CN117006574A - 一种弧面反射消毒装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种弧面反射消毒装置，包括光源、光入口、流体入口、消毒室和流体出口，所述光源发出消毒光束，从光入口照射进消毒室，并在消毒室内进行多次反射，所述消毒室由一个或多个弧面反射壁围合而成，所述多个弧面反射壁的设置方式为首尾相接、间隔设置或对向设置，所述流体从流体入口流入消毒室经过消毒后再从流体出口流出，所述弧面反射壁为整体结构，不存在空白反射区域，弧面反射壁对接收到的消毒光束进行反射，不会产生光束能量的损耗，增强了消毒的效果；同时，本发明一种弧面反射消毒装置结构比较简单，便于安装、便于维护。
Description
技术领域
本发明涉及消毒技术领域，具体地，涉及一种弧面反射消毒装置。
背景技术
近些年，人们对空气、饮用水等的健康安全逐渐重视了起来，特别是人群密集的空间，比如医院、图书馆、电影院等，这种半密闭空间里的空气中是否存在病毒或细菌，是人们经常担心的问题。传统的空气消杀或水消杀，通常采用滤网过滤、碳吸附等技术，人们发现这种技术并不能很好的达到消杀的目的。近年来利用光的辐射对空气或者水等流体中存在的病毒、细菌等病原微生物进行消杀的技术，得到了一定的发展：现有技术中一般采用在消毒室内设计反射镜对消毒光束进行反射以达到对流体的消毒作用，现有技术的缺陷在于：一方面，对反射镜的安装精度要求很高，不易于安装也不易于维护；另一方面，反射镜一般为单独的部件独立于消毒室以至于反射镜未覆盖的部分形成了消毒室中始终会存在空白的反射区域，一旦消毒光束传播到该空白区域，则消毒光束传播路径就被中断了，影响了消毒的效果。
因此，本领域亟需提出便于安装、便于维护且消毒效果更好的消毒装置以解决这些技术问题。
发明内容
基于此，针对上述问题，本发明提供了一种弧面反射消毒装置，不仅能提高安装、维护的便利度并且还能够增强消毒效率。
为实现上述目的，本发明提供一种弧面反射消毒装置，包括光源、光入口、流体入口、消毒室和流体出口，所述光源发出消毒光束，从光入口照射进消毒室，并在消毒室内进行多次反射，所述消毒室由一个或多个弧面反射壁围合而成，所述多个弧面反射壁的设置方式为首尾相接、间隔设置或对向设置，所述流体从流体入口流入消毒室经过消毒后再从流体出口流出。
在其中一个实施例中，所述消毒室为圆筒状，所述弧面反射壁为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口设置于弧面反射壁上或设置于流体入口处或设置于流体出口处。
在其中一个实施例中，所述消毒室的壁的数量为大于等于3的基数，所述弧面反射壁首尾相接围合成所述消毒室，所述弧面反射壁为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口设置于任意一个弧面反射壁上或设置于流体入口处或设置于流体出口处。
在其中一个实施例中，所述消毒室的壁的数量为大于等于4的偶数，所述弧面反射壁的数量为至少2个，其中2个弧面反射壁对向设置，所述弧面反射壁为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口设置于对向设置的任意一个弧面反射壁上或设置于流体入口处或设置于流体出口处。
在其中一个实施例中，所述消毒室的壁的数量为大于等于4的偶数，所述弧面反射壁的数量为至少3个，其中第1个弧面反射壁与第2个弧面反射壁对向设置，第3个弧面反射壁设置于第1个弧面反射壁和第2个弧面反射壁的顶端或底端，所述弧面反射壁为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口20设置于第1个弧面反射壁或第2个弧面反射壁上或设置于流体入口处或设置于流体出口处。
在其中一个实施例中，所述消毒室的壁的数量为大于等于4的偶数，所述弧面反射壁的数量为至少4个，其中第1个弧面反射壁与第2个弧面反射壁对向设置，第3个弧面反射壁设置于第1个弧面反射壁和第2个弧面反射壁的底端，第4个弧面反射壁设置于第1个弧面反射壁和第2个弧面反射壁的顶端，光所述弧面反射壁为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口20设置于第1个弧面反射壁或第2个弧面反射壁上或设置于流体入口处或设置于流体出口处。
在其中一个实施例中，所述2个对向设置的弧面反射壁之间的间距为L，弧面反射壁的曲率半径为R，其中L-R/2≤2R≤L+R/2。
在其中一个实施例中，所述弧面反射壁包括基板和第一反射层，所述基板为铝材或钢材，所述第一反射层为无机材料涂层、有机材料薄膜或高反射的介质膜。
在其中一个实施例中，所述光源为激光发射器、紫外线LED灯或紫外线汞灯中的至少一种，所述光源发出的消毒光束的波长为220nm-350nm。。
在其中一个实施例中，还包括设置于流体入口端的涡流发生器，所述涡流发生器用于使流体在消毒室内形成涡流。
在其中一个实施例中，还包括嵌设于弧面反射壁内的涡流发生器，所述涡流发生器用于使流体在消毒室内形成涡流。
在其中一个实施例中，还包括设置于流体出口端的涡流发生器，所述涡流发生器为间隔开/关的阻流装置。
在其中一个实施例中，所述涡流发生器朝向消毒室的一侧全部涂覆有第二反射层，所述第二反射层为无机材料涂层、有机材料薄膜或高反射的介质膜。
在其中一个实施例中，还包括消毒室清洁装置，所述清洁装置用于向消毒室内壁喷洒高压水。
在其中一个实施例中，还包括围设于消毒室外壁的烘干装置，所述烘干装置用于将残留在消毒室内壁的水汽烘干。
有益效果：
本发明一种弧面反射消毒装置，其消毒室由一个或多个弧面反射壁围合而成，消毒光束照射到弧面反射壁后在弧面反射壁之间得到多次反射，在消毒室内形成消毒光束网，所述弧面反射壁为整体结构，不存在空白反射区域，弧面反射壁对接收到的消毒光束进行反射，不会产生光束能量的损耗，增强了消毒的效果；同时，本发明一种弧面反射消毒装置结构比较简单，便于安装、便于维护。
附图说明
图1为本发明一个实施例中弧面反射激光消毒装置的结构示意图；
图2为本发明另一个实施例中弧面反射激光消毒装置的结构示意图；
图3为本发明一个实施例中圆筒状消毒室的结构示意图；
图4为本发明一个实施例中3个弧面反射镜围合成消毒室的结构示意图；
图5为本发明一个实施例中消毒室与清洁装置的结构示意图；
图6为本发明一个实施例中消毒室与烘干装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
如图1～图4所示，本实施例提供一种弧面反射消毒装置，包括光源10、光入口20、流体入口30、消毒室40和流体出口50，所述光源10发出消毒光束101，从光入口20照射进消毒室40，并在消毒室40内进行多次反射，所述消毒室40由一个或多个弧面反射壁围401合而成，所述多个弧面反射壁401的设置方式为首尾相接、间隔设置或对向设置，所述消毒光束101在弧面反射壁401的作用下，在消毒室40内进行多次反射，所述流体从流体入口30流入消毒室40经过消毒后再从流体出口50流出。具体地，所述光源10发出消毒光束101，从光入口20照射到光入口20对向的弧面反射镜401，该弧面反射镜401对接收到的消毒光束101进行反射，反射光束照射到另一块弧面反射镜上，再次被反射，以此类推，消毒光束101在消毒室40内多次反射后充满消毒室40的空间，对在消毒室40内流通的流体进行照射，消灭流体中存在的病原微生物等有害物质。本实施例一种弧面反射消毒装置，其消毒室40由一个或多个弧面反射壁401围合而成，消毒光束101照射到弧面反射壁401后在弧面反射壁401之间得到多次反射，在消毒室40内形成消毒光束网，所述弧面反射壁401为整体结构，不存在空白反射区域，弧面反射壁401对接收到的消毒光束101进行反射，不会产生光束能量的损耗，增强了消毒的效果；同时，本实施例一种弧面反射消毒装置结构比较简单，便于安装、便于维护；再一方面，所述弧面反射壁401具有束缚消毒光束101的作用，消毒光束101一旦进入消毒室40，就会一直在消毒室40内传输，不会外溢到消毒室40外部区域，所述弧面反射壁401可以充分的利用消毒光束的能量，不会造成能源的浪费。
如图3所示，在其中一个实施例中，所述消毒室40为圆筒状，所述弧面反射壁401为柱面反射壁或球面反射壁，所述弧面反射壁401为一个整体，围合成圆筒状的消毒室40，所述光入口20设置于弧面反射壁401上，所述光源10发出的消毒光束从光入口20照射进消毒室40内，并在消毒室40内形成多次反射，使消毒光束101充满消毒室40，对在消毒室40中流通的流体进行消毒。所述光源10设置于消毒室40外部，为消毒光束101在消毒室40内的传播提供无障碍的空间，不会影响消毒光束101在消毒室内部的传播，保证消毒光束101能充满整个消毒室40。
如图4所示，在其中一个实施例中，所述消毒室40由三个弧面反射壁401首尾相接而成，所述弧面反射壁401为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口20设置于弧面反射壁401上，所述光源10设置于消毒室40外部。
在其中一个实施例中，所述消毒室40的弧面反射壁的数量为大于等于3的基数，所述弧面反射壁401首尾相接围合成所述消毒室40，所述弧面反射壁401为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口20设置于任意一个弧面反射壁401上，所述光源10设置于消毒室40外部。
在其中一个实施例中，所述消毒室40的壁的数量为大于等于4的偶数，所述弧面反射壁401的数量为至少2个，其中2个弧面反射壁401对向设置，所述弧面反射壁401为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口20设置于对向设置的任意一个弧面反射壁401上，消毒光束101从光入口20照射到与光入口20对向设置的弧面反射镜401，该弧面反射镜401对接收到的消毒光束101进行反射，反射光束照射到另一块弧面反射镜上，再次被反射，以此类推，消毒光束101在消毒室40内多次反射后充满消毒室40的空间，对在消毒室40内流通的流体进行照射，消灭流体中存在的病原微生物等有害物质，除了弧面反射壁401，所述消毒室40的其他壁为普通腔室壁，普通腔室壁与弧面反射壁401共同组成消毒室40。
在其中一个实施例中，所述消毒室40的壁的数量为大于等于4的偶数，所述弧面反射壁401的数量为至少3个，其中第1个弧面反射壁401与第2个弧面反射壁401对向设置，第3个弧面反射壁401设置于第1个弧面反射壁401和第2个弧面反射壁401的顶端，所述弧面反射壁401为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口20设置于第1个弧面反射壁或第2个弧面反射壁上。所述第1个弧面反射壁401和第2个弧面反射壁401用于多次反射消毒光束101，使消毒光束101充满消毒术40，由于部分消毒光束101会从对向设置的第1个弧面反射壁401和第2个弧面反射壁401顶端照射出来，所述第3个弧面反射壁401用于接收该部分照射到顶端的消毒光束101，并将其再次反射到消毒室401内部，提高了消毒光束101的利用率并且防止了消毒光束101从顶部逃逸。
在其中一个实施例中，所述消毒室40的壁的数量为大于等于4的偶数，所述弧面反射壁401的数量为至少3个，其中第1个弧面反射壁401与第2个弧面反射壁401对向设置，第3个弧面反射壁401设置于第1个弧面反射壁401和第2个弧面反射壁401的底端，所述弧面反射壁401为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口20设置于第1个弧面反射壁或第2个弧面反射壁上。由于部分消毒光束101会从对向设置的第1个弧面反射壁401和第2个弧面反射壁401底端照射出来，所述第3个弧面反射壁401用于接收该部分照射到底端的消毒光束101，并将其再次反射到消毒室401内部，提高了消毒光束101的利用率并且防止了消毒光束101从底部逃逸。
在其中一个实施例中，所述消毒室40的壁的数量为大于等于4的偶数，所述弧面反射壁401的数量为至少4个，其中第1个弧面反射壁与第2个弧面反射壁对向设置，第3个弧面反射壁设置于第1个弧面反射壁和第2个弧面反射壁的底端，第4个弧面反射壁设置于第1个弧面反射壁和第2个弧面反射壁的顶端，光所述弧面反射壁401为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口20设置于第1个弧面反射壁或第2个弧面反射壁上。
在其中一个实施例中，所述光入口20也可以设置于流体入口30处，此时所述流体入口30即可看作是光入口20，利用流体入口30作为光入口，不需要进行单独的光入口20的设置，简化了消毒装置的结构，光源10设置于消毒室40外部，光源10发出的消毒光束101从流体入口20处照射到弧面反射壁401上，然后在弧面反射镜401之间多次反射形成消毒光束网，更进一步地，所述弧面反射壁401在接收入射的消毒光束的位置设置有角度调节反射镜(图中未示出)，所述角度调节反射镜用于将接收到的入射的消毒光束以一定的角度出射到对向的弧面反射壁401上，所述光源10对应的设置于流体入口30区域，流动的空气等流体可以对光源10进行散热，不需要增加其他的散热装置，降低了整个消毒装置的复杂程度，节省了成本。
在其中一个实施例中，所述光入口20也可以设置于流体出口50处，此时所述流体出口50即可看作是光入口20，利用流体出口50作为光入口，不需要进行单独的光入口20的设置，简化了消毒装置的结构，光源10设置于消毒室40外部，光源10发出的消毒光束101从流体出口50处照射到弧面反射壁401上，然后在弧面反射镜401之间多次反射形成消毒光束网，更进一步地，所述弧面反射壁401在接收入射的消毒光束的位置设置有角度调节反射镜(图中未示出)，所述角度调节反射镜用于将接收到的入射的消毒光束以一定的角度出射到对向的弧面反射壁401上，所述光源10对应的设置于流体出口50区域，流动的空气等流体可以对光源10进行散热，不需要增加其他的散热装置，降低了整个消毒装置的复杂程度，节省了成本。
在其中一个实施例中，所述2个对向设置的弧面反射壁401之间的间距为L，弧面反射壁的曲率半径为R，其中L-R/2≤2R≤L+R/2，优选地，2R＝L。
在其中一个实施例中，所述弧面反射壁401包括基板和第一反射层，所述基板为铝材、钢材或铜材，所述第一反射层为无机材料涂层、高反射的介质膜或高反射的金属膜，所述第一反射层的反射率为85％及85％以上。
在其中一个实施例中，所述光源10为光源为激光发射器、紫外线LED灯或紫外线汞灯中的至少一种，所述光源10发出的消毒光束101的波长为220nm-350nm，所述消毒光束101能破坏微生物体内遗传物质DNA或者RNA分子结构，导致细菌无法繁殖甚至失活，从而达到杀菌消毒的目的。
在其中一个实施例中，还包括设置于流体入口端的涡流发生器60，所述涡流发生器60可以是可转动的叶片、螺旋桨或风扇等，其转速小于3000转/分钟。所述涡流发生器60的作用在于改变空气等流体在消毒室40内的流向，使流体在消毒室内形成涡流，从而使流体沿弯曲路径通过消毒室40，延长流体在消毒室40内被消毒光束101照射的时间，从而保证消毒彻底。所述涡流发生器60也可以是涡流导向装置，导向叶片、导向通道等能够改变流体流动路径的任意装置。可选地，所述涡流发生器60的转速小于2000转/分钟、1000转/分钟、500转/分钟、300转/分钟、200转/分钟、100转/分钟。
如图3所示，在其中一个实施例中，还包括嵌设于弧面反射壁内401的涡流发生器60，所述涡流发生器60用于使流体在消毒室40内形成涡流。所述涡流发生器60可以内嵌于弧面反射壁60内；也可以一部分内嵌于弧面反射壁60，另一部分突出于弧面反射壁60；还可以凸出设置于弧面反射壁60，为了不影响消毒光束101在消毒室内的反射，所述涡流发生器60朝向消毒室40的一侧全部涂覆有第二反射层，所述第二反射层为无机材料涂层、有机材料薄膜、高反射的介质膜或高反射的金属膜。用于接收照射到涡流发生器60上的消毒光束101并将其反射进消毒室40内，所述第二反射层的反射率大于或等于85％。
在其中一个实施例中，还包括设置于流体出口端的涡流发生器60，所述涡流发生器60为间隔开/关的阻流装置。所述阻流装置可以是阻流门，当阻流装置关闭时，比如是空气或水的流体从流体入口20流入消毒室，并在消毒室内滞留一定时间，在滞留的时间里延长了消毒光束101对流体的照射时间，增强了消毒效果，主流装置关闭一定时间后自动打开，让流体从流体出口端流出，所述主流装置间隔开/关的时长小于3秒钟。
如图5所示，在其中一个实施例中，还包括消毒室清洁装置70，所述清洁装置70为高压水喷射装置，用于向消毒室40内壁喷洒高压水清洁消毒室内壁，所述清洁装置70也可以为高压气体喷射装置，用于向消毒室40内壁喷洒高压气体清洁消毒室内壁。长时间的使用后，在消毒室40的内壁会有一定的沉淀物，该沉淀物会严重影响消毒光束101的传播，本实施例设置的清洁装置70可随时对消毒室内壁进行清洁，保证消毒效果。
在其中一个实施例中，还包括围设于消毒室40外壁的烘干装置80，所述烘干装置80用于将残留在消毒室内壁的水汽烘干。所述烘干装置80包括包围壁801和加热丝802，消毒室内壁残留的水汽也会影响消毒光束101的传播，必须等水汽完全干透后才能保证消毒光束101的反射不被影响，因此，本实施例设置的烘干装置80对消毒室进行加热控干，快速恢复消毒光束101的反射环境，提高消毒室的维护效率。
需要说明的是，对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内，不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
本发明中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处。综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (15)
1.一种弧面反射消毒装置，其特征在于：包括光源、光入口、流体入口、消毒室和流体出口，所述光源发出消毒光束，从光入口照射进消毒室，并在消毒室内进行多次反射，所述消毒室由一个或多个弧面反射壁围合而成，所述多个弧面反射壁的设置方式为首尾相接、间隔设置或对向设置，所述流体从流体入口流入消毒室经过消毒后再从流体出口流出。
2.根据权利要求1所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：所述消毒室为圆筒状，所述弧面反射壁为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口设置于弧面反射壁上。
3.根据权利要求1所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：所述消毒室的壁的数量为大于等于3的基数，所述弧面反射壁首尾相接围合成所述消毒室，所述弧面反射壁为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口设置于任意一个弧面反射壁上或设置于流体入口处或设置于流体出口处。
4.根据权利要求1所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：所述消毒室的壁的数量为大于等于4的偶数，所述弧面反射壁的数量为至少2个，其中2个弧面反射壁对向设置，所述弧面反射壁为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口设置于对向设置的任意一个弧面反射壁上或设置于流体入口处或设置于流体出口处。
5.根据权利要求1所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：所述消毒室的壁的数量为大于等于4的偶数，所述弧面反射壁的数量为至少3个，其中第1个弧面反射壁与第2个弧面反射壁对向设置，第3个弧面反射壁设置于第1个弧面反射壁和第2个弧面反射壁的顶端或底端，所述弧面反射壁为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口设置于第1个弧面反射壁或第2个弧面反射壁上或设置于流体入口处或设置于流体出口处。
6.根据权利要求1所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：所述消毒室的壁的数量为大于等于4的偶数，所述弧面反射壁的数量为至少4个，其中第1个弧面反射壁与第2个弧面反射壁对向设置，第3个弧面反射壁设置于第1个弧面反射壁和第2个弧面反射壁的底端，第4个弧面反射壁设置于第1个弧面反射壁和第2个弧面反射壁的顶端，光所述弧面反射壁为柱面反射壁或球面反射壁，所述光入口设置于第1个弧面反射壁或第2个弧面反射壁上或设置于流体入口处或设置于流体出口处。
7.根据权利要求4-6中任一项所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：所述2个对向设置的弧面反射壁之间的间距为L，弧面反射壁的曲率半径为R，其中L-R/2≤2R≤L+R/2。
8.根据权利要求1-6中任一项所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：所述弧面反射壁包括基板和设于所述基板内壁的第一反射层，所述基板为铝材、钢材或铜材，所述第一反射层为无机材料涂层、有机材料薄膜、高反射的介质膜或高反射的金属膜。
9.根据权利要求1-6中任一项所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：所述光源为激光发射器、紫外线LED灯或紫外线汞灯中的至少一种，所述光源发出的消毒光束的波长为220nm-350nm。
10.根据权利要求1所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：还包括设置于流体入口端的涡流发生器，所述涡流发生器用于使流体在消毒室内形成涡流。
11.根据权利要求1所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：还包括嵌设于弧面反射壁内的涡流发生器，所述涡流发生器用于使流体在消毒室内形成涡流。
12.根据权利要求1所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：还包括设置于流体出口端的涡流发生器，所述涡流发生器为间隔开/关的阻流装置。
13.根据权利要求10-12中任一项所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：所述涡流发生器朝向消毒室的一侧全部涂覆有第二反射层，所述第二反射层为无机材料涂层、有机材料薄膜或高反射的介质膜。
14.根据权利要求1-6、10-12中任一项所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：还包括消毒室清洁装置，所述清洁装置用于向消毒室内壁喷洒高压水或喷射高压气体。
15.根据权利要求14所述的一种弧面反射消毒装置，其特征在于：还包括围设于消毒室外壁的烘干装置，所述烘干装置用于将残留在消毒室内壁的水汽烘干。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202310978882.8A CN117006574A (zh) | 2023-08-04 | 2023-08-04 | 一种弧面反射消毒装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| CN202310978882.8A CN117006574A (zh) | 2023-08-04 | 2023-08-04 | 一种弧面反射消毒装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN117006574A true CN117006574A (zh) | 2023-11-07 |
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ID=88568654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202310978882.8A Pending CN117006574A (zh) | 2023-08-04 | 2023-08-04 | 一种弧面反射消毒装置 |
Country Status (1)
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2023
- 2023-08-04 CN CN202310978882.8A patent/CN117006574A/zh active Pending
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