CN117380634A - 一种硅片清洗系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及硅片生产技术领域，具体涉及一种硅片清洗系统，主要包括第一漂洗槽、药水槽、第二漂洗槽、溢流清洗槽、慢提拉装置、烘干装置和下料机构。在药水槽环节，溢流槽道布置于药剂槽体的顶部，便于连接形成循环水路的药剂进水管、药剂出水管、药剂泵和过滤器，提高药剂的利用率。再者，超声波振板与药洗托架之间设置有可抬离的过滤网，便于将清洗过程中产生的碎渣、破碎硅片清理。在溢流清洗槽环节，从最前方的一个洗片槽注水，当第一个洗片槽的水位超过第一隔板的顶部时，水则溢到溢流间隙，从第二隔板的底部流道后一个洗片槽，水是从底部溢到下一个洗片槽，槽体底部的水流动性好，避免了污水在槽内停留形成不流动的死水区域，保障清洗效果。

Description

一种硅片清洗系统

技术领域

本发明涉及硅片生产技术领域，具体涉及一种硅片清洗系统。

背景技术

晶体硅作为太阳能电池的主要原料，在推动世界光伏产业的发展中起到了举足轻重的作用。在太阳能电池的制造中，晶体硅占整个电池制造成本的68.5％，其中硅片(切片后)占12.3％。因此提高晶体硅在各道加工工序中的成品率是降低太阳能电池成本的一个关键步骤。

在硅片加工过程中，所有与硅片接触的外部媒介都可能是硅片污染物的来源。由此可知，硅片表面的污染物来源主要有：加工器械带来的污染，加工液的污染、环境污染、操作人员带来的污染以及加工过程中硅片表面发生化学反应产生的污染等。

随着太阳能工业的发展，对硅片表面洁净度的要求也越来越高，这在一定程度上促进了硅片清洗技术的发展，也促进了人们对硅片清洗工艺的研究。硅片表面的湿法清洗是半导体和太阳能电池领域非常重要的一个环节，在半导体工业中，由于表面清洗不干净引起的芯片失效已超过制造环节总损失的一半以上，其清洗质量、清洗效率的高低将直接影响到产品的性能乃至可靠性、稳定性。在太阳能电池制造流程中，硅片需要经过多次清洗的环节以保证杂质、污染物、金属离子等成分的去除，清洗质量的好坏对太阳能电池的转换效率、可靠性、稳定性同样有极大的影响。

槽式清洗是硅片的主要清洗方式，在槽式清洗中，通过槽中的含有化学品的清洗液和硅片表面发生一系列的化学反应来减少硅片表面的金属和颗粒等杂质的含量。槽式清洗过程中，由超纯水和化学品液混合而成的清洗液中的化学品的浓度对于硅片的清洗效果是重要的，比如在配制清洗液的过程中，超纯水和化学品液的量应当足够精确以获得化学品浓度精确的清洗液，再比如，由于化学品是挥发性的，在利用清洗液清洗硅片的过程中，清洗液的浓度会发生变化，需要向清洗液中补充化学品液来补偿浓度发生的变化。

存在的技术问题：

现有的药剂槽包括内槽和外槽，内槽设置在外槽的内部，内槽的外壁与外槽的内壁之间形成溢流排水道，由于内槽的周围被外槽阻挡，内槽中的液体不易实现循环流动节能。再者，药剂清洗过程中会产生碎渣，或花篮中部分硅片不慎破碎落在内槽中难以清理。

现有的对硅片连续清水清洗的连体清洗槽，设置有多个槽体，装有硅片的花篮依次搬运到不同的槽体浸泡清洗，不同的槽体之间通过隔板分隔，且前一个槽体水位比后一个槽体的水位要高，这样前面的槽体满水之后则漫过隔板流到下一个槽体。这样存在问题：不同槽体之间的水是从顶面传递，槽体的水流动性差，浑水容易停留形成死水区域，影响清洗效果。再者，目前业内的采用的清洗后的硅片主要采用敞开式加热通道以吹强热风的形式加热烘干，然而这种方式热风不均匀，对硅片存在过热烧黑的可能性，影响硅片生产效率。

发明内容

针对现有技术存在上述技术问题，本发明提供一种硅片清洗系统。

为实现上述目的，本发明提供以下技术方案：

提供一种硅片清洗系统，包括朝前依次布置的第一漂洗槽、药水槽、第二漂洗槽、溢流清洗槽、慢提拉装置、烘干装置和下料机构，药水槽包括开口朝上的药剂槽体，药剂槽体内部设置有超声波振板、用于承托装载有硅片的花篮的药洗托架、以及固定于药剂槽体顶部周缘的溢流槽道，药剂槽体的侧壁顶部设置有消泡齿牙，超声波振板位于药洗托架的下方，且超声波振板与药洗托架之间设置有可抬离的过滤网；药剂槽体连接有依次连接形成循环水路的药剂进水管、药剂出水管、药剂泵和过滤器；

溢流清洗槽包括连体依次布置的多个洗片槽，装在有硅片的花篮朝前依次放入不同的洗片槽，且在前的洗片槽中的液体朝后溢流至其后相邻的洗片槽；相邻的两个洗片槽之间设有竖立并列布置的第一隔板和第二隔板，第一隔板与第二隔板之间留有溢流间隙，第一隔板底部固定于槽底而顶部低于槽顶，第二隔板的顶部高于第一隔板的顶部，第二隔板的底部与槽底之间留有过液通道，以使得在前的洗片槽的液体经由第一隔板的顶部-溢流间隙-过液通道进入相邻的在后洗片槽；

烘干装置包括箱体，箱体的开口朝上并设有箱盖来盖住该开口，箱体内设有用于放置装载有硅片的花篮的烘干腔，箱体的侧壁设有进风通道，箱盖的底部设有匀风隔层，匀风隔层的底部开有网孔，箱体的底部设有出风通道，进风通道-匀风隔层-网孔-烘干腔-出风通道依次连通形成风道，风道连接有热风机。

具体的，药剂槽体的内壁设置有用于支撑药洗托架的止位凸起；药剂槽体的内壁对应药剂进水管之处设置有导流罩，导流罩与药剂槽体的内壁围成开口朝下的导流通道。

具体的，药剂槽体的底部截面呈梯形，其包括与其侧壁衔接的斜底壁和衔接两个斜底壁的平底壁；平底壁倾斜布置，且在其低位连接有排污口和掏渣口。

具体的，溢流槽道包括整体呈“[”形的底壁、立壁和顶壁，底壁密封地固定于药剂槽体的靠近端口的外壁，底壁连接有溢流接管。

具体的，慢提拉装置包括两组分隔竖立布置的提拉支撑轨，每组提拉支撑轨可滑动地设有提拉梁；还包括用于驱动提拉梁沿提拉支撑轨上下运动的提拉驱动组件；

还包括花篮支撑机构，其包括支承在提拉梁上的提拉承托架和用于放置装载有硅片的花篮的摇摆托板，摇摆托板的相对两侧部分别设有摆轴，提拉承托架设置有支撑轴承，所述摆轴与支撑轴承相配合，从而使摇摆托板可摆动地设置在提拉承托架上方，摆轴布置于摇摆托板的偏心位置，以使得摇摆托板经由其上的重力而往预设方向偏摆。

具体的，每组提拉支撑轨包括两条提拉导杆和两条衔接板，两条提拉导杆并列布置，两条提拉导杆的两端经由衔接板相互固定，提拉梁的两端经由直线轴承连接于两条提拉导杆上；提拉驱动组件包括提拉电机、安装于衔接板的提拉链轮和配合提拉链轮的提拉链条，提拉电机经由提拉链轮带动提拉链条移动，提拉梁与提拉链条相固定。

具体的，提拉驱动机构还包括同步提拉轴，同步提拉轴亦设置有所述提拉链轮，提拉电机带动同步提拉轴转动，进而同步带动两组提拉梁同步升降；提拉导杆下端的衔接板开有供提拉链条穿过的让位孔。

具体的，提拉承托架包括横向架体和固定于横向架体两端部的竖向架体，竖向架体的上端设有搭在提拉梁上的折弯部，摇摆托板设置在横向架体上；横向架体的宽度比摇摆托板的宽度大，以使得摇摆托板偏摆后其侧部抵住横向架体的顶部，进而限制摇摆托板的摆动角度。

具体的，出风通道经由热风机连通进风通道，以使热风在风道中循环流动；箱体的相向的两侧壁分别设有所述进风通道。

具体的，烘干装置还包括开盖机构，其用于将箱盖朝上提起以及横移错开箱体的开口；开盖机构包括沿箱盖横移方向布置的开盖导轨、可滑动地安装于开盖滑轨上的开盖支架、用于驱动开盖支架滑动的移盖驱动件、可升降地安装于开盖支架的提盖板、可沿靠近/远离箱盖侧部滑动的卡板，卡板设有用于卡住箱盖侧部的抓板卡钳，提盖板设置有用于驱动卡板滑动的抓板驱动件，开盖支架设有用于驱动提盖板上下运动的提盖驱动件；烘干腔的数量为多个，多个烘干腔并列布置，开盖导轨沿多个烘干腔并列方向布置，多个烘干腔共用一组开盖机构。

本发明的有益效果：

本发明的一种硅片清洗系统，与现有技术相比，具有以下优势：

在药水槽环节，溢流槽道布置于药剂槽体的顶部，因此药剂槽体的其它部位便于连接形成循环水路的药剂进水管、药剂出水管、药剂泵和过滤器，提高药剂的利用率，更节能化；再者，超声波振板与药洗托架之间设置有可抬离的过滤网，便于将清洗过程中产生的碎渣、破碎硅片清理。

在溢流清洗槽环节，从最前方的一个洗片槽注水，当第一个洗片槽的水位超过第一隔板的顶部时，水则溢到溢流间隙，从第二隔板的底部流道后一个洗片槽，依此直到各洗片槽都注满水。与现有技术相比，水是从底部溢到下一个洗片槽，槽体底部的水流动性好，避免了污水在槽内停留形成不流动的死水区域，保障清洗效果。

附图说明

图1为实施例中的一种硅片清洗系统的结构示意图。

图2为实施例中的药水槽的结构示意图。

图3为实施例中的药水槽的剖视图。

图4为实施例中的药水槽的另一截面的剖视图。

图5为实施例中的药剂槽体的结构示意图。

图6为实施例中的溢流清洗槽的结构示意图。

图7为实施例中的溢流清洗槽的剖视图。

图8为实施例中的溢流清洗槽的水流方向示意图。

图9为实施例中的慢提拉装置的结构示意图，放置有一排花篮(隐藏了硅片)。

图10为图9局部放大视图。

图11为实施例中的慢提拉装置的另一角度的结构示意图。

图12为实施例中的烘干装置的结构示意图。

图13为实施例中的烘干装置的另一角度的结构示意图.

图14为图2中局部放大视图。

图15为实施例中的烘干热风路线示意图。

附图标记：

第一漂洗槽12、药水槽8、第二漂洗槽13、溢流清洗槽9、慢提拉装置10、烘干装置11和下料机构14。

药剂槽体801、消泡齿牙8011、导流罩8012、斜底壁8013、平底壁8014、排污口8015、掏渣口8016；超声波振板802；药洗托架803、横架体8031、竖架体8032、折弯架8033、阻挡翻边8034、限位槽8035；溢流槽道804、底壁8041、立壁8042、顶壁8043、溢流接管8044；药剂进水管805、药剂出水管806、药剂泵807、过滤器808、电热管809、踏板810。

洗片槽901、第一隔板902、第二隔板903、溢流间隙904、过液通道905、超声波发生器906、电热机构907、抽水排水管道908。

提拉支撑轨101、提拉导杆1011、衔接板1012、让位孔1013；提拉梁102、直线轴承1021；提拉驱动组件103、提拉电机1031、同步提拉轴1032、提拉链轮1033、提拉链条1034、减速箱1035；花篮支撑机构104、提拉承托架1041、横向架体10411、竖向架体10412、折弯部10413、摇摆托板1042、摆轴1043、回正凸起1044、限位翻边1045、定位槽1046、支撑轴承1048；花篮105。

箱体1101、烘干腔1102、箱盖1103、进风通道1104、匀风隔层1105、网孔1106、出风通道1107、热风机1108、架空支梁1109；开盖机构111、开盖导轨112、开盖支架113、移盖驱动件114、提盖板115、卡板116、抓板卡钳117、定位凸起118、抓板驱动件119、提盖驱动件1110。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

本实施例的一种硅片清洗系统，如图1所示，包括朝前依次布置的第一漂洗槽12、药水槽8、第二漂洗槽13、溢流清洗槽9、慢提拉装置10、烘干装置11和下料机构14。其中第一漂洗槽12、第二漂洗槽13和下料机构14可采用现有的结构，以下对药水槽8、溢流清洗槽9、慢提拉装置10、烘干装置11逐个模块展开描述。

药水槽8如图2至图5所示，包括开口朝上的药剂槽体801，药剂槽体801内部设置有超声波振板802、用于承托装载有硅片的花篮的药洗托架803、以及固定于药剂槽体801顶部周缘的溢流槽道804，溢流槽道804包括整体呈“[”形的底壁8041、立壁8042和顶壁8043，底壁8041密封地固定于药剂槽体801的靠近端口的外壁，底壁8041连接有溢流接管8044，立壁8042高于药剂槽体801的上端口，顶壁8043位于药剂槽体801端口上方，避免水花溅出。药剂槽体801的侧壁顶部设置有消泡齿牙8011，用于刺破溢流出的水泡。超声波振板802位于药洗托架803的下方，且超声波振板802与药洗托架803之间设置有可抬离的过滤网(图中未示出)。药剂槽体801连接有依次连接形成循环水路的药剂进水管805、药剂出水管806、药剂泵807和过滤器808。

与现有技术相比，溢流槽道804布置于药剂槽体801的顶部，因此药剂槽体801的周侧留有较大的空间，便于接管，其它部位便于连接形成循环水路的药剂进水管805、药剂出水管806、药剂泵807和过滤器808，提高药剂的利用率，更节能化；再者，超声波振板802与药洗托架803之间设置有可抬离的过滤网，在搬走药洗托架803之后，便于将过滤网整体抬离，以清洗过程中产生的碎渣、破碎硅片清理。

本实施例中，药剂槽体801的内壁设置有用于支撑药洗托架803的止位凸起，以使药洗托架803与超声波振板802之间留有安装过滤网的空间。

本实施例中，药剂槽体801的内壁对应药剂进水管805之处设置有导流罩8012，导流罩8012与药剂槽体801的内壁围成开口朝下的导流通道。

本实施例中，药剂槽体801的底部截面呈梯形，其包括与其侧壁衔接的斜底壁8013和衔接两个斜底壁8013的平底壁8014。平底壁8014倾斜布置，且在其低位连接有常闭的排污口8015和掏渣口8016。药剂槽体801的底部还设置有电热管809，用于改变药剂槽体801中药剂的温度。

本实施例中，药洗托架803包括横架体8031和固定于横架体8031两端部的竖架体8032，竖架体8032的上端设有便于外围机械手施力将整个药洗托架803提起的折弯架8033，花篮放置在横架体8031上。

具体的，横架体8031的侧部设有用于抵住花篮的阻挡翻边8034，阻挡翻边8034开有供花篮的凸起嵌入的多个限位槽8035。

具体的，药剂槽体801的外壁固定有踏板810，方便人员站在其上维护。

本实施例中，溢流清洗槽9的结构如图6至8所示，包括连体依次布置的多个洗片槽901，洗片槽901为开口朝上的方槽，使用时装在有硅片的花篮朝前依次放入不同的洗片槽901，且在前的洗片槽901中的液体朝后溢流至其后相邻的洗片槽901；图7和8中右边为前，左边为后，即水是从右往左溢流，花篮是从左到右依次经历多个洗片槽901的清洗。

本实施例核心改进在于，相邻的两个洗片槽901之间设有竖立并列布置的第一隔板902和第二隔板903，第一隔板902和第二隔板903的周缘焊接固定于洗片槽901的内壁。第一隔板902靠前，第二隔板903靠后，第一隔板902与第二隔板903之间留有溢流间隙904，第一隔板902底部固定于槽底而顶部低于槽顶，第二隔板903的顶部高于第一隔板902的顶部(与槽顶持平)，第二隔板903的底部与槽底之间留有过液通道905，以使得如图3所示在前的洗片槽901的液体经由第一隔板902的顶部-溢流间隙904-过液通道905进入相邻的在后洗片槽901。与现有技术相比，水是从底部溢到下一个洗片槽901，槽体底部的水流动性好，避免了污水在槽内停留形成不流动的死水区域，保障清洗效果。

本实施例中，各个洗片槽901中分别设置有超声波发生器906，实现超声波清洗。

具体的，洗片槽901设有电热机构907，用于加热洗片槽901中的水，且各个洗片槽901中的电热机构907独立设置，可以设置不同的洗片槽901中的水不同的清洗温度。

具体的，洗片槽901的底部设置有抽水排水管道908。洗片槽901的底部截面呈梯形。洗片槽901的槽底倾斜设置，抽水排水管的接口连接于槽底的低位处。需要时可直接往后方的洗片槽901注水抽水，增强清洗强度。

本实施例中，第一隔板902的顶部与槽顶之间的距离，等于第二隔板903与槽底之间的距离，这个距离为1mm～20mm，优选为2～5mm。

慢提拉装置10如图9至11所示，包括固定于外围清洗槽的分隔竖立布置的两组提拉支撑轨101，每组提拉支撑轨101可滑动地设有提拉梁102。具体的，每组提拉支撑轨101包括两条提拉导杆1011和两条衔接板1012，两条提拉导杆1011并列布置，两条提拉导杆1011的两端经由衔接板1012相互固定，提拉梁102的两端经由直线轴承1021连接于两条提拉导杆1011上。

该慢提拉装置还包括用于驱动提拉梁102沿提拉支撑轨101上下运动的提拉驱动组件103；具体的，提拉驱动组件103包括提拉电机1031、同步提拉轴1032、安装于衔接板1012以及同步提拉轴1032的提拉链轮1033、以及提拉链条1034，提拉链条1034配合在衔接板1012上的提拉链轮1033和同步提拉轴1032上的提拉链轮1033，提拉梁102与提拉链条1034相固定，提拉电机1031经由减速箱1035带动同步提拉轴1032转动，以带动提拉链条1034移动，进而同步带动两组提拉梁102同步升降。具体的，提拉导杆1011下端的衔接板1012开有供提拉链条1034穿过的让位孔1013，结构紧凑，避免运动干涉。

本实施例的慢提拉装置还包括花篮支撑机构104，其具体包括支承在提拉梁102上的提拉承托架1041和用于放置装载有硅片的花篮105的摇摆托板1042，摇摆托板1042的相对两侧部分别设有摆轴1043，摆轴1043可以是贯穿摇摆托板1042的长轴，也可以分别固定于摇摆托板1042侧部的短轴。提拉承托架1041设置有支撑轴承1048，所述摆轴1043与支撑轴承1048相配合，从而使摇摆托板1042可摆动地设置在提拉承托架1041上方，核心在于，摆轴1043布置于摇摆托板1042的偏心位置，偏心具体是指偏离重心位置，以使得放置了花篮105后的摇摆托板1042经由其上的重力而往预设方向偏摆。

本实施例中，摇摆托板1042的侧部设有用于抵住花篮105两端的限位翻边1045，限位翻边1045开有供花篮105的凸起嵌入的多个定位槽1046，限位翻边1045对花篮105的两端进行限位，定位槽1046对花篮105在排列方向进行限位，使得花篮105在摇摆托板1042上的位置相对固定，不会移位，沥水更稳定。

具体的，提拉承托架1041包括横向架体10411和固定于横向架体两端部的竖向架体10412，竖向架体10412的上端设有搭在提拉梁102上的折弯部10413，搭接的方式便于外围机构将整个提拉承托架1041移走，摇摆托板1042设置在横向架体10411上。

具体的，支撑轴承1048为带座轴承，其固定于横向架体10411的端部。带座轴承的高度决定了摇摆托板1042与横向架体10411之间的距离，即决定了摇摆托板1042的偏摆角度。横向架体10411的宽度比摇摆托板1042的宽度大，以使得摇摆托板1042偏摆后其侧部抵住横向架体10411的顶部，进而限制摇摆托板1042的摆动角度。

具体的，摇摆托板1042的翘起侧部设有回正凸起1044，在花篮支撑机构104上升至预设角度后，回正凸起1044抵住外围结构而使摇摆托板1042克服重力而摆至水平姿态，便于外围机械手取走沥水后的花篮105。

烘干装置11如图12至15所示，包括箱体1101，箱体1101的开口朝上并设有箱盖1103来盖住该开口，箱体1101内设有用于放置装载有硅片的花篮的三个烘干腔1102，三个烘干腔1102并列布置，图中仅示意出其中一个烘干腔1102的箱盖1103。箱体1101的相向的两侧壁分别设有进风通道1104，箱盖1103的底部设有匀风隔层1105，匀风隔层1105的底部开有网孔1106，箱体1101的底部设有出风通道1107，进风通道1104-匀风隔层1105-网孔1106-烘干腔1102-出风通道1107依次连通形成风道，风道连接有热风机1108，出风通道1107经由热风机1108连通进风通道1104，以使热风在风道中循环流动。图中热风机1108与进风通道1104、出风通道1107相连接的管道被隐藏。

使用时，在烘干腔1102中放入装载有待烘干硅片的多个花篮，合上箱盖1103，热风机1108吹出的热风经由箱体1101的两个内侧壁的进风通道1104朝上进入匀风隔层1105，再经由网孔1106较为均匀朝下对烘干腔1102内花篮中的硅片进行吹风烘干，与现有技术相比，硅片受风较均匀，不会出现过热烧黑的现象，保障硅片生产效率。

本实施例中，箱盖1103的底部设有架空支梁1109，匀风隔层1105经由架空支梁1109来连接于箱盖1103。合上箱盖1103后，箱体1101的顶部与箱盖1103自动密封，而架空支梁1109的周侧与箱体1101的内壁留有空间，从而使匀风隔层1105与进风通道1104连通。

本实施例中，该烘干装置还包括开盖机构111，其用于将箱盖1103朝上提起以及横移错开箱体1101的开口。具体的，开盖机构111包括沿箱盖1103横移方向布置的开盖导轨112、可滑动地安装于开盖滑轨上的开盖支架113、用于驱动开盖支架113滑动的移盖驱动件114、可升降地安装于开盖支架113的提盖板115、可沿靠近/远离箱盖1103侧部滑动的卡板116，卡板116设有用于卡住箱盖1103侧部的抓板卡钳117(呈U形，横向开口)，箱盖1103设有定位凸起118，定位凸起118能够在箱盖1103横移方向抵住抓板卡钳117，避免横移箱盖1103时抓板卡钳117打滑。开盖导轨112沿多个烘干腔1102并列方向布置，多个烘干腔1102共用一组开盖机构111。提盖板115设置有用于驱动卡板116滑动的抓板驱动件119，开盖支架113设有用于驱动提盖板115上下运动的提盖驱动件1110。

本实施例中，抓板驱动件119为抓板气缸，抓板气缸的缸筒与提盖板115固定连接，抓板气缸的活塞杆与卡板116固定连接。提盖驱动件1110为提盖气缸，提盖气缸的缸筒与开盖支架113固定连接，提盖气缸的活塞杆与提盖板115固定连接。移盖驱动件114为电机带动传送带的方式。

需要开盖时，移盖驱动件114带动开盖支架113对齐所要打开的箱盖1103，然后提盖驱动件1110带动提盖板115下降，使卡板116在高度上对齐箱盖1103，接着抓板驱动件119带动卡板116朝箱盖1103靠近，直到抓板卡钳117卡住箱盖1103的侧部，提高驱动件驱动提盖板115上升即可带动卡板116以及箱盖1103上升，移盖驱动件114带动开盖支架113横移，即可使箱盖1103与箱体1101在纵向相错开。

本实施例中，热风循环：热风运风方式为两侧进下出型，使热风完全经过硅片后抽出，并循环使用。加热系统：热风机1108的加热管使用不锈钢片M式加热管。加热功率24KW温度控制由数显式温控器控制，温控范用常温～120℃。为减少热量损失，烘干腔1102外贴保温材料，另外工件在干燥时配有作为密封门的箱盖1103，大大减少热量散发。

在本发明的描述中，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以上对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中”、“上”、“下”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接。可以是机械连接，也可以是电性连接。可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

Claims (10)

1.一种硅片清洗系统，其特征是：包括朝前依次布置的第一漂洗槽、药水槽、第二漂洗槽、溢流清洗槽、慢提拉装置、烘干装置和下料机构，药水槽包括开口朝上的药剂槽体，药剂槽体内部设置有超声波振板、用于承托装载有硅片的花篮的药洗托架、以及固定于药剂槽体顶部周缘的溢流槽道，药剂槽体的侧壁顶部设置有消泡齿牙，超声波振板位于药洗托架的下方，且超声波振板与药洗托架之间设置有可抬离的过滤网；药剂槽体连接有依次连接形成循环水路的药剂进水管、药剂出水管、药剂泵和过滤器；

溢流清洗槽包括连体依次布置的多个洗片槽，装在有硅片的花篮朝前依次放入不同的洗片槽，且在前的洗片槽中的液体朝后溢流至其后相邻的洗片槽；相邻的两个洗片槽之间设有竖立并列布置的第一隔板和第二隔板，第一隔板与第二隔板之间留有溢流间隙，第一隔板底部固定于槽底而顶部低于槽顶，第二隔板的顶部高于第一隔板的顶部，第二隔板的底部与槽底之间留有过液通道，以使得在前的洗片槽的液体经由第一隔板的顶部-溢流间隙-过液通道进入相邻的在后洗片槽；

烘干装置包括箱体，箱体的开口朝上并设有箱盖来盖住该开口，箱体内设有用于放置装载有硅片的花篮的烘干腔，箱体的侧壁设有进风通道，箱盖的底部设有匀风隔层，匀风隔层的底部开有网孔，箱体的底部设有出风通道，进风通道-匀风隔层-网孔-烘干腔-出风通道依次连通形成风道，风道连接有热风机。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统，其特征是：药剂槽体的内壁设置有用于支撑药洗托架的止位凸起；药剂槽体的内壁对应药剂进水管之处设置有导流罩，导流罩与药剂槽体的内壁围成开口朝下的导流通道。

3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统，其特征是：药剂槽体的底部截面呈梯形，其包括与其侧壁衔接的斜底壁和衔接两个斜底壁的平底壁；平底壁倾斜布置，且在其低位连接有排污口和掏渣口。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统，其特征是：溢流槽道包括整体呈“[”形的底壁、立壁和顶壁，底壁密封地固定于药剂槽体的靠近端口的外壁，底壁连接有溢流接管。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统，其特征是：慢提拉装置包括两组分隔竖立布置的提拉支撑轨，每组提拉支撑轨可滑动地设有提拉梁；还包括用于驱动提拉梁沿提拉支撑轨上下运动的提拉驱动组件；

还包括花篮支撑机构，其包括支承在提拉梁上的提拉承托架和用于放置装载有硅片的花篮的摇摆托板，摇摆托板的相对两侧部分别设有摆轴，提拉承托架设置有支撑轴承，所述摆轴与支撑轴承相配合，从而使摇摆托板可摆动地设置在提拉承托架上方，摆轴布置于摇摆托板的偏心位置，以使得摇摆托板经由其上的重力而往预设方向偏摆。

6.根据权利要求5所述的一种硅片清洗系统，其特征是：每组提拉支撑轨包括两条提拉导杆和两条衔接板，两条提拉导杆并列布置，两条提拉导杆的两端经由衔接板相互固定，提拉梁的两端经由直线轴承连接于两条提拉导杆上；提拉驱动组件包括提拉电机、安装于衔接板的提拉链轮和配合提拉链轮的提拉链条，提拉电机经由提拉链轮带动提拉链条移动，提拉梁与提拉链条相固定。

7.根据权利要求6所述的一种硅片清洗系统，其特征是：提拉驱动机构还包括同步提拉轴，同步提拉轴亦设置有所述提拉链轮，提拉电机带动同步提拉轴转动，进而同步带动两组提拉梁同步升降；提拉导杆下端的衔接板开有供提拉链条穿过的让位孔。

8.根据权利要求5所述的一种硅片清洗系统，其特征是：提拉承托架包括横向架体和固定于横向架体两端部的竖向架体，竖向架体的上端设有搭在提拉梁上的折弯部，摇摆托板设置在横向架体上；横向架体的宽度比摇摆托板的宽度大，以使得摇摆托板偏摆后其侧部抵住横向架体的顶部，进而限制摇摆托板的摆动角度。

9.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统，其特征是：出风通道经由热风机连通进风通道，以使热风在风道中循环流动；箱体的相向的两侧壁分别设有所述进风通道。

10.根据权利要求1所述的一种硅片清洗系统，其特征是：烘干装置还包括开盖机构，其用于将箱盖朝上提起以及横移错开箱体的开口；开盖机构包括沿箱盖横移方向布置的开盖导轨、可滑动地安装于开盖滑轨上的开盖支架、用于驱动开盖支架滑动的移盖驱动件、可升降地安装于开盖支架的提盖板、可沿靠近/远离箱盖侧部滑动的卡板，卡板设有用于卡住箱盖侧部的抓板卡钳，提盖板设置有用于驱动卡板滑动的抓板驱动件，开盖支架设有用于驱动提盖板上下运动的提盖驱动件；烘干腔的数量为多个，多个烘干腔并列布置，开盖导轨沿多个烘干腔并列方向布置，多个烘干腔共用一组开盖机构。