CN117551953A - 一种高Sc含量Al-Sc合金靶材的激光细化方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种高Sc含量Al‑Sc合金靶材的激光细化方法,所述方法通过对Al‑Sc合金(Sc含量>5at.%)靶材进行激光处理,对其晶粒尺寸进行细化,调整晶体取向和晶界结构。激光扫描轨道平行于合金表面,扫描速度范围为100‑500mm/s,功率为90‑300W,扫描间距50‑150μm,基板温度为25‑150℃。本发明通过激光处理,使得晶粒尺寸从铸态200微米以上细化到50微米以下,低能孪晶界比例大于10%,使原有第二相细化或实现固溶态。本发明解决了铸态Al‑Sc合金靶材晶粒尺寸通常较大且不均匀的问题,可实现Al‑Sc靶材组织均匀、取向随机的Al‑Sc合金靶材的制备。

Description

一种高Sc含量Al-Sc合金靶材的激光细化方法
技术领域
本发明涉及一种高Sc含量Al-Sc合金靶材激光细化方法,属于Al-Sc合金组织调控技术和Al-Sc合金靶材制备的技术领域。
背景技术
氮化铝(AlN)是表面声波器件、谐波发射器等重要的材料。通过将钪(Sc)掺杂于AlN形成的Al1-xScxN具有更高的耦合效率和压电系数。在保持Al1-xScxN纤锌矿晶体结构的前提下,耦合效率随Sc含量的增加而提升,Sc含量可达到40at.%Sc。
制备Al1-xScxN薄膜的方法主要有两种,即分子束外延和磁控溅射。磁控溅射由于成本较低和具备大规模生产的潜力而更具吸引力。在磁控溅射反应中,Al-Sc合金靶材的组织对于精确控制Al1-xScxN薄膜的膜成分和Sc含量的均匀性至关重要。虽然工业上需要高Sc合金Al-Sc靶材,但Al-Sc合金中Al3Sc化合物的体积分数随着Sc含量的增加而增加,有序化合物Al3Sc不易变形,因此采用常规的锻造和轧制方法很难制造出晶粒细化的高Sc合金Al-Sc靶材。
铸态Al-Sc合金的晶粒尺寸通常较大且不均匀,因此与更细且随机取向的晶粒相比,其溅射性能较差,限制了Al-Sc靶材的高端应用。因此,需要对Al-Sc合金靶材的晶粒尺寸进行细化。有几种可能的方法来细化微观结构。一种方法是用粉末冶金法制备靶材,用反应-扩散过程将Al、Sc细粉烧结在一起。另一种方法是对铸态Al-Sc合金进行形变热处理。传统的加工方法,如轧制不适用制备Al-Sc合金靶材。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供一种高Sc含量Al-Sc合金靶材激光细化方法,所述方法应用激光处理对Al-Sc合金靶材的微观组织进行改性,表现在对Al-Sc合金靶材的晶粒尺寸进行细化,扩展增材制造Al-Sc合金靶材的可能性。
为实现上述目的,本发明的技术方案如下:
一种高Sc含量Al-Sc合金靶材激光细化方法,所述方法对Al-Sc合金靶材进行激光处理,目的是对其晶粒尺寸进行细化,调整晶体取向和晶界结构。
优选地,所述Al-Sc合金靶材的材质为Al-Sc合金,其中Sc的含量为5at.%-30at.%,余量为Al,及基于这些成分的三元及以上Al-Sc合金,如Al-Sc-N、Al-Sc-Zr合金、Al-Sc-Ti合金等。
优选地,所述Al-Sc合金靶材通过真空感应熔炼,使用石墨或铜模浇注方法制备得到,其晶粒尺寸≥200微米。
优选地,所述激光处理的扫描轨道平行于合金靶材表面,扫描速度为200-500mm/s,功率为90-300W,扫描间距为50-150μm,扫描策略为往复扫描,但本发明不限于此策略,基板温度为25-150℃。
本发明还提供了所述方法得到的Al-Sc合金靶材,其中晶粒尺寸细化至≤50微米,低能孪晶界比例>10%,使原有第二相细化或实现固溶态。
本发明具有以下优点:
本发明通过激光处理,使得晶粒尺寸从铸态200微米以上细化到50微米以下,低能孪晶界比例大于10%,使原有第二相细化或实现固溶态。本发明解决了铸态Al-Sc合金靶材晶粒尺寸通常较大且不均匀的问题,可实现Al-Sc靶材组织均匀、取向随机的Al-Sc合金靶材的制备。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为Al-10at%Sc铸态试样的显微组织,其中图1(a)为金相照片,图1(b)为取向成像(EBSD)。
图2为本发明实施例1的Al-10Sc低扫描速率样品合金显微组织,其中图2(a)为光学显微结构,图2(b)为取向成像,图2(c)为EBSD衬度对比图,图2(d)为相分布图(深色表示Al基体,浅色表示Al3Sc)。
图3为本发明实施例2的Al-10Sc合金低扫描速率样品的取向成像图,其中图3(a)为取向成像,图3(b)为孪晶界。
具体实施方式
为了使本发明的发明目的、技术方案和有益技术效果更加清晰,以下结合具体实施例对本发明进行详细说明。应当理解的是,本说明书中描述的实施例仅仅是为了解释本发明,并非为了限定本发明。
实施例1
一种高Sc含量Al-Sc合金靶材激光细化方法,所述方法对Al-Sc合金靶材(其材质为Al-10at.%Sc)进行激光处理。所述激光处理的扫描轨道平行于合金靶材表面,扫描速度为200mm/s,功率为95W,扫描间距为150μm,扫描策略为往复扫描,基板温度为25℃。
激光扫描前Al-10at.%Sc合金的铸态组织如图1所示,图1(a)的金相照片表明其由浅灰色Al基体和深灰色Al3Sc构成。图1(b)为背散射衍射(EBSD)的取向成像,该方法更好的揭示图中组织的不均匀性,且晶粒粗大。
图2为经过激光扫描的区域组织和未扫描区域的对比图,图2(a)为光学微结构,表明上部扫描组织比基体组织均匀,无明显第二相。图2(b)-图2(c)的EBSD取向成像图表示扫描的区域(即图片上部)晶粒尺寸细小,为3-5微米,而基体基本为单一取向,即粗大晶粒。表明本发明激光处理具有组织细化作用。此外,图2(d)为相分布图,在未激光处理区域可以观察到粗大的Al3Sc第二相,而在激光扫描区域未观察到第二相,表明激光处理后第二相细化或固溶于基体。
实施例2
一种高Sc含量Al-Sc合金靶材激光细化方法,所述方法对Al-Sc合金靶材(其材质为Al-10at.%Sc)进行激光处理。所述激光处理的扫描轨道平行于合金靶材表面,扫描速度为300mm/s,功率为95W,扫描间距为150μm,扫描策略为往复扫描,基板温度为25℃。
图3为激光处理区域的组织示意图,图3(a)为取向成像图,与实施例1类似,晶粒尺寸得到显著细化,晶粒尺寸同样小于5微米,表明原始铸态组织得到了显著细化。此外,图3(b)中的线为晶粒之间的特殊晶界,即孪晶界。经过激光处理后,特殊晶界比例显著增加,占大角度晶界的比例大于40%,远高于一般铝合金的特殊晶界比例(不超过1%)。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到各种等效的修改或替换,这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求确定的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种高Sc含量Al-Sc合金靶材激光细化方法,其特征在于,所述方法对Al-Sc合金靶材进行激光处理,目的是对其晶粒尺寸进行细化,调整晶体取向和晶界结构。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述Al-Sc合金靶材的材质为Al-Sc合金,其中Sc的含量为5at.%-30at.%,余量为Al。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述Al-Sc合金靶材的材质为基于所述Al-Sc合金的三元及以上Al-Sc合金。
4.根据权利要求2或3所述的方法,其特征在于,所述Al-Sc合金靶材通过传统铸造方法制备得到,其晶粒尺寸≥200微米。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述激光处理的扫描轨道平行于合金靶材表面,扫描速度为200-500mm/s,功率为90-300W,扫描间距为50-150μm,扫描策略为往复扫描,基板温度为25-150℃。
6.根据权利要求1至5任一项所述方法得到的Al-Sc合金靶材。
7.根据权利要求6所述的Al-Sc合金靶材,其特征在于,所述合金靶材中,晶粒尺寸细化至≤50微米,低能孪晶界比例>10%,使原有第二相细化或实现固溶态。
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