意调整；采用旋转圆柱磁控溅射加辅助阳极结构，第二驱动组件带动靶材不断旋转，由于旋转靶材每一时刻靶材面溅射位置不同，靶材的冷却较充分，故靶材面能够承受更大功率的溅射，同时通过靶材旋转机制提高了靶材利用率；溅射时靶掉渣，容易产生打弧，打弧又会造成更多掉渣和大颗粒的形成，此设备结构采用靶材向上溅射方式生产，保证镀膜工艺的长期稳定性。
优选的，所述第一驱动组件包括第一齿条以及驱动轮，所述封闭门上穿设有第一驱动轴，所述驱动轮固定套设于所述第一驱动轴上，所述第一齿条设置于所述支撑架上且与所述驱动轮相互啮合，所述封闭门上固定连接有第一电机，所述第一电机输出端与所述第一驱动轴固定连接。
通过采用上述技术方案，需要封闭门进行移动时，第一电机启动，第一电机驱动第一驱动轴转动，第一驱动轴转动使得驱动轮转动，驱动轮转动并与第一齿条配合使得封闭门移动。
优选的，所述第二驱动组件包括第二电机以及皮带轮，所述封闭门远离所述真空箱的侧壁上固定连接有支撑座，所述靶材穿过所述封闭门的端部穿入所述支撑座内，所述支撑座与所述靶材转动连接，所述第二电机固定连接于所述支撑座上，所述支撑座内穿设有第二驱动轴，所述第二驱动轴与所述支撑座转动连接，所述第二驱动轴穿入所述支撑座内且与所述靶材固定连接，所述第二电机输出端以及所述第二驱动轴上均固定套设有所述皮带轮，所述第二电机上的所述皮带轮与所述第二驱动轴上的所述皮带轮通过传动皮带连接，所述皮带轮以及所述传动皮带用于带动所述靶材转动。
通过采用上述技术方案，在进行磁控溅射镀膜时，第二电机驱动其输出端的皮带轮转动，第二电机上的皮带轮通过传动皮带使得第二驱动轴转动，第二驱动轴转动使得靶材转动，靶材不断旋转，由于旋转靶材每一时刻靶材面溅射位置不同，靶材的冷却较充分，故靶材面能够承受更大功率的溅射，同时通过靶材旋转机制提高了靶材利用率。
优选的，第三驱动组件包括支撑杆以及第一丝杆，所述支撑杆固定连接于所述工作架上，所述滑动座滑动套设于所述支撑杆上，所述第一丝杆穿设于所述工作架上，所述第一丝杆与所述工作架转动连接，所述第一丝杆穿过所述滑动座并穿出所述封闭门，所述第一丝杆与所述滑动座螺纹配合，所述第一丝杆与所述封闭门转动连接，所述封闭门上固定连接有第三电机，所述第一丝杆贯穿所述封闭门并与所述第三电机输出端固定连接。
通过采用上述技术方案，在需要对不同长度的辊体进行夹持时，第三电机启动，第三电机驱动第一丝杆转动，第一丝杆转动使得滑动座沿支撑杆方向移动，第一丝杆上的两个滑动座同时移动调整其之间的距离与辊体适配。
优选的，所述辅助组件包括第一缓冲板以及第一导向板，所述第一缓冲板滑动设置于所述封闭门靠近所述工作架的侧壁上，所述封闭门上开设有用于与所述第一缓冲板滑移配合的滑槽，所述第一缓冲板上铰接有第一释放板，所述第一释放板与所述第一缓冲板连接处设置有扭簧，所述工作架底部铰接有第二释放板，所述第二释放板与所述工作架连接处设置有扭簧，所述第一导向板设置于工作架底部，所述支撑架上设置有第二导向板，所述第二导向板与所述收纳箱相连通，所述第一导向板与所述第二导向板铰接，所述封闭门上设置有用于控制所述第一缓冲板移动的第一控制组件，所述支撑架上设置有用于控制所述第一导向板移动的第二控制组件。
通过采用上述技术方案，在辊体镀膜完成后，第一驱动组件驱动封闭门开启，在封闭门开启过程中，第一控制组件控制第一缓冲板移动至滑动座底部，同时第二控制组件控制第一导向板向工作架移动，然后第三电机启动，第三电机驱动第一丝杆转动使得滑动座之间距离增大，此时辊体脱落，辊体落至第一缓冲板上并与第一释放板接触，在辊体重力作用下，第一释放板开启，辊体通过第一缓冲板落至工作架上并与第二缓冲板接触，在辊体重力作用下，第二释放板开启，辊体落至第一导向板上并通过第二导向板进入到收纳箱内，不需要人工取出，提高工作效率；在封闭门关闭时，第一控制组件驱动第一缓冲板回到工作架顶部，同时第二控制组件驱动第一导向板远离工作架，防止第一导向板影响工作架的移动。
优选的，所述第一控制组件包括连接杆以及第三驱动轴，所述封闭门内开设有容纳槽，所述滑槽与所述容纳槽相连通，所述第一缓冲板穿入所述容纳槽内，所述第三驱动轴与所述容纳槽内侧壁转动连接，所述连接杆一端与所述第三驱动轴固定连接，所述连接杆另一端与所述第一缓冲板位于所述容纳槽内的端部固定连接，所述封闭门上设置有用于驱动所述第三驱动轴转动的第四驱动组件。
通过采用上述技术方案，第一控制组件用于驱动第一缓冲板移动，帮助第一缓冲板移动至工作架底部，或者帮助移动至工作架底部的第一缓冲板回到工作架顶部，在封闭门开启过程中，第四驱动组件驱动第三驱动轴转动，第三驱动轴转动使得连接杆转动，连接杆转动使得第一缓冲板转动，第一缓冲板从而移动至滑动座底部。
优选的，所述第四驱动组件包括第四驱动轴以及蜗轮，所述第四驱动轴穿设于所述封闭门内，所述第四驱动轴与所述封闭门转动连接，所述蜗轮固定套设于所述第三驱动轴上，所述第四驱动轴上固定套设有蜗杆，所述蜗杆与所述蜗轮相互啮合，所述第四驱动轴远离所述蜗杆的端部上固定套设有第一锥齿轮，所述第一驱动轴上固定套设有第二锥齿轮，所述第一锥齿轮与所述第二锥齿轮相互啮合。
通过采用上述技术方案，第一电机驱动第一驱动轴转动，第一驱动轴转动使得驱动轮转动，驱动轮转动后在第一齿条的作用下使得封闭门移动，第一驱动轴转动同时使得第二锥齿轮转动，第二锥齿轮转动使得第一锥齿轮转动，第一锥齿轮转动使得第四驱动轴转动，第四驱动轴转动使得蜗杆转动，蜗杆转动使得蜗轮转动，蜗轮转动使得蜗杆转动，蜗杆转动使得第三驱动轴转动，第三驱动轴转动使得连接杆移动，连接杆移动使得第一缓冲板绕第三驱动轴转动并移动至滑动座底部。
优选的，所述第二控制组件包括第二丝杆，所述第二丝杆穿设于所述支撑架上，所述第二丝杆与所述支撑架转动连接，所述第二丝杆穿过所述第一导向板，所述第二丝杆与所述第一导向板螺纹配合，所述封闭门上固定连接有第二齿条，所述第二丝杆上固定套设有直齿轮，所述第二齿条与所述直齿轮相互啮合，所述第二齿条部分有齿。
通过采用上述技术方案，第二控制组件用于控制第一导向板的位置，在封闭门开启时，第二控制组件驱动第一导向板向工作架方向移动，在封闭门关闭时，第二控制组件驱动第一导向板远离工作架。第一电机驱动第一驱动轴转动，第一驱动轴转动使得驱动轮转动，驱动轮转动后在第一齿条的作用下使得封闭门移动，封闭门移动使得第二齿条移动，第二齿条移动使得直齿轮转动，直齿轮转动使得第二丝杆转动，第二丝杆转动使得第一导向板向工作架移动，减少辊体通过工作架后的下落高度，在封闭门关闭时，第二丝杆反向转动使得第一导向板远离工作架，防止第一导向板影响工作架的正常移动。
优选的，所述第一导向板上铰接有第二缓冲板，所述第二缓冲板向所述第二导向板倾斜设置，所述第二缓冲板靠近所述第一导向板的侧壁上固定连接有缓冲弹簧，所述缓冲弹簧远离所述第二缓冲板的端部与所述第一导向板固定连接。
通过采用上述技术方案，缓冲弹簧可以进一步减少辊体落至第二缓冲板上的下落冲击力。
综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：
通过设置第一驱动组件以及工作架，磁控溅射工作模块采用工作架拖拽与腔体分离结构，为此可以减小真空腔体积和更方便快捷装卸靶材与辊体；
通过设置第二驱动组件，采用旋转圆柱磁控溅射加辅助阳极结构，第二驱动组件带动靶材不断旋转，由于旋转靶材每一时刻靶材面溅射位置不同，靶材的冷却较充分，故靶材面能够承受更大功率的溅射，同时通过靶材旋转机制提高了靶材利用率；
通过设置第三驱动组件以及滑动座，采用可调节辊筒安装架结构，针对直径、长度不同的辊筒，可以调整安滑动座间距，做到镀膜工作时常用靶基距范围内任意调整。
附图说明
图1是本申请实施例的真空磁控溅射镀辊设备的结构示意图。
图2是本申请实施例的工作架的结构示意图。
图3是本申请实施例的辅助组件的结构示意图。
图4是本申请实施例的第二控制组件的结构示意图。
图5是本申请实施例的第二缓冲板的结构示意图。
图6是本申请实施例的第一释放板的结构示意图。
附图标记说明：
1、支撑架；11、收纳箱；12、真空箱；13、封闭门；14、工作架；15、滑动座；16、第一电机；17、第二电机；18、第三电机；2、真空设备；3、靶材；4、第一驱动组件；41、第一齿条；42、驱动轮；43、第一驱动轴；44、皮带轮；45、支撑座；46、第二驱动轴；47、支撑杆；48、第一丝杆；5、辅助组件；51、第一缓冲板；511、滑槽；512、第二缓冲板；513、缓冲弹簧；52、第一导向板；53、第一释放板；54、第二释放板；55、第二导向板；56、连接杆；57、第三驱动轴；58、容纳槽；6、第三驱动组件；61、第四驱动轴；62、蜗轮；63、蜗杆；64、第一锥齿轮；65、第二锥齿轮；66、第二丝杆；67、第二齿条；68、直齿轮。
具体实施方式
以下结合附图1-6对本申请作进一步详细说明。
本申请实施例公开真空磁控溅射镀辊设备。参照图1，真空磁控溅射镀辊设备包括支撑架1以及真空设备2。
参照图1以及图2，支撑架1水平设置，支撑架1一侧设置有真空设备2以及收纳箱11，支撑架1顶部设置有真空箱12，真空设备2与真空箱12连接。支撑架1上滑动设置有封闭门13，封闭门13靠近真空箱12的侧壁上固定连接有工作架14。
参照图1以及图2，真空箱12内设置有滑轨，工作架14靠近滑轨的端部上设置有滑轮，滑轮与滑轨滑移配合。支撑架1上设置有第一驱动组件4，第一驱动组件4包括第一齿条41以及驱动轮42。第一齿条41固定连接于支撑架1顶面，第一齿条41设置有两个，两个第一齿条41沿支撑架1轴线对称设置。驱动轮42设置有两个，两个驱动轮42分别设置于封闭门13两侧，两个驱动轮42沿封闭门13轴线对称设置，驱动轮42与第一齿条41相互啮合，驱动轮42与第一齿条41一一对应。
参照图1以及图2，封闭门13上固定连接有第一电机16，第一电机16输出端上固定连接有第一驱动轴43，第一驱动轴43依次穿过一个驱动轮42、封闭门13以及另一个驱动轮42，封闭门13与第一驱动轴43转动连接，两个驱动轮42均与第一驱动轴43固定连接。
参照图1以及图2，需要封闭门13进行移动时，第一电机16启动，第一电机16驱动第一驱动轴43转动，第一驱动轴43转动使得驱动轮42转动，驱动轮42转动并与第一齿条41配合使得封闭门13移动。
参照图2以及图3，工作架14上设置有第三驱动组件6，第三驱动组件6包括支撑杆47以及第一丝杆48。支撑杆47设置有两个，两个支撑杆47沿工作架14轴线对称设置。支撑杆47上套设有滑动座15，滑动座15与支撑杆47滑动连接，滑动座15设置有两个，两个滑动座15对向设置。
第一丝杆48穿设于工作架14上，第一丝杆48与工作架14转动连接，第一丝杆48依次穿过两个滑动座15，第一丝杆48穿出封闭门13，滑动座15与第一丝杆48螺纹配合，第一丝杆48与封闭门13转动连接。封闭门13远离工作架14的侧壁上固定连接有第三电机18，第三电机18输出端与第一丝杆48穿出封闭门13的端部固定连接。
参照图3以及图4，在需要对不同长度的辊体进行夹持时，第三电机18启动，第三电机18驱动第一丝杆48转动，第一丝杆48转动使得滑动座15沿支撑杆47方向移动，第一丝杆48上的两个滑动座15同时移动调整其之间的距离与辊体适配。
参照图2以及图3，工作架14上设置有两个靶材3，靶材3位于滑动座15底部，两个靶材3沿工作架14轴线对称设置。靶材3与工作架14远离封闭门13的侧壁转动连接，靶材3靠近封闭门13的端部穿出封闭门13。
参照图2以及图3，封闭门13远离工作架14的侧壁上固定连接有支撑座45，靶材3穿出封闭门13的端部穿入支撑座45内，靶材3与支撑座45转动连接。封闭门13上设置有第二驱动组件，第二驱动组件包括第二电机17以及皮带轮44，第二电机17固定连接于支撑座45上。靶材3位于支撑座45内的端部上固定连接有第二驱动轴46，第二驱动轴46与支撑座45转动连接，第二电机17输出端以及第二驱动轴46上均固定套设有皮带轮44，两个皮带轮44上绕设有传动皮带。
参照图2以及图3，在进行磁控溅射镀膜时，第二电机17驱动其输出端的皮带轮44转动，第二电机17上的皮带轮44通过传动皮带使得第二驱动轴46转动，第二驱动轴46转动使得靶材3转动，靶材3不断旋转，由于旋转靶材3每一时刻靶材3面溅射位置不同，靶材3的冷却较充分，故靶材3面能够承受更大功率的溅射，同时通过靶材3旋转机制提高了靶材3利用率。
参照图3以及图4，封闭门13上设置有辅助组件5，辅助组件5包括第一缓冲板51以及第一导向板52。第一缓冲板51位于滑动座15顶部，第一缓冲板51截面为弧形，封闭门13上开设有滑槽511，第一缓冲板51与滑槽511内侧壁滑动连接。第一缓冲板51中部设置有第一释放板53，第一释放板53设置有两个，两个第一释放板53沿第一缓冲板51轴线对称设置。第一释放板53与第一缓冲板51转动连接，第一释放板53与第一缓冲板51连接处设置有扭簧。工作架14底部设置有两个第二释放板54，两个第二释放板54沿工作架14轴线对称设置，第二释放板54与工作架14连接处设置有扭簧，第一释放板53与第二释放板54相对应。
参照图1以及图4，收纳箱11靠近支撑架1的侧壁上固定连接有第二导向板55，第一导向板52与第二导向板55远离收纳箱11的侧壁上铰接，第一导向板52位于工作架14底部。
参照图3以及图5，封闭门13上设置有第一控制组件，第一控制组件包括连接杆56以及第三驱动轴57。封闭门13沿其宽度方向开设有容纳槽58，容纳槽58与滑槽511相连通，第一缓冲板51穿入容纳槽58内。第三驱动轴57设置于容纳槽58内，第三驱动轴57与容纳槽58内侧壁转动连接，连接杆56一端与第三驱动轴57固定连接，连接杆56另一端与第一缓冲板51位于容纳槽58内的端部固定连接。
参照图3以及图5，封闭门13上设置有第四驱动组件，第四驱动组件包括第四驱动轴61以及蜗轮62。第四驱动轴61竖直穿设于封闭门13内，第四驱动轴61穿入容纳槽58内，第四驱动轴61位于容纳槽58内的端部上固定连接有蜗杆63，蜗轮62固定套设于第三驱动轴57上，蜗轮62与蜗杆63相互啮合。第四驱动轴61位于封闭门13内的端部上固定套设有第一锥齿轮64，第一驱动轴43靠近第四驱动轴61的端部上固定套设有第二锥齿轮65，第一锥齿轮64与第二锥齿轮65相互啮合。
参照图3、图4以及图5，第一电机16驱动第一驱动轴43转动，第一驱动轴43转动使得驱动轮42转动，驱动轮42转动后在第一齿条41的作用下使得封闭门13移动，第一驱动轴43转动同时使得第二锥齿轮65转动，第二锥齿轮65转动使得第一锥齿轮64转动，第一锥齿轮64转动使得第四驱动轴61转动，第四驱动轴61转动使得蜗杆63转动，蜗杆63转动使得蜗轮62转动，蜗轮62转动使得蜗杆63转动，蜗杆63转动使得第三驱动轴57转动，第三驱动轴57转动使得连接杆56移动，连接杆56移动使得第一缓冲板51绕第三驱动轴57转动并移动至滑动座15底部，第三电机18启动，第三电机18驱动第一丝杆48转动使得滑动座15之间间距增大，此时辊体脱落，在辊体重力作用下，由于第一缓冲板51的形状限制，辊体会向位于第一缓冲板51中部的第一释放板53方向滚动，辊体与第一释放板53接触后，第一释放板53因辊体重力作用开启，辊体通过第一缓冲板51落至工作架14上并与第二缓冲板512接触，在辊体重力作用下，第二释放板54开启，辊体落至第一导向板52上并通过第二导向板55进入到收纳箱11内，不需要人工取出，提高工作效率。
参照图5以及图6，支撑架1上设置有第二控制组件，第二控制组件包括第二丝杆66。第二丝杆66穿设于支撑架1靠近真空箱12的侧壁上，第二丝杆66与支撑架1转动连接，第二丝杆66穿过第一导向板52靠近真空箱12的侧壁，第二丝杆66与第一导向板52螺纹配合。第二丝杆66上固定套设有直齿轮68，封闭门13上固定连接有第二齿条67，第二齿条67延伸至第一导向板52底部，第二齿条67与直齿轮68相互啮合，第二齿条67上部分有齿。第一电机16驱动第一驱动轴43转动，第一驱动轴43转动使得驱动轮42转动，驱动轮42转动后在第一齿条41的作用下使得封闭门13移动，封闭门13移动使得第二齿条67移动，第二齿条67移动使得直齿轮68转动，直齿轮68转动使得第二丝杆66转动，第二丝杆66转动使得第一导向板52向工作架14移动，减少辊体通过工作架14后的下落高度。
参照图5以及图6，第一导向板52上铰接有第二缓冲板512，第二缓冲板512与第一导向板52内侧壁滑移配合，第二缓冲板512远离第二导向板55的底面固定连接有若干缓冲弹簧513，若干缓冲弹簧513沿第二缓冲板512长度方向间隔设置，缓冲弹簧513远离第二缓冲板512的端部与第一导向板52固定连接。缓冲弹簧513可以进一步减少辊体落至第二缓冲板512上的下落冲击力。
本申请实施例真空磁控溅射镀辊设备的实施原理为：在进行真空磁控溅射镀膜工作时，第一驱动组件4驱动封闭门13移动，封闭门13打开后，操作人员可以将需要镀膜的辊体放置在工作架14上，第三驱动组件6驱动滑动座15移动将辊体夹持，然后第一驱动组件4再次驱动封闭门13关闭，真空设备2将真空箱12内抽取真空，直至该真空腔体的本底真空度为0.001Pa-0.01Pa，保证其极限真空度大于等于 0.0005Pa，然后向真空箱12内通入惰性气体如氩气（Ar），调整真空箱12内的真空度至0.1Pa-1Pa，利用直流磁控溅靶材3对辊体上进行沉积，同时第二驱动组件驱动靶材3转动，完成辊体的镀膜需求，镀膜完成后，真空设备2将惰性气体从真空箱12内抽离，真空设备2并向真空箱12内通入空气，保持真空箱12内部与外界环境的气压保持一致，第一驱动组件4打开封闭门13，第三驱动组件6驱动滑动座15移动使得滑动座15停止对辊体的夹持，然后辅助组件5帮助辊体进入到收纳箱11内；
即在进行真空磁控溅射镀膜工作时，第一电机16启动，第一电机16驱动第一驱动轴43转动，第一驱动轴43转动使得驱动轮42转动，驱动轮42转动并与第一齿条41配合使得封闭门13移动并开启，封闭门13打开后，操作人员启动第三电机18，第三电机18驱动第一丝杆48转动，第一丝杆48转动使得滑动座15沿支撑杆47方向移动，第一丝杆48上的两个滑动座15同时移动将需要镀膜的辊体夹持，第一驱动组件4再次驱动封闭门13移动使得封闭门13关闭，然后真空设备2将真空箱12内抽取真空，直至该真空腔体的本底真空度为0.001Pa-0.01Pa，保证其极限真空度大于等于 0.0005Pa，然后真空设备2向真空箱12内通入惰性气体如氩气（Ar），真空设备2调整真空箱12内的真空度至0.1Pa-1Pa，然后操作人员利用直流磁控溅靶材3对辊体上进行沉积，同时第二电机17驱动其输出端的皮带轮44转动，第二电机17上的皮带轮44通过传动皮带使得第二驱动轴46转动，第二驱动轴46转动使得靶材3转动，镀膜完成后，真空设备2将惰性气体从真空箱12内抽离，真空设备2并向真空箱12内通入空气，保持真空箱12内部与外界环境的气压保持一致；
第一电机16再次驱动第一驱动轴43转动，第一驱动轴43转动使得驱动轮42转动，驱动轮42转动后在第一齿条41的作用下使得封闭门13移动并开启，第一驱动轴43转动同时使得第二锥齿轮65转动，第二锥齿轮65转动使得第一锥齿轮64转动，第一锥齿轮64转动使得第四驱动轴61转动，第四驱动轴61转动使得蜗杆63转动，蜗杆63转动使得蜗轮62转动，蜗轮62转动使得蜗杆63转动，蜗杆63转动使得第三驱动轴57转动，第三驱动轴57转动使得连接杆56移动，连接杆56移动使得第一缓冲板51绕第三驱动轴57转动并移动至滑动座15底部；
封闭门13移动开启会同时使得第二齿条67移动，第二齿条67移动使得直齿轮68转动，直齿轮68转动使得第二丝杆66转动，第二丝杆66转动使得第一导向板52向工作架14移动，减少辊体通过工作架14后的下落高度，在封闭门13关闭时，第二齿条67驱动第二丝杆66反向转动使得第一导向板52远离工作架14，防止第一导向板52影响工作架14的正常移动；
第三电机18驱动第一丝杆48再次转动，第一丝杆48转动使得滑动座15远离已镀膜辊体，即滑动座15解除对已镀膜辊体的夹持，此时辊体脱落，辊体落至第一缓冲板51上并与第一释放板53接触，在辊体重力作用下，第一释放板53开启，辊体通过第一缓冲板51落至工作架14上并与第二缓冲板512接触，在辊体重力作用下，第二释放板54开启，辊体落至第一导向板52上并通过第二导向板55进入到收纳箱11内，不需要人工取出，提高工作效率；
磁控溅射工作模块采用拖拽方式与腔体分离结构，为此可以减小真空腔体积和更方便快捷装卸靶材3与辊体；采用可调节辊筒安装架结构，针对直径、长度不同的辊筒，可以调整安滑动座15间距，做到镀膜工作时常用靶基距范围内任意调整；采用旋转圆柱磁控溅射加辅助阳极结构，第二驱动组件带动靶材3不断旋转，由于旋转靶材3每一时刻靶材3面溅射位置不同，靶材3的冷却较充分，故靶材3面能够承受更大功率的溅射，同时通过靶材3旋转机制提高了靶材3利用率；溅射时靶掉渣，容易产生打弧，打弧又会造成更多掉渣和大颗粒的形成，此设备结构采用靶材3向上溅射方式生产，保证镀膜工艺的长期稳定性。
以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。
Claims (9)
1.真空磁控溅射镀辊设备，包括支撑架(1)以及收纳箱(11)，所述支撑架(1)上设置有真空设备(2)以及真空箱(12)，所述支撑架(1)上滑动设置有封闭门(13)，其特征在于：所述封闭门(13)上固定连接有工作架(14)，所述真空箱(12)内设置有用于与所述工作架(14)滑移配合的滑轨，所述工作架(14)上设置有用于支撑辊体的滑动座(15)，所述工作架(14)上转动安装有靶材(3)，所述靶材(3)穿过所述封闭门(13)，所述封闭门(13)上设置有第一驱动组件(4)，所述封闭门(13)远离所述真空箱(12)的侧壁上设置有第二驱动组件，所述工作架(14)上设置有第三驱动组件(6)，所述支撑架(1)与所述封闭门(13)之间设置有辅助组件(5)，所述第一驱动组件(4)用于驱动所述封闭门(13)移动，所述第一驱动组件(4)驱动所述封闭门(13)关闭时，所述第二驱动组件驱动所述靶材(3)转动对辊体进行磁控溅射，所述第一驱动组件(4)驱动所述封闭门(13)开启后，所述第三驱动组件(6)驱动所述滑动座(15)移动并对辊体进行释放或者重新夹持未镀膜的辊体，所述辅助组件(5)帮助已镀膜辊筒进入所述收纳箱(11)内，所述第一驱动组件(4)、所述第二驱动组件、所述第三驱动组件(6)以及所述辅助组件(5)相互独立。
2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀辊设备，其特征在于：所述第一驱动组件(4)包括第一齿条(41)以及驱动轮(42)，所述封闭门(13)上穿设有第一驱动轴(43)，所述驱动轮(42)固定套设于所述第一驱动轴(43)上，所述第一齿条(41)设置于所述支撑架(1)上且与所述驱动轮(42)相互啮合，所述封闭门(13)上固定连接有第一电机(16)，所述第一电机(16)输出端与所述第一驱动轴(43)固定连接。
3.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀辊设备，其特征在于：所述第二驱动组件包括第二电机(17)以及皮带轮(44)，所述封闭门(13)远离所述真空箱(12)的侧壁上固定连接有支撑座(45)，所述靶材(3)穿过所述封闭门(13)的端部穿入所述支撑座(45)内，所述支撑座(45)与所述靶材(3)转动连接，所述第二电机(17)固定连接于所述支撑座(45)上，所述支撑座(45)内穿设有第二驱动轴(46)，所述第二驱动轴(46)与所述支撑座(45)转动连接，所述第二驱动轴(46)穿入所述支撑座(45)内且与所述靶材(3)固定连接，所述第二电机(17)输出端以及所述第二驱动轴(46)上均固定套设有所述皮带轮(44)，所述第二电机(17)上的所述皮带轮(44)与所述第二驱动轴(46)上的所述皮带轮(44)通过传动皮带连接，所述皮带轮(44)以及所述传动皮带用于带动所述靶材(3)转动。
4.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀辊设备，其特征在于：第三驱动组件(6)包括支撑杆(47)以及第一丝杆(48)，所述支撑杆(47)固定连接于所述工作架(14)上，所述滑动座(15)滑动套设于所述支撑杆(47)上，所述第一丝杆(48)穿设于所述工作架(14)上，所述第一丝杆(48)与所述工作架(14)转动连接，所述第一丝杆(48)穿过所述滑动座(15)并穿出所述封闭门(13)，所述第一丝杆(48)与所述滑动座(15)螺纹配合，所述第一丝杆(48)与所述封闭门(13)转动连接，所述封闭门(13)上固定连接有第三电机(18)，所述第一丝杆(48)贯穿所述封闭门(13)并与所述第三电机(18)输出端固定连接。
5.根据权利要求2所述的真空磁控溅射镀辊设备，其特征在于：所述辅助组件(5)包括第一缓冲板(51)以及第一导向板(52)，所述第一缓冲板(51)滑动设置于所述封闭门(13)靠近所述工作架(14)的侧壁上，所述封闭门(13)上开设有用于与所述第一缓冲板(51)滑移配合的滑槽(511)，所述第一缓冲板(51)上铰接有第一释放板(53)，所述第一释放板(53)与所述第一缓冲板(51)连接处设置有扭簧，所述工作架(14)底部铰接有第二释放板(54)，所述第二释放板(54)与所述工作架(14)连接处设置有扭簧，所述第一导向板(52)设置于工作架(14)底部，所述支撑架(1)上设置有第二导向板(55)，所述第二导向板(55)与所述收纳箱(11)相连通，所述第一导向板(52)与所述第二导向板(55)铰接，所述封闭门(13)上设置有用于控制所述第一缓冲板(51)移动的第一控制组件，所述支撑架(1)上设置有用于控制所述第一导向板(52)移动的第二控制组件。
6.根据权利要求5所述的真空磁控溅射镀辊设备，其特征在于：所述第一控制组件包括连接杆(56)以及第三驱动轴(57)，所述封闭门(13)内开设有容纳槽(58)，所述滑槽(511)与所述容纳槽(58)相连通，所述第一缓冲板(51)穿入所述容纳槽(58)内，所述第三驱动轴(57)与所述容纳槽(58)内侧壁转动连接，所述连接杆(56)一端与所述第三驱动轴(57)固定连接，所述连接杆(56)另一端与所述第一缓冲板(51)位于所述容纳槽(58)内的端部固定连接，所述封闭门(13)上设置有用于驱动所述第三驱动轴(57)转动的第四驱动组件。
7.根据权利要求6所述的真空磁控溅射镀辊设备，其特征在于：所述第四驱动组件包括第四驱动轴(61)以及蜗轮(62)，所述第四驱动轴(61)穿设于所述封闭门(13)内，所述第四驱动轴(61)与所述封闭门(13)转动连接，所述蜗轮(62)固定套设于所述第三驱动轴(57)上，所述第四驱动轴(61)上固定套设有蜗杆(63)，所述蜗杆(63)与所述蜗轮(62)相互啮合，所述第四驱动轴(61)远离所述蜗杆(63)的端部上固定套设有第一锥齿轮(64)，所述第一驱动轴(43)上固定套设有第二锥齿轮(65)，所述第一锥齿轮(64)与所述第二锥齿轮(65)相互啮合。
8.根据权利要求5所述的真空磁控溅射镀辊设备，其特征在于：所述第二控制组件包括第二丝杆(66)，所述第二丝杆(66)穿设于所述支撑架(1)上，所述第二丝杆(66)与所述支撑架(1)转动连接，所述第二丝杆(66)穿过所述第一导向板(52)，所述第二丝杆(66)与所述第一导向板(52)螺纹配合，所述封闭门(13)上固定连接有第二齿条(67)，所述第二丝杆(66)上固定套设有直齿轮(68)，所述第二齿条(67)与所述直齿轮(68)相互啮合，所述第二齿条(67)部分有齿。
9.根据权利要求5所述的真空磁控溅射镀辊设备，其特征在于：所述第一导向板(52)上铰接有第二缓冲板(512)，所述第二缓冲板(512)向所述第二导向板(55)倾斜设置，所述第二缓冲板(512)靠近所述第一导向板(52)的侧壁上固定连接有缓冲弹簧(513)，所述缓冲弹簧(513)远离所述第二缓冲板(512)的端部与所述第一导向板(52)固定连接。
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Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB191315022A (en) * | 1913-06-30 | 1913-11-13 | Karl Becker | Apparatus for Cleaning Inking Rollers. |
| JP5467173B1 (ja) * | 2012-10-26 | 2014-04-09 | フオン・アルデンネ・アンラーゲンテヒニク・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング | スパッタリング成膜装置及び真空成膜設備 |
| CN207435710U (zh) * | 2018-02-23 | 2018-06-01 | 佛山市南海畯腾染织有限公司 | 一种染整辊动力驱动装置 |
| CN211497769U (zh) * | 2019-08-14 | 2020-09-15 | 湖南菲尔姆真空设备有限公司 | 一种卧式真空镀膜机 |
| CN211497775U (zh) * | 2019-08-14 | 2020-09-15 | 湖南菲尔姆真空设备有限公司 | 一种用于卧式真空镀膜机的工件安装机构 |
| CN211497759U (zh) * | 2019-08-14 | 2020-09-15 | 湖南菲尔姆真空设备有限公司 | 一种用于卧式真空镀膜机的进出料机构 |
| CN113061870A (zh) * | 2021-04-02 | 2021-07-02 | 泸州韶光智造科技有限公司 | 一种用于光学薄膜元器件的连续真空镀膜生产线及方法 |
| CN113815937A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-12-21 | 深圳维晶高新材料科技有限公司 | 一种对手机屏幕模组进行纳米镀膜的设备 |
| CN218424685U (zh) * | 2022-09-26 | 2023-02-03 | 贵州省程献耗材科技有限公司 | 一种胶辊清洁装置 |
| KR102521971B1 (ko) * | 2021-12-06 | 2023-04-14 | 에버런 주식회사 | 비공기압 타이어 제조장치 및 이를 이용한 비공기압 타이어 제조방법과 이 제조장치에 의해 제조된 비공기압 타이어 |
-
2024
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Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB191315022A (en) * | 1913-06-30 | 1913-11-13 | Karl Becker | Apparatus for Cleaning Inking Rollers. |
| JP5467173B1 (ja) * | 2012-10-26 | 2014-04-09 | フオン・アルデンネ・アンラーゲンテヒニク・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング | スパッタリング成膜装置及び真空成膜設備 |
| CN207435710U (zh) * | 2018-02-23 | 2018-06-01 | 佛山市南海畯腾染织有限公司 | 一种染整辊动力驱动装置 |
| CN211497769U (zh) * | 2019-08-14 | 2020-09-15 | 湖南菲尔姆真空设备有限公司 | 一种卧式真空镀膜机 |
| CN211497775U (zh) * | 2019-08-14 | 2020-09-15 | 湖南菲尔姆真空设备有限公司 | 一种用于卧式真空镀膜机的工件安装机构 |
| CN211497759U (zh) * | 2019-08-14 | 2020-09-15 | 湖南菲尔姆真空设备有限公司 | 一种用于卧式真空镀膜机的进出料机构 |
| CN113061870A (zh) * | 2021-04-02 | 2021-07-02 | 泸州韶光智造科技有限公司 | 一种用于光学薄膜元器件的连续真空镀膜生产线及方法 |
| CN113815937A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-12-21 | 深圳维晶高新材料科技有限公司 | 一种对手机屏幕模组进行纳米镀膜的设备 |
| KR102521971B1 (ko) * | 2021-12-06 | 2023-04-14 | 에버런 주식회사 | 비공기압 타이어 제조장치 및 이를 이용한 비공기압 타이어 제조방법과 이 제조장치에 의해 제조된 비공기압 타이어 |
| CN218424685U (zh) * | 2022-09-26 | 2023-02-03 | 贵州省程献耗材科技有限公司 | 一种胶辊清洁装置 |
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