CN210085568U - 一种新型真空磁控溅射镀膜机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种新型真空磁控溅射镀膜机，包括壳体，所述壳体的开口处通过阻尼铰链活动安装有密封门，所述密封门的边侧固定安装有密封条，所述密封门的外侧固定安装有门把，所述密封门上固定安装有观察窗，所述壳体的外侧固定安装有PLC控制器，且排气口延伸至壳体内部，并且排气口上固定安装有阀门，所述壳体通过粉末导管与粉末导入装置相互连接。该新型真空磁控溅射镀膜机，采用双开密封门，在密封门之间设置有密封条，提高整体的密封性，在壳体内部设置有旋转台，在镀膜过程中，通过驱动电机带动旋转台旋转，镀膜更加均匀，同时旋转台上设置有可调节的连接杆，能够根据工件的大小对连接杆之间的间距进行调节。

Description

一种新型真空磁控溅射镀膜机

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，具体为一种新型真空磁控溅射镀膜机。

背景技术

真空磁控溅射镀膜机是一种在真空环境下对基片进行镀膜设备，其利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

现如今的真空磁控溅射镀膜机真空抽取速度慢，延长了加工的时间，降低了加工的效率，且传统镀膜机内部的工件固定架为不可调节的，不能够针对工件的大小，对工件固定架之间的间距进行调节，导致过大的工件镀膜不均匀，对整体的外观造成影响。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种新型真空磁控溅射镀膜机，以解决上述背景技术中提出现如今的真空磁控溅射镀膜机真空抽取速度慢，延长了加工的时间，降低了加工的效率，且传统镀膜机内部的工件固定架为不可调节的，不能够针对工件的大小，对工件固定架之间的间距进行调节，导致过大的工件镀膜不均匀，对整体的外观造成影响的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种新型真空磁控溅射镀膜机，包括壳体，所述壳体的开口处通过阻尼铰链活动安装有密封门，所述密封门的边侧固定安装有密封条，所述密封门的外侧固定安装有门把，所述密封门上固定安装有观察窗，所述壳体的外侧固定安装有PLC控制器，所述PLC控制器的下侧设置有真空仪表，所述壳体的底端固定安装有机架，所述壳体的底端还固定安装有排气口，且排气口延伸至壳体内部，并且排气口上固定安装有阀门，所述壳体内部的底端活动安装有下旋转台，所述下旋转台上开设有滑槽，所述滑槽内活动安装有连接杆，所述连接杆的上端活动安装有上旋转台，所述连接杆的外侧固定安装有工件固定架，所述连接杆的外侧还固定安装有限位环，所述限位环位于滑槽的外侧，所述连接杆的下端活动安装有螺帽，所述壳体底端的中间固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出轴延伸至壳体内部与下旋转台的底端固定连接，所述上旋转台的中间开设有通槽，所述壳体的上端固定安装有极靶，且极靶延伸至壳体内部并穿过通槽，所述壳体通过抽气管与真空泵相互连接，所述壳体通过粉末导管与粉末导入装置相互连接。

优选的，所述壳体的开口处对称设置有两个密封门，且两个密封门与壳体构成圆柱状。

优选的，所述密封门上均固定安装有密封条、门把和观察窗，且密封门处于关闭状态时，两个密封门上的密封条相贴合。

优选的，所述PLC控制器与驱动电机、极靶、真空泵和粉末导入装置电性连接。

优选的，所述下旋转台和上旋转台上下垂直分布，且下旋转台和上旋转台上均开设有环形的滑槽，滑槽的宽度与连接杆的直径相同。

优选的，所述连接杆外侧限位环的直径大于滑槽的宽度，且工件固定架等间距分布在连接杆的外侧。

优选的，所述真空泵在壳体的两侧对称设置有两个。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该新型真空磁控溅射镀膜机，采用双开密封门，在密封门之间设置有密封条，提高整体的密封性，在壳体内部设置有旋转台，在镀膜过程中，通过驱动电机带动旋转台旋转，镀膜更加均匀，同时旋转台上设置有可调节的连接杆，能够根据工件的大小对连接杆之间的间距进行调节，避免过大的工件镀膜不均匀，适用范围广，在连接杆上等间距设置的工件固定架便于对工件进行有效固定，通过密封门上的观察窗，便于工作人员对镀膜中的工件进行观察，壳体连接有两个真空泵，大大加快了真空的抽取速度，加快工作效率。

附图说明

图1为本实用新型内部结构示意图；

图2为本实用新型正视结构示意图；

图3为本实用新型连接杆安装结构示意图。

图中：1、壳体；2、阻尼铰链；3、密封门；4、密封条；5、门把；6、观察窗；7、PLC控制器；8、机架；9、排气口；10、阀门；11、下旋转台；12、滑槽；13、连接杆；14、上旋转台；15、工件固定架；16、限位环；17、通槽；18、螺帽；19、驱动电机；20、极靶；21、真空泵；22、抽气管；23、粉末导入装置；24、粉末导管；25、真空仪表。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种新型真空磁控溅射镀膜机，包括壳体1、阻尼铰链2、密封门3、密封条4、门把5、观察窗6、PLC控制器7、机架8、排气口9、阀门10、下旋转台11、滑槽12、连接杆13、上旋转台14、工件固定架15、限位环16、通槽17、螺帽18、驱动电机19、极靶20、真空泵21、抽气管22、粉末导入装置23、粉末导管24和真空仪表25，壳体1的开口处通过阻尼铰链2活动安装有密封门3，密封门3的边侧固定安装有密封条4，密封门3的外侧固定安装有门把5，密封门3上固定安装有观察窗6，壳体1的外侧固定安装有PLC控制器7，所述PLC控制器7的下侧设置有真空仪表25，壳体1的底端固定安装有机架8，壳体1的底端还固定安装有排气口9，且排气口9延伸至壳体1内部，并且排气口9上固定安装有阀门10，壳体1内部的底端活动安装有下旋转台11，下旋转台11上开设有滑槽12，滑槽12内活动安装有连接杆13，连接杆13的上端活动安装有上旋转台14，连接杆13的外侧固定安装有工件固定架15，连接杆13的外侧还固定安装有限位环16，限位环16位于滑槽12的外侧，连接杆13的下端活动安装有螺帽18，壳体1底端的中间固定安装有驱动电机19，驱动电机19的输出轴延伸至壳体1内部与下旋转台11的底端固定连接，上旋转台14的中间开设有通槽17，壳体1的上端固定安装有极靶20，且极靶20延伸至壳体1内部并穿过通槽17，壳体1通过抽气管22与真空泵21相互连接，真空泵21的型号为BYNFZ，壳体1通过粉末导管24与粉末导入装置23相互连接。

进一步的，壳体1的开口处对称设置有两个密封门3，且两个密封门3与壳体1构成圆柱状，双开门增大了开口面积，便于放入和取出工件。

进一步的，密封门3上均固定安装有密封条4、门把5和观察窗6，且密封门3处于关闭状态时，两个密封门3上的密封条4相贴合，通过密封条4，增强整体的密封性，通过观察窗6便于工作人员对壳体1内部加工的工件进行观察。

进一步的，PLC控制器7与驱动电机19、极靶20、真空泵21和粉末导入装置23电性连接，通过PLC控制器7对驱动电机19、极靶20、真空泵21和粉末导入装置23进行控制。

进一步的，下旋转台11和上旋转台14上下垂直分布，且下旋转台11和上旋转台14上均开设有环形的滑槽12，滑槽12的宽度与连接杆13的直径相同，镀膜过程中，通过驱动电机19带动下旋转台11旋转，使得镀膜更贱均匀，同时通过滑槽12能够调教连接杆13之间的间距，调节完毕之后，再通过螺帽18进行锁紧固定。

进一步的，连接杆13外侧限位环16的直径大于滑槽12的宽度，且工件固定架15等间距分布在连接杆13的外侧，通过限位环16对连接杆13进行上下限位，通过工件固定架15对工件进行承载。

进一步的，真空泵21在壳体1的两侧对称设置有两个，加快真空的抽取速度，减少真空抽取的时间，提高工作效率。

工作原理：首先通过门把5拉开密封门3，根据工件的大小调节连接杆13之间的间距，拧松螺帽18，连接杆13解锁，然后将连接杆13在滑槽12内部水平滑动，滑动到合适位置之后，再拧紧螺帽18，对连接杆13进行锁紧固定，然后将待加工的工件摆放到工件固定架15上，关闭密封门3，通过PLC控制器7启动真空泵21，真空泵21通过抽气管22将壳体1内部抽取成真空，工作人员观察真空仪表25，当壳体1内部的真空达到要求之后，再通过PLC控制器7启动驱动电机19、极靶20和粉末导入装置23，驱动电机19带动下旋转台11旋转，极靶20产生磁场，粉末导入装置23将粉末通过粉末导管24输送到壳体1内部，对工件固定架15上的工件进行镀膜。

最后应当说明的是，以上内容仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对本实用新型保护范围的限制，本领域的普通技术人员对本实用新型的技术方案进行的简单修改或者等同替换，均不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。

Claims (7)

1.一种新型真空磁控溅射镀膜机，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)的开口处通过阻尼铰链(2)活动安装有密封门(3)，所述密封门(3)的边侧固定安装有密封条(4)，所述密封门(3)的外侧固定安装有门把(5)，所述密封门(3)上固定安装有观察窗(6)，所述壳体(1)的外侧固定安装有PLC控制器(7)，所述PLC控制器(7)的下侧设置有真空仪表(25)，所述壳体(1)的底端固定安装有机架(8)，所述壳体(1)的底端还固定安装有排气口(9)，且排气口(9)延伸至壳体(1)内部，并且排气口(9)上固定安装有阀门(10)，所述壳体(1)内部的底端活动安装有下旋转台(11)，所述下旋转台(11)上开设有滑槽(12)，所述滑槽(12)内活动安装有连接杆(13)，所述连接杆(13)的上端活动安装有上旋转台(14)，所述连接杆(13)的外侧固定安装有工件固定架(15)，所述连接杆(13)的外侧还固定安装有限位环(16)，所述限位环(16)位于滑槽(12)的外侧，所述连接杆(13)的下端活动安装有螺帽(18)，所述壳体(1)底端的中间固定安装有驱动电机(19)，所述驱动电机(19)的输出轴延伸至壳体(1)内部与下旋转台(11)的底端固定连接，所述上旋转台(14)的中间开设有通槽(17)，所述壳体(1)的上端固定安装有极靶(20)，且极靶(20)延伸至壳体(1)内部并穿过通槽(17)，所述壳体(1)通过抽气管(22)与真空泵(21)相互连接，所述壳体(1)通过粉末导管(24)与粉末导入装置(23)相互连接。

2.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述壳体(1)的开口处对称设置有两个密封门(3)，且两个密封门(3)与壳体(1)构成圆柱状。

3.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述密封门(3)上均固定安装有密封条(4)、门把(5)和观察窗(6)，且密封门(3)处于关闭状态时，两个密封门(3)上的密封条(4)相贴合。

4.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述PLC控制器(7)与驱动电机(19)、极靶(20)、真空泵(21)和粉末导入装置(23)电性连接。

5.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述下旋转台(11)和上旋转台(14)上下垂直分布，且下旋转台(11)和上旋转台(14)上均开设有环形的滑槽(12)，滑槽(12)的宽度与连接杆(13)的直径相同。

6.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述连接杆(13)外侧限位环(16)的直径大于滑槽(12)的宽度，且工件固定架(15)等间距分布在连接杆(13)的外侧。

7.根据权利要求1所述的一种新型真空磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述真空泵(21)在壳体(1)的两侧对称设置有两个。

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