CN117597406A - 保护被膜形成用树脂组合物、保护被膜和层叠体 - Google Patents
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- 230000001681 protective effect Effects 0.000 title claims abstract description 277
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 158
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims abstract description 100
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims abstract description 74
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims abstract description 74
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 73
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 54
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 54
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 188
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 46
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 32
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 11
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 claims description 9
- 238000007719 peel strength test Methods 0.000 claims description 6
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 4
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 claims description 4
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 abstract description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 26
- 239000010408 film Substances 0.000 description 315
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 95
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 94
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 83
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 description 44
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 32
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 26
- 239000002585 base Substances 0.000 description 25
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 22
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 19
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 13
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 8
- -1 vinylsilyl compounds Chemical class 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 5
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 4
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000013074 reference sample Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 3
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2,2'-azo-bis-isobutyronitrile Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N ethenamine Chemical class NC=C UYMKPFRHYYNDTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 2
- NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N (4-tert-butylcyclohexyl) (4-tert-butylcyclohexyl)oxycarbonyloxy carbonate Chemical compound C1CC(C(C)(C)C)CCC1OC(=O)OOC(=O)OC1CCC(C(C)(C)C)CC1 NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNUGVECARVKIPH-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxypropane Chemical compound CC(C)OC=C GNUGVECARVKIPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- UUPWEGAONCOIFJ-UHFFFAOYSA-N CCCCC(CC)COC(=O)OOC(O)=O Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)OOC(O)=O UUPWEGAONCOIFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HETCEOQFVDFGSY-UHFFFAOYSA-N Isopropenyl acetate Chemical compound CC(=C)OC(C)=O HETCEOQFVDFGSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- NSGQRLUGQNBHLD-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl butan-2-yloxycarbonyloxy carbonate Chemical compound CCC(C)OC(=O)OOC(=O)OC(C)CC NSGQRLUGQNBHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGPBOPXFOJBLIV-UHFFFAOYSA-N butoxycarbonyloxy butyl carbonate Chemical compound CCCCOC(=O)OOC(=O)OCCCC ZGPBOPXFOJBLIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001941 electron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVFJAZCVMOXQRK-UHFFFAOYSA-N ethenyl 7,7-dimethyloctanoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OC=C TVFJAZCVMOXQRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N ethenyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC=C GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFJVXXWOPWLRNU-UHFFFAOYSA-N ethenyl formate Chemical compound C=COC=O GFJVXXWOPWLRNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N ethenyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC=C AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- QWVBGCWRHHXMRM-UHFFFAOYSA-N hexadecoxycarbonyloxy hexadecyl carbonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)OOC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCC QWVBGCWRHHXMRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000006210 lotion Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000008268 mayonnaise Substances 0.000 description 1
- 235000010746 mayonnaise Nutrition 0.000 description 1
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001290 polyvinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- AAYRWMCIKCRHIN-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CCCS(O)(=O)=O AAYRWMCIKCRHIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N propoxycarbonyloxy propyl carbonate Chemical compound CCCOC(=O)OOC(=O)OCCC YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OOC(C)(C)C NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
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Abstract
本发明提供:能够形成在生产线、运输线上不易附着来自于基材的异物的保护被膜的保护被膜形成用树脂组合物;保护被膜;和层叠体。本发明的保护被膜形成用树脂组合物用于基材的保护被膜的形成,所述保护被膜形成用树脂组合物含有聚乙烯醇树脂、以及选自增塑剂和水中的至少1种。
Description
技术领域
本发明涉及保护被膜形成用树脂组合物、保护被膜和层叠体。
背景技术
一直以来,平板玻璃等基材被广泛用于光学显示装置的表面层、基板、窗玻璃等,特别是在光学显示装置等的基板用途中,需要除去该基材表面的污垢、粉尘等,例如,通过预先用强碱性水溶液等进行清洗、或在高温下进行处理而将表面的污染成分烧掉并进行清洗,从而实现清洁的状态。
与此相对,例如,在专利文献1中记载了使用平均聚合度600以下、皂化值40摩尔%以上的聚乙烯醇作为玻璃制品的保护膜。
另外,专利文献2中记载了用聚乙烯醇系膜被覆玻璃的表面而进行保护的方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平10-226537号公报
专利文献2:日本特开2006-327881号公报
发明内容
发明要解决的课题
然而,对于高清液晶用的玻璃等基材,随着薄膜化的推进,表面附着异物的管理基准大幅变得严格。特别是,在基材的生产线和运输线中,基材的碎玻璃(日文:カットカレット)等异物向基材表面的附着、基材表面的擦伤成为问题。
本发明的目的在于提供:能够形成在生产线、运输线上不易附着来自于基材的异物的保护被膜,同时能够发挥保护被膜的高剥离性的保护被膜形成用树脂组合物;保护被膜;和层叠体。
用于解决课题的手段
本公开(1)涉及一种保护被膜形成用树脂组合物,其用于形成基材的保护被膜,所述保护被膜形成用树脂组合物含有聚乙烯醇树脂、以及选自增塑剂和水中的至少1种。
本公开(2)涉及本公开(1)中记载的保护被膜形成用树脂组合物,其利用旋转式粘度计测定时的粘度为1mPa·s以上且3Pa·s以下。
本公开(3)涉及本公开(1)或(2)中记载的保护被膜形成用树脂组合物,其在温度23℃、湿度60%RH时与玻璃基板的接触角为10°以上且75°以下。
本公开(4)涉及本公开(1)~(3)中任一项记载的保护被膜形成用树脂组合物,其中,增塑剂包含选自甘油、双甘油、二乙二醇、三羟甲基丙烷、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇中的至少1种。
本公开(5)涉及一种保护被膜,其包含本公开(1)~(4)中任一项记载的保护被膜形成用树脂组合物。
本公开(6)涉及本公开(5)中记载的保护被膜,其中,保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sa为0.1μm以上且30μm以下。
本公开(7)涉及本公开(5)或(6)中记载的保护被膜,其中,保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sz为10μm以上且300μm以下。
本公开(8)涉及本公开(5)~(7)中任一项记载的保护被膜,其中,保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sdr为0.1以上且30以下。
本公开(9)涉及本公开(5)~(8)中任一项记载的保护被膜,其中,保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sa为0.05μm以上且15μm以下。
本公开(10)涉及本公开(5)~(9)中任一项记载的保护被膜,其中,保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sz为8μm以上且240μm以下。
本公开(11)涉及本公开(5)~(10)中任一项记载的保护被膜,其中,保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sdr为0.01以上且15以下。
本公开(12)涉及一种层叠体,其具有本公开(5)~(11)中任一项记载的保护被膜和基材。
本公开(13)涉及本公开(12)中记载的层叠体,其中,保护被膜还在基材侧具有增塑剂层。
本公开(14)涉及本公开(13)中记载的层叠体,其中,上述增塑剂层不包含聚乙烯醇树脂,或者上述增塑剂层的聚乙烯醇树脂含量少于保护被膜的聚乙烯醇树脂含量。
本公开(15)涉及本公开(12)~(14)中任一项记载的层叠体,其中,保护被膜与基材的剥离强度在180°剥离强度试验中为2.5N/25mm以下。
以下,对本发明进行详述。
本发明人进行了深入研究,结果发现,通过将含有聚乙烯醇树脂、以及选自增塑剂和水中的至少1种的树脂组合物用于保护被膜的形成,从而能够形成在生产线、运输线上,来自于基材的异物不易附着的保护被膜,从而完成了本发明。
本发明用于形成基材的保护被膜。
作为上述基材,可举出:玻璃;塑料基材(有机高分子基材);金属基材;玻璃、塑料、金属的复合体(印刷布线基板等)等。
作为上述玻璃,没有特别限定,可举出钠钙玻璃、无碱玻璃、硼硅酸玻璃、熔融石英等。本发明可以特别适合用于高清液晶用的薄型玻璃,例如可以用于厚度优选为0.01~1.2mm、更优选为0.05~1.0mm、进一步优选为0.08~0.8mm、特别优选为0.1~0.6mm、例如为0.15~0.55mm的基材(特别是玻璃)。
另外,也可以使用被称为UTG(Ultra-Thin Glass:超薄玻璃)之类的100μm以下的玻璃作为基材。在UTG的制造工序中,有将原平板玻璃研磨得较薄的减薄这样的工序,进而既能够用作该减薄前的保护材料,也能够用作减薄后的保护材料。
在本发明中,能够在不对玻璃基板等基材施加负荷的情况下赋予保护被膜,另外,在除去时也能够在不剥离的情况下进行水溶除去,因此,即使在基材为非常薄的玻璃基板的情况下,也适合用作保护被膜。
另外,也可以适合用作TFT(薄膜晶体管)液晶面板的玻璃的保护被膜。如果使用本发明的保护被膜形成用树脂组合物,则不仅能够容易地在TFT液晶的玻璃表面上形成保护被膜,而且能够在除去时不进行剥离而是使其水溶,因此不产生静电,不引起TFT液晶的静电损害。
作为上述塑料基材,没有特别限定,可举出聚碳酸酯板和聚(甲基)丙烯酸系树脂板等。作为上述聚(甲基)丙烯酸系树脂板,可举出聚(甲基)丙烯酸甲酯板等。
作为上述金属基材,没有特别限定,可举出:包含铜、铁、锡、铝、银、不锈钢、黄铜、镍、钛和它们的合金等金属的基材。具体而言,可举出钢板、铜板、铝板、镀铝钢板等。
另外,也可以使用车的涂装钢板等。
此外,通过将印刷布线板(PWB:printed wiring board)用作基材,从而也能够用于PWB的保护材料、特别是曝光保护材料。
在使用任意的基材的情况下,均能够特别适合用作基材制造工序的工序间的保护材料、以除去为前提的临时保护材料,而不是组装到最终的制品中。
本发明的保护被膜形成用树脂组合物含有聚乙烯醇树脂。
通过使用上述聚乙烯醇树脂,从而能够使保护被膜为水溶性。另外,能够赋予土中生物降解性。
上述聚乙烯醇树脂的皂化度的优选的下限为50摩尔%,优选的上限为99.5摩尔%。通过设为上述范围内,能够制作水溶液等的树脂组合物。
上述皂化度的更优选的下限为60摩尔%,进一步优选的下限为70摩尔%,特别优选的下限为80摩尔%,更优选的上限为99摩尔%。进一步优选的上限为95摩尔%,特别优选的上限为90摩尔%。
需要说明的是,上述皂化度依据JIS K6726进行测定。皂化度表示在通过皂化而转化为乙烯醇单元的单元中,实际上皂化为乙烯醇单元的单元的比例的平均值。
从水溶液(树脂组合物)化的容易性、水溶液(树脂组合物)的储存稳定性的观点出发,上述聚乙烯醇树脂的皂化度不是超过98摩尔%的高皂化品,优选为98摩尔%以下的中皂化以下,特别优选为90摩尔%以下的部分皂化品。
通过使上述皂化度不过高,从而水溶性提高,能够制作适当浓度的水溶液,因此保护被膜的形成变得容易。
上述聚乙烯醇树脂的聚合度没有特别限定,优选的下限为100,优选的上限为2500。更优选的下限为200,更优选的上限为1800。进一步优选的下限为250,进一步优选的上限为1300,特别优选的下限为300,特别优选的上限为1000。如果为上述范围内,则能够以高水平兼顾被膜强度和制膜性这两者。需要说明的是,上述聚合度依据JIS K6726进行测定。
通过使上述聚合度不过高,从而水溶性提高,能够制作具有适当的浓度和粘度的保护被膜形成用树脂组合物,因此利用喷涂、涂布机来形成保护被膜变得容易。通过使上述聚合度不过低,从而能够适当地控制浓度、粘度,并且提高所制作的保护被膜的机械强度,或者使粘接性适度,使剥离除去变得容易。
上述聚乙烯醇树脂可以是将皂化度、聚合度等不同的2种以上的树脂混合而成的树脂,也可以将改性物和未改性物混合。
上述聚乙烯醇树脂是通过按照以往公知的方法将乙烯基酯聚合而得到聚合物后,将聚合物皂化、即水解而得到的。皂化通常可以使用碱或酸。皂化中优选使用碱。作为上述聚乙烯醇,可以仅使用1种,也可以组合使用2种以上。
作为上述乙烯基酯,可举出:乙酸乙烯酯、甲酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、特戊酸乙烯酯、新癸酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、硬脂酸乙烯酯和苯甲酸乙烯酯等。由于容易将皂化度控制在适当的范围,所以将上述乙烯基酯聚合而得到的聚合物优选为聚乙烯基酯。
上述乙烯基酯的聚合方法没有特别限定。作为该聚合方法,可举出溶液聚合法、本体聚合法和悬浮聚合法等。
作为将上述乙烯基酯聚合时使用的聚合催化剂,例如可举出:过氧化二碳酸2-乙基己酯(Tianjin McEIT公司制“TrigonoxEHP”)、2,2’-偶氮二异丁腈(AIBN)、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化二碳酸双(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二碳酸二正丙酯、过氧化二碳酸二正丁酯、过氧化二碳酸二鲸蜡酯和过氧化二碳酸二仲丁酯等。上述聚合催化剂可以仅使用1种,也可以组合使用2种以上。
上述聚乙烯醇树脂中包含改性聚乙烯醇树脂。
上述改性聚乙烯醇树脂可以为上述乙烯基酯与其他单体的共聚物,也可以为使聚乙烯醇树脂改性而得到的物质。
作为上述改性聚乙烯醇树脂,例如可举出:乙酰乙酰基改性聚乙烯醇、羧基改性聚乙烯醇、磺酸改性聚乙烯醇、烯烃改性聚乙烯醇、腈改性聚乙烯醇、酰胺改性聚乙烯醇、吡咯烷酮改性聚乙烯醇、包含硅原子的改性聚乙烯醇、或者聚乙烯醇与(丙烯酰胺、乙烯基吡咯烷酮、丙烯腈)的共聚物的接枝聚合物等。
作为上述其他单体,即所共聚的共聚单体,例如可举出:烯烃类、(甲基)丙烯酸及其盐、(甲基)丙烯酸酯类、(甲基)丙烯酰胺衍生物、N-乙烯基酰胺类、乙烯基醚类、腈类、卤代乙烯基类、烯丙基化合物、马来酸及其盐、马来酸酯、衣康酸及其盐、衣康酸酯、乙烯基甲硅烷基化合物、聚乙烯吡咯烷酮、以及乙酸异丙烯酯等。上述其他单体可以仅使用1种,也可以组合使用2种以上。
作为上述烯烃类,可举出乙烯、丙烯、1-丁烯和异丁烯等。作为上述(甲基)丙烯酸酯类,可举出:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯和(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等。作为上述(甲基)丙烯酰胺衍生物,可举出:丙烯酰胺、n-甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺和(甲基)丙烯酰胺丙磺酸及其盐等。作为上述N-乙烯基酰胺类,可举出N-乙烯基吡咯烷酮等。作为上述乙烯基醚类,可举出:甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、正丙基乙烯基醚、异丙基乙烯基醚和正丁基乙烯基醚等。作为上述腈类,可举出(甲基)丙烯腈等。作为上述卤代乙烯基类,可举出氯乙烯和偏二氯乙烯等。作为上述烯丙基化合物,可举出乙酸烯丙酯和烯丙基氯等。作为上述乙烯基甲硅烷基化合物,可举出乙烯基三甲氧基硅烷等。
上述改性聚乙烯醇树脂中的改性量(改性了的结构单元的比例)的优选的上限为25摩尔%,更优选的上限为20摩尔%,进一步优选的上限为15摩尔%,更进一步优选的上限为10摩尔%,特别优选的上限为5摩尔%,优选的下限为1摩尔%,更优选的下限为2摩尔%。通过设为上述范围内,从而能够以高水平兼顾被膜物性和水溶性。
本发明的保护被膜形成用树脂组合物中的聚乙烯醇树脂的含量优选为0.1重量%以上,更优选为1重量%以上,进一步优选为3重量%以上,更进一步优选为5重量%以上,特别优选为8重量%以上,特别更优选为10重量%以上,优选为50重量%以下,更优选为40重量%以下,进一步优选为30重量%以下,更进一步优选为25重量%以下,特别优选为22.5重量%以下,特别更优选为20.0重量%以下。通过将上述含量设为上述下限以上,能够容易地形成被覆率高的保护被膜,通过设为上述上限以下,能够容易地进行均匀的被膜形成。
本发明的保护被膜形成用树脂组合物含有选自增塑剂和水中的至少1种。在本发明中,特别优选含有水的情形、含有增塑剂和水这两者的情形。
本发明的保护被膜形成用树脂组合物通过含有增塑剂,从而能够提高保护被膜的耐久性。另外,通过含有上述增塑剂,从而能够提高保护被膜在水中的溶解性和从基材的剥离性。
作为上述增塑剂,只要是通常作为聚乙烯醇的增塑剂来使用的增塑剂就没有特别限制,例如可举出多元醇、聚醚、酚衍生物、酰胺化合物等。另外,可举出对多元醇加成环氧乙烷而得到的化合物。它们可以单独使用,也可以使用2种以上。
作为上述多元醇,可举出甘油、双甘油、二乙二醇、三羟甲基丙烷、三乙二醇、二丙二醇、丙二醇等。
作为上述聚醚,可举出聚乙二醇、聚丙二醇等。
作为上述酚衍生物,可举出双酚A、双酚S等。作为上述酰胺化合物,可举出N-甲基吡咯烷酮等。
其中,上述增塑剂优选包含选自甘油、双甘油、二乙二醇、三羟甲基丙烷、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇中的至少1种,其中,从抑制保护被膜形成后的渗出的观点出发,更优选包含选自甘油和双甘油中的至少1种,从保护被膜形成加工时的分解抑制等高温耐性的方面出发,特别优选包含双甘油。
另外,从与聚乙烯醇树脂的相容性的观点出发,上述增塑剂的溶解性参数(SP值)的氢键成分δh优选为8.0(MPa1/2)以上且18(MPa1/2)以下,更优选为9.0(MPa1/2)以上且17(MPa1/2)以下。
本发明的保护被膜形成用树脂组合物中,上述增塑剂的含量优选为0.1重量%以上,更优选为0.5重量%以上,进一步优选为1.0重量%以上,更进一步优选为1.5重量%以上,特别优选为3.0重量%以上,特别更优选为5.0重量%以上,优选为50重量%以下,更优选为40重量%以下,进一步优选为35重量%以下,更进一步优选为30重量%以下,特别优选为25重量%以下,特别更优选为20重量%以下。如果上述增塑剂含量为上述范围内,则能够控制基材表面的亲水性,容易形成均匀的被膜。
相对于聚乙烯醇树脂100重量份,本发明的保护被膜形成用树脂组合物优选含有0.2重量份以上的上述增塑剂,更优选含有1.0重量份以上,进一步优选含有2.0重量份以上,更进一步优选含有3.0重量份以上,特别优选含有6.0重量份以上,特别更优选含有10.0重量份以上,优选含有50000重量份以下,更优选含有4000重量份以下,进一步优选含有1167重量份以下,更进一步优选含有600重量份以下,特别优选含有344重量份以下,特别更优选含有200重量份以下。如果上述增塑剂的含量为上述范围内,则能够对保护被膜赋予韧性。
作为上述水,没有特别限定,例如可举出离子交换水、纯水等。它们可以单独使用,也可以组合使用2种以上。
本发明的保护被膜形成用树脂组合物优选上述水的含量为10~99.9重量%。如果上述水含量为上述范围内,则在涂布于基材表面时能够抑制拉丝,能够容易地进行均匀的涂布。
上述水含量的更优选的下限为20重量%,更优选的上限为99.0重量%。进一步优选的下限为35.0重量%,进一步优选的上限为97.0重量%,更进一步优选的下限45.0重量%,更进一步优选的上限为95.0重量%,特别优选的下限为52.5重量%,特别优选的上限为92.0重量%,特别更优选的下限为60.0重量%,特别更优选的上限为90.0重量%。
需要说明的是,上述保护被膜形成用水溶液的含有成分的含量的合计为100重量%。
相对于聚乙烯醇树脂100重量份,本发明的保护被膜形成用树脂组合物优选含有20重量份以上的上述水,更优选含有50重量份以上,进一步优选含有116重量份以上,更进一步优选含有180重量份以上,特别优选含有233重量份以上,特别更优选含有300重量份以上,优选含有99900重量份以下,更优选含有9900重量份以下,进一步优选含有3233重量份以下,更进一步优选含有1900重量份以下,特别优选含有1150重量份以下,特别更优选含有900重量份以下。如果上述水的含量为上述范围内,则在涂布于基材表面时,能够抑制拉丝,能够容易地进行均匀的涂布。
在本发明的保护被膜形成用树脂组合物中,可以在不妨碍本发明效果的范围内配合公知的各种添加剂。作为上述添加剂,可举出:表面活性剂、抗氧化剂、抗老化剂、紫外线吸收剂、钛偶联剂、流平剂、触变剂、防结皮剂、增稠剂、稀释剂、反应性稀释剂、交联剂、填料、色素(颜料、染料)、防腐剂、防霉剂等。
本发明的保护被膜形成用树脂组合物优选还含有防霉剂。
需要说明的是,作为上述防霉剂,可举出:醇系防霉剂、醛系防霉剂、噻唑啉系防霉剂、咪唑系防霉剂、酯系防霉剂、氯系防霉剂、过氧化物系防霉剂、羧酸系防霉剂、氨基甲酸酯系防霉剂、磺酰胺系防霉剂、季铵盐系防霉剂、吡啶系防霉剂、酚系防霉剂、碘系防霉剂、三唑系防霉剂等。
本发明的保护被膜形成用树脂组合物优选依据JIS K7117-1并利用旋转式粘度计测定时的粘度为1mPa·s以上且10Pa·s以下。
上述粘度更优选为10mPa·s以上且8Pa·s以下,进一步优选为20mPa以上且6Pa·s以下,更进一步优选为50mPa以上且4Pa·s以下,特别优选为100mPa以上且3Pa·s以下。
在后述的涂布本发明的保护被膜形成用树脂组合物的方法中,在使用基于喷涂的涂布的情况下,上述粘度优选为1mPa·s以上且3Pa·s以下。上述粘度的更优选的下限为10mPa·s,进一步优选的下限为20mPa·s,更进一步优选的下限为50mPa·s,更优选的上限为1.8Pa·s,进一步优选的上限为1.2Pa·s,更进一步优选的上限为0.5Pa·s。如果为上述范围内,则在使用基于喷涂的涂布的情况下,能够以均匀的厚度容易地形成所期望的厚度的保护被膜。
在后述的涂布本发明的保护被膜形成用树脂组合物的方法中,在使用辊涂机的情况下,上述粘度优选为100mP·s以上且10Pa·s以下。上述粘度的更优选的下限为200mPa·s,进一步优选的下限为400mPa·s,更进一步优选的下限为800mPa·s,更优选的上限为8Pa·s,进一步优选的上限为6Pa·s,更进一步优选的上限为4Pa·s。如果为上述范围内,则在使用基于辊涂机的涂布的情况下,能够以均匀的厚度容易地形成所期望的厚度的保护被膜。
需要说明的是,上述粘度是在23℃测定的。另外,作为上述旋转式粘度计,例如可以使用TVC-10(东机产业公司制)。
本发明的保护被膜形成用树脂组合物与玻璃基板在温度23℃、湿度60%RH时的接触角优选为10°以上且75°以下。如果为上述范围内,则例如在使用玻璃基板作为基材的情况下,容易在基材上形成均质的被膜。
关于上述接触角的更优选的范围,更优选的下限为20°,进一步优选的下限为25°,更进一步优选的下限为30°,特别优选的下限为35°,更优选的上限为70°,进一步优选的上限为66°,更进一步优选的上限为63°,特别优选的上限为61°。
需要说明的是,上述接触角可以通过接触角计(例如协和界面科学公司制,DMo-502,分析软件:FAMAS)进行测定。作为接触角测定基板,可以使用玻璃基板(TEMPAX)0.5mm,更具体而言,可以使用玻璃基板(SCHOTT公司制,TEMPAX Float)。另外,作为测定方法,可举出θ/2法(A half-angle Method)。
作为制造本发明的保护被膜形成用树脂组合物的方法,没有特别限定,例如可举出将聚乙烯醇树脂、增塑剂和水用公知的方法混合的方法。
本发明的保护被膜包含本发明的保护被膜形成用树脂组合物。即,本发明的保护被膜包含聚乙烯醇树脂和根据需要的增塑剂,也可以包含水。
通过使用这样的保护被膜作为基材的被膜,从而在基材的生产线、运输线中,能够防止来自于基材的异物附着。本发明的保护被膜例如可以是通过将上述保护被膜形成用树脂组合物涂布于基材并进行加热干燥而除去水的一部分或全部而得到的。
需要说明的是,本发明的保护被膜可以为单层,也可以具有多个层。
根据制法,例如在利用连续的喷涂制膜的成型方法、连续涂布等制法中,有时也在干燥工序前连续地进行喷涂涂布,也制作层间界面一体化的保护被膜。
这样,就具有多个层的保护被膜而言,还包括:基材与保护被膜的界面处的基材侧的组成、与保护被膜与空气的界面处的与基材相反侧的组成不同的情况(例如连续的梯度结构等)那样的层间界面不明确的情况。
在本发明的保护被膜具有多个层的情况下,与基材面接触的第一保护被膜形成用树脂组合物的粘度与用于在该层上进一步形成被膜的第二保护被膜形成用树脂组合物的粘度比(第2保护被膜形成用树脂组合物的粘度/第1保护被膜形成用树脂组合物的粘度)优选为0.1以上且3000以下,更优选为0.2以上且1500以下,进一步优选为0.4以上且1000以下,更进一步优选为0.6以上且500以下,特别优选为0.8以上且250以下,特别更优选为1.0以上且150以下。
本发明中形成的保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sa(ISO 25178记载的算术平均高度)优选为0.1μm以上。上限没有特别限定,30μm为实质的上限。
如果为上述范围,则能够降低保护被膜彼此的自粘力、与其他基材的粘接性。上述表面粗糙度Sa更优选为0.2μm以上,进一步优选为0.4μm以上,更进一步优选为0.8μm以上,特别优选为1.5μm以上,特别更优选为2.0μm以上。
另外,本发明中形成的保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sz(ISO 25178记载的最大高度)优选为10μm以上。上限没有特别限定,300μm为实质的上限。
如果为上述范围,则能够降低保护被膜彼此的自粘力、与其他基材的粘接性。
上述表面粗糙度Sz更优选为20μm以上,进一步优选为30μm以上,更进一步优选为40μm以上,特别优选为50μm以上,特别更优选为60μm以上。
另外,本发明中形成的保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sdr(ISO25178记载的最大高度)优选为0.1以上。上限没有特别限定,30为实质的上限。如果为上述范围,则能够保护基材免受对基材施加的表面擦伤、施加于基材的压力所导致的损伤、或者提高基材的隔热性。
上述表面粗糙度Sdr更优选为0.2以上,进一步优选为0.3以上,更进一步优选为0.5以上,特别优选为0.7以上,特别更优选为0.9以上。
需要说明的是,上述表面粗糙度Sa、Sz和Sdr是利用激光显微镜(例如:形态解析激光显微镜,VK-X1050,KEYENCE公司制)对制作出的保护被膜的与基材相反侧主面测量1mm×1mm的范围并依据ISO 25178而算出的。对其随机地测定10处,将平均值作为各自的值。
本发明中形成的保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sa(ISO 25178记载的算术平均高度)优选为0.01μm以上。上限没有特别限定,15μm为实质的上限。
如果为上述范围,则能够降低保护被膜对基材的粘接性,提高剥离性。上述表面粗糙度Sa更优选为0.1μm以上,进一步优选为0.2μm以上,更进一步优选为0.3μm以上,特别优选为0.4μm以上,特别更优选为0.5μm以上。
另外,本发明中形成的保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sz(ISO 25178记载的最大高度)优选为8μm以上。上限没有特别限定,240μm为实质的上限。
如果为上述范围,则能够降低保护被膜对基材的粘接性,提高剥离性。上述表面粗糙度Sz更优选为16μm以上,进一步优选为24μm以上,更进一步优选为32μm以上,特别优选为40μm以上,特别更优选为48μm以上。
另外,本发明中形成的保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sdr(ISO 25178记载的最大高度)优选为0.05以上。上限没有特别限定,15为实质的上限。如果为上述范围,则能够保护基材免受对基材施加的表面擦伤、施加于基材的压力所导致的损伤、或者提高基材的隔热性。
上述表面粗糙度Sdr更优选为0.1以上,进一步优选为0.2以上,更进一步优选为0.3以上,特别优选为0.4以上,特别更优选为0.5以上。
需要说明的是,上述表面粗糙度Sa、Sz和Sdr是利用激光显微镜(例如:形态解析激光显微镜,VK-X1050,KEYENCE公司制)对制作出的保护被膜的基材侧主面测量1mm×1mm的范围并依据ISO 25178而算出的。对其随机地测定10处,将平均值作为各自的值。
在上述保护被膜为发泡被膜的情况下,平均气泡直径(发泡直径)的优选的下限为0.05μm,优选的上限为280μm。通过使上述平均气泡直径在该范围内,从而能够提高基材表面免受擦伤等的保护性。上述平均气泡直径的更优选的下限为0.5μm,更优选的上限为225μm。
进一步优选的下限为1.0μm,进一步优选的上限为180μm,更进一步优选的下限为1.5μm,更进一步优选的上限为135μm,特别优选的下限为2.0μm,特别优选的上限为108μm,特别更优选的下限为2.5μm,特别优选的上限为90μm。
需要说明的是,上述平均气泡直径可以通过如下方法来进行测定:利用激光显微镜(例如:形态解析激光显微镜,VK-X1050,KEYENCE公司制)根据气泡的截面观察照片来观察气泡壁部和空隙部,对空隙部的尺寸进行测定的方法。
另外,上述保护被膜的密度的优选的下限为0.1g/cm3,优选的上限为1.3g/cm3。更优选的下限为0.15g/cm3,进一步优选的下限为0.2g/cm3,更进一步优选的下限为0.25g/cm3,特别优选的下限为0.3g/cm3,更优选的上限为1.15g/cm3,进一步优选的上限为1.0g/cm3,更进一步优选的上限为0.85g/cm3,特别优选的上限为0.7g/cm3。通过使上述密度在该范围内,从而能够提高基材表面免受擦伤等的保护性,进而能够容易地进行剥离除去。需要说明的是,上述密度例如可以通过利用激光显微镜等的观察来求出体积,并且称量重量,将所得到的重量除以体积而算出。
上述保护被膜的厚度的优选的下限为1.0μm,优选的上限为300μm。如果发泡体的厚度为上述范围内,则能够剥离保护被膜,也能够使其溶于水。上述多层被膜的厚度的更优选的下限为2.0μm,更优选的上限为250μm。
进一步优选的下限为4.0μm,进一步优选的上限为200μm,更进一步优选的下限为6.0μm,更进一步优选的上限为150μm,特别优选的下限为8.0μm,特别优选的上限为120μm,特别更优选的下限为10.0μm,特别更优选的上限为100μm。
需要说明的是,上述保护被膜的厚度可以使用恒压厚度测定机(例如:TECLOCK公司制,PG-02J),利用依据JIS K6783的方法进行测定。
上述保护被膜中的聚乙烯醇树脂的含量优选为1重量%以上,更优选为4重量%以上,进一步优选为8重量%以上,优选为100重量%以下,更优选为90重量%以下,进一步优选为85重量%以下。
另外,上述保护被膜中的增塑剂的含量优选为0重量%以上,更优选为1重量%以上,进一步优选为3重量%以上,更进一步优选为5重量%以上,特别优选为8重量%以上,优选为50重量%以下,更优选为45重量%以下,进一步优选为40重量%以下,更进一步优选为35重量%以下,特别优选为30重量%以下。
如果上述保护被膜中的聚乙烯醇树脂的含量为上述下限以上,则形成保护被膜时的干燥变得容易,能够提高层叠体的处理性。如果上述保护被膜中的聚乙烯醇树脂的含量为上述上限以下,则能够容易地进行均匀的制膜。如果上述保护被膜中的聚乙烯醇树脂和增塑剂的含量为上述范围内,则能够进一步提高粘接性、保护性和剥离性。
本发明的层叠体具有本发明的保护被膜和基材。
另外,在本发明的层叠体中,上述保护被膜优选进一步在基材侧具有增塑剂层。在该情况下,成为在保护被膜与基材之间具有上述增塑剂层的构成。
在本发明中,增塑剂层只要防止保护被膜中的树脂成分与基材的直接结合,则可以不具有特定的厚度,也可以为单分子膜。
通过具有这样的增塑剂层,从而能够容易地剥离保护被膜。增塑剂层可以为单层,也可以为多层。在本说明书中,也将保护被膜单独、或将保护被膜和增塑剂层合称为玻璃被膜。可以将这样的玻璃被膜统称为保护被膜。
在本发明的适宜的实施方式中,从保护性和剥离性的控制的观点出发,优选上述增塑剂层不含聚乙烯醇树脂,或者上述增塑剂层中的聚乙烯醇树脂含量比保护被膜的聚乙烯醇树脂含量少。
该增塑剂层与保护被膜在界面处接合,在剥离保护被膜时,一体化地被剥离。
在上述增塑剂层包含聚乙烯醇树脂的情况下,上述增塑剂层中的聚乙烯醇树脂的含量优选为0.1重量%以上,更优选为0.2重量%以上,进一步优选为0.3重量%以上,更进一步优选为0.5重量%以上,特别优选为0.7重量%以上,特别更优选为1.0重量%以上,优选为87重量%以下,更优选为83重量%以下,进一步优选为80重量%以下,更进一步优选为77重量%以下,特别优选为74重量%以下,特别更优选为71.5重量%以下。
另外,上述增塑剂层中的增塑剂的含量优选为13.0重量%以上,更优选为16.5重量%以上,进一步优选为20.0重量%以上,更进一步优选为23.0重量%以上,特别优选为25.0重量%以上,特别更优选为28.5重量%以上,优选为100.0重量%以下,更优选为99.9重量%以下,进一步优选为99.7重量%以下,更进一步优选为99.5重量%以下,特别优选为99.3重量%以下,特别更优选为99.0重量%以下。
如果上述增塑剂层中的聚乙烯醇树脂和增塑剂的含量为上述范围内,则能够将保护性维持得较高,并且进一步提高剥离性。
需要说明的是,由于增塑剂层无法与保护被膜分离,所以增塑剂层中的聚乙烯醇树脂和增塑剂的含量为计算上的值。
在本发明中,增塑剂层的厚度的优选的下限为0.001μm,更优选的下限为0.005μm,进一步优选的下限为0.01μm,更进一步优选的下限0.05μm,特别优选的下限为0.1μm,特别更优选的下限为0.5μm,优选的上限为50μm,更优选的上限为40μm,进一步优选的上限为30μm,更进一步优选的上限为20μm,特别优选的上限为15μm,特别更优选的上限为10μm。如果增塑剂层的厚度为上述范围内,则能够容易地将保护被膜从基材剥离。
本发明的层叠体除了基材、保护被膜和增塑剂层以外,还可以具有其他层。其他层可以是具有与上述保护被膜、增塑剂层相同组成的层。
就本发明的层叠体而言,保护被膜与基材的剥离强度在180°剥离强度试验中优选为2.5N/25mm以下。通过使上述剥离强度为2.5N/25mm以下,能够容易地从基材剥离保护被膜。上述剥离强度的优选的上限为2.0N/25mm,更优选的上限为1.5N/25mm,进一步优选的上限为1.2N/25mm,更进一步优选的上限为1.0N/25mm,特别优选的上限为0.8N/25mm。优选的下限为没有特别限定,例如为0.01N/25mm。
另外,在本发明中,对于上述保护被膜在基材侧具有增塑剂层的情况,180°剥离强度试验也优选在上述的范围内。上述180°剥离强度可以通过依据ISO29862:2007或JIS Z0237:2009的方法进行测定。
关于本发明的层叠体的保护被膜与基材的剥离强度,除了上述180°剥离强度试验以外,还可以通过90°剥离强度试验进行测定。上述90°剥离强度可以通过依据ISO29862:2007或JISZ 0237:2009的方法进行测定。
本发明的保护被膜和层叠体的制造方法没有特别限定,优选为具有如下工序的制造方法,所述工序为:将基材成形的工序、以及在成形后的基材上涂布本发明的保护被膜形成用树脂组合物而形成保护被膜的工序。
通过使用上述制造方法,可以形成在生产线、运输线上,来自于基材的异物不易附着的保护被膜。
作为上述成形基材的工序,可以使用公知的方法。
在上述基材为玻璃的情况下,作为成形玻璃的方法,可举出流孔下拉法、熔融法(日文:フュージョン法)、浮法等。其中,优选使用熔融法。
上述熔融法是指:将熔融的玻璃原料导入到细长的流槽(日文:樋)状的涌出口,使玻璃原料在沿着涌出口的长度方向的两侧溢出而向下流下,使流下的熔融玻璃在流槽之下再次汇合,一边直接向下落下一边进行缓慢冷却而使其固化,进而制成玻璃。
需要说明的是,本发明中,在使用市售的玻璃、塑料基材、金属基材等基材的情况下,也视为进行过将上述基材成形的工序。
作为涂布本发明的保护被膜形成用树脂组合物的方法,可举出辊涂、浸涂、旋涂、喷注式涂布、基于喷涂的涂布等。其中,优选基于喷涂的涂布。
需要说明的是,作为基材的状态,没有特别限定,例如,除了成形玻璃、进行固化前的状态以外,还包括玻璃固化后的状态。
另外,上述基材可以根据需要进行研磨,也可以进行表面处理。
此外,在将本发明的保护被膜形成用树脂组合物喷涂涂布于高温的基材的情况下,所得到的保护被膜成为发泡的保护被膜。
在利用辊涂机等将本发明的保护被膜形成用树脂组合物涂布于低温~常温的基材的情况下,所得到的保护被膜成为无发泡的平滑的保护被膜。
涂布本发明的保护被膜形成用树脂组合物时的基材的温度优选为0℃以上且400℃以下。如果为上述范围内,则涂布于高温的基板时能够制作保护被膜,如果为低温,则可以在涂布后通过加热干燥来制作保护被膜。本发明的保护被膜形成用树脂组合物优选用于涂布于具有上述温度的基材并加热干燥而形成保护被膜。
为了制作具有所期望的表面粗糙度的保护被膜,上述温度的更优选的下限为15℃,进一步优选的下限为40℃,更进一步优选的下限为75℃,特别优选的下限为100℃,特别更优选的下限为150℃,更优选的上限为380℃,进一步优选的上限为360℃,更进一步优选的上限为340℃,特别优选的上限为320℃,特别更优选的上限为300℃。
如果基材温度为400℃以下,则能够防止破泡,抑制碎玻璃的表面附着。如果基材温度为0℃以上,则即使不进行后加热,也能够容易地形成保护被膜。
作为调整上述基材的温度的方法,例如,在使用熔融法成形玻璃的情况下,可举出:在将熔融玻璃缓慢冷却的工序中进行涂布的方法。另外,在使用固化后的玻璃的情况下,可举出对玻璃进行加热的方法。上述温度是指涂布时的基材表面的温度。
涂布本发明的保护被膜形成用树脂组合物的工序可以分成多次进行。
另外,在进行多次上述涂布工序的情况下,通过使用种类不同的保护被膜形成用树脂组合物,从而能够形成多层的保护被膜。例如,可以在与玻璃接触的层(内层)的形成时使用本发明以外的保护被膜形成用树脂组合物,在另外的层(外层)使用本发明的保护被膜形成用树脂组合物。特别是,作为本发明以外的保护被膜形成用树脂组合物,在使用不含有增塑剂的树脂组合物的情况下,能够进一步提高增塑剂的抗粘连性。需要说明的是,上述涂布工序可以仅对基材的单面进行,也可以对两面进行。
如果关于与玻璃接触的层(内层),使用本发明以外的保护被膜形成用树脂组合物,另外的层(外层)使用本发明的保护被膜形成用树脂组合物,则剥离特别容易,在将保护被膜从玻璃表面除去的清洗工序中,能够容易地除去保护被膜。
在进行多次上述涂布工序后实施进行干燥的工序的情况下,有时成为具有明确的界面的多层的保护被膜,但在进行多次上述涂布工序后不实施进行干燥的工序的情况下,则虽然成为反映了各自的涂布组成的层叠体,但也有时成为界面不明确、无法切分的梯度结构。这样的梯度结构被膜的形成及其被膜也在本发明的范围内。
在进行涂布本发明的保护被膜形成用树脂组合物的工序之后,可以进行实施干燥的工序(二次干燥)。由此,能够与基材温度无关地形成保护被膜。上述二次干燥中的干燥温度优选为50℃以上且450℃以下。
本发明的保护被膜形成用树脂组合物可以用作玻璃、塑料基材(有机高分子基材)、金属基材等的保护被膜。另外,在将印刷布线板(PWB)用作基材的情况下,也可以用于PWB的保护材料、特别是曝光保护材料。在该情况下,Na对Cu布线造成不良影响,因此优选从聚乙烯醇树脂中尽量除去Na之后再使用。
在使用任意基材的用途的情况下,均能够特别适宜地用作基材制造工序的工序间的保护材料、以除去为前提的临时保护材料,而不是组装到最终的制品中。
另外,在使用PWB作为基材的情况下,通过在不剥离的情况下使其水溶,从而能够防止由静电导致的异物吸附,此外能够消除在膜贴合中无法完全除去的UV固化中的氧阻碍。本发明能够通过不进行剥离而是使其水溶来除去保护被膜,因此也能够适合用于非常容易破裂的超薄型玻璃的保护材料。
发明效果
根据本发明,可以提供:能够形成在生产线、运输线上不易附着来自于基材的异物,且能够容易地除去的保护被膜的保护被膜形成用树脂组合物;保护被膜;和层叠体。
具体实施方式
以下,举出实施例更详细地说明本发明,但本发明并不仅限定于这些实施例。
(实施例1)
(保护被膜形成用水溶液[保护被膜形成用树脂组合物]的制作)
将未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 203聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份、作为增塑剂的双甘油30重量份溶解于水370重量份中并混合,制作了树脂含量20重量%、增塑剂含量6重量%的保护被膜形成用水溶液。
(保护被膜[玻璃被膜]的制作)
将玻璃基板(Corning公司制,EagleXG 150mm×150mm×0.5mm)在加热板上以玻璃基板的中央部成为300℃的方式进行加热。
将加热后的玻璃基板移动至喷涂台,在玻璃中央部成为250℃的时刻,将所得到的保护被膜形成用水溶液喷涂涂布于玻璃基板上1次,在间歇式热风循环干燥炉(设定为150℃)中干燥60秒,得到了在玻璃基板的表面形成有玻璃被膜的层叠体。
需要说明的是,作为涂布保护被膜形成用水溶液时的喷枪,使用AGB50(ASAHISUNAC公司制口径1.0mmφ,雾化帽(日文:キャップ)HN400A),作为涂料供给设备,使用压送泵PT-10DW(ANEST IWATA公司制),作为涂装机器人,使用EPX-1250DX100(安川电机公司制)。需要说明的是,在以后的实施例、比较例中,在没有特别记载的情况下,使用与上述同样的喷枪、涂装供给设备、涂装机器人进行喷涂涂布。
需要说明的是,将喷涂涂布保护被膜形成用水溶液时的从喷枪的喷出量设为20g/30秒,作为喷涂条件,将压送泵的压力设为2.0MPa,将液压设为0.2MPa,将喷枪的空气压力设为0.2MPa,将涂装机器人的涂装速度设为50mm/秒。
(实施例2)
使用未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 205聚合度500,皂化度88摩尔%)100重量份来代替未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 203聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份,将作为增塑剂的双甘油30重量份溶解于水537重量份中并混合,制作树脂含量15重量%、增塑剂含量4.5重量%的保护被膜形成用水溶液,与实施例1同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例3)
使用未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 103聚合度300,皂化度98.4摩尔%)100重量份来代替未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 203聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份,将作为增塑剂的双甘油10重量份溶解于水890重量份中并混合,制作树脂含量10重量%、增塑剂含量1重量%的保护被膜形成用水溶液,与实施例1同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例4)
(保护被膜[玻璃被膜]的制作)
将玻璃基板(Corning公司制,EagleXG 150mm×150mm×0.5mm)在加热板上以玻璃基板的中央部成为300℃的方式进行加热。
将加热后的玻璃基板移动至喷涂台,在玻璃中央部成为250℃的时刻,将实施例1中得到的保护被膜形成用水溶液喷涂涂布于玻璃基板上1次,进一步地,从其上喷涂涂布1次实施例3中得到的保护被膜形成用水溶液,然后利用间歇式热风循环干燥炉(设定为150℃)干燥60秒,得到了在玻璃基板的表面形成有2层[内层、外层]玻璃被膜的层叠体。
需要说明的是,作为涂布保护被膜形成用水溶液时的喷枪,使用AGB50(ASAHISUNAC公司制口径1.0mmφ,雾化帽HN400A),作为涂料供给设备,使用压送泵PT-10DW(ANESTIWATA公司制),作为涂装机器人,使用EPX-1250DX100(安川电机公司制)。
将喷涂涂布保护被膜形成用水溶液[内层用]时的从喷枪的喷出量设定为10g/30秒,保将保护被膜形成用水溶液[外层用]的水溶液的喷出量设定为10g/30秒。作为喷涂条件,将压送泵的压力设为2.0MPa,将液压设为0.2MPa,将喷枪的空气压力设为0.2MPa,将涂装机器人的涂装速度设为50mm/秒。
(实施例5)
(保护被膜形成用水溶液的制作)
使用未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 203聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份,不添加增塑剂,除此以外,与实施例1同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液。
(保护被膜[玻璃被膜]的制作)
将玻璃基板(Corning公司制,EagleXG 150mm×150mm×0.5mm)在加热板上以玻璃基板的中央部成为300℃的方式进行加热。
将加热后的玻璃基板移动至喷涂台,在玻璃中央部成为250℃的时刻,将实施例1中得到的保护被膜形成用水溶液喷涂涂布于玻璃基板上1次,进一步地,从其上喷涂涂布1次实施例5中得到的保护被膜形成用水溶液,然后利用间歇式热风循环干燥炉(设定为150℃)干燥60秒,得到了在玻璃基板的表面形成有2层[内层、外层]玻璃被膜的层叠体。
需要说明的是,作为涂布保护被膜形成用水溶液时的喷枪,使用AGB50(ASAHISUNAC公司制口径1.0mmφ,雾化帽HN400A),作为涂料供给设备,使用压送泵PT-10DW(ANESTIWATA公司制),作为涂装机器人,使用EPX-1250DX100(安川电机公司制)。
(实施例6)
使用未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 513聚合度1300,皂化度88摩尔%)100重量份来代替未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 203聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份,将增塑剂的添加量、树脂含量、增塑剂含量设为如表1所示,除此以外,与实施例1同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例7)
不使用增塑剂,除此以外,与实施例6同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例8)
使用未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 518聚合度1800,皂化度88摩尔%)100重量份来代替未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 203聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份,将增塑剂的添加量、树脂含量、增塑剂含量设为如表1所示,除此以外,与实施例1同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例9)
不使用增塑剂,除此以外,与实施例8同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例10)
使用未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 418聚合度1800,皂化度92.0摩尔%)100重量份来代替未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 203聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份,将增塑剂的添加量、树脂含量、增塑剂含量设为如表1所示,除此以外,与实施例1同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例11)
不使用增塑剂,除此以外,与实施例10同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例12)
(保护被膜形成用水溶液[内层用、外层用]的制作)
不添加未改性的聚乙烯醇,将作为增塑剂的双甘油100重量份溶解于水1900重量份中并混合,制作了增塑剂含量为5重量%的保护被膜形成用水溶液[内层用]。
另外,将未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 203聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份、作为增塑剂的双甘油15重量份溶解于水385重量份中并混合,制作了树脂含量20重量%、增塑剂含量3重量%的保护被膜形成用水溶液[外层用]。
(保护被膜[玻璃被膜]的制作)
将玻璃基板(Corning公司制,EagleXG 150mm×150mm×0.5mm)在加热板上以玻璃基板的中央部成为400℃的方式进行加热。
将加热后的玻璃基板移动至喷涂台,在玻璃中央部成为350℃的时刻,将实施例12中得到的保护被膜形成用水溶液[内层用]喷涂涂布于玻璃基板上1次,进一步地,从其上喷涂涂布1次实施例12中得到的保护被膜形成用水溶液[外层用],然后利用间歇式热风循环干燥炉(设定为150℃)干燥60秒,得到了在玻璃基板的表面形成有2层[内层、外层]玻璃被膜的层叠体。
将涂布保护被膜形成用水溶液[内层用]时的从喷枪的喷出量设定为8g/30秒,将涂布保护被膜形成用水溶液[外层用]时的喷出量设定为12g/30秒。
作为喷涂条件,将压送泵的压力设为2.0MPa,将液压设为0.2MPa,将喷枪的空气压力设为0.2MPa,将涂装机器人的涂装速度设为50mm/秒。
(实施例13~15)
如表1记载那样变更外层用的保护被膜形成用水溶液的增塑剂量,除此以外,与实施例12同样地操作,得到了在玻璃基板(Corning公司制,EagleXG 150mm×150mm×0.5mm)的表面形成有2层[内层、外层]玻璃被膜的层叠体。
(实施例16)
使用未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 205聚合度500,皂化度88摩尔%)100重量份来代替未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 203聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份,将增塑剂的添加量、树脂含量、增塑剂含量设为如表1所示,除此以外,与实施例12同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液[外层用]。
使用所得到的保护被膜形成用水溶液[外层用],除此以外,与实施例12同样地操作,得到了在玻璃基板(Corning公司制EagleXG 150mm×150mm×0.5mm)的表面形成有2层[内层、外层]玻璃被膜的层叠体。
(实施例17~19)
如表1记载那样变更外层用的保护被膜形成用水溶液的增塑剂量,除此以外,与实施例12同样地操作,得到了在玻璃基板(Corning公司制,EagleXG 150mm×150mm×0.5mm)的表面形成有2层[内层、外层]玻璃被膜的层叠体。
(实施例20)
作为增塑剂,使用甘油18重量份来代替双甘油15重量份,将增塑剂的添加量、树脂含量、增塑剂含量设为如表1所示,除此以外,与实施例12同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液[外层用]。
使用所得到的保护被膜形成用水溶液[外层用],除此以外,与实施例12同样地操作,制作了形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例21)
不添加未改性的聚乙烯醇,将作为增塑剂的甘油100重量份溶解于水中并混合,制作了增塑剂含量为3重量%的保护被膜形成用水溶液[内层用]。
使用未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 205聚合度500,皂化度88摩尔%)100重量份来代替未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制SELVOL 203聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份,作为增塑剂,使用甘油18重量份来代替双甘油15重量份,将增塑剂的添加量、树脂含量、增塑剂含量设为如表1所示,除此以外,与实施例12同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液[外层用]。
使用所得到的保护被膜形成用水溶液[内层用]和保护被膜形成用水溶液[外层用],除此以外,与实施例12同样地操作,制作了形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例22)
(保护被膜形成用水溶液的制作)
按照表1所示的配合,与实施例1同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液。
使用所得到的保护被膜形成用水溶液,在玻璃中央部成为350℃的时刻,在玻璃基板上喷涂涂布1次,除此以外,与实施例1同样地操作,制作了形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例23)
在制作保护被膜形成用水溶液时将树脂含量从20重量%变更为3重量%,除此以外,与实施例22同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液和形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例24)
使用未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制,SELVOL 103,聚合度300,皂化度98.4摩尔%)来代替未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制,SELVOL 203,聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份,以表1的配合、浓度与实施例23同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例25)
作为涂布保护被膜形成用水溶液时的喷枪,使用WRA-M200(ANEST IWATA公司制口径0.8mmφ,雾化帽形式01),作为涂料供给设备,作为内层用压送泵,使用PT-10DW(ANESTIWATA公司制),作为外层用压送泵,使用PT-20DW(ANEST IWATA公司制),作为涂装机器人,使用EPX-1250DX100(安川电机公司制),将涂布保护被膜形成用水溶液[内层用]时的从喷枪的喷出量设为16g/30秒,将涂布保护被膜形成用水溶液[外层用]时的喷出量设为24g/30秒。
另外,喷涂条件如下设定,除此以外,与实施例18同样地操作,制作了形成有玻璃被膜的层叠体。
需要说明的是,作为喷涂条件,将保护被膜形成用水溶液[内层用]的压送泵的压力设为2.0MPa,将FCV(浮子控制阀)的喷出压力设为0.2MPa,将喷枪的喷漆压力(日文:パターン圧)设为0.125MPa,将雾化压力设为0.1MPa,将涂装机器人的涂装速度设为50mm/秒。
另外,将保护被膜形成用水溶液[外层用]的压送泵的压力设为0.2MPa,将FCV(浮子控制阀)的喷出压力设为0.5MPa,将喷枪的喷漆压力设为0.175MPa,将雾化压力设为0.1MPa,将涂装机器人的涂装速度设为50mm/秒。
(实施例26)
将玻璃基板温度设为150℃,除此以外,与实施例2同样地制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例27)
将玻璃基板温度设为150℃,除此以外,与实施例16同样地制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例28)
将树脂(PVA)含量设为30重量%,将玻璃基板温度设为100℃,不使用喷涂,而是使用辊涂机(FURNACE公司制,滑动涂布机)制作保护被膜,除此以外,与实施例2同样地制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例29)
不使用增塑剂,除此以外,与实施例28同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例30)
将保护被膜形成用水溶液[外层用]的树脂(PVA)含量设为30重量%,将玻璃基板温度设为150℃,不使用喷涂,而是使用辊涂机(FURNACE公司制,滑动涂布机)连续涂敷2次来制作保护被膜,除此以外,与实施例19同样地制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例31)
不使用增塑剂,除此以外,与实施例30同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。
(实施例32)
使用印刷布线板(L/S=15/15μm,布线高度=2μm,抗蚀剂表面的水接触角65°)来代替玻璃基板,将基材温度设为20℃,将水溶液组成如表1那样变更,除此以外,与实施例28同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有被膜的层叠体。
(实施例33)
使用印刷布线板(L/S=15/15μm,布线高度=2μm,抗蚀剂表面的水接触角65°)来代替玻璃基板,将基材温度设为20℃,将水溶液组成如表1那样变更,除此以外,与实施例29同样地操作,制作了保护被膜形成用水溶液、形成有被膜的层叠体。
(实施例34)
使用超薄型玻璃UTG(Corning公司制,Willow Glass 150mm×150mm×50μm)来代替玻璃基板(Corning公司制,EagleXG 150mm×150mm×0.5mm),将基材温度设为20℃,将水溶液组成如表1那样变更,除此以外,与实施例28同样地操作,制作了形成有被膜的层叠体。
(实施例35)
在保护被膜用水溶液中不添加增塑剂,将水溶液组成如表1那样变更,除此以外,与实施例34同样地制作了保护被膜形成用水溶液、形成有被膜的层叠体。
(实施例36)
使用涂装钢板(日本Testpanel株式会社制汽车用模拟面板)来代替玻璃基板(Corning公司制,EagleXG 150mm×150mm×0.5mm),将基材温度设为20℃,除此以外,与实施例2同样地制作了保护被膜形成用水溶液、形成有被膜的层叠体。
(比较例1)
不使用未改性的聚乙烯醇(积水化学工业公司制,SELVOL 203,聚合度300,皂化度88摩尔%)100重量份,仅将作为增塑剂的双甘油如表1所示制成水溶液,除此以外,与实施例1同样地操作,制作了增塑剂含量为5重量%的保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。被膜仅由作为增塑剂的双甘油和水分构成。
(比较例2)
如表1所示,仅将作为增塑剂的双甘油制成水溶液,除此以外,与比较例1同样地操作,制作了增塑剂含量为40重量%的保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。被膜仅由作为增塑剂的双甘油和水分构成。
(比较例3)
代替双甘油而将甘油作为增塑剂,如表1所示制作了水溶液,除此以外,与比较例1同样地操作,制作了增塑剂含量为3重量%的保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。被膜仅由作为增塑剂的甘油和水分构成。
(比较例4)
如表1所示,仅将作为增塑剂的甘油制成水溶液,除此以外,与比较例3同样地操作,制作了增塑剂含量为20重量%的保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体。被膜仅由作为增塑剂的甘油和水分构成。
<评价>
对实施例和比较例中得到的保护被膜形成用水溶液、形成有玻璃被膜的层叠体进行以下的评价。将结果示于表1和表2。
1.保护被膜形成用水溶液的评价
(接触角测定)
使用接触角计(协和界面科学公司制,DMo-502)和分析软件FAMAS(协和界面科学公司制),通过θ/2法(A half-angle Method),在温度23℃、湿度60%R/H下实施接触角测定。
作为测定条件,将液适量设为2μL,使用0.5mm厚度的玻璃(TEMPAX Float,SCHOTT公司制)作为接触角测定基板,在经时测定模式下,将直至测定为止的等待时间设为100msec。测定间隔为1000msec,反复进行5次测定。将评价结果中4100msec的5次数据进行平均而作为测定结果。所使用的玻璃基板的以离子交换水的接触角为37.5°。
需要说明的是,如果将保护被膜形成用水溶液与被粘物的接触角抑制得低,则在制膜时缩孔(日文:はじき)等被抑制,能够形成没有针孔等的均质的保护被膜。
(粘度测定)
将制作的保护被膜形成用水溶液分至取蛋黄酱瓶中并盖上盖子,在温度23℃、湿度60%RH下熟化2天(48小时)。使用旋转式粘度计(东机产业公司制,TVC-10),在温度23℃、湿度60%RH的条件下,通过依据JIS K7117-1的方法对熟化后的保护被膜形成用水溶液实施粘度评价。
需要说明的是,通过控制保护被膜形成用水溶液的粘度,能够容易地进行被膜形成。
通过使上述粘度不过高,从而特别是在喷涂制膜等工序中,发生拉丝而得到良好的被膜,进而能够防止周围的污染。通过使上述粘度不过低,从而能够防止发泡直径变得过大而损害被膜的均质性、或者干燥时间变得过长。
2.层叠体的评价
(厚度评价)
从所得到的形成有玻璃被膜的层叠体剥离玻璃被膜,使用恒压厚度测定机(例:TECLOCK公司制,PG-02J),通过依据JIS K6783的方法对玻璃被膜的厚度进行了测定。在难以剥离的情况下,利用上述恒压厚度测定机测定形成有玻璃被膜的层叠体的厚度,减去预先利用同样的方法测定的玻璃基板的厚度,将所得到的值用作厚度。需要说明的是,在比较例中,在被膜为液态的情况下,使用激光显微镜(形态解析激光显微镜,VK-X1050,KEYENCE公司制),将测量1mm×1mm的范围而得到的平均厚度作为被膜的厚度。
需要说明的是,通过使被膜的厚度不过薄,从而发挥作为保护膜的性能,通过使被膜的厚度不过厚,从而能够防止产生成本上升、干燥时间变长等工序上不适合的情况。
(表面粗糙度评价)
关于与基材相反面的主面的表面粗糙度Sa、Sz和Sdr,利用激光显微镜(例如:形态解析激光显微镜,VK-X1050,KEYENCE公司制)对所制作的形成有玻璃被膜的层叠体的与基材相反侧的主面(空气界面侧表面)测量3mm×3mm的范围。根据所得到的测量值,依据ISO25178算出各表面粗糙度。对其随机地测定10处,将平均值作为各自的值。将测定范围的外周以宽度3mm除去成口的字型,使基材露出,作为基准点。
基材侧的主面的表面粗糙度Sa、Sz和Sdr是从制作的形成有玻璃被膜的层叠体剥离玻璃被膜,同样地评价玻璃基材侧的主面而得到的。
需要说明的是,通过控制表面粗糙度,从而能够抑制将层叠有被膜的玻璃(层叠体)堆叠并保存、运输时的粘连。
(被覆率)
对于所得到的层叠体,通过目视确认玻璃被膜被覆的面积相对于玻璃基板的主面面积的比率,根据所得到的面积比(被覆率)按照以下的基准进行评价。
◎:90%以上的区域实现了被膜的被覆
○:小于90%且80%以上的区域实现了被膜的被覆
△:小于80%且70%以上的区域实现了被膜的被覆
×:被膜的被覆小于70%
需要说明的是,由于被膜的被覆率高,所以在从层叠有被膜的玻璃的被膜非被覆区域向玻璃表面的玻璃制造工序中,能够抑制浮游的微小碎玻璃附着。
(发泡性)
剥离所得到的层叠体的玻璃被膜,利用光学显微镜确认所剥离的被膜的截面,确认有无发泡,按照以下的基准进行评价。
○:发生了发泡
×:未确认到发泡
(发泡直径)
切割所得到的层叠体的玻璃被膜,用剃刀刀片沿着与厚度方向平行的面进行切断。
然后,使用数码显微镜(KEYENCE公司制,制品名VHX-900)拍摄200倍的放大照片,关于厚度方向的切断面,测定法线方向的最大发泡直径。
改变测定部位反复进行10次该操作,将观察到的发泡直径的平均值作为平均气泡直径。需要说明的是,各气泡的发泡直径设为:描绘与观察到的气泡内切的内切圆时的直径成为最大的内切圆的直径。
对于所得到的发泡直径(平均气泡直径),按照以下的基准进行评价。
◎:发泡直径为玻璃被膜的厚度的20%以上
〇:发泡直径小于玻璃被膜的厚度的20%且为5%以上
△:发泡直径小于玻璃被膜的厚度的5%且为1%以上
×:发泡直径小于玻璃被膜的厚度的1%
(密度)
用激光显微镜(Olympus公司制OLS4100,分析软件为Lest)以物镜20倍、高精度模式获取3mm见方的被膜的图像,计算体积。
接下来,将所测定的3mm见方的被膜从基材剥离、采集,利用称量计(MettlerToledo公司制XPE56)进行称量。将所得到的重量除以体积,算出密度。
需要说明的是,通过控制被膜的发泡直径、被膜的发泡倍率、密度,从而能够缓和搬运时、输送时等对制造玻璃的冲击,能够抑制表面损伤、破裂。
(结晶度)
对于由所得到的层叠体的玻璃被膜制作的试验片,使用XRD衍射装置(Rigaku公司制,Rint2500)进行X射线入射角2θ=2°~40°下的衍射光的测量,根据峰和光晕(日文:ハロー)的强度算出结晶度,按照以下的基准进行评价。
需要说明的是,测定条件设为:X射线管球为CuKα射线( ),X射线输出功率为40kV200mA,扫描方法为步进扫描(FT法),步进幅度为0.02,每1步进2秒钟反射强度。
另外,关于结晶度的测定,从层叠体剥离玻璃被膜,将与玻璃密合的面作为“玻璃界面”进行测定,将相反面作为“表面”进行测定。在2层构成的情况下也同样地将与玻璃密合的面作为“玻璃界面”进行测定,将相反面作为“表面”进行测定。
高:50%以上
中:小于50%且为30%以上
低:小于30%
需要说明的是,在结晶度低的情况下,被膜的基材侧表面被增塑化,对基材的粘接性变低,剥离、水溶除去变得容易,在被膜空气界面(表面)侧的结晶度高的情况下,粘接性变低,在被膜层叠玻璃的储存、搬送中进行层叠时能够抑制粘连。
(剥离·除去性)
[剥离性]
使用玻璃刀具(三星DIAMOND公司制,MS500),使用玻璃切割工具(三星DIAMOND公司制,Mrcs-APIO“Mrcs-ADP030065080-115000000A4”),从被膜侧将所得到的层叠体(150mm×150mm)切割周边10mm,制作130mm见方的样品。然后,使粘合带(积水化学工业公司制,Cellotape(注册商标)No.252,24mm宽)附着于角部,以约135°的角度进行剥离,按照以下的基准进行评价。
◎:被膜能够完全剥离
○:虽然被膜一部分残留,但被膜未完全撕裂,通过一次剥离能够剥离
△:虽然发生一部分断裂,但通过多次剥离能够剥离被膜
×:被膜断裂,无法剥离
需要说明的是,如果保护被膜的剥离性良好,则在玻璃制造中,能够更容易、简洁地实施后续工序中的清洗工序,能够得到由短节拍化带来的制造效率的提高和与此相伴的电力使用降低带来的环境影响降低、清洗水减少等环境影响降低的效果。
[180°剥离强度]
为了评价所制作的被膜与玻璃基板的粘接力,将所得到的层叠体(150mm×150mm)切割,制作25mm×150mm的带被膜的玻璃样品,作为180°剥离试验用样品。需要说明的是,切割方法与上述的[剥离性]的情况相同。
在被膜的整面贴附带基材的粘合带(胶带制品编号Splicing tape NO.642,寺冈制作所制)而实施背衬,然后将用粘合带背衬的被膜与粘合带一起用Tensilon万能材料试验机(RTF-2430,GL Science公司制)测定180°剥离强度。测定方法依据ISO29862:2007或JIS Z 0237:2009。
需要说明的是,在剥离被膜面时,以背衬面的背面重叠的方式把持胶带的端部并折回180°,将被膜面剥离25mm后,将剥离了被膜面的部分固定于试验机下侧的夹具,将带基材的粘合带固定于上侧的夹具。
在评价条件为300mm/sec、温度25℃、湿度50%的条件下实施。
需要说明的是,如果能够将剥离强度设定得低,则能够更容易地实施保护被膜的剥离。
[水溶性]
从所得到的层叠体剥离玻璃被膜1cm2,浸渍于装有10℃的水的烧杯中,按照以下的基准评价水溶性[10℃水溶性]。需要说明的是,对于加入了95℃的水时的水溶性[95℃水溶性]也进行评价。
○:在60秒以内溶解
△:在61秒以上且120秒以内溶解
×:在120秒以内不溶解
需要说明的是,如果保护被膜的水溶性良好,则即使玻璃存在剥离残留部分,在后续工序的清洗工序中也能够容易地从玻璃表面完全除去保护被膜。
此外,在由剥离产生的静电成为问题的情况下,通过不剥离而使其溶解,也能够进行无静电的保护被膜除去。
(被膜除去后残渣)
对从玻璃基板除去所得到的层叠体的玻璃被膜后的残渣进行评价。
需要说明的是,玻璃被膜的除去通过“1.利用剥离的除去”、“2.利用水清洗的除去”、“3.在剥离后利用水清洗的除去(剥离后水清洗)”这3种方法实施。
[1.利用剥离的除去]
将得到的层叠体(150mm×150mm)切割,制作10mm×10mm的带玻璃被膜的玻璃样品,通过剥离除去玻璃被膜。
[2.利用水清洗的除去]
对于所得到的层叠体(150mm×150mm)的玻璃被膜面,以最大蒸气压0.2MPa、2L/min从狭缝宽度0.1mm的喷嘴喷雾照射85~90℃的蒸气后,进行90℃的温水清洗,接着用狭缝喷嘴进行常温水清洗,除去玻璃被膜。
[3.剥离后利用水清洗进行的除去(剥离后水清洗)]
将所得到的层叠体(150mm×150mm)切割,制作10mm×10mm的带玻璃被膜的玻璃样品,通过剥离除去玻璃被膜。
接下来,对于通过剥离除去了玻璃被膜的样品,以最大蒸气压0.2MPa、2L/min从狭缝宽度0.1mm的喷嘴喷雾照射85~90℃的蒸气后,进行90℃的温水清洗,接着用狭缝喷嘴进行常温水清洗。
[XPS评价]
通过X电子分光(XPS,PHI5000 VersaProbe II,ULVAC-PHI公司制)对进行了“1.利用剥离的除去”、“2.利用水清洗的除去”、“3.在剥离后利用水清洗的除去(剥离后水清洗)”的部分的玻璃表面进行测定,进行了最外表面的残留物的组成和定量化。
关于测定条件,使用单色化AlKα(1486.6eV)作为光源,以光电子取出角45度、X射线光束直径200μm进行测定。
需要说明的是,关于与制作中使用的玻璃基板相同种类的玻璃基板,进行“2.利用水清洗的除去”,作为参考样品。
将测定中使用的玻璃基板(Corning公司制,EagleXG 150mm×150mm×0.5mm)本身通过与“2.利用水清洗的除去”相同的工序进行处理,对处理后的基板进行评价,碳原子量为14.0atom%。
实施玻璃表面的XPS评价,算出以参考样品的碳原子量(atom%)为基准的碳原子量(%)[(测定的碳原子量/参考样品的碳原子量)×100],按照以下的基准进行评价。需要说明的是,以参考样品为基准的碳原子量(atom%)与玻璃被膜除去后的无法目视的水平的残留被膜量成比例,其越少,表示被膜除去后的玻璃表面的基于清洗的清洁化越容易。
◎:碳原子量为150%以下
○:碳原子量超过150%且为250%以下
△:碳原子量超过250%且为400%以下
×:碳原子量超过400%
需要说明的是,如果除去保护被膜后的碳残留成分少,则能够更容易、简洁地实施洗剂的使用量降低等清洗工序,能够得到由短节拍化带来的制造效率的提高和由与此相伴的电力使用降低带来的环境影响降低、清洗水减少等环境影响降低的效果。
另外,能够容易地进行用于除去玻璃表面的有机残渣的刷清洗工序,能够减少由刷清洗导致的表面损伤等。
(储存性)
将所得到的2张层叠体(150mm×150mm)以玻璃被膜面彼此密合的方式重叠,从其上放置同尺寸以上的SUS板3.0kg,在25℃、50%RH的环境下放置1周。然后,进行2片层叠体的剥离,确认玻璃被膜的破损比例,按照以下的基准进行评价。
◎:玻璃被膜的破损比例为10%以下
○:玻璃被膜的破损比例超过10%且为30%以下
△:玻璃被膜的破损比例超过30%且为50%以下
×:玻璃被膜的破损比例超过50%
需要说明的是,如果储存性良好,则能够层叠更多的玻璃而暂时保存,能够提高玻璃制造中的效率。
(异物排除效果)
在所得到的层叠体的玻璃被膜侧干式喷涂二氧化硅粒子(平均粒径:3μm)0.05g,使其附着于被膜。接下来,剥离被膜,用光学显微镜确认15cm见方玻璃的中央部的5cm见方,按照以下的基准评价有无二氧化硅粒子。
◎:能够确认到10个以下的二氧化硅粒子
○:能够确认到11个以上且20个以下的二氧化硅粒子
△:能够确认到21个以上且50个以下的二氧化硅粒子
×:能够确认到51个以上的二氧化硅粒子
需要说明的是,如果保护被膜的异物排除效果高,则在制造玻璃时,能够保护玻璃表面不受折断玻璃时、因搬送错误导致的玻璃落下、飞散时产生的微小碎玻璃的影响。附着于玻璃表面的碎玻璃在品质管理上受到限制,如果超过基准,则作为不良品而无法制成制品。
(表面保护性:耐擦伤性)
在所得到的层叠体的玻璃被膜侧干式喷涂二氧化硅粒子(平均粒径:3μm)0.05g,使其附着于被膜,进一步在其上层叠相同尺寸的玻璃基板(Corning公司制,EagleXG 150mm×150mm×0.5mm),沿面方向摩擦。然后,剥离被膜,观察表面,按照以下的基准进行评价。
〇:表面无擦伤痕迹
×:表面有擦伤痕迹
需要说明的是,如果在表面上,在制造工序中产生的微小碎玻璃的附着多,则在搬送时、层叠储存时等,附着的碎玻璃发生移动,产生损伤玻璃表面的二次损伤,对成品率产生较大影响。
(环境适应性)
对于剥离后的被膜,评价是否具有土中生物降解性。在具有土中生物降解性的情况下,可以说具有环境适应性。
需要说明的是,能够通过水清洗除去的被膜能够完全溶解于水,与加入洗剂的凝胶球的包裹洗剂的膜等同样地,能够进行通常的下水道废弃,因此具有环境适应性。
〇:具有土中生物降解性
×:无土中生物降解性
需要说明的是,如果保护被膜具有生物降解性,则能够在不使世界上增加的废弃塑料问题变差的情况下废弃被除去的保护被膜。
[表1]
[表2]
产业上的可利用性
根据本发明,可以提供:能够形成在生产线、运输线上不易附着来自于基材的异物的被膜的保护被膜形成用树脂组合物;保护被膜;和层叠体。
Claims (15)
1.一种保护被膜形成用树脂组合物,其用于形成基材的保护被膜,
所述保护被膜形成用树脂组合物含有聚乙烯醇树脂、以及选自增塑剂和水中的至少1种。
2.根据权利要求1所述的保护被膜形成用树脂组合物,其利用旋转式粘度计测定时的粘度为1mPa·s以上且3Pa·s以下。
3.根据权利要求1或2所述的保护被膜形成用树脂组合物,其在温度23℃、湿度60%RH时与玻璃基板的接触角为10°以上且75°以下。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的保护被膜形成用树脂组合物,其中,增塑剂包含选自甘油、双甘油、二乙二醇、三羟甲基丙烷、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇中的至少1种。
5.一种保护被膜,其包含权利要求1~4中任一项所述的保护被膜形成用树脂组合物。
6.根据权利要求5所述的保护被膜,其中,保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sa为0.1μm以上且30μm以下。
7.根据权利要求5或6所述的保护被膜,其中,保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sz为10μm以上且300μm以下。
8.根据权利要求5~7中任一项所述的保护被膜,其中,保护被膜的与基材相反侧主面的表面粗糙度Sdr为0.1以上且30以下。
9.根据权利要求5~8中任一项所述的保护被膜,其中,保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sa为0.05μm以上且15μm以下。
10.根据权利要求5~9中任一项所述的保护被膜,其中,保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sz为8μm以上且240μm以下。
11.根据权利要求5~10中任一项所述的保护被膜,其中,保护被膜的基材侧主面的表面粗糙度Sdr为0.01以上且15以下。
12.一种层叠体,其具有权利要求5~11中任一项所述的保护被膜和基材。
13.根据权利要求12所述的层叠体,其中,保护被膜还在基材侧具有增塑剂层。
14.根据权利要求13所述的层叠体,其中,所述增塑剂层不包含聚乙烯醇树脂,或者所述增塑剂层的聚乙烯醇树脂含量少于保护被膜的聚乙烯醇树脂含量。
15.根据权利要求12~14中任一项所述的层叠体,其中,保护被膜与基材的剥离强度在180°剥离强度试验中为2.5N/25mm以下。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021-140321 | 2021-08-30 | ||
JP2022-067143 | 2022-04-14 | ||
JP2022067143A JP7271759B1 (ja) | 2021-08-30 | 2022-04-14 | 積層体 |
PCT/JP2022/032481 WO2023032939A1 (ja) | 2021-08-30 | 2022-08-30 | 保護皮膜形成用樹脂組成物、保護皮膜及び積層体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN117597406A true CN117597406A (zh) | 2024-02-23 |
Family
ID=89920653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202280047067.3A Pending CN117597406A (zh) | 2021-08-30 | 2022-08-30 | 保护被膜形成用树脂组合物、保护被膜和层叠体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN117597406A (zh) |
-
2022
- 2022-08-30 CN CN202280047067.3A patent/CN117597406A/zh active Pending
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PB01 | Publication | ||
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