CN117120255A - 透明导电性膜 - Google Patents

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CN117120255A CN202280025177.XA CN202280025177A CN117120255A CN 117120255 A CN117120255 A CN 117120255A CN 202280025177 A CN202280025177 A CN 202280025177A CN 117120255 A CN117120255 A CN 117120255A
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Abstract

本发明的目的在于提供一种适应性输入强度和输入稳定性优异的透明导电性膜。本发明的透明导电性膜是在透明塑料膜基材上的至少一个面层叠了铟‑锡复合氧化物的透明导电膜的透明导电性膜，输入开始载荷大于15g且为25g以下，电压损失时间为0.00毫秒以上且0.40毫秒以下。膜硬挺度(BR)为0.38N·cm以上且0.90N·cm以下，导电面的最大峰高Sp的平均值(AVSp)优选满足下述式(2‑1)。4.7×BR－3.6≤AVSp＜4.7×BR－1.8…式(2‑1)(式中，BR为膜硬挺度(N·cm)，AVSp为平均最大峰高(μm))

Description

透明导电性膜
技术领域
本发明涉及在透明塑料膜基材上层叠有铟-锡复合氧化物的透明导电膜的透明导电性膜。
背景技术
在透明塑料基材上层叠有透明且电阻小的薄膜的透明导电性膜被广泛用于利用其导电性的用途，例如，作为液晶显示器、电致发光(EL)显示器等那样的平板显示器、触控面板的透明电极等而被广泛用于电气、电子领域的用途。
电阻膜式触控面板是将在玻璃或塑料的基板上涂覆了透明导电性薄膜的固定电极、和在塑料膜上涂覆了透明导电性薄膜的可动电极(称为膜电极)组合而成的，在显示体的上侧重叠来使用。如果用手指、笔来按压膜电极(称为输入)，则固定电极与膜电极的透明导性薄膜彼此接触，从而识别输入位置。
在专利文献1中公开了一种触控面板用透明导电层叠体，其是在高分子膜的至少一个面上层叠实质上主要由结晶质的氧化铟形成的透明导电膜而成的。通过使氧化铟结晶化，从而笔记耐久性提高。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2004-071171号公报
发明内容
发明要解决的课题
对于触控面板而言，要求即使用笔连续输入也不会使透明导电膜产生裂纹、剥离、磨损等的特性(笔滑动耐久性)。
另外，对于触控面板而言，要求输入强度的适度的范围(适应性输入强度)。例如，在电阻膜式触控面板中，在用手指、笔等按压膜电极而使固定电极与膜电极的透明导电性薄膜彼此接触时，有时会发生手、衣服的袖子误触到触控面板的情况，在因触摸的部位的选择而迷惑时，有时用笔等误触到触控面板。期望因这种无意中的对触控面板的接触而引起的输入少(防误输入性)。但是，如果提高防误输入性，则有舒适的输入性降低的趋势。舒适的输入性是指在用笔、手指等对电阻膜式触控面板进行输入时，即使不有意识地施加较大的力也能够进行输入。要求兼顾防止误输入和舒适输入性。
此外，对于触控面板而言，要求优异的输入稳定性、即在用笔等触摸触控面板起至离开为止的期间，对触控面板的输入稳定。例如，要求能够减少在连续输入文字时可能产生的文字飞白(速记性)、文字的撇捺(日文：払い)部分不飞白(撇捺输入性)等优异。
在专利文献1的技术中，在不使氧化铟结晶化的情况下，无法提高笔滑动耐久性。另外，对于包含专利文献1在内的以往的透明导电性膜而言，适应性输入强度(防误输入性、舒适输入性)、输入稳定性(速记性、撇捺输入性)等也不充分。
因此，本发明的目的在于提供适应性输入强度和输入稳定性优异的透明导电性膜。另外，本发明的优选目的在于，提供还具有笔滑动耐久性的透明导电性膜。
用于解决课题的手段
本发明是鉴于上述那样的状况而完成的，能够解决上述课题的本发明的透明导电性膜包括以下的构成。
[1]
一种透明导电性膜，其是在透明塑料膜基材上的至少一个面层叠了铟-锡复合氧化物的透明导电膜的透明导电性膜，
通过试验方法1求出的输入开始载荷大于15g且为25g以下，
通过试验方法2求出的电压损失时间为0.00毫秒以上且0.40毫秒以下。
[试验方法1]
在玻璃基板的单面形成厚度为20nm的铟-锡复合氧化物导电膜(氧化锡含量：10质量％)，在该薄膜的表面以4mm间距呈正方格子状地形成环氧树脂的点状间隔物(纵60μm×横60μm×高度5μm)而制成面板。在该面板的导电膜侧，在夹着厚度为105μm、内周为190mm×135mm的具有粘接性的矩形框的同时，以使导电膜彼此面对的方式重叠透明导电性膜来制作评价面板。通过前端为半径0.8mm的半球的聚缩醛的笔，从该评价面板的透明导电性膜侧按压点状间隔物的4点格子的中心，将电阻值开始稳定时的压力作为输入开始载荷。
[试验方法2]
将上述评价面板与6V的恒压电源连接，使用前端为半径0.8mm的半球的笔，从透明导电性膜侧以50gf的载荷以5次/秒的间隔按压点状间隔物的4点格子的中心。以笔从透明导电性膜开始离开、电压从6V减少时为起点，测定电压达到5V为止的时间，作为电压损失时间。
[2]
根据[1]中记载的透明导电性膜，通过试验方法3求出的膜硬挺度(BR)为0.38N·cm以上且0.90N·cm以下，
通过试验方法4求出的导电面的最大峰高Sp的平均值(AVSp)满足下述式(2-1)和式(2-2)，
通过试验方法5求出的接触面积率(CA)满足下述式(2-3)。
4.7×BR－3.6≤AVSp＜4.7×BR－1.8…式(2-1)
0.005≤AVSp≤12.000…式(2-2)
CA≥32.6×BR+17.2…式(2-3)
(式中，BR为膜硬挺度(N·cm)，AVSp为平均最大峰高(μm)，CA为接触面积率(％))
[试验方法3]
将20mm×250mm的透明导电性膜试验片以透明导电膜朝上的方式放置在水平台上，使试验片从台的端部以230mm的长度突出，基于下述式确定硬挺度(BR)。
硬挺度(BR(N·cm))＝g×a×b×L4/(8×δ×1011)
(式中，g为9.81(重力加速度；m/s2)，a为20(试验片的短边的长度；mm)，b表示试验片的比重(g/cm3)，L为230(在水平台外露出的试验片的长边的长度；mm)，δ表示试验片前端的高度与台的高度之差(cm))
[试验方法4]
在透明导电性膜的导电面中，在MD方向上以1cm间隔确定3点、从其中心以1cm间隔在TD方向上对称地确定2点而合计确定5点测定点，在各个位置测定基于面粗糙度的最大峰高Sp(依据ISO 25178)，将其平均值作为平均最大峰高(AVSp)(μm)。
[试验方法5]
对于透明导电性膜的导电面，测定基于线粗糙度的平均高度Rc(μm)、最大峰高Rp(μm)和平均长度Rsm(μm)，在满足式(X1)和式(X2)中的至少一者和式(X3)的部位，测定基于线粗糙度的算术平均高度Ra(μm)。需要说明的是，平均高度Rc(μm)、最大峰高Rp(μm)、平均长度Rsm(μm)和算术平均高度Ra(μm)使用三维表面形状测定装置VertScan(Ryoka Systems公司制，R5500H-M100(测定条件：wave模式、测定波长560nm、物镜50倍))来确定。最大峰高Rp(μm)、平均长度Rsm(μm)和算术平均高度Ra(μm)的确定依据JIS B 0601-2001的规定。算术平均高度Ra(μm)的测定长度设为100μm以上且200μm以下。
Rp－Rc－Ra≤0.20…式(X1)
(Rp－Rc)/Ra≤5.0…式(X2)
Rsm≤30…式(X3)
将上述三维表面形状测定装置VertScan的物镜变更为10倍，使用基于该测定装置的粒子解析，在距平均面达到“算术平均高度Ra(μm)－15×10-3(μm)－平均高度Rc(μm)”的高度沿平面方向进行切片，求出截面积的总和。将截面积的总和除以测定视野的面积而得到的值乘以100所得到的值作为接触面积率(CA)(％)。
[3]
根据[2]中记载的透明导电性膜，其中，通过上述试验方法4求出的最大峰高Sp的最大值MXSp超过上述平均最大峰高AVSp的1.0倍且为1.4倍以下，并且，
通过上述试验方法4求出的最大峰高Sp的最小值MNSp为上述平均最大峰高AVSp的0.6倍以上且1.0倍以下。
[4]
根据[1]～[3]中任一项记载的透明导电性膜，其中，上述透明导电膜的厚度为10nm以上且100nm以下。
[5]
根据[1]～[4]中任一项记载的透明导电性膜，其中，上述透明导电膜中所含的氧化锡的浓度为0.5质量％以上且40质量％以下。
[6]
根据[1]～[5]中任一项记载的透明导电性膜，其中，在透明导电膜与透明塑料膜基材之间具有固化型树脂层，
此外，在透明塑料基材的与上述透明导电膜相反的一侧具有功能层。
[7]
根据[1]～[6]中任一项记载的透明导电性膜，其中，在透明塑料膜基材的至少一侧具有易粘接层。
[8]
根据[7]中记载的透明导电性膜，其中，易粘接层配置在透明塑料膜基材与固化型树脂层之间、或透明塑料基材与功能层之间的至少一种的位置。
[9]
根据[1]～[8]中任一项记载的透明导电性膜，其中，通过试验方法6确定的ON电阻为10kΩ以下。
[试验方法6]
将在玻璃基板的单面形成有厚度为20nm的铟-锡复合氧化物导电膜(氧化锡含量：10质量％)的面板与透明导电性膜隔着直径30μm的环氧微珠以导电膜彼此面对的方式重叠，制作评价面板。在该评价面板的透明导电性膜侧，一边用前端为半径0.8mm的半球的聚缩醛的笔施加2.5N的载荷一边滑动(往复次数5万次、滑动距离30mm、滑动速度180mm/秒)。滑动后，测定以笔载荷0.8N按压滑动部而电连接时的电阻(ON电阻)。
[10]
根据[1]～[9]中任一项记载的透明导电性膜，其中，在透明导电膜的表面的、依据JIS K5600-5-6：1999的附着性试验中，透明导电膜的残留面积率为95％以上。
发明效果
根据本发明，能够提供适应性输入强度和输入稳定性优异的透明导电性膜。另外，根据本发明，在优选的情况下，能够进一步提供还具有笔滑动耐久性的透明导电性膜。
附图说明
图1是表示本发明的透明导电性膜的一个例子的示意侧视图。
图2是表示本发明的透明导电性膜的另一个例子的示意侧视图。
图3是表示本发明的透明导电性膜的又一个例子的示意侧视图。
图4是表示本发明的透明导电性膜的又一个例子的示意侧视图。
图5是表示本发明的一个方式中的电压与时间的关系的概念图。
图6是表示本发明的成膜方法的一个例子的装置示意图。
图7是用于说明本发明中的输入开始载荷测定方法的示意俯视局部放大图。
图8是用于说明本发明中的笔滑动耐久性测定法的示意俯视局部放大图。
图9是用于说明本发明中的笔滑动耐久性测定法的示意俯视图。
具体实施方式
1.透明导电性膜
本发明的透明导电性膜是在透明塑料膜基材上的至少一个面层叠了铟-锡复合氧化物的透明导电膜的透明导电性膜。通过在表面具有透明导电膜，从而能够被广泛用于利用其导电性的用途，例如，作为液晶显示器、电致发光(EL)显示器等那样的平板显示器、触控面板的透明电极等而被广泛用于电气、电子领域的用途。透明导电性膜的具体的层构成可以适当设定，例如可例示图1、图2、图3、图4等的示意侧视图所示的构成。
图1的透明导电性膜在透明塑料膜基材7的单面隔着固化型树脂层6形成有透明导电膜5，在透明塑料膜基材7的相反面形成有功能层8。如果在透明导电膜5与透明塑料膜基材7之间形成固化型树脂层6，则能够阻止单体、低聚物从透明塑料膜基材7向透明导电膜5上析出。本发明的透明导电性膜通过后述的输入开始载荷、电压损失时间的控制而提高了适应性输入强度、输入稳定性，通过阻止低聚物的析出而进一步改善适应性输入强度、输入稳定性。另外，通过利用固化型树脂层6、功能层8来防止单体、低聚物的析出，能够进一步提高透明导电性膜的透明性、可视性。此外，通过具有固化型树脂层6和/或功能层8，能够调整后述的透明导电性膜的硬挺度。需要说明的是，根据透明塑料膜基材的刚性，固化型树脂层6和/或功能层8不是必须的。
在一个方式中，本发明中的透明导电性膜在透明塑料膜基材的至少一侧层叠有粘接层。例如，如图2所示，固化型树脂层6与透明塑料膜基材7可以通过易粘接剂层9粘接。如图3所示，功能层8与透明塑料膜基材7可以通过易粘接剂层9粘接。如图4所示，固化型树脂层6和功能层8各自与透明塑料膜基材7可以通过易粘接剂层9粘接。通过具有易粘接剂层9，能够更有效地抑制固化型树脂层6和/或功能层8因外力而从透明塑料膜基材7剥离。
本发明的透明导电性膜的特征在于，通过试验方法1求出的输入开始载荷大于15g且为25g以下(特征1)。通过将输入开始载荷设为规定值以下，能够提高舒适输入性。
[试验方法1]
在玻璃基板的单面形成厚度为20nm的铟-锡复合氧化物导电膜(氧化锡含量：10质量％)，在该薄膜的表面以4mm间距呈正方格子状地形成环氧树脂的点状间隔物(纵60μm×横60μm×高度5μm)而制成面板。在该面板的导电膜侧，在夹着厚度为105μm、内周为190mm×135mm的具有粘接性的矩形框的同时，以使导电膜彼此面对的方式重叠透明导电性膜来制作评价面板。通过前端为半径0.8mm的半球的聚缩醛的笔，从该评价面板的透明导电性膜侧按压点状间隔物的4点格子的中心，将电阻值开始稳定时的压力作为输入开始载荷。在此，“稳定的电阻值”是指例如电阻值在平均值±5％的范围内变动的状态。
另外，上述透明导电性膜的特征还在于，通过试验方法2求出的电压损失时间为0.00毫秒以上且0.40毫秒以下(特征2)。通过使电压损失时间为规定范围，能够进一步延长电稳定的接触时间。通过将输入开始载荷设为规定值范围，能够提高防误输入性，另外，通过将电压损失时间设为规定范围，能够提高撇捺稳定性、速记性等输入稳定性。关于发挥这样的输入稳定性的效果的理由，不应限定于特定的理论来解释，但认为原因在于：能够进一步延长电稳定的接触时间，能够进一步减少电不稳定的接触状态。其结果，输入的不稳定的时间变短，例如，能够在连续地记载文字时防止文字飞白，能够降低速记时的文字飞白。另外，例如，在触控面板中，在文字撇捺的情况下，能够解决触控面板上所示的文字发生飞白的、不显示这样的课题。因此，能够在电阻膜式触控面板上鲜明地描绘想要表现的文字或图案等。例如，还能够表现如毛笔所表现的文字的撇捺。
具备特征1(输入开始载荷)和特征2(电压损失时间)的透明导电性膜在电阻膜式触控面板等用途中极其有用。
电压损失时间优选为0.39毫秒以下，更优选为0.35毫秒以下，更进一步优选为0.30毫秒以下，越短越优选。另外，电压损失时间可以为0.01毫秒以上，例如可以为0.02毫秒以上。即，电压损失时间优选为0.01～0.39毫秒，更优选为0.01～0.35毫秒，进一步优选为0.02～0.30毫秒。
[试验方法2]
将上述评价面板与6V的恒压电源连接，使用前端为半径0.8mm的半球的笔，从透明导电性膜侧以50gf的载荷以5次/秒的间隔按压点状间隔物的4点格子的中心。以笔从透明导电性膜开始离开、电压从6V减少时为起点，测定电压达到5V为止的时间，作为电压损失时间。例如，图5是表示本发明的一个方式中的电压与时间的关系的概念图，横轴13为时间轴，纵轴14表示电压，对电压损失时间15的时间进行测定。
上述透明导电性膜优选通过试验方法6确定的ON电阻为10kΩ以下(特征3)。ON电阻越小，越能够提高笔滑动耐久性。ON电阻优选为8kΩ以下，更优选为5kΩ以下，进一步优选为3kΩ以下，特别优选为1.0kΩ以下。需要说明的是，ON电阻例如可以为0.1kΩ以上、2kΩ以上或4kΩ以上。即，ON电阻优选为0.1～10kΩ，更优选为0.1～8kΩ，进一步优选为0.1～5kΩ，更进一步优选为0.1～3kΩ，特别优选为0.1～1kΩ。另外，可以为2～10kΩ、2～8kΩ、2～5kΩ、2～3kΩ、4～10kΩ、4～8kΩ或4～5kΩ。
[试验方法6]
将在玻璃基板的单面形成有厚度为20nm的铟-锡复合氧化物导电膜(氧化锡含量：10质量％)的面板与透明导电性膜隔着直径30μm的环氧微珠以导电膜彼此面对的方式重叠，制作评价面板。在该评价面板的透明导电性膜侧，一边用前端为半径0.8mm的半球的聚缩醛的笔施加2.5N的载荷一边滑动(往复次数5万次、滑动距离30mm、滑动速度180mm/秒)。滑动后，测定以笔载荷0.8N按压滑动部而电连接时的电阻(ON电阻)。
上述透明导电性膜的通过试验方法3求出的膜硬挺度(BR)优选为0.38N·cm以上且0.90N·cm以下。通过使膜硬挺度(BR)为规定值以上，能够使输入开始载荷为规定值以上。另外，通过使膜硬挺度(BR)为规定值以下，能够使ON电阻为规定值以下。需要说明的是，减小膜硬挺度(BR)对于减小输入开始载荷也是有用的。膜硬挺度(BR)更优选为0.42N·cm以上，进一步优选为0.46N·cm以上。另外，更优选为0.80N·cm以下，进一步优选为0.70N·cm以下，特别优选为0.60N·cm以下。即，膜硬挺度(BR)更优选为0.42～0.80N·cm，进一步优选为0.42～0.70N·cm，特别优选为0.46～0.60N·cm。
[试验方法3]
将20mm×250mm的透明导电性膜试验片以透明导电膜朝上的方式放置在水平台上，使试验片从台的端部以230mm的长度突出，基于下述式确定硬挺度(BR)。需要说明的是，如果使透明导电膜朝下，则硬挺度的值变化，因此需要注意。
硬挺度(BR(N·cm))＝g×a×b×L4/(8×δ×1011)
(式中，g为9.81(重力加速度；m/s2)，a为20(试验片的短边的长度；mm)，b表示试验片的比重(g/cm3)，L为230(在水平台外露出的试验片的长边的长度；mm)，δ表示试验片前端的高度与台的高度之差(cm))
上述透明导电性膜优选通过试验方法4求出的导电面的最大峰高Sp的平均值(AVSp)满足下述式(2-1)。输入开始载荷受膜硬挺度(BR)和平均最大峰高(AVSp)这2个参数支配，通过使平均最大峰高(AVSp)为根据膜硬挺度(BR)求出的规定值以上，能够使输入开始载荷为规定值以下。另外，通过将平均最大峰高(AVSp)设为规定值以下，能够将输入开始载荷设为规定值以上，另外，有时能够将电压损失时间调整为更优选的范围。
4.7×BR－3.6≤AVSp＜4.7×BR－1.8…式(2-1)
(式中，BR为膜硬挺度(N·cm)，AVSp为平均最大峰高(μm))
[试验方法4]
在透明导电性膜的导电面中，在MD方向上以1cm间隔确定3点、从其中心以1cm间隔在TD方向上对称地确定2点而合计确定5点测定点，在各个部位测定基于面粗糙度的最大峰高Sp(依据ISO 25178)，将其平均值作为平均最大峰高(AVSp)(μm)。
式(2-1)的左侧的不等号的关系更优选为4.7×BR－3.5≤AVSp，进一步优选为4.7×BR－3.4≤AVSp。式(2-1)的右侧的不等号的关系更优选为AVSp＜4.7×BR－1.9，进一步优选为AVSp＜4.7×BR－2.0。即，更优选为4.7×BR－3.5≤AVSp＜4.7×BR－1.9，进一步优选为4.7×BR－3.4≤AVSp＜4.7×BR－2.0。
上述透明导电性膜优选上述平均最大峰高(AVSp)满足下述式(2-2)。如果平均最大峰高(AVSp)为规定值以上，则能够将透明导电性膜无障碍地卷绕成卷状。平均最大峰高(AVSp)更优选为0.010(μm)以上，进一步优选为0.020(μm)以上。另外，通过使平均最大峰高(AVSp)为规定值以下，能够更适合防止意外的电接触。
0.005≤AVSp≤12.000…式(2-2)
(式中，AVSp为平均最大峰高(μm))
即，AVSp更优选为0.010～12.000μm，进一步优选为0.020～12.000μm。
上述透明导电性膜的通过试验方法5求出的接触面积率(CA)优选满足下述式(2-3)。通过将接触面积率(CA)设为规定值以上，能够将电压损失时间设为规定值以下。认为其原因在于：接触面积率(CA)越大，则导电层间的电接触的稳定性越高，因此，在笔、手指等从电阻膜式触控面板的透明导电性膜离开时，能够争取达到电接触变得不稳定的接触面积为止的时间。另外，式(2-3)中，硬挺度(BR)越大则接触面积率(CA)越大的原因在于：硬挺度(BR)越大，笔、手指等从电阻膜式触控面板的透明导电性膜离开的速度越增加，因此，需要使用接触面积率(CA)大的透明导电性膜。
CA≥32.6×BR+17.2…式(2-3)
(式中，BR为膜硬挺度(N·cm)，CA为接触面积率(％))
[试验方法5]
对于透明导电性膜的导电面，测定基于线粗糙度的平均高度Rc(μm)、最大峰高Rp(μm)和平均长度Rsm(μm)，在满足式(X1)和式(X2)中的至少一者和式(X3)的部位，测定基于线粗糙度的算术平均高度Ra(μm)。需要说明的是，平均高度Rc(μm)、最大峰高Rp(μm)、平均长度Rsm(μm)和算术平均高度Ra(μm)使用三维表面形状测定装置VertScan(Ryoka Systems公司制，R5500H-M100(测定条件：wave模式、测定波长560nm、物镜50倍))来确定。最大峰高Rp(μm)、平均长度Rsm(μm)和算术平均高度Ra(μm)的确定依据JIS B 0601-2001的规定。算术平均高度Ra(μm)的测定长度设为100μm以上且200μm以下。
Rp－Rc－Ra≤0.20…式(X1)
(Rp－Rc)/Ra≤5.0…式(X2)
Rsm≤30…式(X3)
将上述三维表面形状测定装置VertScan的物镜变更为10倍，使用基于该测定装置的粒子解析，在距平均面(将平均线三维化而得到的面)达到“算术平均高度Ra(μm)－15×10-3(μm)－平均高度Rc(μm)”的高度沿平面方向进行切片，求出截面积的总和。将截面积的总和除以测定视野的面积而得到的值乘以100所得到的值作为接触面积率(CA)(％)。
在上述试验方法5中，考虑“算术平均高度Ra(μm)－15×10-3(μm)”是基于以下的理由。与透明导电性玻璃接触的透明导电性膜的大部分为透明导电性膜的平均高度的突起。由于难以准确地算出与该平均高度的突起的接触面积，所以，作为替代指标，使用比上述平均的突起的高度稍小的高度(＝比透明导电性膜的平均的高度低15×10-3(μm)的高度)处的透明导电性膜的透明导电膜侧的截面积(需要说明的是，该高度是以从平均面降低平均高度Rc(μm)处为基准的高度)。在此，使用JIS B 0601-2001的算术平均粗糙度Ra作为透明导电性膜的平均的突起的高度时，由于位于透明导电性膜的透明导电膜侧的数量少但高度非常高的粗大突起的影响，算术平均粗糙度Ra变得大于透明导电性膜的实际的平均的突起的高度，因此不优选。因此，为了消除粗大突起的影响，在满足式(X1)和式(X2)中的至少一者和式(X3)的部位测定算术平均高度Ra(μm)。
式(2-3)所示的CA与BR的关系更优选为CA≥32.6×BR+17.5，更进一步优选为CA≥32.6×BR+18.0。
上述透明导电性膜优选通过上述试验方法4求出的最大峰高Sp的最大值MXSp超过上述平均最大峰高AVSp的1.0倍且为1.4倍以下(更优选超过1.0倍且为1.40倍以下)。通过将最大值MXSp设为规定值以下，从而透明导电膜的高突起的面内分布变得均等，在任意的部位都能够以同等的输入开始载荷进行触控面板的输入操作，因此优选。更优选为1.3倍以下，进一步优选为1.2倍以下。
上述透明导电性膜的通过上述试验方法4求出的最大峰高Sp的最小值MNSp优选为上述平均最大峰高AVSp的0.6倍以上且1.0倍以下(更优选为0.60倍以上且1.0倍以下)。通过将最小值MNSp设为规定值以上，从而透明导电膜的高突起的面内分布变得均等，在任意的部位都能够以同等的输入开始载荷进行触控面板的输入，因此优选。更优选为0.7倍以上，进一步优选为0.8倍以上。
另外，通过将最大值MXSp和最小值MNSp这两者设为规定范围，能够使输入开始载荷的偏差小于平均值±5％。并且，还能够防止输入开始载荷在产品间产生偏差。
上述透明导电性膜的总透光率例如为70％以上且95％以下，优选为80％以上且95％以下，更优选为85％以上且90％以下。
2.透明导电膜
透明导电性膜的透明导电膜包含铟-锡复合氧化物。透明导电膜中所含的氧化锡浓度优选为0.5质量％以上且40质量％以下。如果含有0.5质量％以上的氧化锡，则透明导电性膜的表面电阻达到实用的水准，是优选的。另外，通过使氧化锡浓度为40质量％以下，能够使透明导电性膜的透明导电膜中所含的氧化锡浓度接近触控面板用透明导电性玻璃基板中所含的氧化锡浓度。透明导电性膜与玻璃基板的透明导电膜的氧化锡浓度越接近，则两透明导电膜越容易电接触，适应性输入强度、输入稳定性变得更良好。透明导电性膜的氧化锡浓度更优选为25质量％以下，进一步优选为20质量％以下，特别优选为18质量％以下，更优选为1质量％以上，进一步优选为2质量％以上。即，氧化锡浓度更优选为1～25质量％，进一步优选为1～20质量％，特别优选为2～18质量％。
需要说明的是，触控面板用透明导电性玻璃基板中所含的氧化锡浓度通常为10质量％。透明导电性膜的氧化锡浓度与玻璃基板的氧化锡浓度之差例如为30质量％以下，优选为20质量％以下，更优选为10质量％以下。
透明导电膜的结晶度可以为0％以上且100％以下中的任一种，优选为10％以上且100％以下，更优选为50％以上且100％以下。结晶度越高，则笔滑动性越优异。
透明导电膜的表面电阻例如为50Ω/□以上且900Ω/□以下，优选为50Ω/□以上且700Ω/□以下，更优选为70Ω/□以上且500Ω/□以下。
透明导电膜的厚度优选为10nm以上且100nm以下。如果透明导电膜的厚度为10nm以上，则透明导电膜的整体附着于透明塑料膜基材、或后述的固化型树脂层，透明导电膜的膜质稳定，表面电阻值稳定，容易成为优选的范围。另外，减小通过试验方法6确定的ON电阻也是有效的。更优选透明导电膜的厚度为13nm以上，更进一步优选为16nm以上。另外，如果透明导电膜的厚度为100nm以下，则透明导电膜的晶粒直径和结晶度变得适度，总透光率成为实用的水准，因此优选。更优选为50nm以下，进一步优选为30nm以下，特别优选为25nm以下。即，透明导电膜的厚度更优选为13～50nm，进一步优选为16～30nm，特别优选为16～25nm。
在透明导电膜的表面的、依据JIS K5600-5-6：1999的附着性试验中，透明导电膜的残留面积率优选为95％以上，进一步优选为99％以上，特别优选为99.5％以上。通过在附着性试验中使透明导电膜的残留面积率为上述范围内，从而对于透明导电性膜而言，透明塑料膜基材、后述的固化型树脂层等与透明导电膜接触的层与透明导电膜密合，即使通过笔对触控面板连续输入，也能够对透明导电膜抑制裂纹、剥离、磨损等，此外，即使施加通常使用设想以上的较强的力，也能够对透明导电膜抑制裂纹、剥离等，因此优选。
上述透明导电膜的形成方法没有特别限定，例如优选为：在表面可以形成有固化型树脂层6的透明塑料膜基材7(以下，称为被处理膜)上的至少一个面上通过溅射法形成铟-锡复合氧化物的透明导电膜的方法。为了以高生产率制造透明导电性膜，优选使用从膜卷供给被处理膜、成膜后卷绕成膜卷的形状的所谓卷式溅射装置。
图6是表示卷式溅射装置中的成膜部的一个例子的装置示意图。在该图示例中，从未图示的膜卷送出的被处理膜1一边与中心辊2的表面局部地接触一边行进。在朝向被处理膜1与中心辊2的接触部具有开口部的罩(日文：チムニー)3内设置铟-锡的溅射靶4，铟-锡复合氧化物的薄膜堆积层叠于在中心辊2上行进的被处理膜1的表面。需要说明的是，中心辊2能够通过未图示的调温机进行温度控制。
作为靶，优选使用铟-锡复合氧化物的烧结靶。为了提高生产效率，可以相对于膜的流动方向设置多片铟-锡复合氧化物的烧结靶。
在成膜气氛的形成中，优选根据需要一边使用质量流量控制器，一边使氧气、非活性气体(氩气等)等流动。通过添加氧气，能够使透明导电膜的表面电阻、总透光率更适合。氧气与非活性气体的流量比(体积比)(氧气/非活性气体)例如为0.005以上，优选为0.010以上，更优选为0.020以上，例如为0.15以下，优选为0.1以下，更优选为0.07以下，进一步优选为0.05以下。即，氧气与非活性气体的流量比(体积比)(氧气/非活性气体)例如为0.005～0.15，优选为0.010～0.1，更优选为0.020～0.07，进一步优选为0.020～0.05。
另外，在成膜气氛中，也可以根据需要一边使用质量流量控制器，一边使含氢原子的气体(氢、氨、氢+氩混合气体等，只要是包含氢原子的气体就没有特别限定。其中，水除外。)流动。
成膜气氛中的相对于非活性气体的水分压的比(水分压/非活性气体分压)的中心值(最大值与最小值的中间的值)例如为7.00×10-3以下，优选为5.00×10-3以下，更优选为3.00×10-3以下。成膜气氛中的水越少，透明导电膜的膜质越合适，表面电阻值越容易成为优选的值，结晶化的可靠性提高。然而，也考虑以极限真空度为标准来控制水分量，但测定成膜时的水分量(水分压)由于以下2个理由而优选。第1，如果通过溅射而在塑料膜上进行成膜，则膜被加热，水分从膜释放。在极限真空度中，不反映该释放水分量的影响。第2，将从膜卷卷出的膜进行成膜时的卷中心的水分的影响不反映在极限真空度中。如果将膜卷保持在真空槽中，则卷的外层部分的水容易脱出，但卷的内层部分的水难以脱出。在测定极限真空度时，膜的行进停止，但在成膜时膜行进，包含较多水的膜卷的内层部分被卷出，因此成膜气氛中的水分量增加，与测定极限真空度时的水分量相比增加。
对于用于成膜透明导电膜的膜卷而言，在卷端面，最凸的位置与最凹的位置的高低差优选为10mm以下，更优选为8mm以下，进一步优选为4mm以下。如果为10mm以下，则在将膜卷投入溅射装置时不易从膜端面释放水、有机成分，因此透明导电膜的膜质变得良好。
在成膜透明导电膜之前，优选使被处理膜通过轰击工序。轰击工序是指：在流通仅氩气等非活性气体、或者流通氧等反应性气体与非活性气体的混合气体的状态下，施加电压进行放电，产生等离子体。具体而言，优选利用SUS靶等并通过RF溅射而对膜进行轰击。由于通过轰击工序使膜暴露于等离子体中，所以从膜释放水、有机成分，在成膜透明导电膜时，从膜释放的水、有机成分减少，透明导电膜的膜质变得良好。另外，通过轰击工序，透明导电膜所接触的层活化，因此透明导电膜的密合性提高，笔滑动耐久性进一步提高。
上述被处理膜1理想的是在成膜透明导电膜的面的相反面预先粘贴吸水率低的保护膜。通过粘贴保护膜，从而水等气体不易从被处理膜1释放，透明导电膜的膜质变得良好。作为上述保护膜的基材，例如可举出聚乙烯、聚丙烯、环烯烃等烯烃类。
在成膜时，将被处理膜1冷却至例如0℃以下，优选冷却至-5℃以下。通过预先冷却被处理膜1，能够抑制水、有机气体等杂质从膜的释放，能够使透明导电膜的膜质适合。成膜中的膜温度可以用调节行进膜所接触的中心辊的温度的调温机的设定温度来代替。
溅射装置优选具备旋转泵、涡轮分子泵、低温泵等排气装置。通过排气装置，能够控制成膜气氛中的水分量。
理想的是，在被处理膜上成膜并层叠铟-锡复合氧化物的透明导电膜后，在包含氧的气氛下，在80℃以上且200℃以下实施0.1小时以上且12小时以下的加热处理。通过设为80℃以上，能够提高透明导电膜的结晶性，能够进一步提高笔滑动耐久性。通过设为200℃以下，能够确保透明塑料膜的平面性。
3.透明塑料膜基材
本发明中使用的透明塑料膜基材是指：将有机高分子熔融挤出或溶液挤出成膜状，根据需要沿长度方向和/或宽度方向实施拉伸、冷却、热固定而得到的膜。作为上述有机高分子，可举出：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃类；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯类；尼龙6、尼龙4、尼龙66、尼龙12等聚酰胺类；聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚砜、聚醚醚酮、聚碳酸酯、聚芳酯、纤维素丙酸酯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚醚酰亚胺、聚苯硫醚、聚苯醚、聚苯乙烯、间规聚苯乙烯、降冰片烯系聚合物等。
这些有机高分子中，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯、间规聚苯乙烯、降冰片烯系聚合物、聚碳酸酯、聚芳酯等。另外，这些有机高分子可以少量共聚其他有机聚合物的单体，或共混其他有机高分子。
在不损害本发明目的的范围内，可以对透明塑料膜基材实施电晕放电处理、辉光放电处理、火焰处理、紫外线照射处理、电子束照射处理、臭氧处理等表面活化处理。
透明塑料膜基材的厚度优选为125μm以上且280μm以下的范围，更优选为150μm以上且250μm以下。透明塑料膜基材越厚，膜的硬挺度(BR)越容易变高，平均最大峰高(AVSp)越容易满足式(2-1)的右边。另外，如果透明塑料膜基材的厚度为125μm以上，则机械强度得以保持，特别是在用于触控面板时，防误输入性变得良好，此外，用于触控面板时的对于笔输入的变形小，笔滑动耐久性优异，因此优选。另一方面，如果厚度为280μm以下，则在用于触控面板时，能够保持适应性输入强度、优异的输入稳定性，因此优选。
4.固化型树脂层
固化型树脂层例如形成在透明塑料膜基材与透明导电膜之间，成为透明导电膜的基底层。另外，由于能够阻止由透明塑料膜基材产生的单体、低聚物在透明导电膜上析出，所以不会阻碍触控面板的舒适的输入性，因此优选。此外，能够通过易粘接层等使透明导电膜与固化型树脂层较强地密合，能够分散施加于透明导电膜的力，因此，对于笔滑动耐久性试验中的透明导电膜能够抑制裂纹、剥离、磨损等，因此优选。
固化型树脂层的树脂只要是通过加热、紫外线照射、电子束照射等能量施加、固化剂而固化的树脂就没有特别限制，例如可举出有机硅系树脂、丙烯酸系树脂、甲基丙烯酸系树脂、环氧系树脂、三聚氰胺系树脂、聚酯系树脂、氨基甲酸酯系树脂等，它们可以为1种，也可以组合2种以上。从生产率的观点出发，优选以紫外线固化型树脂为主成分。
作为紫外线固化型树脂，例如可举出：多元醇的丙烯酸或甲基丙烯酸酯那样的多官能性的丙烯酸酯树脂；由二异氰酸酯、多元醇和丙烯酸或甲基丙烯酸的羟基烷基酯等合成的那样的多官能性的氨基甲酸酯丙烯酸酯树脂等。根据需要，可以在这些多官能性的树脂中加入单官能性的单体、例如乙烯基吡咯烷酮、甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯等进行共聚。
固化型树脂层优选至少在固化前含有固化反应引发剂。固化反应引发剂可以根据固化型树脂的固化种类进行选择，可举出热聚合引发剂、光聚合引发剂等自由基聚合引发剂、固化剂等，优选光聚合引发剂。相对于固化型树脂100质量份，固化反应引发剂的量例如为1质量份以上且5质量份以下。
作为光聚合引发剂，可以没有特别限制地使用吸收紫外线而产生自由基的公知的化合物，例如可举出各种苯偶姻类、苯基酮类、二苯甲酮类等。
固化型树脂层优选包含粒子。通过粒子，从而能够在固化型树脂层的表面形成凹凸。因此，如果包含粒子，则基本上接触面积率CA从100％下降，另一方面，平均最大峰高AVSp的控制变得容易。另外，通过增加粒子量，有时硬挺度BR降低，也能够通过粒子量来调整硬挺度BR。此外，通过粒子，也可以更有效地表现出笔滑动耐久性、抗牛顿环性、膜的卷取性等各种特性。需要说明的是，在粒径相对大的粒子(例如后述的粒子A)的添加量少、且粒径相对小的粒子(例如与粒子A并用的后述的粒子B)多的情况下，与添加同一粒径的粒子相比，存在接触面积率CA变大、平均最大峰高AVSp变大的趋势。
作为上述粒子，可举出无机粒子、有机粒子等，优选无机粒子。作为无机粒子，可例示二氧化硅粒子等。作为有机粒子，可例示包含聚酯树脂、聚烯烃树脂、聚苯乙烯树脂、聚酰胺树脂等的粒子。粒子可以为1种，也可以为2种以上。
上述粒子的个数平均粒径例如为0.01μm以上且10μm以下，优选为0.03μm以上且5μm以下，更优选为0.05μm以上且3μm以下，特别优选为0.05μm以上且1.8μm以下。平均粒径越大，越能够增大透明导电层的平均最大峰高AVSp。需要说明的是，关于平均最大峰高，除了通过增大平均粒径以外，还可以通过提高后述的固化型树脂的涂布液中的树脂浓度(固体成分浓度)、减薄固化型树脂层的厚度等来增大。
另外，上述粒径的标准偏差例如为平均粒径的20％以下，优选为平均粒径的10％以下，更优选为平均粒径的5％以下。粒径的标准偏差越小，则越能够增大透明导电性膜的接触面积率CA。
在一个方式中，优选使用1种个数平均粒径为0.01μm以上且小于1.0μm的粒子B，在另一个方式中，优选组合使用个数平均粒径为0.4μm以上且1.8μm以下并且个数平均粒径比粒子B大的粒子A和个数平均粒径为0.01μm以上且小于1.0μm的粒子B。粒子B的平均粒径优选为0.05μm以上。如果平均最大峰高AVSp变大(例如为0.6μm以上)，则接触面积率CA有时变得过小，如果使用粒子A、粒子B这两种，则能够使接触面积率适合。需要说明的是，如果平均最大峰高AVSp达到式(2-1)的右边(4.7×BR－1.8)以上，则即使使用粒子A、粒子B这两种，接触面积率CA也会变得过小，因此需要预先使平均最大峰高AVSp小于式(2-1)的右边。
在包含1种粒子B的情况下，固化型树脂层中的粒子B的量相对于固化树脂层的固体成分100质量％例如为0.1质量％以上且25质量％以下，优选为0.5质量％以上且18质量％以下。
另外，在包含粒子A和粒子B这两种的情况下，固化型树脂层中的粒子A的量相对于固化树脂层的固体成分100质量％例如为0.1质量％以上且5质量％以下。相对于固化树脂层的固体成分100质量％，固化型树脂层中的粒子B的量优选多于粒子A的量，例如为超过5质量％且为30质量％以下，优选为6质量％以上且15质量％以下。
通过如上那样调整粒子的大小、量，能够使透明导电层的平均最大峰高AVSp满足式(2-1)，并且接触面积率CV不会变得过小。另外，还能够调整膜的硬挺度BR。因此，能够将输入开始载荷控制在合适的范围，能够缩短电压损失时间，能够实现适应性输入强度和输入稳定性。
固化型树脂层的厚度优选为0.1μm以上且15μm以下的范围。更优选为0.5μm以上且10μm以下的范围，特别优选为1μm以上且8μm以下的范围。在固化型树脂层的厚度为0.1μm以上的情况下，形成充分的突起，是优选的。另一方面，如果为15μm以下，则生产率良好，是优选的。另外，如果固化型树脂层厚，则存在使透明导电性膜的硬挺度BR增加的趋势。
固化型树脂层可以含有与固化型树脂不相容的树脂(以下，有时简称为非相容树脂)。通过使非相容树脂分散在固化型树脂层中，能够在固化型树脂层的表面形成凹凸，能够提高宽区域的表面粗糙度。作为非相容树脂，可例示聚酯树脂、聚烯烃树脂、聚苯乙烯树脂、聚酰胺树脂等。
固化型树脂层是通过使固化前的固化型树脂为液态，涂布于层叠对象(透明塑料膜基材、易粘接剂层等)并固化而形成的。涂布物除了上述固化型树脂以外，还可以包含固化反应引发剂(热聚合引发剂、光聚合引发剂等自由基聚合引发剂、固化剂等。优选光聚合引发剂)、粒子、与固化型树脂非相容的树脂、溶剂等。另外，在该涂布液中，可以根据需要添加其他公知的添加剂、例如有机硅系流平剂等。所使用的溶剂没有特别限制，例如可以单独或混合使用：乙醇、异丙醇等之类的醇系溶剂、乙酸乙酯、乙酸丁酯等之类的酯系溶剂、二丁醚、乙二醇单乙醚等之类的醚系溶剂、甲基异丁基酮、环己酮等之类的酮系溶剂、甲苯、二甲苯、溶剂石脑油等之类的芳香族烃系溶剂等。
涂布液中的固化型树脂的浓度(称为固体成分浓度)可以考虑与涂覆法相应的粘度等而适当选择。固体成分浓度例如为35质量％以上且58质量％以下，优选为42质量％以上且55质量％以下。如果固体成分浓度高、固化型树脂层的厚度薄(例如4.0μm以下)，则存在固化型树脂层的平均最大峰高因式(2-1)的关系而变高、或接触面积率CA变小的趋势。需要说明的是，在固体成分浓度超过58质量％的情况下(例如超过58质量％且65质量％以下的程度时)，即使固化型树脂层的厚度为4.0μm以下，如果在组合使用粒子A和粒子B的情况下使粒子A的粒径为0.80μm以下、使粒子A的量相对于固化树脂层的固体成分100质量％为4质量％以下，则也容易使从式(2-1)的观点出发的平均最大峰高和接触面积率CA为适当的范围。
将上述涂布液涂覆于层叠对象的方法没有特别限制，例如可以使用棒涂法、凹版涂布法、反转涂布法等公知的方法。涂覆后的涂布液在接下来的干燥工序中蒸发除去溶剂。在涂布液中溶解有非相容树脂(聚酯树脂等)的情况下，在该干燥工序中，非相容树脂成为粒子而在紫外线固化型树脂中析出。将涂膜干燥后，进行与固化种类相应的适当的处理(例如紫外线照射)，由此能够形成固化型树脂层。
对于层叠对象的涂布面，在涂布液的涂布前，可以根据需要进行固化型树脂层的附着力提高处理。作为附着力提高处理，可举出：照射用于增加羰基、羧基、羟基的辉光或电晕放电的放电处理法、利用用于增加氨基、羟基、羰基等极性基团的酸或碱进行处理的化学试剂处理法等。
如上所述，为了将平均最大峰高AVSp设为规定的范围、将接触面积率CA设为规定的范围，需要调整各种因素，其详细情况如上所述，但如果省略细节来说明概要，则可以通过利用以下的关系来进行调整。即，基本上，如果粒径大、且固体成分浓度高、或树脂层的厚度薄，则存在平均最大峰高AVSp的绝对值变大的趋势。满足式(2-1)的平均最大峰高AVSp根据硬挺度BP而变化，硬挺度BP越小，则平均最大峰高AVSp越小。另外，基本上，如果平均最大峰高AVSp变高，则接触面积率CA变小。然而，作为在树脂层中添加的平均粒径，如果使用大小2种，且减少大粒子的粒子添加量，则平均最大峰高AVSp变高，接触面积率CV变高。在使用大小2种粒子的情况下，大粒子的添加量越少，则小粒子的平均粒径对接触面积率CA造成的影响越大。
5.功能层
功能层除了形成于透明塑料膜基材的相反面以外，优选与上述固化型树脂层同样，除了粒子的大小和量的说明以外，上述固化型树脂层的说明全部适用于功能层。如果在透明塑料膜基材上层叠功能层，则能够防止单体、低聚物从透明塑料膜基材析出，能够抑制透明导电性膜可视性降低。另外，能够调整透明导电性膜的硬挺度BR。另外，通过在透明塑料膜基材上具有功能层，从而不易产生因用笔等进行输入而导致的划痕，因此优选。
在功能层中配合粒子(粒子C)的情况下，粒子C的个数平均粒径例如为0.01μm以上且10μm以下，优选为0.1μm以上且7μm以下，更优选为1μm以上且5μm以下。
相对于功能层中的固化型树脂100质量份，粒子C优选为0.1质量份以上且60质量份以下，更优选为0.3质量份以上且40质量份以下，进一步优选为0.5质量份以上且30质量份以下。可以利用粒子C的量来调整透明导电性膜的硬挺度BR。另外，可以利用粒子C在功能层形成表面突起，还能够保持膜卷取性。
在功能层的表面的、依据JIS K5600-5-6：1999的附着性试验中，功能层的残留面积率优选为95％以上，进一步优选为99％以上，特别优选为99.5％以上。通过在附着性试验中使功能层的残留面积率为上述范围内，从而对于透明导电性膜而言，透明塑料膜基材与功能层密合，即使用笔对触控面板连续输入，也能够对功能层抑制裂纹、剥离、磨损等外观不良，此外，即使施加通常使用设想以上的较强的力，也能够对功能层抑制裂纹、剥离等，因此优选。
在透明导电性膜具有功能层和固化树脂层的情况下，功能层与固化树脂层的厚度优选相同，另外，功能层与固化树脂层的厚度之差的绝对值优选具有以下的关系。
0.1μm≤|固化树脂层的厚度－功能层的厚度|≤3μm
通过对功能层与固化树脂层设置厚度之差，有时能够调整透明导电性膜的硬挺度BR。另外，能够更有效地表现出笔滑动耐久性等各种特性。此外，可以进一步改善适应性输入强度。
另外，固化树脂层的每单位体积的粒子质量与功能层的每单位体积的粒子质量优选不同。
6.易粘接剂层
易粘接剂层优选由含有氨基甲酸酯树脂、交联剂和聚酯树脂的组合物形成。作为交联剂，优选封闭异氰酸酯(日文：ブロックイソシアネート)，进一步优选3官能以上的封闭异氰酸酯，特别优选4官能以上的封闭异氰酸酯。易粘接层的厚度优选为0.001μm以上且2.00μm以下。
本申请主张基于2021年6月22日申请的日本专利申请第2021-103501号的优先权的利益。2021年6月22日申请的日本专利申请第2021-103501号的说明书的全部内容作为参考而引用至本申请中。
实施例
以下，通过实施例进一步详细地说明本发明，但本发明不受这些实施例任何限定。需要说明的是，实施例中的各种测定评价通过下述方法进行。
1.测定评价
(1)二氧化硅粒子的平均粒径
利用扫描型电子显微镜(KEYENCE公司制，VE-8800)对透明导电性膜的截面的粒子进行观察，随机抽取50个粒子，观察各自的粒径。接下来，对于观察到的50个粒子，将粒径以每0.020μm的区间进行划分，求出各区间中所含的粒子的总数，制作纵轴为粒子个数、横轴为0.020μm区间刻度的粒径的直方图。在达到如下粒径的粒子中，将观测到的粒径的个数平均作为平均粒径，所述粒径为从直方图取正态分布状的峰的极大值的粒径区间的中心值的绝对值起±30％以内的粒径。例如，在直方图中存在2个正态分布状的峰的情况下，表示添加了2种粒子，通过与上述相同的方法算出2种粒子的平均粒径。
(2)固化型树脂层的厚度、功能层的厚度
固化型树脂层的厚度通过如下方法进行：利用扫描型电子显微镜(KEYENCE公司制，VE-8800)对透明导电性膜的截面进行观察，观察任意的5点，取其平均值作为厚度。对于功能层的厚度，也采用相同的方法。
(3)透明导电膜中所含的氧化锡的含量
切取试样，放入到(约15cm2)石英制锥形瓶中，加入6mol/l盐酸20ml，进行膜密封以使得没有酸的挥发。在室温下一边不时摇动一边放置9天，使透明导电膜溶解。取出残膜，将溶解有透明导电膜的盐酸作为测定液。溶解液中的In、Sn是使用ICP发光分析装置(制造商名：Rigaku，装置型号：CIROS-120EOP)，通过标准曲线法而求出的。各元素的测定波长选择没有干涉的灵敏度高的波长。另外，标准溶液是将市售的In、Sn的标准溶液稀释后使用。
(4)透明导电膜厚度
将层叠有透明导电膜的膜试样片切成1mm×10mm的大小，包埋在电子显微镜用环氧树脂中。将其固定于超薄切片机的试样支架，制作与包埋的试样片的短边平行的截面薄切片。接下来，使用透射型电子显微镜(JEOL公司制，JEM-2010)，在加速电压200kV、明视野下以观察倍率1万倍对该切片的薄膜的没有显著损伤的部位进行照片拍摄，根据所得到的照片求出膜厚。
(5)透明导电膜的结晶度
将层叠有透明导电膜的膜试样片切成1mm×10mm的大小，使导电性膜面朝外而粘贴于适当的树脂块的上表面。将其修剪后，通过通常的超薄切片机的技法制作与膜表面大致平行的超薄切片。利用透射型电子显微镜(JEOL公司制，JEM-2010)观察该切片，选择没有显著损伤的导电性薄膜表面部分，以加速电压200kV、直接倍率40000倍进行照片拍摄。作为透明导电膜的结晶性评价，观察在透射型电子显微镜下观察到的晶粒的比例、即结晶度。
(6)总透光率(％)
依据JIS-K7361-1：1997，使用日本电色工业株式会社制NDH-2000，测定总透光率。
(7)表面电阻
依据JIS-K7194：1994，通过4端子法进行测定。测定机使用株式会社MitsubishiChemical Analytech制Lotesta AX MCP-T370。
(8)附着性试验
依据JIS K5600-5-6：1999来实施。下述表中的结果以残留面积率(％)表示附着性。残留面积率的最高值为100％。表中的附着性试验的残留面积率越接近100％，则剥离面积越少。
(9)硬挺度(BR)(试验方法3)
从透明导电性膜采集20mm×250mm的试验片，以透明导电膜朝上的方式将试验片配置在表面平滑的水平台上。仅将试验片的20mm×20mm的部分放置在水平台上，使20mm×230mm的部分从台的端部水平地突出。需要说明的是，在试验片的20mm×20mm的部分上放置重物，以试验片与水平台之间不产生间隙的方式选择重物的重量、尺寸。接下来，利用标尺读取水平台的高度与膜的前端的高度之差(δ)。将数值代入下述式而算出硬挺度。
硬挺度BR(N·cm)＝g×a×b×L4/(8×δ×1011)
(式中，g为9.81(重力加速度；m/s2)，a为20(试验片的短边的长度；mm)，b表示试验片的比重(g/cm3)，L为230(在水平台外露出的试验片的长边的长度；mm)，δ表示试验片前端的高度与台的高度之差(cm))
上述的比重b通过以下的方法进行测定。
将透明导电性膜切成5.0cm见方的正方形，使用测微计以3位有效数字改变部为测定10处总厚度，求出厚度的平均值(t：μm)。使用自动上皿天平以4位有效数字测定切成5.0cm见方的正方形的样品的重量(w：g)，通过下式求出比重。需要说明的是，比重四舍五入为2位有效数字。
比重b(g/cm3)＝w/(5.0×5.0×t×10-4)
(10)最大峰高(Sp)、平均最大峰高AVSp(μm)(试验方法4)
从透明导电性膜的导电面测定5点的最大峰高(Sp)(ISO；面粗糙度)，将其算术平均值作为平均最大峰高(AVSp)。关于5点的选择方法，首先选择任意的1点A。接下来，相对于A而在膜的长度(MD)方向的上下游1cm处各选择1点，共计选择2点。接下来，相对于A而在膜的宽度(TD)方向的左右1cm处各选择1点，共计选择2点。最大峰高(Sp)(ISO；面粗糙度)由ISO25178规定，使用三维表面形状测定装置VertScan(Ryoka Systems公司制，R5500H-M100(测定条件：wave模式，测定波长560nm，物镜10倍))求出。另外，小于1nm的值通过四舍五入进行舍入。
(11)最大峰高上侧位移率(MXSp/AVSp)、最大峰高下侧位移率(MNSp/AVSp)
将通过上述试验方法4求出的最大峰高Sp的最大值MXSp与平均值AVSp之比作为最大峰高上侧位移率(MXSp/AVSp)。
另外，将通过上述试验方法4求出的最大峰高Sp的最小值MNSp与平均值AVSp之比(MNSp/AVSp)作为最大峰高下侧位移率。
(12)接触面积率CA(％)、平均高度Rc(μm)、最大峰高Rp(μm)、平均长度Rsm(μm)、算术平均高度Ra(μm)(试验方法5)
对于透明导电性膜的导电面，测定基于线粗糙度的平均高度Rc(μm)、最大峰高Rp(μm)和平均长度Rsm(μm)，在满足式(X1)和式(X2)中的至少一者和式(X3)的部位，测定基于线粗糙度的算术平均高度Ra(μm)。需要说明的是，平均高度Rc(μm)、最大峰高Rp(μm)、平均长度Rsm(μm)和算术平均高度Ra(μm)使用三维表面形状测定装置VertScan(Ryoka Systems公司制，R5500H-M100(测定条件：wave模式、测定波长560nm、物镜50倍))来确定。需要说明的是，最大峰高Rp(μm)、平均长度Rsm(μm)和算术平均高度Ra(μm)的确定依据JIS B 0601-2001的规定。算术平均高度Ra(μm)的测定长度设为100μm以上且200μm以下。
Rp－Rc－Ra≤0.20…式(X1)
(Rp－Rc)/Ra≤5.0…式(X2)
将上述三维表面形状测定装置VertScan的物镜变更为10倍，使用基于该测定装置的粒子解析，在距平均面达到“算术平均高度Ra(μm)－15×10-3(μm)－平均高度Rc(μm)”的高度沿平面方向进行切片，求出截面积的总和。将截面积的总和除以测定视野的面积而得到的值乘以100所得到的值作为接触面积率(CA)(％)。
(13)输入开始载荷测定(试验方法1)
如图6所示，对于中心辊2上的层叠膜(被处理膜)1的固化型树脂层，通过溅射，由罩3内的靶4形成透明导电膜。靶4使用铟-锡复合氧化物的烧结靶、或不含氧化锡的氧化铟烧结靶，以3W/cm2的电力密度投入电力，通过DC磁控溅射法成膜透明导电膜。膜厚通过改变膜在靶上通过时的速度来控制。
在玻璃基板(尺寸：232mm×151mm)的单面通过溅射法形成厚度为20nm的铟-锡复合氧化物导电膜(氧化锡含量：10质量％)。具体而言，在真空槽中投入厚度1.1mm的玻璃基板(尺寸：232mm×151mm)，抽真空至1.5×10-4Pa。接下来，在导入氧后导入氩，使总压为0.6Pa。氧相对于氩的流量比设为0.033。使用铟-锡复合氧化物(氧化锡含量：10质量％)的烧结靶，以3W/cm2的电力密度投入电力，通过DC磁控溅射法，在玻璃基板的单面成膜厚度为20nm的铟-锡复合氧化物导电膜(氧化锡含量：10质量％)。将成膜后的玻璃基板在空气中以230℃加热1小时。在形成于玻璃基板的单面的导电膜的表面，将环氧树脂(东洋纺株式会社制，制品名：CR-102C-23)的点状间隔物(纵60μm×横60μm×高度5μm)以4mm间距形成为正方格子状(ITO玻璃基板)。按照以ITO玻璃基板的四角的角中的任1个为起点形成190mm×135mm的长方形的方式，在透明导电膜侧粘贴双面胶带(厚度：105μm，宽度6mm)。在粘贴于ITO玻璃基板的双面胶带上贴附实施例或比较例中得到的透明导电性膜(尺寸：220mm×135mm)的透明导电膜，以导电膜彼此面对的方式进行层叠。此时，使透明导电性膜的一个短边侧从ITO玻璃基板伸出(评价面板)。
将所得到的评价面板的ITO玻璃基板与透明导电性膜用测试仪连接。从透明导电性膜侧用聚缩醛制的笔(Toray Plastics Precision株式会社制，商品名：TPS(注册商标)POM(NC)，前端的形状：0.8mmR)施加载荷，将用测试仪测量的电阻值稳定时的载荷值作为输入开始载荷。
如图7的局部放大图所示，用笔施加载荷的位置12设为：在ITO玻璃基板10面以格子状排列的4个点状间隔物11的中心区域。另外，输入开始载荷是测定距离双面胶带50mm以上的任意3点并取平均值而得到的。小数点后第1位四舍五入。
另外，利用与上述同样的手法制作另1张评价面板，求出输入开始载荷。在将小数点后第1位四舍五入时，在2个输入开始载荷一致的情况下，评价为输入开始载荷稳定，在表6中示出1个值。另一方面，在2个输入开始载荷不一致的情况下，将2个结果示于表6。
(14)电压损失时间测定(试验方法2)
将恒压电源连接到输入开始载荷测定中制作的评价面板。接下来，连接能够测量ITO玻璃基板与透明导电性膜的电压的记录器(KEYENCE公司制，GR-7000)。在此，记录器用于观测电压的时间变化。接下来，对恒压电源施加6V，用记录器以0.02毫秒为单位开始测量电压。接下来，用聚缩醛制的笔(Toray Plastics Precision株式会社制，商品名：TPS(注册商标)POM(NC)，前端的形状：0.8mmR)从透明导电性膜侧以1秒钟5次的速度施加50g的载荷。用笔施加载荷的位置为评价面板的中央附近，是排列成格子状的4个点状间隔物的中心区域。从记录器中提取出用笔对透明导电性膜施加载荷时的电压的时间变化的数据。以笔从透明导电性膜开始离开、电压从6V减少时为起点，测定电压达到5V为止的时间，作为电压损失时间进行记录(参照图5)。
(15)适应性输入强度试验(防误输入性、舒适输入性)
使用实施例和比较例中得到的透明导电性膜制作电阻膜方式触控面板。使用聚缩醛制的笔(Toray Plastics Precision株式会社制，商品名：TPS(注册商标)POM(NC)，前端的形状：0.8mmR)调查输入强度。
(防误输入性)
○…一边迷惑一边触摸触控面板时的输入少。
×…一边迷惑一边触摸触控面板时的输入多。
(舒适输入性)
○…即使不有意地施加较大的力也能够输入。
△…行为不稳定。
×…如果不有意地施加较大的力则有时无法输入。
(16)输入稳定性(撇捺稳定性、速记性)
使用实施例和比较例中得到的透明导电性膜制作电阻膜方式触控面板。使用聚缩醛制的笔调查输入稳定性。
(撇捺稳定性)
○…输入文字时，撇捺部分不易飞白。
×…输入文字时，撇捺部分容易飞白。
(速记性)
○…在连续输入文字时，不易产生文字飞白。
×…在连续输入文字时，容易产生文字飞白。
(17)笔滑动耐久性(试验方法6)
使用透明导电性膜作为一个面板，作为另一个面板，在玻璃基板的单面通过溅射法形成厚度为20nm的铟-锡复合氧化物薄膜(氧化锡含量：10质量％)。在上述另一个面板的制造中，具体而言，向真空槽中投入厚度1.1mm的玻璃基板(尺寸：5cm×6cm)，抽真空至1.5×10-4Pa。接下来，在导入氧后导入氩，使总压为0.6Pa。氧相对于氩的流量比设为0.033。使用铟-锡复合氧化物(氧化锡含量：10质量％)的烧结靶，以3W/cm2的电力密度投入电力，通过DC磁控溅射法，在玻璃基板的单面成膜厚度为20nm的铟-锡复合氧化物导电膜(氧化锡含量：10质量％)。将成膜后的玻璃基板在空气中以230℃加热1小时。在形成于玻璃基板的单面的导电膜的表面，将环氧树脂(东洋纺株式会社制，制品名：CR-102C-23)的微珠(直径30μm)如图8所示那样以4mm间距形成为正方格子状(ITO玻璃基板)。将实施例或比较例中得到的透明导电性膜(尺寸：5cm×6cm)与ITO玻璃基板以透明导电膜相向的方式重叠。重叠时，如图9所示，透明导电性膜20与ITO玻璃基板10以长度方向正交的方式将各自的端部16对齐，以透明导电性膜20的长度方向单侧端部18与ITO玻璃基板10的长度方向单侧端部17从重叠面19伸出的方式将伸出部17、18分别与测试仪连接。接下来，对聚缩醛制的笔(TorayPlastics Precision株式会社制，商品名：TPS(注册商标)POM(NC)，前端的形状：0.8mmR)施加2.5N的载荷，对触控面板进行5万次往复的直线滑动试验。此时的滑动距离设为30mm，滑动速度设为180mm/秒。如图8的局部放大图所示，滑动的位置21为在ITO玻璃基板10面配置成格子状的点状间隔物11之间。在该滑动耐久性试验后，测定以笔载荷0.8N按压滑动部时的ON电阻(可动电极(膜电极)与固定电极接触时的电阻值)。ON电阻更优选为10kΩ以下。
2.层叠膜
在实施例的栏中，使用包含以下的透明塑料膜基材、固化型树脂层和功能层的层叠膜。
(1)基材(透明塑料膜基材)：两面具有易粘接层的双轴取向透明PET膜(东洋纺公司制，A4380，厚度记载于表1)。
(2)固化型树脂层：在含有光聚合引发剂的丙烯酸系树脂(大日精化工业公司制，SEIKABEAM(注册商标)EXF-01J)100质量份(固体成分)中，以表1中记载的量配合表1中记载的个数平均粒径的二氧化硅粒子(粒子A、粒子B)。需要说明的是，表1中记载的粒子的添加量表示相对于树脂的固体成分100质量％的量。以固体成分浓度成为表1的值的方式加入甲苯/甲乙酮(MEK)(8/2：质量比)的混合溶剂，进行搅拌使其均匀分散，制备涂布液(涂布液A)。使用迈耶棒以涂膜的厚度成为表1中记载的值的方式将制备的涂布液A涂布于透明塑料膜基材的单面。在80℃下进行1分钟干燥之后，使用紫外线照射装置(EYE GRAPHICS公司制，UB042-5AM-W型)照射紫外线(光量：300mJ/cm2)，使涂膜固化。
(3)功能层：在含有光聚合引发剂的丙烯酸系树脂(大日精化工业公司制，SEIKABEAM(注册商标)EXF-01J)100质量份(固体成分)中，以表2中记载的量配合表2中记载的个数平均粒径的二氧化硅粒子(粒子C)。需要说明的是，表2中记载的粒子的添加量表示相对于树脂的固体成分100质量％的量。以固体成分浓度成为表2的值的方式加入甲苯/MEK(8/2：质量比)的混合溶剂作为溶剂，进行搅拌使其均匀分散，制备涂布液(涂布液C)。使用迈耶棒以涂膜的厚度成为表2中记载的值的方式将制备的涂布液C涂布于透明塑料膜基材的与上述固化型树脂层相反侧的面。在80℃下进行1分钟干燥之后，使用紫外线照射装置(EYE GRAPHICS公司制，UB042-5AM-W型)照射紫外线(光量：300mJ/cm2)，使涂膜固化。
实施例1～8
在真空槽中投入层叠膜，抽真空至1.5×10-4Pa。接下来，在导入氧后导入氩，使总压为0.6Pa。将氧与氩的流量比示于表3。
如图6所示，对于中心辊2上的层叠膜(被处理膜)1的固化型树脂层，通过溅射，由罩3内的靶4形成透明导电膜。靶4使用铟-锡复合氧化物的烧结靶、或不含氧化锡的氧化铟烧结靶，以3W/cm2的电力密度投入电力，通过DC磁控溅射法成膜透明导电膜。膜厚通过改变膜在靶上通过时的速度来控制。
另外，关于溅射时的成膜气氛的相对于氩的水分压之比，使用气体分析装置(INFICON公司制，Transpector XPR3)进行测定，示于表3。该水分之比如表3中记载的那样，通过有无轰击工序、有无保护膜、膜卷端面的凹凸高低差、对膜所接触行进的中心辊的温度进行控制的调温机的温度介质(日文：温媒)的温度的调节来进行调节。在上述轰击工序中，将SUS(不锈钢)作为靶，以0.5W/cm2进行RF溅射。RF溅射的导入气体量与导入到真空装置的实施例中记载的气体量相同。在使用保护膜时，使用厚度为65μm的聚乙烯膜。在该保护膜的单面涂布丙烯酸系粘合剂。在层叠膜的成膜透明导电膜的面的相反面粘贴保护膜。关于上述温度介质的温度，将从向膜卷的成膜开始时起至成膜结束时为止的温度的最大值与最小值的正好正中间的温度设为表3中记载的值。
对层叠有透明导电膜的膜实施表3所示的热处理，得到了透明导电性膜。
对于所得到的透明导电性膜，评价透明导电膜的膜厚、结晶度、总透光率(％)、表面电阻(Ω/□)、对透明导电膜的附着性、对功能层的附着性。将结果示于表4。
对于所得到的透明导电性膜，求出硬挺度(BR)、平均最大峰高(AVSp)、接触面积率(CA)、最大峰高上侧位移率(MXSp/AVSp)、最大峰高下侧位移率(MNSp/AVSp)。将结果示于表5。
对于所得到的透明导电性膜，调查输入开始载荷、电压损失时间、适应性输入强度试验(防误输入性、舒适输入性)、输入稳定性(撇捺稳定性、速记性)和笔滑动耐久性。将结果示于表6。
比较例1～8
使用在表1～表2所示的条件下制作的层叠膜，在表3的条件下形成透明导电膜，除此以外，与实施例1～8同样地制作透明导电性膜。将所得到的膜的各特性示于表4～表6。
[表2]
表2
/>
[表4]
表4
/>
[表6]
表6
产业上的可利用性
透明导电性膜可以作为液晶显示器、电致发光(EL)显示器等那样的平板显示器、触控面板的透明电极等广泛用于电气、电子领域的用途。
附图标记说明
1 被处理膜
2 中心辊
3 罩
4 靶
5 透明导电膜
6 固化型树脂层
7 透明塑料膜基材
8 功能层
9 易粘接剂层
10 ITO玻璃基板
11 点状间隔物
12 用笔施加载荷的位置
13 时间
14 电压
15 电压损失时间
16 端部
17、18伸出部
19 重叠面
20 透明导电性膜
21 滑动位置。

Claims (10)

1.一种透明导电性膜，其是在透明塑料膜基材上的至少一个面层叠了铟-锡复合氧化物的透明导电膜的透明导电性膜，
通过试验方法1求出的输入开始载荷大于15g且为25g以下，
通过试验方法2求出的电压损失时间为0.00毫秒以上且0.40毫秒以下，
试验方法1
在玻璃基板的单面形成厚度为20nm的氧化锡含量为10质量％的铟-锡复合氧化物导电膜，在该薄膜的表面以4mm间距呈正方格子状地形成环氧树脂的纵60μm×横60μm×高度5μm的点状间隔物而制成面板；在该面板的导电膜侧，在夹着厚度为105μm、内周为190mm×135mm的具有粘接性的矩形框的同时，以使导电膜彼此面对的方式重叠透明导电性膜来制作评价面板；通过前端为半径0.8mm的半球的聚缩醛的笔，从该评价面板的透明导电性膜侧按压点状间隔物的4点格子的中心，将电阻值开始稳定时的压力作为输入开始载荷；
试验方法2
将所述评价面板与6V的恒压电源连接，使用前端为半径0.8mm的半球的笔，从透明导电性膜侧以50gf的载荷以5次/秒的间隔按压点状间隔物的4点格子的中心；以笔从透明导电性膜开始离开、电压从6V减少时为起点，测定电压达到5V为止的时间，作为电压损失时间。
2.根据权利要求1所述的透明导电性膜，其中，
通过试验方法3求出的膜硬挺度BR为0.38N·cm以上且0.90N·cm以下，
通过试验方法4求出的导电面的最大峰高Sp的平均值AVSp满足下述式(2-1)和式(2-2)，
通过试验方法5求出的接触面积率CA满足下述式(2-3)，
4.7×BR－3.6≤AVSp＜4.7×BR－1.8…式(2-1)
0.005≤AVSp≤12.000…式(2-2)
CA≥32.6×BR+17.2…式(2-3)
式中，BR为膜硬挺度，AVSp为平均最大峰高，CA为接触面积率；
试验方法3
将20mm×250mm的透明导电性膜试验片以透明导电膜朝上的方式放置在水平台上，使试验片从台的端部以230mm的长度突出，基于下述式确定硬挺度BR；
硬挺度BR＝g×a×b×L4/(8×δ×1011)
式中，g为9.81，其为重力加速度，单位为m/s2，a为20，其为试验片的短边的长度，单位为mm，b表示试验片的比重，单位为g/cm3，L为230，其为在水平台外露出的试验片的长边的长度，单位为mm，δ表示试验片前端的高度与台的高度之差，单位为cm；
试验方法4
在透明导电性膜的导电面中，在MD方向上以1cm间隔确定3点、从其中心以1cm间隔在TD方向上对称地确定2点而合计确定5点测定点，在各个位置依据ISO 25178测定基于面粗糙度的最大峰高Sp，将其平均值作为平均最大峰高AVSp；
试验方法5
对于透明导电性膜的导电面，测定基于线粗糙度的平均高度Rc、最大峰高Rp和平均长度Rsm，在满足式(X1)和式(X2)中的至少一者和式(X3)的部位，测定基于线粗糙度的算术平均高度Ra；需要说明的是，平均高度Rc、最大峰高Rp、平均长度Rsm和算术平均高度Ra使用三维表面形状测定装置VertScan来确定，该装置为Ryoka Systems公司制的R5500H-M100，测定条件如下：wave模式、测定波长560nm、物镜50倍；最大峰高Rp、平均长度Rsm和算术平均高度Ra的确定依据JIS B 0601-2001的规定；算术平均高度Ra的测定长度设为100μm以上且200μm以下，
Rp－Rc－Ra≤0.20…式(X1)
(Rp－Rc)/Ra≤5.0…式(X2)
Rsm≤30…式(X3)
将所述三维表面形状测定装置VertScan的物镜变更为10倍，使用基于该测定装置的粒子解析，在距平均面达到“算术平均高度Ra－15×10-3μm－平均高度Rc”的高度沿平面方向进行切片，求出截面积的总和；将截面积的总和除以测定视野的面积而得到的值乘以100所得到的值作为接触面积率CA；
BR的单位为N·cm，AVSp的单位为μm，CA的单位为％，Rc、Rp和Rsm的单位为μm，Ra的单位为μm。
3.根据权利要求2所述的透明导电性膜，其中，通过所述试验方法4求出的最大峰高Sp的最大值MXSp超过所述平均最大峰高AVSp的1.0倍且为1.4倍以下，并且，
通过所述试验方法4求出的最大峰高Sp的最小值MNSp为所述平均最大峰高AVSp的0.6倍以上且1.0倍以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的透明导电性膜，其中，所述透明导电膜的厚度为10nm以上且100nm以下。
5.根据权利要求1～3中任一项所述的透明导电性膜，其中，所述透明导电膜中所含的氧化锡的浓度为0.5质量％以上且40质量％以下。
6.根据权利要求1～3中任一项所述的透明导电性膜，其中，在透明导电膜与透明塑料膜基材之间具有固化型树脂层，
此外，在透明塑料基材的与所述透明导电膜相反的一侧具有功能层。
7.根据权利要求1～3中任一项所述的透明导电性膜，其中，在透明塑料膜基材的至少一侧具有易粘接层。
8.根据权利要求7所述的透明导电性膜，其中，易粘接层配置在透明塑料膜基材与固化型树脂层之间、或透明塑料基材与功能层之间的至少一个位置。
9.根据权利要求1～3中任一项所述的透明导电性膜，其中，通过试验方法6确定的ON电阻为10kΩ以下，
试验方法6
将在玻璃基板的单面形成有厚度为20nm的氧化锡含量为10质量％的铟-锡复合氧化物导电膜的面板与透明导电性膜隔着直径30μm的环氧微珠以导电膜彼此面对的方式重叠，制作评价面板；在该评价面板的透明导电性膜侧，一边用前端为半径0.8mm的半球的聚缩醛的笔施加2.5N的载荷一边滑动，往复次数为5万次，滑动距离为30mm，滑动速度为180mm/秒；滑动后，测定以笔载荷0.8N按压滑动部而电连接时的电阻、即ON电阻。
10.根据权利要求1～3中任一项所述的透明导电性膜，其中，在透明导电膜的表面的、依据JIS K5600-5-6：1999的附着性试验中，透明导电膜的残留面积率为95％以上。
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