CN117621232A - 消除釉面砖水波纹的制备方法及其釉面砖 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种消除釉面砖水波纹的制备方法及其釉面砖,制备方法包括以下步骤:步骤S1、对釉面砖粉料采用二次布料工艺进行压制成型,得到釉面砖坯料;其中,第一次布料厚度10‑12mm微粉作为底料,第二次布料厚度为1.5‑3mm,作为面料,通过压机压制成型;步骤S2、对所述釉面砖坯料进行二次布料图案,得到图案釉面砖;步骤S3、对所述图案釉面砖进行干燥处理;步骤S4、对所述图案釉面砖进行喷墨印花处理,得到釉面砖产品;步骤S5、将所述釉面砖产品依次进行烧釉及烧成处理,得到釉面砖成品。本发明能改善了釉面砖的装饰效果,达到了名贵石材的效果,消除了消费者反映的“虚影”、“水波纹”等不良视觉效果,实现了突破。
Description
技术领域
本发明涉及釉面砖生产技术领域,具体涉及一种消除釉面砖水波纹的制备方法及其釉面砖。
背景技术
随着社会经济的发展,物质资源的丰富,人们对居家品质要求不断提高,高品质的装修材料也越来越受到消费者的青睐。在众多的装修材料中,釉面砖作为难以替代的产品,成为房屋装修过程的主要材料之一。
在釉面砖的生产过程中,传统砖坯采用一次压制成型,采用低温快烧工艺,坯体的成瓷温度低。在坯体达到瓷化温度而釉面还没有开始熔融,容易导致坯体轻微不规则变形,坯体层表面出现轻微不平整。坯体冷却后表面瓷化发光,而釉层反射光、釉层与坯体层交界层折射频率不一致,导致发光主体“虚影”,也就是人们俗语中说的“水波纹”出现。
因此,现有的釉面砖生产容易导致水波纹的产生,生产质量差,适应范围小。
发明内容
本发明提供一种消除釉面砖水波纹的制备方法,旨在解决现有的釉面砖生产容易导致水波纹的产生,生产质量差,适应范围小的问题。
第一方面,本发明实施例提供一种消除釉面砖水波纹的制备方法,所述制备方法包括以下步骤:
步骤S1、对釉面砖粉料采用二次布料工艺进行压制成型,得到釉面砖坯料;其中,第一次布料厚度10-12mm微粉作为底料,第二次布料厚度为1.5-3mm,作为面料,通过压机压制成型;
步骤S2、对所述釉面砖坯料进行二次布料图案,得到图案釉面砖;
步骤S3、对所述图案釉面砖进行干燥处理;
步骤S4、对所述图案釉面砖进行喷墨印花处理,得到釉面砖产品;
步骤S5、将所述釉面砖产品依次进行烧釉及烧成处理,得到釉面砖成品。
优选的,在所述步骤S1中,所述第二次布料的微粉的成瓷温度大于所述第一次布料的微粉的成瓷温度3-5℃。
优选的,在所述步骤S1中,所述第二次布料通过改变微粉的部分成份和粉料粒径,提升砖坯烧成温度5-10℃。
优选的,在所述步骤S2中,对所述二次布料图案进行了预先设计和数字化控制多色彩布料,所述多色彩布料与数字喷墨打印机印花图案进行关联处理,使得坯体层与喷墨层颜色图案相似。
优选的,在所述步骤S3中,所述干燥通过干燥箱烘干处理。
第二方面,本发明实施例提供一种釉面砖,所述釉面砖由上述的消除釉面砖水波纹的制备方法制成。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于,通过对釉面砖粉料采用二次布料工艺进行压制成型,得到釉面砖坯料;其中,第一次布料厚度10-12mm微粉作为底料,第二次布料厚度为1.5-3mm,作为面料,通过压机压制成型;对所述釉面砖坯料进行二次布料图案,得到图案釉面砖;对所述图案釉面砖进行干燥处理;对所述图案釉面砖进行喷墨印花处理,得到釉面砖产品;将所述釉面砖产品依次进行烧釉及烧成处理,得到釉面砖成品。本发明用最节省成本的方法解决了釉面砖水波纹的问题,坯体层折反射光和釉层反射光频率(也就是颜色)一致,视觉效果良好,提升了釉面砖在陶瓷行业中广泛应用,改善了釉面砖的装饰效果,达到了名贵石材的效果,消除了消费者反映的“虚影”、“水波纹”等不良视觉效果,实现了突破。
附图说明
下面结合附图详细说明本发明。通过结合以下附图所作的详细描述,本发明的上述或其他方面的内容将变得更清楚和更容易理解。附图中:
图1是本发明实施例提供的消除釉面砖水波纹的制备方法的流程图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
实施例一
结合附图1所示,本发明实施例提供一种消除釉面砖水波纹的制备方法,所述制备方法包括以下步骤:
步骤S1、对釉面砖粉料采用二次布料工艺进行压制成型,得到釉面砖坯料;其中,第一次布料厚度10-12mm微粉作为底料,第二次布料厚度为1.5-3mm,作为面料,通过压机压制成型;
步骤S2、对所述釉面砖坯料进行二次布料图案,得到图案釉面砖;
步骤S3、对所述图案釉面砖进行干燥处理;
步骤S4、对所述图案釉面砖进行喷墨印花处理,得到釉面砖产品;
步骤S5、将所述釉面砖产品依次进行烧釉及烧成处理,得到釉面砖成品。
具体的,通过对釉面砖粉料采用二次布料工艺进行压制成型,得到釉面砖坯料;其中,第一次布料厚度10-12mm微粉作为底料,第二次布料厚度为1.5-3mm,作为面料,通过压机压制成型;对所述釉面砖坯料进行二次布料图案,得到图案釉面砖;对所述图案釉面砖进行干燥处理;对所述图案釉面砖进行喷墨印花处理,得到釉面砖产品;将所述釉面砖产品依次进行烧釉及烧成处理,得到釉面砖成品。本发明用最节省成本的方法解决了釉面砖水波纹的问题,坯体层折反射光和釉层反射光频率(也就是颜色)一致,视觉效果良好,提升了釉面砖在陶瓷行业中广泛应用,改善了釉面砖的装饰效果,达到了名贵石材的效果,消除了消费者反映的“虚影”、“水波纹”等不良视觉效果,实现了突破。
本实施例中,在所述步骤S1中,所述第二次布料的微粉的成瓷温度大于所述第一次布料的微粉的成瓷温度3-5℃。本发明通过采用二次布料工艺、二次布料图案与喷墨印花图案高度关联、设计二次布料微粉的成瓷温度比一次布料高温3-5℃等方法,可有效解决釉面砖水波纹问题,从而消除了消费者反映的“虚影”、“水波纹”等不良视觉效果,实现了突破。
本实施例中,在所述步骤S1中,所述第二次布料通过改变微粉的部分成份和粉料粒径,提升砖坯烧成温度5-10℃。通过改变了微粉的部分成份和粉料粒径,提升砖坯烧成温度5-10℃,确保釉面熔融温度与坯体表面釉料熔融温度基本一致,减少坯体表面不规则缺陷的出现,让坯体表面更加平整,有效消除水波纹的产生。
本实施例中,在所述步骤S2中,对所述二次布料图案进行了预先设计和数字化控制多色彩布料,所述多色彩布料与数字喷墨打印机印花图案进行关联处理,使得坯体层与喷墨层颜色图案相似。
具体的,对第二次布料微粉砖布料图案进行了预先设计和数字化控制多色彩布料,多色彩布料与数字喷墨打印机印花图案做了高度关联处理(基本保持一致并高度重叠)。使得坯体层与喷墨层颜色图案高度相似,如此一来,色彩效果得到强化,进一步改善光线在釉层与坯体交界层折射频率,有效消除釉面砖水波纹。传统的抛釉砖,表面一层是没有数字化多彩布料的,而且烧成瓷化温度低,冷却后,光反射呈现漫散射特性,从而表现为“水波纹”的视觉效果。
本实施例中,在所述步骤S3中,所述干燥通过干燥箱烘干处理。
实施例二
本发明实施例提供一种釉面砖,所述釉面砖由上述实施例一的消除釉面砖水波纹的制备方法制成。
即该釉面砖产生的技术效果与实施例一的技术效果相同,此处不再描述。
需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、、物品或者装置不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、、物品或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括该要素的过程、、物品或者装置中还存在另外的相同要素。
上面结合附图对本发明的实施例进行了描述,所揭露的仅为本发明较佳实施例而已,但是本发明并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,而不是限制性的,本领域的普通技术人员在本发明的启示下,在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下,还可做出很多形式用等同变化,均属于本发明的保护之内。
Claims (6)
1.一种消除釉面砖水波纹的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:
步骤S1、对釉面砖粉料采用二次布料工艺进行压制成型,得到釉面砖坯料;其中,第一次布料厚度10-12mm微粉作为底料,第二次布料厚度为1.5-3mm,作为面料,通过压机压制成型;
步骤S2、对所述釉面砖坯料进行二次布料图案,得到图案釉面砖;
步骤S3、对所述图案釉面砖进行干燥处理;
步骤S4、对所述图案釉面砖进行喷墨印花处理,得到釉面砖产品;
步骤S5、将所述釉面砖产品依次进行烧釉及烧成处理,得到釉面砖成品。
2.如权利要求1所述的消除釉面砖水波纹的制备方法,其特征在于,在所述步骤S1中,所述第二次布料的微粉的成瓷温度大于所述第一次布料的微粉的成瓷温度3-5℃。
3.如权利要求1所述的消除釉面砖水波纹的制备方法,其特征在于,在所述步骤S1中,所述第二次布料通过改变微粉的部分成份和粉料粒径,提升砖坯烧成温度5-10℃。
4.如权利要求1所述的消除釉面砖水波纹的制备方法,其特征在于,在所述步骤S2中,对所述二次布料图案进行了预先设计和数字化控制多色彩布料,所述多色彩布料与数字喷墨打印机印花图案进行关联处理,使得坯体层与喷墨层颜色图案相似。
5.如权利要求1所述的消除釉面砖水波纹的制备方法,其特征在于,在所述步骤S3中,所述干燥通过干燥箱烘干处理。
6.一种釉面砖,其特征在于,所述釉面砖由权利要求1-5任一项所述的消除釉面砖水波纹的制备方法制成。
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