CN117518625A - 显示面板及其制备方法 - Google Patents

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CN117518625A
CN117518625A CN202310654615.5A CN202310654615A CN117518625A CN 117518625 A CN117518625 A CN 117518625A CN 202310654615 A CN202310654615 A CN 202310654615A CN 117518625 A CN117518625 A CN 117518625A
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王建兵
李毕荣
柴立
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Suzhou China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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Suzhou China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制备方法，显示面板包括显示区及围绕显示区的非显示区，非显示区包括框胶区以及设置于框胶区外侧的辅助区，通过在阵列基板面向彩膜基板的一面的辅助区设置有至少一个凹槽，和或，在彩膜基板面向阵列基板的一面的辅助区设置有至少一个凹槽，其中该凹槽用于收容从框胶区溢出的密封胶，以减少密封胶外溢超过切割线，从而避免显示面板在切割时造成粘连不开导致破片的问题。

Description

显示面板及其制备方法
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
随着显示屏的广泛应用，人们越来越希望显示屏具有较大的图像显示区域以及较小的边框，也就是要求显示屏的屏占比越来越大。因此，显示屏的边框也不断被压缩变窄。
LCD是通过彩膜基板与阵列基板贴合，彩膜基板或者阵列基板上均设置导电薄膜层，然后液晶层位于彩膜基板和阵列基板之间。而在目前的生产工艺中，为了实现高度的自动化和流水线生产，LCD是大板贴合形成母板，然后将母板切割成多个显示面板，在贴合过程中，在彩膜基板的贴合部上点胶，胶水在彩膜基板和阵列基板受压后展开将彩膜基板和阵列基板贴合固定。但是，由于压合设备能力有限且密封胶具有液态流动性，胶水受压后，胶水受压后的过量展开往往会超过切割刀的切割位置，从而导致切割母板时显示面板与显示面板之间有胶水黏结，从而造成显示面板与显示面板之间不易断开，从而造成显示面板的流水线作业受到影响，降低工作效率，往往还出现由于胶水黏结能力较强，导致在分离过程中容易造成裂片等不良现象。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种显示面板及其制备方法，以解决显示面板在切割时容易造成裂片的技术问题。
为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括显示区及围绕所述显示区的非显示区，所述非显示区包括框胶区以及设置于所述框胶区外侧的辅助区；其中，所述显示面板包括：阵列基板，从所述显示区延伸至所述非显示区；彩膜基板，与所述阵列基板相对设置，且从所述显示区延伸至所述非显示区；以及密封胶，设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间，且位于所述框胶区；其中，所述阵列基板面向所述彩膜基板的一面在所述辅助区设置有至少一个凹槽，用于收容从所述框胶区溢出的密封胶；和/或，所述彩膜基板面向所述阵列基板的一面在所述辅助区设置有至少一个凹槽，用于收容从所述框胶区溢出的密封胶；所述密封胶与所述显示面板的边缘之间的间距范围为150um-300um；任意一个所述凹槽与所述显示面板的边缘之间的间距范围为100um-270um。
进一步的，所述阵列基板面向所述彩膜基板的一面设有第一保护膜，所述第一保护膜在所述辅助区设置有至少一个所述凹槽；和/或，所述彩膜基板面向所述阵列基板的一面设有第二保护膜，所述第二保护膜在所述辅助区设置有至少一个所述凹槽。
进一步的，所述阵列基板包括：基板，从所述显示区延伸至所述非显示区；薄膜晶体管层，绝缘设置于所述基板上，且从所述显示区延伸至所述非显示区；所述第一保护膜设置于所述薄膜晶体管层上，且从所述显示区延伸至所述非显示区；所述第一保护膜包括：钝化层，设置于所述薄膜晶体管层上，且从所述显示区延伸至所述非显示区；平坦层，设置于所述钝化层上，且从所述显示区延伸至所述非显示区；其中，在所述辅助区，所述凹槽完全贯穿所述钝化层且与所述平坦层表面围设而成；或者，在所述辅助区，所述凹槽完全贯穿所述钝化层且下凹于部分所述平坦层。
进一步的，所述彩膜基板包括：盖板，从所述显示区延伸至所述非显示区；
色阻层，设置于所述盖板且远离所述阵列基板的一侧表面，所述色阻层位于所述显示区；所述第二保护膜设置于所述色阻层且远离所述阵列基板的一侧表面，所述第二保护膜从所述显示区延伸至所述非显示区；其中，在所述辅助区，所述凹槽下凹于部分所述第二保护膜。
进一步的，每一所述凹槽的截面形状呈梯形、三角形、多边形或者圆形；每一所述凹槽的开口形状呈三角形、方形、多边形或者圆形。
进一步的，至少两个所述凹槽彼此相连，且呈环状围设于所述密封胶的外周。
进一步的，所述密封胶未填充所述凹槽或部分填充所述凹槽。
为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括显示区及围绕所述显示区的非显示区，所述非显示区包括所述框胶区以及设置于所述框胶区外侧的所述辅助区，所述制备方法包括如下步骤：在一阵列基板和/或一彩膜基板的辅助区设置有至少一个凹槽；在所述阵列基板或者所述彩膜基板的框胶区涂布密封胶；将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对位贴合，形成一显示面板，其中，所述凹槽用于收容从所述框胶区溢出的密封胶；所述密封胶与所述显示面板的边缘之间的间距范围为150um-300um；任意一个所述凹槽与所述显示面板的边缘之间的间距范围为100um-270um。
进一步的，所述在一阵列基板的辅助区设置有至少一个凹槽的步骤包括：在一基板上制备一薄膜晶体管层，且从所述显示区延伸至所述非显示区；在所述薄膜晶体管层上制备一第一保护膜，且从所述显示区延伸至所述非显示区；以及在所述辅助区，对所述第一保护膜进行干蚀刻处理，使得所述第一保护膜设置有至少一个所述凹槽。
进一步的，在所述一彩膜基板的辅助区设置有至少一个凹槽的步骤包括：在一盖板上制备一色阻层，且从所述显示区延伸至所述非显示区；在所述色阻层制备一第二保护膜，且从所述显示区延伸至所述非显示区；在所述辅助区，对所述第二保护膜进行干蚀刻处理，使得所述第二保护膜设置有至少一个所述凹槽。
本发明的技术效果在于，提供一种显示面板及其制备方法，显示面板包括显示区及围绕显示区的非显示区，非显示区包括框胶区以及设置于框胶区外侧的辅助区。本申请通过在阵列基板面向彩膜基板的一面的辅助区设置有至少一个凹槽，和或，在彩膜基板面向阵列基板的一面的辅助区设置有至少一个凹槽，其中该凹槽用于收容从框胶区溢出的密封胶，以减少密封胶外溢超过显示面板的切割线，从而避免显示面板在切割时造成粘连不开导致破片的问题。任意一个所述凹槽与所述显示面板的边缘之间的间距范围为100um-270um，由此可以使得凹槽距离切割线很近，使得凹槽内部未容纳密封胶或部分容纳密封胶。
附图说明
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请实施例1提供的显示母板的结构示意图。
图2为本申请实施例1提供的显示面板的结构示意图。
图3为本申请实施例1提供的显示面板的平面图。
图4为本申请实施例1提供的显示面板的制备方法的流程图。
图5为本申请实施例1提供的阵列基板制备步骤的流程图。
图6为本申请实施例1提供的阵列基板的形成结构示意图。
图7为本申请实施例1提供的彩膜基板制备步骤的流程图。
图8为本申请实施例1提供的彩膜基板的形成结构示意图。
图9为本申请实施例2提供的显示面板的结构示意图。
图10为本申请实施例2提供的显示面板的制备方法的流程图。
图11为本申请实施例2提供的阵列基板制备步骤的流程图。
图12为本申请实施例2提供的阵列基板的形成结构示意图。
图13为本申请实施例2提供的彩膜基板制备步骤的流程图。
图14为本申请实施例2提供的彩膜基板的形成结构示意图。
图15为本申请实施例3提供的显示面板的结构示意图。
附图部件标识如下：
10、显示面板；K、切割线；AA、显示区；NA、非显示区；NA1、框胶区；NA2、辅助区；1、阵列基板；2、彩膜基板；3、液晶层；4、支撑柱；5、密封胶；P1、P2、凹槽；11、基板；12、薄膜晶体管层；13、第一保护膜；21、盖板；22、色阻层；23、第二保护膜。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。在本申请的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
实施例1
如图1所示，本实施例提供一种显示母板，显示母板包括至少两个阵列排布的显示面板10，两个相邻设置的两个相邻设置的显示面板10之间预设有一切割线K。如图1-2所示，每一显示面板10包括显示区AA及围绕显示区AA的非显示区NA，非显示区NA包括框胶区NA1以及设置于框胶区NA1外侧的辅助区NA2，切割线K位于两个相邻设置的显示面板10的辅助区NA2之间。本实施例通过在阵列基板1面向彩膜基板2的一面在辅助区NA2设置有至少一个凹槽P1，且该凹槽P1用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5，以减少密封胶5外溢超过显示面板10的切割线K，从而避免显示面板在切割时造成粘连不开导致破片的问题。
其中，所述密封胶5与所述显示面板10的边缘(切割线K)之间的间距L1的范围为150um-300um。任意一个所述凹槽P1与所述显示面板10的边缘(切割线K)之间的间距L2的范围为100um-270um。由此可以使得凹槽距离切割线很近，使得密封胶5在达到凹槽P1之前就凝固，进而使得凹槽P1内部未容纳密封胶5或部分容纳密封胶5。
如图2所示，本实施例中，显示面板10包括阵列基板1、彩膜基板2、液晶层3、支撑柱4以及密封胶5。其中，彩膜基板2与阵列基板1相对设置，且从显示区AA延伸至非显示区NA。液晶层3设置于阵列基板1与彩膜基板2之间，且位于显示区AA。其中，在液晶层3中设有间隔设置的支撑柱4，用于支撑阵列基板1和彩膜基板2。密封胶5设置于所阵列基板1与彩膜基板2之间，且位于框胶区NA1。
阵列基板1包括基板11、薄膜晶体管层12、第一保护膜13。
基板11从显示区AA延伸至非显示区NA。薄膜晶体管层12绝缘设置于基板11上，且从显示区AA延伸至非显示区NA。第一保护膜13设置于薄膜晶体管层12上，且从显示区AA延伸至非显示区NA。第一保护膜13在辅助区NA2设置有至少一个凹槽P1，本实施例图2中示例出了第一保护膜13在辅助区NA2设置有一个凹槽P1，在其他实施例中，第一保护膜13可以在辅助区NA2设置有多个凹槽P1，在此不一一赘述。第一保护膜13包括钝化层及平坦层，钝化层所采用的材质可以为氮化硅、氧化硅等，平坦层所用的材质可以为有机材料。钝化层设置于薄膜晶体管层12上，且从显示区AA延伸至非显示区NA。平坦层设置于钝化层上，且从显示区AA延伸至非显示区NA。
本实施例中，在辅助区NA2，凹槽P1完全贯穿钝化层且下凹于部分平坦层，该凹槽P1用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5，以减少密封胶5外溢超过切割线K，从而避免显示面板在切割时造成粘连不开导致破片的问题。在其他实施例中，在辅助区NA2，凹槽P1完全贯穿钝化层且与平坦层表面围设而成，只要能够达到用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5即可，在此不做特别的限定。
进一步的，每一凹槽P1的截面形状呈梯形、三角形、多边形或者圆形。其中，本实施例图2示例出了凹槽P1的截面形状呈三角形。结合图2所示，每一凹槽P1的底端面积小于凹槽P1的开口端面积，如此，使得凹槽P1在用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5时，还可以增大密封胶5与阵列基板1的接触面积，从而提高显示面板10的粘性。
如图3所示，每一凹槽P1的开口形状呈三角形、方形、多边形或者圆形。其中，本实施例图3示例出了每一凹槽P1的开口形状呈三角形。并且，至少两个凹槽P1彼此相连，且呈环状围设于密封胶5的外周，用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5。
彩膜基板2包括盖板21、色阻层22、第二保护膜23。
盖板21从显示区AA延伸至非显示区NA。色阻层22设置于盖板21下表面，色阻层22位于显示区AA。其中，色组层包括红色、绿色、蓝色等色阻，在该色阻层22中还设有与其同层设置的黑矩阵(图未示)。第二保护膜23设置于色阻层22下表面，第二保护膜23从显示区AA延伸至非显示区NA。
本实施例提供的显示面板10，通过在阵列基板1面向彩膜基板112的一面在辅助区NA2设置有至少一个凹槽P1，且该凹槽P1用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5，因此，将显示母板切割成若干个显示面板10时，以减少密封胶外溢超过显示面板10的切割线K，从而避免显示面板10在切割时造成粘连不开导致破片的问题。
如图4所示，本实施例还提供一种显示面板的制备方法，显示面板10包括显示区AA及围绕显示区AA的非显示区NA，非显示区NA包括框胶区NA1以及设置于框胶区NA1外侧的辅助区NA2，显示面板10的制备方法包括如下步骤S11-S13。
S11、在一阵列基板1的辅助区NA2设置有至少一个凹槽P1,参照图2或图6；
S12、在阵列基板1或者彩膜基板2的框胶区NA1涂布密封胶5,参照图2；
S13、将阵列基板1与彩膜基板2进行对位贴合，形成一显示面板,其中，从框胶区NA1溢出的密封胶5被收容于凹槽P1内，参见图2。
本实施例中，S11步骤具体包括阵列基板1制备步骤及彩膜基板2制备步骤。
如图5所示，阵列基板1制备步骤包括S101-S103。
S101、在一基板11上制备一薄膜晶体管层12，且从显示区AA延伸至非显示区NA，参照图6。
S102、在薄膜晶体管层12上制备一第一保护膜13，且从显示区AA延伸至非显示区NA，参照图6。具体的，依次在薄膜晶体管层12上制备钝化层和平坦层，且钝化层和平坦层均从显示区AA延伸至非显示区NA。其中，钝化层所采用的材质可以为氮化硅、氧化硅等，平坦层所用的材质可以为有机材料。
S103、在辅助区NA2，对第一保护膜13进行干蚀刻处理，使得第一保护膜13设置有至少一个凹槽P1，参照图6。具体的，在真空状态下，对平坦层和钝化层进行干蚀刻处理，例如，plasma轰击，使得凹槽P1完全贯穿钝化层且下凹于部分平坦层，该凹槽P1用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5，以减少密封胶5外溢超过切割线K，从而避免显示面板在切割时造成粘连不开导致破片的问题。在其他实施例中，在辅助区NA2，凹槽P1完全贯穿钝化层且与平坦层表面围设而成，只要能够达到用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5即可，在此不做特别的限定。
如图7所示，彩膜基板2制备步骤包括S111-S112。
S111、在一盖板21上制备一色阻层22，且该色阻层22位于显示区AA，参照图8。其中，色组层包括红色、绿色、蓝色等色阻，在该色阻层22中还设有与其同层设置的黑矩阵(图未示)。
S112、在色阻层22上制备一第二保护膜23，第二保护膜23从显示区AA延伸至非显示区NA，参照图8。
本实施例提供一种显示面板及其制备方法，显示面板包括显示区AA及围绕显示区AA的非显示区NA，非显示区NA包括框胶区NA1以及设置于框胶区NA1外侧的辅助区NA2，通过在阵列基板1面向彩膜基板2的一面的辅助区NA2设置有至少一个凹槽P1，该凹槽P1用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5，以减少密封胶5外溢超过显示面板10的切割线K，从而避免显示面板10在切割时造成粘连不开导致破片的问题。
实施例2
本实施例提供一种显示面板及其制备方法，其包括实施例1的大部分技术方案，其区别在于，在彩膜基板2侧设置至少一个用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5的凹槽P2，而不是在阵列基板1侧设置至少一个用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5的凹槽P2。
如图9所示，彩膜基板2面向阵列基板1的一面设有第二保护膜23，第二保护膜23在辅助区NA2设置有至少一个凹槽P2。
具体的，彩膜基板2包括盖板21、色阻层22、第二保护膜23。
盖板21从显示区AA延伸至非显示区NA。色阻层22设置于盖板21下表面，色阻层22位于显示区AA。其中，色组层包括红色、绿色、蓝色等色阻，在该色阻层22中还设有与其同层设置的黑矩阵(图未示)。第二保护膜23设置于色阻层22下表面，第二保护膜23从显示区AA延伸至非显示区NA。
本实施例中，在辅助区NA2，凹槽P2下凹于部分第二保护膜23，该凹槽P2用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5，以减少密封胶5外溢超过切割线K，从而避免显示面板在切割时造成粘连不开导致破片的问题。
进一步的，每一凹槽P2的截面形状呈梯形、三角形、多边形或者圆形。其中，本实施例图9示例出了凹槽P2的截面形状呈三角形。结合图7所示，每一凹槽P2的底端面积小于凹槽P2的开口端面积，如此，使得凹槽P2在用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5时，还可以增大密封胶5与彩膜基板2的接触面积，从而提高显示面板10的粘性。
如图10所示，本实施例还提供一种显示面板的制备方法，显示面板10包括显示区AA及围绕显示区AA的非显示区NA，非显示区NA包括框胶区NA1以及设置于框胶区NA1外侧的辅助区NA2，显示面板10的制备方法包括如下步骤S21-S23。
S21、在一彩膜基板2的辅助区NA2设置有至少一个凹槽P2，参照9或图14；
S22、在阵列基板1或者彩膜基板2的框胶区NA1涂布密封胶5，参照图7；
S23、将阵列基板1与彩膜基板2进行对位贴合，形成一显示面板，其中，从框胶区NA1溢出的密封胶5被收容于凹槽P2内，参照图9；
本实施例中，S21步骤具体包括阵列基板1制备步骤及彩膜基板112制备步骤。
如图11所示，阵列基板1制备步骤包括S201-S202。
S201、在一基板11上制备一薄膜晶体管层12，且从显示区AA延伸至非显示区NA，参照图12。
S202、在薄膜晶体管层12上制备一第一保护膜13，且从显示区AA延伸至非显示区NA，参照图12。具体的，依次在薄膜晶体管层12上制备钝化层和平坦层，且钝化层和平坦层均从显示区AA延伸至非显示区NA。其中，钝化层所采用的材质可以为氮化硅、氧化硅等，平坦层所用的材质可以为有机材料。
如图13所示，彩膜基板2制备步骤包括S211-S213。
S211、在一盖板21上制备一色阻层22，且该色阻层22位于显示区AA，参照图14。其中，色组层包括红色、绿色、蓝色等色阻，在该色阻层22中还设有与其同层设置的黑矩阵(图未示)。
S212、在色阻层22上制备一第二保护膜23，第二保护膜23从显示区AA延伸至非显示区NA，参照图14。
S213、在辅助区NA2，对第二保护膜23进行干蚀刻处理，使得第二保护膜23设置有至少一个凹槽P2，参照图14。具体的，在真空状态下，对第二保护膜23进行干蚀刻处理，例如，plasma轰击，使得第二保护膜23设置有至少一个凹槽P2，该凹槽P2用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5，以减少密封胶5外溢超过显示面板10的切割线K，从而避免显示面板10在切割时造成粘连不开导致破片的问题。
本实施例提供一种显示面板及其制备方法，显示面板包括显示区AA及围绕显示区AA的非显示区NA，非显示区NA包括框胶区NA1以及设置于框胶区NA1外侧的辅助区NA2，通过在彩膜基板2面向阵列基板1的一面的辅助区NA2设置有至少一个凹槽P2，该凹槽P2用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5，以减少密封胶5外溢超过显示面板10的切割线K，从而避免显示面板10在切割时造成粘连不开导致破片的问题。
实施例3
本实施例提供一种显示面板及其制备方法，其包括实施例1和2的全部技术方案，即，如图15所示，既在阵列基板1侧设置至少一个用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5的凹槽P1和P2，又在彩膜基板2侧设置至少一个用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5的凹槽P1和P2。
本实施例提供一种显示面板及其制备方法，通过在阵列基板1面向彩膜基板2的一面的辅助区NA2设置有至少一个凹槽P1和P2，以及在彩膜基板2面向阵列基板1的一面的辅助区NA2设置有至少一个凹槽P1和P2，其中这些凹槽P1和P2用于收容从框胶区NA1溢出的密封胶5，以减少密封胶5外溢超过显示面板10的切割线K，从而避免显示面板10在切割时造成粘连不开导致破片的问题。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括显示区及围绕所述显示区的非显示区，所述非显示区包括框胶区以及设置于所述框胶区外侧的辅助区；
其中，所述显示面板包括：
阵列基板，从所述显示区延伸至所述非显示区；
彩膜基板，与所述阵列基板相对设置，且从所述显示区延伸至所述非显示区；以及
密封胶，设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间，且位于所述框胶区；
其中，所述阵列基板面向所述彩膜基板的一面在所述辅助区设置有至少一个凹槽，用于收容从所述框胶区溢出的密封胶；和/或，所述彩膜基板面向所述阵列基板的一面在所述辅助区设置有至少一个凹槽，用于收容从所述框胶区溢出的密封胶；
所述密封胶与所述显示面板的边缘之间的间距范围为150um-300um；
任意一个所述凹槽与所述显示面板的边缘之间的间距范围为100um-270um。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述阵列基板面向所述彩膜基板的一面设有第一保护膜，所述第一保护膜在所述辅助区设置有至少一个所述凹槽；和/或，所述彩膜基板面向所述阵列基板的一面设有第二保护膜，所述第二保护膜在所述辅助区设置有至少一个所述凹槽。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括：
基板，从所述显示区延伸至所述非显示区；
薄膜晶体管层，绝缘设置于所述基板上，且从所述显示区延伸至所述非显示区；
所述第一保护膜设置于所述薄膜晶体管层上，且从所述显示区延伸至所述非显示区；所述第一保护膜包括：
钝化层，设置于所述薄膜晶体管层上，且从所述显示区延伸至所述非显示区；
平坦层，设置于所述钝化层上，且从所述显示区延伸至所述非显示区；
其中，在所述辅助区，所述凹槽完全贯穿所述钝化层且与所述平坦层表面围设而成；或者，在所述辅助区，所述凹槽完全贯穿所述钝化层且下凹于部分所述平坦层。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述彩膜基板包括：
盖板，从所述显示区延伸至所述非显示区；
色阻层，设置于所述盖板且远离所述阵列基板的一侧表面，所述色阻层位于所述显示区；
所述第二保护膜设置于所述色阻层且远离所述阵列基板的一侧表面，所述第二保护膜从所述显示区延伸至所述非显示区；
其中，在所述辅助区，所述凹槽下凹于部分所述第二保护膜。
5.根据权利要求3或4所述的显示面板，其特征在于，
每一所述凹槽的截面形状呈梯形、三角形、多边形或者圆形；
每一所述凹槽的开口形状呈三角形、方形、多边形或者圆形。
6.根据权利要求3或4所述的显示面板，其特征在于，
至少两个所述凹槽彼此相连，且呈环状围设于所述密封胶的外周。
7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述密封胶未填充所述凹槽或部分填充所述凹槽。
8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板包括显示区及围绕所述显示区的非显示区，所述非显示区包括所述框胶区以及设置于所述框胶区外侧的所述辅助区，所述制备方法包括如下步骤：
在一阵列基板和/或一彩膜基板的辅助区设置有至少一个凹槽；
在所述阵列基板或者所述彩膜基板的框胶区涂布密封胶；
将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对位贴合，形成一显示面板，其中，所述凹槽用于收容从所述框胶区溢出的密封胶；
所述密封胶与所述显示面板的边缘之间的间距范围为150um-300um；
任意一个所述凹槽与所述显示面板的边缘之间的间距范围为100um-270um。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在一阵列基板的辅助区设置有至少一个凹槽的步骤包括：
在一基板上制备一薄膜晶体管层，且从所述显示区延伸至所述非显示区；
在所述薄膜晶体管层上制备一第一保护膜，且从所述显示区延伸至所述非显示区；以及
在所述辅助区，对所述第一保护膜进行干蚀刻处理，使得所述第一保护膜设置有至少一个所述凹槽。
10.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述一彩膜基板的辅助区设置有至少一个凹槽的步骤包括：
在一盖板上制备一色阻层，且从所述显示区延伸至所述非显示区；
在所述色阻层制备一第二保护膜，且从所述显示区延伸至所述非显示区；
在所述辅助区，对所述第二保护膜进行干蚀刻处理，使得所述第二保护膜设置有至少一个所述凹槽。
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