CN117467065A - 树脂组合物及树脂膜 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种树脂组合物,其含有聚合物(A),该聚合物(A)至少具有源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元。

Description

树脂组合物及树脂膜
本申请发明是申请号为202080037012.5、发明名称为“树脂组合物及树脂膜”、申请日为2020年3月16日的申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种树脂组合物及树脂膜。
本申请基于2019年5月30日在日本申请的特愿2019-101097号主张优先权,并在此引用其内容。
背景技术
目前,TFT(thin-film-transistor,薄膜晶体管)型的液晶显示元件、磁头元件、集成电路元件、固体摄像元件等电子部件所具有的保护膜、层间绝缘膜、平坦化膜使用树脂膜。
例如,在液晶显示元件中,通常在使用感光性树脂组合物而形成的层间绝缘膜上形成氧化铟锡(ITO)等透明导电膜,且在其上形成液晶取向膜。因此,液晶显示元件所具有的层间绝缘膜于在其上形成透明电极膜的工序中被暴露于高温条件下。因此,对于作为液晶显示元件的层间绝缘膜使用的树脂膜的材料而言,使用能够形成透明性及显影性良好,而且耐热性优异的树脂膜的感光性树脂组合物。
例如,专利文献1中公开了将含有共聚物的感光性树脂组合物涂布于基板上,进行干燥而得到的树脂膜,该共聚物包含源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的重复单元和源自含有封闭的异氰酸酯基的不饱和化合物的重复单元。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2014/091818号
发明内容
发明所要解决的问题
但是,在使用现有的树脂组合物而形成的透明性及显影性良好的树脂膜中,要求进一步提高耐热性。
本发明是鉴于上述情况而完成的,其目的在于,提供一种能够形成透明性、显影性、耐热性优异的树脂膜的树脂组合物。
另外,本发明的目的在于,提供一种由本发明的树脂组合物的固化物制成的透明性、显影性、耐热性优异的树脂膜。
用于解决问题的手段
本发明者为了解决上述问题而进行了深入研究。
其结果发现,通过使含有聚合物(A)的树脂组合物固化,可以得到透明性、显影性、耐热性优异的树脂膜,该聚合物(A)至少具有源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元,从而想到了本发明。
即,本发明涉及以下方案。
[1]一种树脂组合物,其特征在于,含有聚合物(A),该聚合物(A)至少具有源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元。
[2]根据[1]所述的树脂组合物,所述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元与所述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的摩尔比为99.99:0.01~99.00:1.00。
[3]根据[1]或[2]所述的树脂组合物,所述聚合物(A)还具有源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元。
[4]根据[1]或[2]所述的树脂组合物,所述聚合物(A)中的所述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及所述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计含量为40~100摩尔%。
[5]根据[3]所述的树脂组合物,所述聚合物(A)中的所述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及所述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计含量为50~90摩尔%,
所述源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元的含量为1~20摩尔%。
[6]根据[1]~[5]中任一项所述的树脂组合物,其含有感光性成分(B)。
[7]根据[6]所述的树脂组合物,所述感光性成分(B)为含醌重氮基的化合物。
[8]根据[6]或[7]所述的树脂组合物,相对于所述聚合物(A)100质量份,含有5~60质量份的所述感光性成分(B)。
[9]根据[1]~[8]中任一项所述的树脂组合物,其含有热固化性树脂(C)。
[10]一种树脂膜,其由[1]~[9]中任一项所述的树脂组合物的固化物制成。
发明效果
根据本发明,能够提供一种能够形成透明性、显影性、耐热性优异的树脂膜的树脂组合物。
具体实施方式
以下,对本发明的树脂组合物及树脂膜进行详细说明。此外,本发明不限定于以下所示的实施方式。
[树脂组合物]
本实施方式的树脂组合物含有聚合物(A)。本实施方式的树脂组合物也可以含有聚合物(A),并且含有感光性成分(B)和/或热固化性树脂(C)。
(聚合物(A))
本实施方式的树脂组合物所含有的聚合物(A)至少具有源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元。聚合物(A)根据需要也可以包含具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体单元及源自其它单体的结构单元。
在本发明中,“(甲基)丙烯酸酯”是指选自甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯中的至少一种。
在本实施方式的树脂组合物中,通过聚合物(A)具有源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元,而被赋予碱可溶性。
作为源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元,具体而言,可举出源自(甲基)丙烯酸邻羟基苯酯的结构单元、源自(甲基)丙烯酸间羟基苯酯的结构单元、及源自(甲基)丙烯酸对羟基苯酯的结构单元。聚合物(A)可以仅具有源自这些取代基的键合位置不同的(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元中的一种,也可以具有源自这些取代基的键合位置不同的(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元中的两种以上。在源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元中,特别是从使用本实施方式的树脂组合物作为感光性树脂组合物时的显影性和合成聚合物(A)时的反应性的观点考虑,优选源自(甲基)丙烯酸对羟基苯酯的结构单元。
聚合物(A)中,源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元的含量优选为39.5~99.95摩尔%,更优选为44.5~94.9摩尔%,进一步优选为49.6~89.8摩尔%。如果上述结构单元的含量为39.5摩尔%以上,则具有更加优异的碱溶解性,成为能够形成具有良好的图案形状的树脂膜的树脂组合物。如果上述结构单元的含量为99.95摩尔%以下,则能够充分确保源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的含量,因此,可以得到更加优异的耐热性。
本实施方式的树脂组合物由于聚合物(A)具有源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元,因此,聚合物(A)的聚合度变高,成为聚合物的纯度高的聚合物(A)。因此,使本实施方式的树脂组合物固化而成的树脂膜的耐热性变得良好。
作为源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元,具体而言,可举出源自1,2-亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元、源自1,3-亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元、及源自1,4-亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元。聚合物(A)可以仅具有源自这些取代基的键合位置不同的亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元中的一种,也可以具有源自这些取代基的键合位置不同的亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元中的两种以上。在源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元中,特别是从合成聚合物(A)时的反应性的观点考虑,优选1,4-亚苯基二(甲基)丙烯酸酯。
聚合物(A)中,源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的含量优选为0.05~0.5摩尔%,更优选为0.1~0.45摩尔%,进一步优选为0.15~0.4摩尔%。根据需要也可以为0.15~0.25摩尔%或0.25~0.4摩尔%等。如果上述结构单元的含量为0.05摩尔%以上,则成为使树脂组合物固化而成的树脂膜的耐热性更良好的树脂组合物。如果上述结构单元的含量为0.5摩尔%以下,则能够充分确保源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元的含量,因此,成为能够形成具有良好的图案形状的树脂膜的树脂组合物。
聚合物(A)中的上述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元与上述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的摩尔比(源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元:源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元)优选为99.99:0.01~99.00:1.00,更优选为99.95:0.05~99.50:0.50。如果上述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元的上述摩尔比为99.00以上,则具有更加优异的碱溶解性,成为能够形成具有良好的图案形状的树脂膜的树脂组合物。如果上述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的上述摩尔比为0.01以上,则使由树脂组合物的固化物制成的树脂膜的耐热性提高的效果变得显著。
聚合物(A)中,上述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及上述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计的含量优选为40~100摩尔%,更优选为50~90摩尔%,进一步优选为60~85摩尔%。根据需要也可以为60~70摩尔%或70~85摩尔%等。如果上述结构单元的合计的含量为40摩尔%以上,则具有更加优异的碱溶解性,成为能够形成具有良好的图案形状的树脂膜的树脂组合物。
对于聚合物(A),特别是为了得到聚合物的纯度高的聚合物,且得到透明性、耐热性、显影性等各种特性良好的树脂膜,优选包含源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元。
作为上述源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元中的羟基烷基,优选为碳原子数1~8的羟基烷基,更优选为碳原子数2~6的羟基烷基。具体而言,可举出羟基乙基、羟基丙基、羟基丁基等。
作为上述源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元,具体而言,可举出源自(甲基)丙烯酸羟基甲酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、二乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2,3-二羟基丙酯、5-(2’-羟基乙基)双环[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二羟基双环[2.2.1]庚-2-烯、5,6-二(羟基甲基)双环[2.2.1]庚-2-烯、及5-羟基甲基-5-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯等单体的结构单元等。
聚合物(A)可以仅具有一种源自这些具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元,也可以具有两种以上源自这些具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元。在上述源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元中,特别是因为单体的取得性及合成聚合物(A)时的聚合性良好,所以优选源自(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯的结构单元和/或源自(甲基)丙烯酸2,3-二羟基丙酯的结构单元。
在聚合物(A)具有上述源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元的情况下,上述聚合物(A)中,上述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及上述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计的含量优选为50~90摩尔%,更优选为60~85摩尔%。根据需要也可以为60~70摩尔%或70~85摩尔%。如果上述结构单元的合计的含量为50摩尔%以上,则具有更加优异的碱溶解性,成为能够形成具有良好的图案形状的树脂膜的树脂组合物。
聚合物(A)中,上述源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元的含量优选为1~20摩尔%,更优选为5~15摩尔%。根据需要也可以为5~10摩尔%或10~15摩尔%。如果上述结构单元的合计的含量为1摩尔%以上,则聚合物纯度高,成为显影性良好的树脂组合物,故而优选。如果上述结构单元的合计的含量为20摩尔%以下,则相对地增加上述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及上述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的含量,能够确保良好的耐热性,故而优选。
对于聚合物(A),为了调整透明性、耐热性、密合性、耐化学品性、电特性、折射率、涂布性、显影性、保存稳定性、机械强度等,也可以包含源自上述三种以外的其它含有烯属不饱和基的单体的结构单元。
作为源自其它含有烯属不饱和基的单体的结构单元,例如,可举出源自苯乙烯、甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯等苯乙烯化合物;(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正十八烷基酯等(甲基)丙烯酸烷基酯;(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧基丁酯、乙烯基缩水甘油醚、烯丙基缩水甘油基醚、异丙烯基缩水甘油醚、乙烯基苄基缩水甘油醚等含有缩水甘油基的烯属不饱和单体;乙烯基环己烯一氧化物、(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯等含有脂环式环氧基的烯属不饱和单体;(甲基)丙烯酸;巴豆酸、马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸、乙烯基苯甲酸、(甲基)丙烯酸羧基苯酯、羧基苯基(甲基)丙烯酰胺、琥珀酸单[2-(甲基)丙烯酰氧基乙基]酯、ω-羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯、5-羧基双环[2.2.1]庚-2-烯等含有羧基的烯属不饱和单体或它们的酸酐;(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸二环戊基氧基乙酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等含有环状烃基的(甲基)丙烯酸酯;2,2-(甲基)丙烯酰氧基乙基糖苷;(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲氧基苯酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-4-羟基苯酯等含有芳香族基团的(甲基)丙烯酸酯;双环[2.2.1]庚-2-烯、5-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-甲氧基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-环己氧基羰基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-苯氧羰基双环[2.2.1]庚-2-烯等环烯化合物;1,3-丁二烯、异戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯等多烯烃;(甲基)丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙酸乙烯酯、邻羟基苯基(甲基)丙烯酰胺、间羟基苯基(甲基)丙烯酰胺、对羟基苯基(甲基)丙烯酰胺、3,5-二甲基-4-羟基苄基(甲基)丙烯酰胺、苯基马来酰亚胺、羟基苯基马来酰亚胺、环己基马来酰亚胺、苄基马来酰亚胺、(甲基)丙烯酸三氟甲酯等的结构单元。
聚合物(A)可以仅含有一种源自其它含有烯属不饱和基的单体的结构单元,也可以含有两种以上源自其它含有烯属不饱和基的单体的结构单元。在源自其它含有烯属不饱和基的单体的结构单元中,从调整碱显影性的观点考虑,优选包含源自选自苯乙烯化合物、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯中的一种以上的结构单元,特别是优选包含源自选自苯乙烯、(甲基)丙烯酸甲酯、及(甲基)丙烯酸缩水甘油酯中的一种以上的结构单元。
聚合物(A)中,源自其它含有烯属不饱和基的单体的结构单元的含量优选为5~45摩尔%,更优选为10~30摩尔%。
聚合物(A)的重均分子量Mw优选为1500~20000,更优选为3000~10000,进一步优选为5000~8000。根据需要也可以为5000~6500或6500~8000等。如果重均分子量为1500以上,则通过涂布包含聚合物(A)的树脂组合物而得到平坦的涂膜。并且,成为显影性优异,得到良好的图案形状的树脂组合物。而且,成为得到耐热性良好的树脂膜的树脂组合物。另外,如果重均分子量为20000以下,则成为灵敏度良好的树脂组合物,显影后的图案形状变得良好。
聚合物(A)的分子量分布(Mw/Mn)优选为1.1~5.0,更优选为1.1~4.0,进一步优选为1.1~2.5。根据需要也可以为1.1~1.8或1.8~2.5等。如果分子量分布为上述范围,则通过将树脂组合物曝光、显影,能够形成良好的图案。
作为制造聚合物(A)的方法,没有特别限定,例如可举出使用自由基聚合、阳离子聚合、阴离子聚合、配位阴离子聚合等聚合方法,将作为聚合物(A)的原料的单体聚合的方法。具体而言,优选使用在将作为聚合物(A)的原料的单体以10~50质量%的浓度与对于聚合反应呈惰性的溶剂混合的溶液中添加聚合引发剂,在70~120℃的温度下反应5~10小时而进行自由基聚合的方法。
聚合物(A)所具有的源自各单体的结构单元的含量(摩尔比)与作为聚合物(A)的原料的单体的摩尔比对应。因此,通过调整作为聚合物(A)的原料的单体的种类及摩尔比,可以得到以规定的含量(摩尔比)包含规定的结构单元的聚合物(A)。
作为制造聚合物(A)时所使用的聚合引发剂,例如可举出2,2’-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮双(2-丁腈)、2,2’-偶氮二异丁腈、二甲基-2,2’-偶氮二异丁酸酯、及1,1’-偶氮双(环己烷-1-腈)等偶氮系引发剂;过氧化苯甲酰、过氧化月桂酰、过氧化辛酰、过氧化乙酰、过氧化二叔丁基、过氧化叔丁基异丙苯、过氧化二异丙苯、过氧化乙酸叔丁酯、及过氧化苯甲酸叔丁酯等有机过氧化物。
关于制造聚合物(A)时所使用的聚合引发剂的使用量,相对于作为聚合物(A)的原料的单体合计100质量份,优选为1~15质量份,更优选为1~13质量份,进一步优选为2~10质量份。根据需要也可以为1~5质量份、5~8质量份或8~12质量份等。
作为制造聚合物(A)时所使用的溶剂,可举出甲醇、乙醇、1-丙醇、异丙醇、丁醇、乙二醇、丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、四氢呋喃、二二烷、甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丙酯、乙酸丁酯、乙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙酸3-甲氧基丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、乙二醇单丁基醚乙酸酯、二乙二醇单乙醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单甲醚、乙二醇单乙基醚、3-甲氧基丁醇、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单丁基醚、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、乳酸乙酯等。
在将聚合物(A)聚合时,出于调整分子量的目的,也可以使用链转移剂。作为链转移剂,具体而言,可举出辛基硫醇、壬基硫醇、癸基硫醇、十二烷基硫醇等烷基硫醇。
(感光性成分(B))
本实施方式的树脂组合物根据需要也可以含有感光性成分(B)。本实施方式的树脂组合物通过含有感光性成分(B),能够作为感光性树脂组合物使用。
感光性成分(B)只要是具有感光性的成分即可,没有特别限定,但优选使用含醌重氮基的化合物。含醌重氮基的化合物在涂布树脂组合物而形成的涂膜的未曝光部,抑制碱溶解性。另外,含醌重氮基的化合物在涂布树脂组合物而形成的涂膜的曝光部,产生羧酸而提高涂膜的碱溶解性,能够形成正型的图案。
作为含醌重氮基的化合物,例如可举出具有酚性羟基或醇性羟基的含有羟基的化合物与1,2-重氮萘醌磺酸卤化物的缩合物作为优选的例子。
具体而言,可举出2,3,4-三羟基二苯甲酮的1,2-重氮萘醌磺酸酯、2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮的1,2-重氮萘醌磺酸酯、2,3,4,4’-四羟基-3’-甲氧基二苯甲酮的1,2-重氮萘醌磺酸酯、2,4,6,3’,4’,5’-六羟基二苯甲酮的1,2-重氮萘醌磺酸酯、2-甲基-2-(2,4-二羟基苯基)-4-(4-羟基苯基)-7-羟基苯并二氢吡喃的1,2-重氮萘醌磺酸酯、2-[双{(5-异丙基-4-羟基-2-甲基)苯基}甲基]苯酚的1,2-重氮萘醌磺酸酯、1-[1-(3-{1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基}-4,6-二羟基苯基)-1-甲基乙基]-3-(1-(3-{1-(4-羟基苯基))-1-甲基乙基}-4,6-二羟基苯基)-1-甲基乙基)苯的1,2-重氮萘醌磺酸酯、4,6-双{1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基}-1,3-二羟基苯双(2,4-二羟基苯基)甲烷的1,2-重氮萘醌磺酸酯、双(对羟基苯基)甲烷的1,2-重氮萘醌磺酸酯、1,1,1-三(对羟基苯基)乙烷的1,2-重氮萘醌磺酸酯、1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷的1,2-重氮萘醌磺酸酯、4,4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚的1,2-重氮萘醌磺酸酯、3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-螺二茚-5,6,7,5’,6’,7’-己醇的1,2-重氮萘醌磺酸酯、2,2,4-三甲基-7,2’,4’-三羟基黄烷的1,2-重氮萘醌磺酸酯等,它们可以单独或组合两种以上使用。
特别是,作为含醌重氮基的化合物,为了提高光灵敏度,优选使用1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]苯-1,2-重氮萘醌-5-磺酸酯。
关于感光性成分(B)的含量,相对于聚合物(A)100质量份,优选为5~60质量份,更优选为10~50质量份。根据需要也可以为10~15质量份、15~25质量份、25~35质量份、或35~50质量份等。如果感光性成分(B)的含量为5质量份以上,则得到更良好的显影性。另外,如果感光性成分(B)的含量为60质量份以下,则由树脂组合物制成的涂膜的透明性、绝缘性、平坦性等变得更良好。
(热固化性树脂(C))
本实施方式的树脂组合物根据需要也可以含有热固化性树脂(C)。热固化性树脂(C)作为使树脂组合物交联的交联成分使用。
作为热固化性树脂(C),例如可举出甲基化三聚氰胺树脂、羟甲基化三聚氰胺树脂、羟甲基化脲树脂、羟甲基化苯并胍胺树脂、烷氧基烷基化三聚氰胺树脂、烷氧基烷基化脲树脂、烷氧基烷基化苯并胍胺树脂、羟甲基化酚醛树脂、烷氧基烷基化酚醛树脂、环氧化合物、氮丙啶化合物、氰酸酯化合物、异氰酸酯化合物、唑啉化合物、含酸酐基的化合物、含甲酰基的化合物等。
在这些热固化性树脂(C)中,在给予稳定性优异的树脂组合物这一点上,优选烷氧基烷基化脲树脂或烷氧基烷基化三聚氰胺树脂等含氮化合物、和/或环氧化合物。这些热固化性树脂(C)可以单独使用,也可以组合两种以上使用。
关于热固化性树脂(C)的含量,相对于聚合物(A)100质量份,优选为1~20质量份,更优选为5~15质量份。根据需要也可以为5~10质量份或10~15质量份等。如果热固化性树脂(C)的含量为1质量份以上,则通过涂布树脂组合物而形成的树脂膜的耐热性、耐化学品性、绝缘性等变得更良好。另外,如果热固化性树脂(C)的含量为20质量份以下,则树脂组合物的显影性变得更加良好。
(其它成分)
本发明的树脂组合物除聚合物(A)、作为任意成分的感光性成分(B)、作为任意成分的热固化性树脂(C)外,根据需要还可以含有溶剂、紫外线吸收剂、敏化剂、敏化助剂、增塑剂、增粘剂、分散剂、消泡剂、表面活性剂、密合助剂、热敏性酸生成化合物、着色剂等其它成分。
作为溶剂,使用将各成分均匀地溶解,不与树脂组合物中所含的各成分反应的溶剂。具体而言,作为溶剂,可举出与作为制造上述的聚合物(A)时所使用的溶剂示例的溶剂相同的溶剂。
在上述的溶剂中,在树脂组合物中所含的各成分的溶解性、与各成分的非反应性、由树脂组合物制成的涂膜的形成容易度等观点上,可以优选使用二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二甲基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、3-甲氧基丙酸甲酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯。另外,为了提高与这些溶剂一起涂布树脂组合物而形成的涂膜的膜厚的面内均匀性,也可以并用N-甲基吡咯烷酮、γ-丁内酯、N,N-二甲基乙酰胺等高沸点溶剂。
在树脂组合物包含溶剂的情况下,相对于树脂组合物中的溶剂以外的成分的合计100质量份,溶剂优选以100~4000质量份的范围使用,更优选以200~1000质量份的范围使用。
[树脂膜]
本实施方式的树脂膜由本实施方式的树脂组合物的固化物制成。
本实施方式的树脂膜通过对本实施方式的树脂组合物赋予光及热的至少一者,使树脂组合物固化而形成。
作为本实施方式的树脂组合物,使用包含聚合物(A)、感光性成分(B)、以及热固化性树脂(C)的组合物,在形成层间绝缘膜等具有规定的图案形状的树脂膜的情况下,例如可以通过按顺序进行下述的工序(1)~工序(7)的方法而形成。此外,在下述的工序(1)~工序(7)中,工序(4)及工序(6)为任选的工序,只要根据需要进行即可。
工序(1):在基板上以固化后的厚度(树脂膜的厚度)成为期望厚度的方式,涂布树脂组合物。
工序(2):通过烘烤(预烘烤)涂布树脂组合物的基板,形成涂膜。
工序(3):对由树脂组合物制成的涂膜的一部分照射活性光线或放射线而进行曝光。
工序(4):将具有曝光后的涂膜的基板进行后加热。
工序(5):使用显影液将曝光后的涂膜进行显影。
工序(6):将显影后的涂膜进行全面曝光。
工序(7):加热具有显影后的涂膜的基板,使涂膜热固化(后烘烤)。
工序(1)中使用的基板可以根据树脂膜的用途而选择。作为基板,例如使用如硅晶片那样的半导体基板、陶瓷基板、玻璃基板、金属基板、树脂基板等。
作为树脂组合物的涂布方法,可以使用公知的方法。例如,作为树脂组合物的涂布方法,可举出喷雾法、辊涂法、旋转涂布法、棒涂布法等。
就涂布树脂组合物的厚度而言,例如能够使固化后的厚度(树脂膜的厚度)为0.1~30μm。
工序(2)是为了使涂布于基板上的树脂组合物中的溶剂蒸发而进行的。预烘烤的温度及时间能够根据树脂组合物中的各成分的种类及含有比例、涂布的树脂组合物的厚度等而适当确定。预烘烤例如在60~130℃的温度下加热30秒~15分钟是适当的。在形成由本实施方式的树脂膜制成的层间绝缘膜的情况下,在预烘烤完成的时刻的膜厚例如优选为1~6μm的范围。
在工序(3)中,对于经由工序(1)及工序(2)而形成的由树脂组合物制成的涂膜,隔着具有规定的图案的掩膜照射活性光线或放射线,进行曝光。
作为活性光线或放射线,例如可举出g射线(波长436nm)、i射线(波长365nm)、KrF准分子激光、ArF准分子激光、X射线、电子束等。
作为活性光线或放射线的光源,可举出低压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、化学灯、准分子激光产生装置等。
曝光能量通常为10mJ/cm2~1000mJ/cm2,优选为20mJ/cm2~500mJ/cm2能量。
通过在工序(3)中进行曝光,在基板上的涂膜上形成被显影液显影了的区域和未被显影液显影的区域。在将由使用含醌重氮基的化合物作为感光性成分(B)的正型的树脂组合物制成的涂膜曝光的情况下,曝光部成为被水性显影液显影了的区域。
在工序(4)中,例如根据需要进行在70~130℃的温度下加热数秒~数分钟的后加热。
在工序(5)中,使用显影液将曝光后的涂膜显影。由此,涂膜中、被显影液显影了的区域被溶解,未被显影液显影的区域残留在基板上。其结果,形成具有期望的图案形状的涂膜。
作为工序(5)中所使用的显影液,例如可以使用氢氧化钠、氢氧化钾、硅酸钠、偏硅酸钠、氨、乙胺、正丙胺、二乙胺、二乙氨基乙醇、二正丙胺、三乙胺、甲基二乙胺、二甲基乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化四甲铵、氢氧化四乙铵、吡咯、哌啶、1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯、1,5-二氮杂双环[4,3,0]-壬-5-烯等碱(碱性化合物)的水溶液等水性显影液。
作为水性显影液,也可以使用在上述的碱的水溶液中添加有适量的甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂和/或表面活性剂的水溶液。
在工序(5)中,作为显影方法,可以适当利用充液法、浸渍法、摇动浸渍法、喷淋法等方法。显影时间可以根据树脂组合物的组成及显影液的种类等适当确定。显影时间例如可以设为30~120秒。在本实施方式中,优选对图案化成期望的图案形状的涂膜例如通过流水清洗进行冲洗处理。
工序(6)根据需要进行。通过将显影后的涂膜全面曝光,能够对图案化了的涂膜中残留的感光性成分(B)进行分解处理。通过进行工序(6),涂膜的光透射率提高。
进行全面曝光时的曝光能量优选为100~1000mJ/cm2
在工序(7)中,通过加热板、烘箱等,加热显影后的涂膜,使显影后的涂膜热固化(后烘烤)。为了使显影后的涂膜热固化,后烘烤的温度优选为120~250℃。后烘烤的时间根据加热设备的种类等适当确定。例如,在加热板上进行加热具有显影后的涂膜的基板的处理时,进行5~30分钟是适当的。例如,在烘箱中对具有显影后的涂膜的基板进行加热处理时,进行30~90分钟是适当的。
这样,形成于基板上的树脂膜是由本实施方式的树脂组合物的固化物制成的树脂膜,因此,绝缘性、透明性、耐热性优异。
因此,本实施方式的树脂膜能够用于有机电致发光(EL)显示装置、液晶显示装置、磁头元件、集成电路元件、固体拍摄元件等电子部件中的平坦化膜、层间绝缘膜、保护膜、微透镜等各种用途。特别是,本实施方式的树脂膜适于有机EL显示装置及液晶显示装置所具有的平坦化膜及层间绝缘膜。
另外,在本实施方式的树脂组合物含有着色剂的情况下,由其固化物制成的本实施方式的树脂膜的绝缘性、耐热性优异,并且颜色再现性良好。因此,本实施方式的树脂膜能够用于有机电致发光(EL)显示装置、液晶显示装置、磁头元件、集成电路元件、固体拍摄元件等电子部件中的黑色PDL(Pixel Defining Layer,像素定义层)、黑色矩阵、彩色滤光片、黑色柱状间隔物等材料。
实施例
以下,通过实施例及比较例对本发明进行更具体说明。此外,本发明不限定于以下的实施例。
(聚合物[A-1]的合成)
在具备回流冷却器及搅拌机的烧瓶中加入177质量份的甲基丙烯酸对羟基苯酯、1质量份的1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯、366质量份的作为溶剂的3-甲氧基丙酸甲酯、19质量份的作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈。然后,对烧瓶内进行氮气置换,一边搅拌一边使液温上升至85℃,反应7小时。得到包含聚合物[A-1]的聚合物溶液。
通过以下所示的方法测定得到的聚合物[A-1]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-1]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为7,100,分子量分布(Mw/Mn)为1.9。
另外,通过凝胶渗透色谱(GPC)根据除残留单体以外的聚合物成分的面积百分率算出聚合物[A-1]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为90%。
[重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)的测定]
使用凝胶渗透色谱(GPC),在下述的条件下进行测定,并以聚苯乙烯换算算出。
柱:东曹株式会社制TSK gel Super HM-N 3支
柱温度:40℃
试样:聚合物(A)的0.2%四氢呋喃溶液
洗脱溶剂:四氢呋喃
检测器:紫外检测器(东曹株式会社制UV-8320)
流速:0.6mL/min
(聚合物[A-2]的合成)
在具备回流冷却器及搅拌机的烧瓶中加入124质量份的甲基丙烯酸对羟基苯酯、1质量份的1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯、31质量份的苯乙烯、313质量份的作为溶剂的3-甲氧基丙酸甲酯、13质量份的作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈。然后,与聚合物[A-1]同样地使其反应,得到包含聚合物[A-2]的聚合物溶液。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定得到的聚合物[A-2]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-2]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为6,800,分子量分布(Mw/Mn)为1.9。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-2]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为91%。
(聚合物[A-3]的合成)
在具备回流冷却器及搅拌机的烧瓶中加入124质量份的甲基丙烯酸对羟基苯酯、1质量份的1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯、30质量份的甲基丙烯酸甲酯、313质量份的作为溶剂的3-甲氧基丙酸甲酯、14质量份的作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈。然后,与聚合物[A-1]同样地使其反应,得到包含聚合物[A-3]的聚合物溶液。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定得到的聚合物[A-3]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-3]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为6,900,分子量分布(Mw/Mn)为2.0。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-3]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为90%。
(聚合物[A-4]的合成)
在具备回流冷却器及搅拌机的烧瓶中加入142质量份的甲基丙烯酸对羟基苯酯、1质量份的1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯、10质量份的苯乙烯、13质量份的甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、332质量份的作为溶剂的3-甲氧基丙酸甲酯、13质量份的作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈。然后,与聚合物[A-1]同样地使其反应,得到包含聚合物[A-4]的聚合物溶液。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定得到的聚合物[A-4]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-4]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为6,700,分子量分布(Mw/Mn)为1.9。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-4]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为92%。
(聚合物[A-5]的合成)
在具备回流冷却器及搅拌机的烧瓶中加入142质量份的甲基丙烯酸对羟基苯酯、1质量份的1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯、10质量份的苯乙烯、12质量份的丙烯酸2-羟基乙酯、332质量份的作为溶剂的3-甲氧基丙酸甲酯、13质量份作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈。然后,与聚合物[A-1]同样地使其反应,得到包含聚合物[A-5]的聚合物溶液。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定得到的聚合物[A-5]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-5]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为7,100,分子量分布(Mw/Mn)为2.0。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-5]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为95%。
(聚合物[A-6]的合成)
在具备回流冷却器及搅拌机的烧瓶中加入142质量份的甲基丙烯酸对羟基苯酯、1质量份的1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯、28质量份的甲基丙烯酸缩水甘油酯、341质量份的作为溶剂的3-甲氧基丙酸甲酯、13质量份的作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈。然后,与聚合物[A-1]同样地使其反应,得到包含聚合物[A-6]的聚合物溶液。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定得到的聚合物[A-6]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-6]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为7,000,分子量分布(Mw/Mn)为1.8。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-6]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为91%。
(聚合物[A-7]的合成)
在具备回流冷却器及搅拌机的烧瓶中加入142质量份的甲基丙烯酸对羟基苯酯、1质量份的1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯、7质量份的丙烯酸2-羟基乙酯、34质量份的甲基丙烯酸缩水甘油酯、331质量份的作为溶剂的3-甲氧基丙酸甲酯、12质量份的作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈。然后,与聚合物[A-1]同样地使其反应,得到包含聚合物[A-7]的聚合物溶液。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定得到的聚合物[A-7]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-7]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为6,900,分子量分布(Mw/Mn)为1.9。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-7]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为92%。
(聚合物[A-8]的合成)
在具备回流冷却器及搅拌机的烧瓶中加入142质量份的甲基丙烯酸对羟基苯酯、1质量份的1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯、6质量份的苯乙烯、16质量份的甲基丙烯酸2,3-二羟基丙基酯、329质量份的作为溶剂的3-甲氧基丙酸甲酯、12质量份的作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈。然后,与聚合物[A-1]同样地使其反应,得到包含聚合物[A-8]的聚合物溶液。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定得到的聚合物[A-8]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-8]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为6,900,分子量分布(Mw/Mn)为1.8。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-8]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为92%。
(聚合物[A-9]的合成)
除变更1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯的使用量以外,与实施例1同样,得到聚合物[A-9]。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定得到的聚合物[A-9]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-9]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为7,200,分子量分布(Mw/Mn)为2.0。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-9]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为92%。
(聚合物[A-10]的合成)
除使用甲基丙烯酸邻羟基苯酯代替甲基丙烯酸对羟基苯酯,使用1,2-亚苯基二甲基丙烯酸酯代替1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯以外,与实施例1同样,得到聚合物[A-10]。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定得到的聚合物[A-10]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-10]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为7,000,分子量分布(Mw/Mn)为1.9。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-10]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为88%。
(聚合物[A-11]的合成)
除使用甲基丙烯酸间羟基苯酯代替甲基丙烯酸对羟基苯酯,使用1,3-亚苯基二甲基丙烯酸酯代替1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯以外,与实施例1同样,得到聚合物[A-11]。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定得到的聚合物[A-11]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-11]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为7,100,分子量分布(Mw/Mn)为2.0。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-11]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为89%。
(聚合物[A-12])
作为聚合物[A-12],使用羟基苯乙烯聚合物(商品名:Maruka Lyncur S-2P(丸善石油化学株式会社制))。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定聚合物[A-12]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-12]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为6,700,分子量分布(Mw/Mn)为2.0。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-12]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为90%。
(聚合物[A-13])
除不使用1,4-亚苯基二甲基丙烯酸酯以外,与实施例1同样,得到聚合物[A-13]。
通过与聚合物[A-1]同样的方法测定得到的聚合物[A-13]的重均分子量(Mw)及分子量分布(Mw/Mn)。其结果,聚合物[A-13]的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为7,000,分子量分布(Mw/Mn)为1.8。
另外,通过与聚合物[A-1]同样的方法算出聚合物[A-13]的聚合物纯度。其结果,聚合物纯度为87%。
关于聚合物[A-1]~[A-13],表1及表2中示出作为原料使用的单体的摩尔比、重均分子量(Mw)、分子量分布(Mw/Mn)、聚合物纯度。
此外,聚合物[A-1]~[A-13]的聚合物纯度基于以下所示的基准进行评价。
◎:92%以上
○:88~91%
×:87%以下
[表1]
[表2]
[感光性树脂组合物的制备]
(实施例1)
将通过上述的合成方法得到的包含聚合物[A-1]的聚合物溶液(35质量%浓度)100质量份、作为感光性成分的1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]苯-1,2-重氮萘醌-5-磺酸酯6.25质量份、作为热固化性树脂的烷氧基甲基化三聚氰胺树脂(三和化学株式会社制、商品名:ニカラックMW-30)2.10质量份混合于作为溶剂的3-甲氧基丙酸甲酯80质量份中并溶解。使用0.2μm的薄膜过滤器,过滤得到的溶液,制备实施例1的感光性树脂组合物。
(实施例2~11)
除使用通过上述的合成方法得到的包含聚合物[A-2]~[A-11]的聚合物溶液(35质量%浓度)代替包含聚合物[A-1]的聚合物溶液(35质量%浓度)100质量份以外,与实施例1同样地制备实施例2~11的感光性树脂组合物。
(比较例1)
除使用采用3-甲氧基丙酸甲酯作为溶剂的包含35质量%的聚合物[A-12]的聚合物溶液代替包含聚合物[A-1]的聚合物溶液(35质量%浓度)100质量份以外,与实施例1同样地制备比较例1的感光性树脂组合物。
(比较例2)
除使用通过上述的合成方法得到的包含聚合物[A-13]的聚合物溶液(35质量%浓度)代替包含聚合物[A-1]的聚合物溶液(35质量%浓度)100质量份以外,与实施例1同样地制备比较例2的感光性树脂组合物。
[特性的评价]
对于实施例1~11及比较例1、2的感光性树脂组合物,通过以下所示的方法,评价透明性、耐热透明性、耐热分解性、碱溶解速度。表1及表2中示出其结果。
〈透明性〉
在玻璃基板上涂布感光性树脂组合物,以使固化后的厚度成为2.6μm。接着,将涂布有感光性树脂组合物的玻璃基板在加热板上,在温度110℃下干燥(预烘烤)90秒,形成涂膜。然后,对干燥的涂膜使用作为光源的超高压汞灯,以曝光能量200mJ/cm2照射作为活性光线或放射线的g射线(436nm),进行全面曝光。接着,将具有曝光后的涂膜的玻璃基板放入烘箱中,在200℃下加热30分钟,使其热固化(后烘烤)而得到树脂膜。
对于这样得到的具有树脂膜的玻璃基板,使用分光光度计(UV-1650PC(株式会社岛津制作所制)),以玻璃基板为空白组,测定波长400~800nm的最低透射率,通过以下所示的基准进行评价。
◎(良好):95%以上
○(合格):90~94%
×(不合格):89%以下
〈耐热透明性〉
将上述〈透明性〉的评价中所使用的具有树脂膜的玻璃基板再次在空气中,在230℃下进行2小时的热处理,进一步在250℃下进行1小时的热处理。然后,使用分光光度计(UV-1650PC(株式会社岛津制作所制)),以玻璃基板为空白组,测定波长400~800nm的最低透射率,通过以下所示的基准进行评价。
◎(良好):93%以上
○(合格):90~92%
×(不合格):89%以下
〈耐热分解性〉
测定上述〈耐热透明性〉的评价中所使用的具有树脂膜的玻璃基板的膜厚。然后,将上述〈耐热透明性〉的评价中所使用的具有树脂膜的玻璃基板进行在200℃下加热30分钟的再加热。然后,测定再加热后的具有树脂膜的玻璃基板的膜厚,使用其算出再加热导致的树脂膜的膜厚减少率,通过以下所示的基准进行评价。
◎(良好):10%以下
○(合格):11~15%
×(不合格):16%以上
〈碱溶解速度〉
在硅晶片基板上涂布感光性树脂组合物,以使固化后的厚度成为2.6μm。接着,将涂布有感光性树脂组合物的硅晶片基板在加热板上,在温度110℃下干燥(预烘烤)90秒,形成涂膜。然后,对干燥的涂膜使用作为光源的超高压汞灯以曝光能量200mJ/cm2照射作为活性光线或放射线的g射线(435nm),经由正像掩膜进行全面曝光。
接着,将具有曝光后的涂膜的基板在作为显影液的2.38%氢氧化四甲铵水溶液中浸渍并显影,根据2.6μm的涂膜的显影时间算出每单位时间的涂膜的溶解速度(nm/s),通过以下所示的基准进行评价。
◎(良好):151~500nm/s
○(合格):101~150nm/s
×(不合格):100nm/s以下
如表1及表2所示,实施例1~11的感光性树脂组合物的透明性、耐热透明性、耐热分解性、碱溶解速度的评价均为◎(良好)或○(合格)。
特别是,包含还具有源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元的聚合物[A-4][A-5][A-7][A-8]的实施例4、5、7、8、包含源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元多的[A-9]的实施例9的透明性、耐热透明性、耐热分解性、碱溶解速度的评价均为◎(良好)。
与之相对,包含不含源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的聚合物[A-12]的比较例1的感光性树脂组合物的耐热透明性的评价为×(不合格),耐热性为不充分。
另外,包含不含源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的聚合物[A-13]的比较例2的感光性树脂组合物的耐热分解性的评价为×(不合格),耐热性为不充分。
产业上的可利用性
根据本发明,提供能够形成显影性优异、透明性、耐热性优异的树脂膜的树脂组合物。通过本发明得到的树脂膜能够用于有机EL显示装置及液晶显示装置中所使用的平坦化膜、层间绝缘膜、保护膜、微透镜等各种用途。

Claims (14)

1.一种树脂组合物,其特征在于,含有聚合物(A),该聚合物(A)至少具有源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元,并且还具有源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元。
2.根据权利要求1所述的树脂组合物,所述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元与所述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的摩尔比为99.99:0.01~99.00:1.00。
3.根据权利要求1或2所述树脂组合物,所述聚合物(A)中的所述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及所述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计含量为40~100摩尔%。
4.根据权利要求1或2所述树脂组合物,所述聚合物(A)中的所述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及所述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计含量为50~90摩尔%。
5.根据权利要求1或2所述树脂组合物,所述聚合物(A)中的所述源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元的含量为1~20摩尔%。
6.根据权利要求1所述的树脂组合物,所述聚合物(A)中的所述源自(甲基)丙烯酸羟基苯酯的结构单元及所述源自亚苯基二(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计含量为50~90摩尔%,
所述源自具有羟基烷基及烯属不饱和基的单体的结构单元的含量为1~20摩尔%。
7.根据权利要求1、2、6中任一项所述的树脂组合物,其含有感光性成分(B)。
8.根据权利要求7所述的树脂组合物,所述感光性成分(B)为含醌重氮基的化合物。
9.根据权利要求7所述的树脂组合物,相对于所述聚合物(A)100质量份,含有5~60质量份的所述感光性成分(B)。
10.根据权利要求1、2、6中任一项所述的树脂组合物,其含有热固化性树脂(C)。
11.根据权利要求1、2、6中任一项所述的树脂组合物,所述聚合物(A)还含有源自选自苯乙烯化合物和含有缩水甘油基的烯属不饱和单体中的1种以上单体的结构单元。
12.根据权利要求1、2、6中任一项所述的树脂组合物,所述聚合物(A)的重均分子量Mw为1500~20000。
13.根据权利要求1、2、6中任一项所述的树脂组合物,所述聚合物(A)的分子量分布Mw/Mn为1.1~2.5。
14.一种树脂膜,其由权利要求1~13中任一项所述的树脂组合物的固化物制成。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4204106B2 (ja) * 1998-08-12 2009-01-07 三菱レイヨン株式会社 被覆材組成物
JP4713262B2 (ja) * 2005-07-22 2011-06-29 昭和電工株式会社 感光性の樹脂組成物
JP4955276B2 (ja) * 2006-02-03 2012-06-20 昭和電工株式会社 ヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート組成物、その製造方法及びポリマーの製造方法
JP5039820B2 (ja) * 2010-09-27 2012-10-03 昭和電工株式会社 二価フェノール類モノ(メタ)アクリレートを製造する方法
KR101580028B1 (ko) * 2011-07-25 2015-12-24 쇼와 덴코 가부시키가이샤 방향족 디올 모노(메타)아크릴레이트의 제조방법
JP6258866B2 (ja) * 2012-12-14 2018-01-10 昭和電工株式会社 感光性樹脂組成物及び樹脂膜
MX2016011732A (es) * 2014-03-11 2017-02-13 Mitsubishi Rayon Co Composicion de resina curable por rayos de energia activa y lente de faro de automovil.
JP2015215453A (ja) * 2014-05-09 2015-12-03 日立化成株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置

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