CN116829366A - 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、平版印刷方法及呈色剂 - Google Patents
机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、平版印刷方法及呈色剂 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116829366A CN116829366A CN202280014411.9A CN202280014411A CN116829366A CN 116829366 A CN116829366 A CN 116829366A CN 202280014411 A CN202280014411 A CN 202280014411A CN 116829366 A CN116829366 A CN 116829366A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- group
- formula
- compound
- lithographic printing
- printing plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 242
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims abstract description 106
- 238000011161 development Methods 0.000 title claims abstract description 102
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 63
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 357
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 61
- 229910052795 boron group element Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 22
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 79
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 72
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 35
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 22
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 19
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 17
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 15
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims description 12
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 claims description 10
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 claims 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 209
- -1 acryl Chemical group 0.000 description 198
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 130
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 112
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 108
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 86
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 86
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 80
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 79
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 70
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 69
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 67
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 62
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 48
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 45
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate Substances CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 43
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 39
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 38
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 37
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 37
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 36
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 32
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 28
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 27
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 27
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 25
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 25
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 24
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 23
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 21
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 21
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 21
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 20
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 19
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 18
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 18
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 18
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 17
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 17
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 17
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 16
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 16
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 16
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 15
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 15
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 15
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 15
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 15
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 14
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 14
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 12
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 12
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 12
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 11
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 11
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 11
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 10
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 10
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 10
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 10
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 10
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 9
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 9
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 9
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 8
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 8
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 8
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 8
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 8
- 125000004986 diarylamino group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 8
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 8
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 7
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 7
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 7
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 7
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 7
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 7
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 7
- 125000005240 diheteroarylamino group Chemical group 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000005553 heteroaryloxy group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 7
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 7
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 6
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Natural products OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 6
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 6
- 125000005241 heteroarylamino group Chemical group 0.000 description 6
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 6
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 6
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 6
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 5
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 description 5
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 5
- 150000002085 enols Chemical class 0.000 description 5
- FWQHNLCNFPYBCA-UHFFFAOYSA-N fluoran Chemical compound C12=CC=CC=C2OC2=CC=CC=C2C11OC(=O)C2=CC=CC=C21 FWQHNLCNFPYBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 5
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 5
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 5
- 238000004776 molecular orbital Methods 0.000 description 5
- 125000005506 phthalide group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 5
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XAAILNNJDMIMON-UHFFFAOYSA-N 2'-anilino-6'-(dibutylamino)-3'-methylspiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound C=1C(N(CCCC)CCCC)=CC=C(C2(C3=CC=CC=C3C(=O)O2)C2=C3)C=1OC2=CC(C)=C3NC1=CC=CC=C1 XAAILNNJDMIMON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003775 Density Functional Theory Methods 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 4
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 4
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 4
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 4
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 4
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 4
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- WXTMDXOMEHJXQO-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC=C1O WXTMDXOMEHJXQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 3
- 229920002858 MOWIOL ® 4-88 Polymers 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001413 amino acids Chemical group 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 3
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 description 3
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 3
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 3
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 3
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 3
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 3
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- YQUVCSBJEUQKSH-UHFFFAOYSA-N protochatechuic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 YQUVCSBJEUQKSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004307 pyrazin-2-yl group Chemical group [H]C1=C([H])N=C(*)C([H])=N1 0.000 description 3
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N triphenylborane Chemical compound C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- LIZLYZVAYZQVPG-UHFFFAOYSA-N (3-bromo-2-fluorophenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=CC(Br)=C1F LIZLYZVAYZQVPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXGXOWWOUHDUOH-UHFFFAOYSA-N (4-octoxyphenyl)-(2,4,6-trimethoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=C(OC)C=C(OC)C=C1OC WXGXOWWOUHDUOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical compound CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DXYZIGZCEVJFIX-UHFFFAOYSA-N 2'-(dibenzylamino)-6'-(diethylamino)spiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound C=1C(N(CC)CC)=CC=C(C2(C3=CC=CC=C3C(=O)O2)C2=C3)C=1OC2=CC=C3N(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 DXYZIGZCEVJFIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SHHQYIMTQGDRHS-UHFFFAOYSA-N 2'-anilino-6'-(dipentylamino)-3'-methylspiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound C=1C(N(CCCCC)CCCCC)=CC=C(C2(C3=CC=CC=C3C(=O)O2)C2=C3)C=1OC2=CC(C)=C3NC1=CC=CC=C1 SHHQYIMTQGDRHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IXHBSOXJLNEOPY-UHFFFAOYSA-N 2'-anilino-6'-(n-ethyl-4-methylanilino)-3'-methylspiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound C=1C=C(C2(C3=CC=CC=C3C(=O)O2)C2=CC(NC=3C=CC=CC=3)=C(C)C=C2O2)C2=CC=1N(CC)C1=CC=C(C)C=C1 IXHBSOXJLNEOPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybenzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC(O)=C1O GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCZUOKDVTBMCMX-UHFFFAOYSA-N 2,5-Dimethylpyrazine Chemical compound CC1=CN=C(C)C=N1 LCZUOKDVTBMCMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMRWILPUOVGIMU-UHFFFAOYSA-N 2-bromopyridine Chemical compound BrC1=CC=CC=N1 IMRWILPUOVGIMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004135 2-norbornyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C2([H])C([H])([H])C1([H])C([H])([H])C2([H])* 0.000 description 2
- CJBDUOMQLFKVQC-UHFFFAOYSA-N 3-(2-hydroxyphenyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=CC=C1O CJBDUOMQLFKVQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 3-heptyl-2-[(3-heptyl-4-methyl-1,3-thiazol-3-ium-2-yl)methylidene]-4-methyl-1,3-thiazole;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCN1C(C)=CS\C1=C\C1=[N+](CCCCCCC)C(C)=CS1 DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WHBMMWSBFZVSSR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxybutyric acid Chemical compound CC(O)CC(O)=O WHBMMWSBFZVSSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxycyclobut-2-en-1-one Chemical compound OC1=CC(=O)C1 IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJZRECIVHVDYJC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyric acid Chemical compound OCCCC(O)=O SJZRECIVHVDYJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQLSVJZAYNTISZ-UHFFFAOYSA-N N12NCCCCC2=C(CCC1)CCCCCCCC(=O)O Chemical compound N12NCCCCC2=C(CCC1)CCCCCCCC(=O)O SQLSVJZAYNTISZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 2
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N azulene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC2=C1 CUFNKYGDVFVPHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 2
- DGQLVPJVXFOQEV-NGOCYOHBSA-N carminic acid Chemical compound OC1=C2C(=O)C=3C(C)=C(C(O)=O)C(O)=CC=3C(=O)C2=C(O)C(O)=C1[C@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1O DGQLVPJVXFOQEV-NGOCYOHBSA-N 0.000 description 2
- 239000004106 carminic acid Substances 0.000 description 2
- 235000012730 carminic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229940114118 carminic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 2
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- VFLDPWHFBUODDF-FCXRPNKRSA-N curcumin Chemical compound C1=C(O)C(OC)=CC(\C=C\C(=O)CC(=O)\C=C\C=2C=C(OC)C(O)=CC=2)=C1 VFLDPWHFBUODDF-FCXRPNKRSA-N 0.000 description 2
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical group C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical group C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- URSLCTBXQMKCFE-UHFFFAOYSA-N dihydrogenborate Chemical compound OB(O)[O-] URSLCTBXQMKCFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000010685 fatty oil Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005226 heteroaryloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 description 2
- ROBFUDYVXSDBQM-UHFFFAOYSA-N hydroxymalonic acid Chemical compound OC(=O)C(O)C(O)=O ROBFUDYVXSDBQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JXOHGGNKMLTUBP-HSUXUTPPSA-N shikimic acid Chemical compound O[C@@H]1CC(C(O)=O)=C[C@@H](O)[C@H]1O JXOHGGNKMLTUBP-HSUXUTPPSA-N 0.000 description 2
- JXOHGGNKMLTUBP-JKUQZMGJSA-N shikimic acid Natural products O[C@@H]1CC(C(O)=O)=C[C@H](O)[C@@H]1O JXOHGGNKMLTUBP-JKUQZMGJSA-N 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- JMSVCTWVEWCHDZ-UHFFFAOYSA-N syringic acid Chemical compound COC1=CC(C(O)=O)=CC(OC)=C1O JMSVCTWVEWCHDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LNEFYSRMVMLZCP-UHFFFAOYSA-N (2,4-diethoxyphenyl)-(4-hexoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=CC=C(OCC)C=C1OCC LNEFYSRMVMLZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKCNEIWFQCSCM-UHFFFAOYSA-N (2-methyl-4-phenylpent-4-en-2-yl)benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)CC(=C)C1=CC=CC=C1 ZOKCNEIWFQCSCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N (2R)-2-hydroxy-2-phenylacetic acid Chemical compound O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1.O[C@@H](C(O)=O)c1ccccc1 QBYIENPQHBMVBV-HFEGYEGKSA-N 0.000 description 1
- AAWZDTNXLSGCEK-LNVDRNJUSA-N (3r,5r)-1,3,4,5-tetrahydroxycyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound O[C@@H]1CC(O)(C(O)=O)C[C@@H](O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-LNVDRNJUSA-N 0.000 description 1
- DZDORLPPVXWPOM-UHFFFAOYSA-N (4-hexoxyphenyl)-(2,4,6-trimethoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=C(OC)C=C(OC)C=C1OC DZDORLPPVXWPOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZAVOFMIRPJYPQ-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-[4-(2-methylpropyl)phenyl]iodanium Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[I+]C1=CC=C(CC(C)C)C=C1 UZAVOFMIRPJYPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLQQUUPVSXIM-ZCFIWIBFSA-N (R)-mevalonic acid Chemical compound OCC[C@](O)(C)CC(O)=O KJTLQQUUPVSXIM-ZCFIWIBFSA-N 0.000 description 1
- OTOIIPJYVQJATP-BYPYZUCNSA-N (R)-pantoic acid Chemical compound OCC(C)(C)[C@@H](O)C(O)=O OTOIIPJYVQJATP-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- AFENDNXGAFYKQO-VKHMYHEASA-N (S)-2-hydroxybutyric acid Chemical compound CC[C@H](O)C(O)=O AFENDNXGAFYKQO-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNPWYHFXSMINJQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethyl-3-(1-phenylethyl)benzene Chemical compound C=1C=CC(C)=C(C)C=1C(C)C1=CC=CC=C1 GNPWYHFXSMINJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical group C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethoxy)ethanol Chemical compound COCOC(C)O RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrrole Chemical compound C=CN1C=CC=C1 CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOCDJQSAMZARGX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrrolidine-2,5-dione Chemical compound C=CN1C(=O)CCC1=O VOCDJQSAMZARGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSMSSYSRCUNIFX-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-prop-1-enylbenzene Chemical compound CC=CC1=CC=C(C)C=C1 LSMSSYSRCUNIFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMRFWZHQMKFNIQ-UHFFFAOYSA-N 10-ethenylphenothiazine Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3SC2=C1 GMRFWZHQMKFNIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical group C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGEFWFBFQKWVMY-DUXPYHPUSA-N 2,4-dihydroxy-trans cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1O HGEFWFBFQKWVMY-DUXPYHPUSA-N 0.000 description 1
- 239000001934 2,5-dimethylpyrazine Substances 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- IGDLZDCWMRPMGL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(C=C)C(=O)C2=C1 IGDLZDCWMRPMGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004807 2-methylethylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:2])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- UKVQBONVSSLJBB-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-2-ylacetonitrile Chemical compound N#CCC1=CC=CC=N1 UKVQBONVSSLJBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCCTVAJNFXYWTM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(=O)C=CC1=O NCCTVAJNFXYWTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMZZBGUNXMGXCD-UHFFFAOYSA-N 3',6,6'-tris(dimethylamino)spiro[2-benzofuran-3,9'-fluorene]-1-one Chemical compound C12=CC=C(N(C)C)C=C2C2=CC(N(C)C)=CC=C2C21OC(=O)C1=CC(N(C)C)=CC=C21 RMZZBGUNXMGXCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHSXTWFYRGOBGO-UHFFFAOYSA-N 3-methylsalicylic acid Chemical compound CC1=CC=CC(C(O)=O)=C1O WHSXTWFYRGOBGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 3-sulfophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1C(O)=O SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNALFCQVQALKNH-UHFFFAOYSA-N 4-(2,4,5-tripyridin-4-ylphenyl)pyridine Chemical compound C1=NC=CC(C=2C(=CC(=C(C=3C=CN=CC=3)C=2)C=2C=CN=CC=2)C=2C=CN=CC=2)=C1 ZNALFCQVQALKNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004199 4-trifluoromethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- 101710190981 50S ribosomal protein L6 Proteins 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPTFBKSZQAYKMB-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)OO[B] Chemical compound C1(=CC=CC=C1)OO[B] RPTFBKSZQAYKMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGLMVXWAHNTPRF-CMDGGOBGSA-N CCN1N=C(C)C=C1C(=O)NC1=NC2=CC(=CC(OC)=C2N1C\C=C\CN1C(NC(=O)C2=CC(C)=NN2CC)=NC2=CC(=CC(OCCCN3CCOCC3)=C12)C(N)=O)C(N)=O Chemical compound CCN1N=C(C)C=C1C(=O)NC1=NC2=CC(=CC(OC)=C2N1C\C=C\CN1C(NC(=O)C2=CC(C)=NN2CC)=NC2=CC(=CC(OCCCN3CCOCC3)=C12)C(N)=O)C(N)=O JGLMVXWAHNTPRF-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000007516 Chrysanthemum Nutrition 0.000 description 1
- 244000189548 Chrysanthemum x morifolium Species 0.000 description 1
- XFTRTWQBIOMVPK-YFKPBYRVSA-N Citramalic acid Natural products OC(=O)[C@](O)(C)CC(O)=O XFTRTWQBIOMVPK-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- AAWZDTNXLSGCEK-UHFFFAOYSA-N Cordycepinsaeure Natural products OC1CC(O)(C(O)=O)CC(O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-AIHAYLRMSA-N D-altronic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-AIHAYLRMSA-N 0.000 description 1
- ODBLHEXUDAPZAU-ZAFYKAAXSA-N D-threo-isocitric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](C(O)=O)CC(O)=O ODBLHEXUDAPZAU-ZAFYKAAXSA-N 0.000 description 1
- KJTLQQUUPVSXIM-UHFFFAOYSA-N DL-mevalonic acid Natural products OCCC(O)(C)CC(O)=O KJTLQQUUPVSXIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- VOWAEIGWURALJQ-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexyl phthalate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OC2CCCCC2)C=1C(=O)OC1CCCCC1 VOWAEIGWURALJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N Erucic acid Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- ODBLHEXUDAPZAU-FONMRSAGSA-N Isocitric acid Natural products OC(=O)[C@@H](O)[C@H](C(O)=O)CC(O)=O ODBLHEXUDAPZAU-FONMRSAGSA-N 0.000 description 1
- ROHFNLRQFUQHCH-YFKPBYRVSA-N L-leucine Chemical compound CC(C)C[C@H](N)C(O)=O ROHFNLRQFUQHCH-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- ROHFNLRQFUQHCH-UHFFFAOYSA-N Leucine Natural products CC(C)CC(N)C(O)=O ROHFNLRQFUQHCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100446506 Mus musculus Fgf3 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100348848 Mus musculus Notch4 gene Proteins 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAWZDTNXLSGCEK-ZHQZDSKASA-N Quinic acid Natural products O[C@H]1CC(O)(C(O)=O)C[C@H](O)C1O AAWZDTNXLSGCEK-ZHQZDSKASA-N 0.000 description 1
- IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N R-2-phenyl-2-hydroxyacetic acid Natural products OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000767160 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) Intracellular protein transport protein USO1 Proteins 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- GTVWRXDRKAHEAD-UHFFFAOYSA-N Tris(2-ethylhexyl) phosphate Chemical compound CCCCC(CC)COP(=O)(OCC(CC)CCCC)OCC(CC)CCCC GTVWRXDRKAHEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QROGIFZRVHSFLM-QHHAFSJGSA-N [(e)-prop-1-enyl]benzene Chemical compound C\C=C\C1=CC=CC=C1 QROGIFZRVHSFLM-QHHAFSJGSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O Chemical group [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- ZHSOHGDJTZDDIF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2-(2-aminoethylamino)ethane-1,1-diol Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.NCCNCC(O)O ZHSOHGDJTZDDIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002998 adhesive polymer Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000004947 alkyl aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002521 alkyl halide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 229940053200 antiepileptics fatty acid derivative Drugs 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- XDLDASNSMGOEMX-UHFFFAOYSA-N benzene benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1 XDLDASNSMGOEMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKXSKSHDVLQNKG-UHFFFAOYSA-N benzilic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 UKXSKSHDVLQNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940087675 benzilic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K bis(2-ethylhexanoyloxy)bismuthanyl 2-ethylhexanoate Chemical compound [Bi+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010504 bond cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- RFAZFSACZIVZDV-UHFFFAOYSA-N butan-2-one Chemical compound CCC(C)=O.CCC(C)=O RFAZFSACZIVZDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 230000002490 cerebral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- CEZCCHQBSQPRMU-UHFFFAOYSA-L chembl174821 Chemical compound [Na+].[Na+].COC1=CC(S([O-])(=O)=O)=C(C)C=C1N=NC1=C(O)C=CC2=CC(S([O-])(=O)=O)=CC=C12 CEZCCHQBSQPRMU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001851 cinnamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- XFTRTWQBIOMVPK-UHFFFAOYSA-N citramalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)(C)CC(O)=O XFTRTWQBIOMVPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229940109262 curcumin Drugs 0.000 description 1
- 235000012754 curcumin Nutrition 0.000 description 1
- 239000004148 curcumin Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- VFLDPWHFBUODDF-UHFFFAOYSA-N diferuloylmethane Natural products C1=C(O)C(OC)=CC(C=CC(=O)CC(=O)C=CC=2C=C(OC)C(O)=CC=2)=C1 VFLDPWHFBUODDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBGGXOJOCNVPFY-UHFFFAOYSA-N diisononyl phthalate Chemical class CC(C)CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCC(C)C HBGGXOJOCNVPFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIGVRXYWWFPORY-UHFFFAOYSA-N diphenylborinic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1B(O)C1=CC=CC=C1 VIGVRXYWWFPORY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000012674 dispersion polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002081 enamines Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N erucic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960005219 gentisic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000005456 glyceride group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical group I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000004715 keto acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002372 labelling Methods 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229960002510 mandelic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical group CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- HRDXJKGNWSUIBT-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Chemical group [CH2]OC1=CC=CC=C1 HRDXJKGNWSUIBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000012703 microemulsion polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000010680 novolac-type phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N phenylacetic acid Chemical class OC(=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000005496 phosphonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- WBHHMMIMDMUBKC-XLNAKTSKSA-N ricinelaidic acid Chemical compound CCCCCC[C@@H](O)C\C=C\CCCCCCCC(O)=O WBHHMMIMDMUBKC-XLNAKTSKSA-N 0.000 description 1
- 229960003656 ricinoleic acid Drugs 0.000 description 1
- FEUQNCSVHBHROZ-UHFFFAOYSA-N ricinoleic acid Natural products CCCCCCC(O[Si](C)(C)C)CC=CCCCCCCCC(=O)OC FEUQNCSVHBHROZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 125000004436 sodium atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfate decahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- LXMSZDCAJNLERA-ZHYRCANASA-N spironolactone Chemical group C([C@@H]1[C@]2(C)CC[C@@H]3[C@@]4(C)CCC(=O)C=C4C[C@H]([C@@H]13)SC(=O)C)C[C@@]21CCC(=O)O1 LXMSZDCAJNLERA-ZHYRCANASA-N 0.000 description 1
- 229960002256 spironolactone Drugs 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000004936 stimulating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005156 substituted alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005649 substituted arylene group Chemical group 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000008053 sultones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- YIBXWXOYFGZLRU-UHFFFAOYSA-N syringic aldehyde Natural products CC12CCC(C3(CCC(=O)C(C)(C)C3CC=3)C)C=3C1(C)CCC2C1COC(C)(C)C(O)C(O)C1 YIBXWXOYFGZLRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003419 tautomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGQOCLATAPFASR-UHFFFAOYSA-N tetrahydroxy-1,4-benzoquinone Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C(O)=C(O)C1=O DGQOCLATAPFASR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical group S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODBLHEXUDAPZAU-UHFFFAOYSA-N threo-D-isocitric acid Natural products OC(=O)C(O)C(C(O)=O)CC(O)=O ODBLHEXUDAPZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- RUVINXPYWBROJD-ONEGZZNKSA-N trans-anethole Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\C)C=C1 RUVINXPYWBROJD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 150000005430 trihydroxybenzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WKOLLVMJNQIZCI-UHFFFAOYSA-N vanillic acid Chemical compound COC1=CC(C(O)=O)=CC=C1O WKOLLVMJNQIZCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUUBOHWZSQXCSW-UHFFFAOYSA-N vanillic acid Natural products COC1=CC(O)=CC(C(O)=O)=C1 TUUBOHWZSQXCSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3035—Imagewise removal using liquid means from printing plates fixed on a cylinder or on a curved surface; from printing cylinders
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
本发明提供一种机上显影型平版印刷版原版、使用了上述机上显影型平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法或平版印刷方法、以及由式1或式2表示的呈色剂,上述机上显影型平版印刷版原版具有:支承体;及上述支承体上的图像记录层,上述图像记录层包含由式1或式2表示的化合物以及具有第13族元素的有机化合物。式1及式2中,R1~R7分别独立地表示氢原子或一价的有机基团,L1及L2表示二价的有机基团。
Description
技术领域
本发明涉及一种机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、平版印刷方法及呈色剂。
背景技术
通常,平版印刷版由在印刷过程接受油墨的亲油性图像部和接受润版液的亲水性非图像部构成。平版印刷为如下方法,即,利用水与油性油墨彼此排斥的性质,将平版印刷版的亲油性图像部作为油墨接受部,将亲水性非图像部作为润版液接受部(非油墨接受部),在平版印刷版的表面产生油墨的附着性差异,使油墨仅着墨在图像部之后,将油墨转印于纸等被印刷体而进行印刷。
为了制作该平版印刷版,以往,可广泛使用在亲水性支承体上设置有亲油性感光性树脂层(图像记录层)的平版印刷版原版(PS版)。通常,通过如下方法进行制版而获得了平版印刷版:对平版印刷版原版进行通过了高反差软片等原始图像的曝光之后,使图像记录层的成为图像部的部分残留,并通过碱性显影液或有机溶剂溶解去除除此以外的不必要的图像记录层,而使亲水性支承体表面暴露并形成非图像部。
并且,由于对地球环境的关心日益增加,因此与伴随显影处理等湿式处理的废液相关的环境问题变得明显。
对于上述环境问题,指向显影或制版的简单化、无处理化。作为简单的制作方法之一,进行了称为“机上显影”的方法。即,机上显影为如下方法:对平版印刷版原版进行曝光之后,直接安装到印刷机而不进行以往的显影,且在通常的印刷工序的初始阶段进行图像记录层的不必要部分的去除。
在本发明中,将能够用于这种机上显影的平版印刷版原版称为“机上显影型平版印刷版原版”。
作为以往的感光性组合物,例如,可举出专利文献1中所记载的组合物。
在专利文献1中记载了一种包含0.01质量%~5质量%的姜黄素的感光性组合物。
专利文献1:美国专利申请公开第2005/0130064号说明书
发明内容
发明要解决的技术课题
本发明的一实施方式欲解决的课题在于提供一种油墨浑浊抑制性及经时视觉辨认度优异的机上显影型平版印刷版原版。
本发明的另一实施方式欲解决的课题在于提供一种使用了上述机上显影型平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法或平版印刷方法。
本发明的又一实施方式欲解决的课题在于提供一种对具有第13族元素的有机化合物的呈色性优异的呈色剂。
用于解决技术课题的手段
在用于解决上述课题的方式中包括以下方式。
<1>一种机上显影型平版印刷版原版,其具有:支承体;及上述支承体上的图像记录层,上述图像记录层包含由下述式1或式2表示的化合物以及具有第13族元素的有机化合物。
[化学式1]
式1及式2中,R1~R7分别独立地表示氢原子或一价的有机基团,L1及L2表示二价的有机基团,L1、R2及R3中的2个以上的基团、L2、R4及R6中的2个以上的基团、以及L2、R5及R7中的2个以上的基团可以连结而形成环结构。
<2>根据<1>所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
上述具有第13族元素的有机化合物为给电子型聚合引发剂。
<3>根据<2>所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
上述给电子型聚合引发剂具有吸电子基团。
<4>根据<1>至<3>中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
由上述式1或式2表示的化合物在25℃下的酮体或亚胺体的比例为10摩尔%以上。
<5>根据<1>至<4>中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
由上述式1或式2表示的化合物包含具有环结构的化合物。
<6>根据<1>至<5>中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
由上述式1或式2表示的化合物包含具有2个以上的环结构的化合物。
<7>根据<1>至<6>中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
由上述式1或式2表示的化合物包含在芳香环上具有给电子基团的化合物。
<8>根据<1>至<7>中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
相对于上述图像记录层的总质量,由上述式1或式2表示的化合物的含量为0.05质量%~2.5质量%。
<9>根据<1>至<8>中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
上述图像记录层还包含受电子型聚合引发剂。
<10>根据<9>所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
上述受电子型聚合引发剂包含由下述式(II)表示的化合物。
[化学式2]
式(II)中,XA表示卤原子,RA表示芳基。
<11>根据<1>至<10>中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
上述具有第13族元素的有机化合物包含具有受电子型聚合引发剂结构的阳离子和具有给电子型聚合引发剂结构的阴离子形成抗衡盐而成的化合物。
<12>根据<1>至<11>中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
上述图像记录层还包含极性有机溶剂。
<13>根据权利要求<12>所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
上述极性有机溶剂为选自二甲基亚砜及N-甲基吡咯烷酮中的至少1种溶剂。
<14>一种平版印刷版的制作方法,其包括:将<1>至<13>中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版曝光成图像状的工序;及在印刷机上供给选自印刷墨液及润版液中的至少一者来去除非图像部的图像记录层的工序。
<15>一种平版印刷方法,其包括:将<1>至<13>中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版曝光成图像状的工序;供给选自印刷墨液及润版液中的至少一者以在印刷机上去除非图像部的图像记录层而制作平版印刷版的工序;及使用所获得的平版印刷版进行印刷的工序。
<16>一种呈色剂,其由下述式1或式2表示。
[化学式3]
式1及式2中,R1~R7分别独立地表示氢原子或一价的有机基团,L1及L2表示二价的有机基团,L1、R2及R3中的2个以上的基团、L2、R4及R6中的2个以上的基团、以及L2、R5及R7中的2个以上的基团可以连结而形成环结构。
<17>根据<16>所述的呈色剂,其中,
由上述式1或式2表示的呈色剂在25℃下的酮体或亚胺体的比例为10摩尔%以上。
<18>根据<16>或<17>所述的呈色剂,其中,
由上述式1或式2表示的呈色剂包含具有环结构的化合物。
<19>根据<16>至<18>中任一项所述的呈色剂,其中,
由上述式1或式2表示的呈色剂包含具有2个以上的环结构的化合物。
<20>根据<16>至<19>中任一项所述的呈色剂,其中,
由上述式1或式2表示的呈色剂为在芳香环上具有给电子基团的化合物。
发明效果
根据本发明的一实施方式,能够提供一种油墨浑浊抑制性及经时视觉辨认度优异的机上显影型平版印刷版原版。
并且,根据本发明的另一实施方式,能够提供一种使用了上述机上显影型平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法或平版印刷方法。
根据本发明的又一实施方式,能够提供一种对具有第13族元素的有机化合物的呈色性优异的呈色剂。
附图说明
图1是优选用于本发明的铝支承体的一实施方式的示意性剖视图。
图2是具有阳极氧化皮膜的铝支承体的一实施方式的示意性剖视图。
图3是具有阳极氧化皮膜的铝支承体的制造方法中的阳极氧化处理中所使用的阳极氧化处理装置的概略图。
具体实施方式
以下,对本发明的内容进行详细说明。以下所记载的构成要件的说明是基于本发明的代表性实施方式来进行的,但是本发明并不限定于这种实施方式。
另外,在本说明书中,表示数值范围的“~”以将其前后记载的数值作为下限值及上限值而包含的含义进行使用。
并且,在本说明书中的基团(原子团)的标记中,未标有取代及未取代的标记不仅包含不具有取代基的基团,而且还包含具有取代基的基团。例如,“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未取代烷基),还包含具有取代基的烷基(取代烷基)。
在本说明书中,“(甲基)丙烯酸”为用作包含丙烯酸及甲基丙烯酸这两者的含义的术语,“(甲基)丙烯酰基”为用作包含丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两者的含义的术语。
并且,本说明书中的“工序”这一术语不仅包括独立的工序,即使在无法与其他工序明确区分的情况下,只要可实现该工序的预期目的,则也包括在本术语中。并且,在本发明中,“质量%”与“重量%”的定义相同,且“质量份”与“重量份”的定义相同。
只要无特别限定,则在本发明中组合物中的各成分或聚合物中的各构成单元可以单独包含一种,也可以并用两种以上。
而且,在本发明中,关于组合物中的各成分或聚合物中的各构成单元的量,在存在多种相当于组合物中的各成分或聚合物中的各构成单元的物质或构成单元的情况下,只要无特别说明,则是指存在于组合物中的相对应的多种物质或存在于聚合物中的相对应的多种各构成单元的总量。
而且,在本发明中,两种以上的优选方式的组合为更优选方式。
并且,只要无特别说明,则本发明中的重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)为通过使用了TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(均为TOSOH CORPORATION制造的商品名称)的管柱的凝胶渗透色谱(GPC)分析装置,并通过溶剂THF(四氢呋喃)、差示折射计检测,并作为标准物质而使用聚苯乙烯换算的分子量。
在本发明中,“平版印刷版原版”这一术语不仅包括平版印刷版原版,而且包括废弃版原版。并且,“平版印刷版”这一术语不仅包含根据需要将平版印刷版原版经由曝光、显影等的操作而制作的平版印刷版,而且包含废弃版。在废弃版原版的情况下,未必需要曝光、显影的操作。另外,废弃版是指例如在彩色报纸印刷中以单色或双色对一部分版面进行印刷的情况下,用于安装于未使用的印版滚筒上的平版印刷版原版。
在本发明中,“印刷耐久性优异”是指平版印刷版的可印刷张数多,以下,也将作为印刷时的油墨使用紫外线固化型油墨(UV油墨)时的印刷耐久性称为“UV印刷耐久性”。
以下,对本发明进行详细说明。
(机上显影型平版印刷版原版)
本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版具有:支承体;及上述支承体上的图像记录层,上述图像记录层包含由下述式1或式2表示的化合物以及具有第13族元素的有机化合物。
[化学式4]
式1及式2中,R1~R7分别独立地表示氢原子或一价的有机基团,L1及L2表示二价的有机基团,L1、R2及R3中的2个以上的基团、L2、R4及R6中的2个以上的基团、以及L2、R5及R7中的2个以上的基团可以连结而形成环结构。
并且,本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版可以是负型平版印刷版原版,也可以是正型平版印刷版原版,但是优选为负型平版印刷版原版。
本发明人等发现了,在以往的机上显影型平版印刷版原版中,所印刷的图像中的油墨的颜色有时浑浊。
本发明人等进行深入研究的结果,发现了通过采用上述结构,能够提供一种油墨浑浊抑制性优异的机上显影型平版印刷版原版。
可获得上述效果的详细机理虽然不明确,但是推测如下。
推断为由上述式1或式2表示的化合物作为呈色剂发挥作用,但是由式1或式2表示的化合物为非共轭系酮型化合物,因此化合物本身的着色少。因此推断为,即使在上述图像记录层中所包含的由上述式1或式2表示的化合物溶出到油墨的情况下,对油墨的色调的影响小,能够抑制油墨浑浊。
并且推断为,本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版通过上述图像记录层包含由上述式1或式2表示的化合物以及具有第13族元素的有机化合物,由上述式1或式2表示的化合物捕获具有第13族元素的有机化合物本身或通过曝光由具有第13族元素的有机化合物产生的分解物,并且通过改性为烯醇型而呈色,曝光部中的显色或变色程度变得更高,因此曝光部的经时视觉辨认度也优异。
以下,对本发明所涉及的平版印刷版原版中的各构成要件的详细内容进行说明。
<图像记录层>
本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版具有图像记录层,上述图像记录层包含由上述式1或式2表示的化合物以及具有第13族元素的有机化合物。
本发明中所使用的图像记录层优选为负型图像记录层,更优选为水溶性或水分散性负型图像记录层。
关于本发明所涉及的平版印刷版原版,从机上显影性的观点出发,优选图像记录层的未曝光部能够通过润版液及印刷墨液中的至少任一种来去除。
〔由式1或式2表示的化合物〕
上述图像记录层包含由上述式1或式2表示的化合物。
并且,由上述式1或式2表示的化合物优选为呈色剂,更优选为与上述具有第13族元素的有机化合物或通过具有第13族元素的有机化合物的曝光产生的分解物进行呈色反应的化合物。
本发明中的“呈色反应”是指随着显色或变色现象的化学反应。
并且,作为通过上述曝光产生的分解物,不仅包含通过上述曝光分解的分解物,而且还包含上述分解物进一步分解或改性而产生的化合物。
并且,从曝光部的视觉辨认度的观点出发,上述呈色反应优选为络合形成反应,更优选为硼络合物形成反应。
以下示出上述呈色反应的一例。以下示出,使用C-1作为由上述式1或式2表示的化合物,作为通过图像记录层的曝光产生的分解物,作为具有第13族元素的化合物的四苯基硼酸钠分解并经由三苯基硼(BPh3)而产生硼酸时的呈色反应。由于酮-烯醇互变异构性,C-1产生烯醇型作为平衡。通过上述烯醇型与硼酸进行反应,产生下述硼络合物(Complex),产生从C-1(无色~浅黄色)向下述硼络合物(橙色~红色)的呈色反应。
并且,下述示出了水解到硼酸的例子,但是例如可以是二苯基单羟基硼、单苯基二羟基硼等与C-1形成络合物,也可以是三苯基硼作为零价的配体与烯醇型C-1进行配位,而形成络合物。
[化学式5]
作为由上述式1或式2表示的化合物,从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,优选为具备1个以上的1,3-二亚胺结构、在β位具有在邻位具有氮原子的杂芳族基团的酮结构或具有2个以上的在邻位具有氮原子的杂芳族基团的次甲基结构的化合物,更优选为具备1个以上的1,3-二亚胺结构或在β位具有在邻位具有氮原子的杂芳族基团的酮结构的化合物,尤其优选为具备1个以上的在β位具有在邻位具有氮原子的杂芳族基团的酮结构的化合物。
并且,作为由上述式1或式2表示的化合物,还可举出具备1个以上的具有在邻位具有氮原子的杂芳族基团的烯胺结构或在β位具有在邻位具有氮原子的杂芳族基团的亚胺结构的化合物。
并且,作为上述在邻位具有氮原子的杂芳族基团,从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,优选为2-吡嗪基、5-甲基-2-吡嗪基、2-嘧啶基、2-吡啶基、4-三氟甲基-2-吡啶基、4-三氟甲基-6-氯-2-吡啶基、4,6-双三氟甲基-2-吡啶基、2-苯并噻唑基、2-萘并噻唑基、2-喹喔啉基或3-甲基-2-喹喔啉基,更优选为2-吡嗪基、5-甲基-2-吡嗪基、2-嘧啶基、2-吡啶基、4-三氟甲基-2-吡啶基、4-三氟甲基-6-氯-2-吡啶基或4,6-双三氟甲基-2-吡啶基,尤其优选为2-吡嗪基、5-甲基-2-吡嗪基或2-嘧啶基。
并且,由上述式1或式2表示的化合物可以是盐,也可以是水合物。
而且,关于由上述式1或式2表示的化合物,在与通过上述图像记录层的曝光产生的分解物进行反应,而形成络合物的情况下,在上述络合物中,可以是单齿配体,也可以是多齿配体,但是从络合物形成性、油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,优选为多齿配体,更优选为二齿~六齿配体,进一步优选为二齿~四齿配体,尤其优选为二齿或三齿配体,最优选为二齿配体。
并且,本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版中,优选在曝光后,由上述式1或式2表示的化合物与通过上述具有第13族元素的有机化合物的曝光产生的分解物进行反应,而形成具有由上述式1或式2表示的化合物作为零价的配体或具有从由上述式1或式2表示的化合物中去除1个氢原子而得的阴离子作为一价的配体的络合物,更优选由上述式1或式2表示的化合物与通过上述图像记录层的曝光产生的分解物进行反应,而形成具有从由上述式1或式2表示的化合物中去除1个氢原子而得的阴离子作为一价的配体的络合物。
从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,由上述式1或式2表示的化合物优选包含具有环结构的化合物。
并且,从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,由上述式1或式2表示的化合物更优选包含具有2个以上的环结构的化合物。
而且,从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,由上述式1或式2表示的化合物更优选包含在芳香环上具有给电子基团的化合物。
在式1中,L1、R2及R3中的2个以上的基团可以键合而形成环结构。
在式2中,L2、R4及R6中的2个以上的基团可以键合而形成环结构,并且,L2、R5及R7中的2个以上的基团可以键合而形成环结构。
并且,上述环结构优选为芳香环结构或杂芳香环结构。
从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,式1中的R1优选为具有芳香环的一价的有机基团,更优选为芳基,尤其优选为苯基、4-二烷基氨基苯基或4-二芳基氨基苯基。
并且,从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,式1中的R1优选为具有给电子基团的芳基。
而且,式1中的R1的碳原子数(碳原子数量)优选为6~50,更优选为6~20,尤其优选为8~20。
在式1中,从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,优选R2及R3键合而形成环结构。
作为R2及R3键合而形成的环结构,从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,优选为吡啶环结构、吡嗪环结构、嘧啶环结构、苯并噻唑结构或萘并噻唑结构,更优选为吡啶环结构、吡嗪环结构或嘧啶环结构,进一步优选为吡嗪环结构或嘧啶环结构,尤其优选为吡嗪环结构。
并且,上述环结构可以具有取代基,可举出卤原子、烷基、氨基、烷基氨基、二烷基氨基、烷基芳基氨基、二芳基氨基、烷氧基、氰基、烷氧基羰基、酰基、酰氧基等。并且,上述取代基可以进一步被取代基取代。
在式1中的R2及R3键合而不形成环结构的情况下,优选为以下方式。
从曝光部的视觉辨认度的观点出发,式1中的R2优选为一价的有机基团,更优选为烷基或芳基,尤其优选为芳基。
从曝光部的视觉辨认度的观点出发,式1中的R3优选为氢原子、烷基或芳基。
式1中的R2的碳原子数优选为1~50,更优选为6~20。
并且,式1中的R3的碳原子数优选为0~50,更优选为0~20。
从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,式1中的L1优选为亚烷基或具有酰氧基的亚烷基,更优选为亚甲基或具有酰氧基的亚甲基,尤其优选为亚甲基。
并且,作为上述酰氧基,从曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,优选为碳原子数为1~10的酰氧基,更优选为碳原子数为1~4的酰氧基,尤其优选为乙酰氧基。
从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,式2中的R4及R5分别独立地优选为具有芳香环的一价的有机基团,更优选为芳基,尤其优选为苯基、4-二烷基氨基苯基或4-三氟甲基苯基。
并且,从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,上述芳基优选为具有给电子基团的芳基。
而且,式2中的R4及R5的碳原子数分别独立地优选为6~50,更优选为6~20,尤其优选为8~20。
在式2中,从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,优选R4及R6键合而形成环结构,并且R5及R7键合而形成环结构。
作为R4及R6或R5及R7键合而形成的环结构,从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,优选为吡啶环结构、吡嗪环结构、嘧啶环结构、苯并噻唑结构或萘并噻唑结构,更优选为吡啶环结构、吡嗪环结构或嘧啶环结构,尤其优选为吡啶环结构。
并且,上述环结构可以具有上述的取代基。
在式2中的R4及R6、或R5及R7键合而不形成环结构的情况下,优选为以下方式。
式2中的R4及R5分别独立地优选为一价的有机基团,更优选为烷基、芳基,尤其优选为芳基。
从曝光部的视觉辨认度的观点出发,式2中的R6及R7分别独立地优选为氢原子、烷基或芳基。
式2中的R4及R5的碳原子数分别独立地优选为1~50,更优选为6~20。
并且,式2中的R6及R7的碳原子数分别独立地优选为0~50,更优选为0~20。
从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,式2中的L2优选为亚烷基或具有氰基的亚烷基,更优选为亚甲基或具有氰基的亚甲基。
由式1表示的化合物可以是多聚体,此时,由式1表示的化合物中的R2优选为-连结基团-C(=NR3)-L1-C(=O)-R1。而且,在形成多聚体、优选形成二聚体的情况下,优选2个R2及2个R3键合而形成具有2个以上的氮原子的杂芳香环,更优选形成吡嗪环。
并且,由式2表示的化合物可以是多聚体,此时,由式2表示的化合物中的R5优选为-连结基团-C(=NR7)-L2-C(=NR6)-R4。而且,在形成多聚体、优选形成二聚体的情况下,优选2个R5及2个R7键合而形成具有2个以上的氮原子的杂芳香环,更优选形成吡嗪环。
从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,由上述式1或式2表示的化合物在25℃下的酮体或亚胺体的比例优选为1摩尔%以上,更优选为10摩尔%以上,进一步优选为20摩尔%以上,尤其优选为50摩尔%以上且100摩尔%以下。
本发明中的酮体或亚胺体的比例的测定方法如下。
将试样1.0mg溶解于0.5mL的氘代氯仿CDCl3(FUJIFILM Wako Pure ChemicalCorporation制造)中,在25℃的条件下实施NMR(Bruker公司制造)测定。酮体的CH2基或CHR基(R表示与所测定的试样中所包含的化合物相对应的任意基团。)及烯醇体的CH基的峰值不同,因此根据各积分比来计算酮体的比例(摩尔%)。亚胺体也通过相同的方法来计算。
从络合物形成性、油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,由上述式1或式2表示的化合物的分子量优选为200~1,500,更优选为200~800,进一步优选为200~600,尤其优选为250~600。
作为由上述式1或式2表示的化合物,具体而言,可优选举出以下C-1~C-17。另外,Me表示甲基,Ph表示苯基,t-Bu表示叔丁基。
[化学式6]
[化学式7]
由上述式1或式2表示的化合物可以仅使用一种,也可以同时使用两种以上。
而且,上述络合物可以仅形成一种,也可以形成两种以上。
从络合物形成性、油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,相对于上述图像记录层的总质量,由上述式1或式2表示的化合物的含量优选0.001质量%~5质量%,更优选0.01质量%~3质量%,进一步优选0.05质量%~2.5质量%,尤其优选0.05质量%~1.0质量%。
从络合物形成性、油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,上述图像记录层中的由上述式1或式2表示的化合物的含量MC与后述的具有第13族元素的有机化合物的含量MDI的摩尔比优选为MC/MDI=0.001~1.5,更优选为MC/MDI=0.01~1,尤其优选为MC/MDI=0.05~0.8。
〔具有第13族元素的有机化合物〕
本发明所涉及的平版印刷版原版中的图像记录层包含具有第13族元素的有机化合物,作为具有第13族元素的有机化合物,优选包含给电子型聚合引发剂(也称为“聚合助剂”)。
给电子型聚合引发剂为在通过红外线曝光而红外线吸收剂的电子被激励或在分子内移动时,在红外线吸收剂的一电子脱离的轨道上通过分子间电子移动供给一电子而产生自由基等聚合引发种的化合物。
作为给电子型聚合引发剂,优选为给电子型自由基聚合引发剂。
从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,具有第13族元素的有机化合物、优选为上述给电子型聚合引发剂优选包含硼化合物,更优选包含硼酸盐化合物,进一步优选包含四芳基硼酸盐化合物,尤其优选包含四苯基硼酸盐化合物。
从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,上述给电子型聚合引发剂优选具有吸电子基团。
作为硼酸盐化合物,从印刷耐久性及视觉辨认度的观点出发,优选为四芳基硼酸盐化合物或单烷基三芳基硼酸盐化合物,更优选为四芳基硼酸盐化合物。
并且,作为硼酸盐化合物,从印刷耐久性及视觉辨认度的观点出发,优选为具有1个以上的吸电子基团的四芳基硼酸盐化合物,更优选为在各芳基具有1个吸电子基团的四芳基硼酸盐化合物。
作为上述吸电子基团,从分解性及视觉辨认度的观点出发,可举出卤原子、卤化烷基、酰基、羧基等。
作为硼酸盐化合物所具有的抗衡阳离子,并无特别限制,但是优选为碱金属离子或四烷基铵离子,更优选为钠离子、钾离子或四丁基铵离子。
并且,作为硼酸盐化合物所具有的抗衡阳离子,在本说明书中所记载的红外线吸收剂中,可以是阳离子性聚次甲基色素。例如,作为花青色素的抗衡阳离子,可以使用上述硼酸盐化合物。
作为硼酸盐化合物,具体而言,优选举出四苯基硼酸钠。
以下示出B-1~B-9作为给电子型聚合引发剂的优选的具体例,理所当然,并不限定于这些。并且,在下述化学式中,Ph表示苯基,Bu表示正丁基。
[化学式9]
并且,从提高灵敏度的观点出发,给电子型聚合引发剂的最高占据轨道(HOMO)优选为-6.00eV以上,更优选为-5.95eV以上,进一步优选为-5.93eV以上,尤其优选大于-5.90eV。
并且,作为上限,优选为-5.00eV以下,更优选为-5.40eV以下。
具有第13族元素的有机化合物可以仅使用一种,也可以同时使用两种以上。
作为具有第13族元素的有机化合物、优选为上述给电子型聚合引发剂的含量,从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,相对于图像记录层的总质量,优选为0.01质量%~30质量%,更优选为0.05质量%~25质量%,进一步优选为0.1质量%~20质量%。
并且,从UV印刷耐久性的观点出发,图像记录层中的具有第13族元素的有机化合物、优选为上述给电子型聚合引发剂的含量优选比红外线吸收剂的含量多,更优选为红外线吸收剂的含量的1.05倍~5倍,尤其优选为红外线吸收剂的含量的1.1倍~3倍。
在本发明中,具有第13族元素的有机化合物可以是给电子型聚合引发剂和后述的受电子型聚合引发剂形成抗衡盐的化合物。
例如,在本发明中,优选为给电子型聚合引发剂中的阴离子和受电子型聚合引发剂中的阳离子形成抗衡盐而成的化合物,更优选为鎓阳离子和硼酸根阴离子形成抗衡盐而成的化合物,进一步优选为碘鎓阳离子或锍阳离子和硼酸根阴离子形成抗衡盐而成的化合物,尤其优选为二芳基碘鎓阳离子或三芳基锍阳离子和四芳基硼酸根阴离子形成抗衡盐而成的化合物。
作为给电子型聚合引发剂中的阴离子及受电子型聚合引发剂中的阳离子的优选方式,与已叙述的给电子型聚合引发剂中的阴离子及已叙述的受电子型聚合引发剂中的阳离子的优选方式相同。
在图像记录层包含作为给电子型聚合引发剂的阴离子和作为受电子型聚合引发剂的阳离子的情况下(即,在包含形成上述抗衡盐的化合物的情况下),图像记录层包含受电子型聚合引发剂及上述给电子型聚合引发剂。
并且,给电子型聚合引发剂和受电子型聚合引发剂形成抗衡盐的化合物可以用作给电子型聚合引发剂,也可以用作受电子型聚合引发剂。
并且,给电子型聚合引发剂和受电子型聚合引发剂形成抗衡盐而成的化合物可以与已叙述的给电子型聚合引发剂并用,也可以与已叙述的受电子型聚合引发剂并用。
本发明中的图像记录层还包含红外线吸收剂及给电子型聚合引发剂,从提高灵敏度及印刷耐久性的观点出发,上述红外线吸收剂的HOMO-上述给电子型聚合引发剂的HOMO的值优选为0.70eV以下,更优选为0.60eV以下,进一步优选为0.50eV以下,尤其优选为0.50eV~-0.10eV。
另外,负值是指上述给电子型聚合引发剂的HOMO比上述红外线吸收剂的HOMO高。
本发明中,通过以下方法来计算最高占据轨道(HOMO)及最低未占分子轨道(LUMO)的MO(分子轨道)能量计算。
首先,作为计算对象的化合物中的游离的抗衡离子从计算对象中排除。例如,在阳离子性的一受电子型聚合引发剂、阳离子性的红外线吸收剂中从计算对象中排除抗衡阴离子,在阴离子性的一给电子型聚合引发剂中从计算对象中排除抗衡阳离子。在此所说的游离是指作为对象的化合物与其抗衡离子未通过共价键连结。
使用量子化学计算软件Gaussian16,在DFT(B3LYP/6-31G(d))下进行结构最优化。
关于MO能量计算,以通过上述结构最优化获得的最佳结构使用量子化学计算软件Gaussian16在DFT(B3LYP/6-31+G(d,p)/PCM(溶剂(solvent)=甲醇(methanol))下进行。另外,对于含有碘的化合物,在DFT(B3LYP/DGD ZVP/PCM(溶剂=甲醇))条件下进行计算。
在此所说的最佳结构是指,通过DFT计算获得的总能量最稳定的结构。根据需要重复进行结构最优化,由此发现最稳定结构。
根据以下公式,将通过上述MO能量计算获得的MO能量Ebare(单位:哈特里)转换为本发明中用作HOMO及LUMO的值的Escaled(单位:eV)。
〔HOMO的计算公式〕Escaled=0.823168×27.2114×Ebare-1.07634
〔LUMO的计算公式〕Escaled=0.820139×27.2114×Ebare-1.086039
另外,27.2114为只用于将哈特里转换为eV的系数,计算HOMO时使用的0.823168和-1.07634及计算LUMO时使用的0.820139和-1.086039为调节系数,并以成为计算对象的化合物的HOMO和LUMO的计算与实测值匹配的方式进行确定。
〔受电子型聚合引发剂〕
本发明中的图像记录层优选还包含聚合引发剂,更优选还包含受电子型聚合引发剂作为聚合引发剂。
受电子型聚合引发剂为在通过红外线曝光而红外线吸收剂的电子被激励时,通过分子间电子移动接受一电子而产生自由基等聚合引发种的化合物。
受电子型聚合引发剂为通过光、热或该两者的能量而产生自由基或阳离子等聚合引发种的化合物,且能够适当选择并使用公知的热聚合引发剂、具有键离解能小的键的化合物、光聚合引发剂等。
作为受电子型聚合引发剂,优选自由基聚合引发剂,更优选鎓盐化合物。
并且,作为受电子型聚合引发剂,优选为红外线感光性聚合引发剂。
而且,作为受电子型聚合引发剂,从提高灵敏度及UV印刷耐久性的观点出发,优选为碘鎓盐化合物或具有卤化烷基的化合物,更优选为具有卤化烷基的化合物。
并且,作为具有卤化烷基的化合物,从提高灵敏度及UV印刷耐久性的观点出发,优选具有全卤代烷基磺酰基的化合物,更优选具有三卤代甲基磺酰基的化合物,尤其优选为具有三溴甲基磺酰基的化合物。
在上述受电子型聚合引发剂中,作为优选的受电子型聚合引发剂,从固化性的观点出发,可举出肟酯化合物及鎓盐化合物。其中,从印刷耐久性的观点出发,优选碘鎓盐化合物、锍盐化合物或吖嗪鎓盐化合物,更优选碘鎓盐化合物或锍盐化合物,尤其优选碘鎓盐化合物。
以下示出这些化合物的具体例,但是本发明并不限定于此。
作为碘鎓盐化合物的例子,优选二芳基碘鎓盐化合物,尤其,更优选被给电子基团、例如烷基或烷氧基取代而得的二苯基碘鎓盐化合物,并且,优选非对称的二苯基碘鎓盐化合物。作为具体例,可举出二苯基碘鎓=六氟磷酸盐、4-甲氧基苯基-4-(2-甲基丙基)苯基碘鎓=六氟磷酸盐、4-(2-甲基丙基)苯基-对-甲苯基碘鎓=六氟磷酸盐、4-己氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓=六氟磷酸盐、4-己氧基苯基-2,4-二乙氧基苯基碘鎓=四氟硼酸盐、4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓=1-全氟丁基磺酸盐、4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓=六氟磷酸盐及双(4-叔丁基苯基)碘鎓=四苯硼酸盐。
并且,作为碘鎓盐化合物及锍盐化合物的抗衡阴离子的例子,可举出磺酸根阴离子、羧酸根阴离子、四氟硼酸根阴离子、六氟磷酸根阴离子、对甲苯磺酸根阴离子、对甲苯磺酸根阴离子、磺酰胺阴离子或磺酰亚胺阴离子。
其中,优选磺酰胺阴离子或磺酰亚胺阴离子,更优选磺酰亚胺阴离子。
作为磺酰胺阴离子,优选芳基磺酰胺阴离子。
并且,作为磺酰亚胺阴离子,优选双芳基磺酰亚胺阴离子。
作为磺酰胺阴离子或磺酰亚胺阴离子的具体例,可举出国际公开第2019/013268号中所记载的化合物。
并且,作为上述受电子型聚合引发剂,从曝光后的经时视觉辨认度、显影性及所获得的平版印刷版中的UV印刷耐久性的观点出发,优选包含由下述式(II)或式(III)表示的化合物,尤其优选包含由式(II)表示的化合物。
[化学式10]
式(II)及式(III)中,XA表示卤原子,RA、RA1及RA2分别独立地表示碳原子数1~20的一价的烃基。
式(II)中的RA优选为芳基。
作为式(II)及式(III)中的XA,可举出氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。这些中,关于氯原子或溴原子,由于灵敏度优异,因此优选,尤其优选溴原子。
并且,在式(II)及式(III)中,RA、RA1及RA2分别独立地优选为芳基,其中,从灵敏度与保存稳定性的均衡优异的观点出发,更优选被酰胺基取代的芳基。
并且,作为上述受电子型聚合引发剂,尤其优选包含由式(IV)表示的化合物。
[化学式11]
式(IV)中,XA表示卤原子,RA3及RA4分别独立地表示氢原子或碳原子数1~20的1价的烃基,pA及qA分别独立地表示1~5的整数。其中,pA+qA=2~6。
作为受电子型聚合引发剂的具体例,可举出下述所示的化合物等,但是本发明并不限定于这些。
[化学式12]
[化学式13]
[化学式14]
[化学式15]
[化学式16]
[化学式17]
[化学式18]
从提高灵敏度的观点出发,受电子型聚合引发剂的最低未占分子轨道(LUMO)优选为-3.00eV以下,更优选为-3.02eV以下。
并且,作为下限,优选为-3.80eV以上,更优选为-3.50eV以上。
受电子型聚合引发剂可以单独使用一种,也可以并用两种以上。
相对于图像记录层的总质量,受电子型聚合引发剂的含量优选为0.1质量%~50质量%,更优选为0.5质量%~30质量%,尤其优选为0.8质量%~20质量%。
本发明中的图像记录层还包含红外线吸收剂及受电子型聚合引发剂,从提高灵敏度及印刷耐久性的观点出发,上述受电子型聚合引发剂的LUMO-上述红外线吸收剂的LUMO的值优选为1.00eV以下,更优选为0.80eV以下,进一步优选为0.70eV以下,尤其优选为0.70eV~-0.10eV,最优选为0.70eV~0.30eV。
另外,负值是指上述红外线吸收剂的LUMO比上述受电子型聚合引发剂的LUMO高。
〔红外线吸收剂〕
本发明中的图像记录层优选还包含红外线吸收剂。
作为红外线吸收剂,并无特别限制,例如,可举出颜料及染料。
作为可用作红外线吸收剂的染料,能够利用市售的染料及例如“染料便览”(TheSociety of Synthetic Organic Chemistry,Japan.编辑,昭和45年刊)等文献中所记载的公知的染料。具体而言,可举出偶氮染料、金属络合盐偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鎓(carbonium)染料、醌亚胺染料、次甲基染料、花青染料、方酸色素、吡喃鎓盐、金属硫醇络合物等染料。
作为这些染料中优选的染料,可举出花青色素、方酸色素、吡喃鎓盐、镍硫醇络合物、吲哚菁色素。更优选举出花青色素、吲哚菁色素。其中,尤其优选花青色素。
作为上述红外线吸收剂,优选为在间位具有氧原子、氮原子或卤原子的阳离子性聚次甲基色素。作为阳离子性的聚次甲基色素,优选举出花青色素、吡喃鎓色素、硫代吡啶鎓色素、薁色素等,从获得的容易性、导入反应时的溶剂溶解性等的观点出发,优选为花青色素。
作为花青色素的具体例,可举出日本特开2001-133969号公报的0017~0019段中所记载的化合物、日本特开2002-023360号公报的0016~0021段、日本特开2002-040638号公报的0012~0037段中所记载的化合物,优选举出日本特开2002-278057号公报的0034~0041段、日本特开2008-195018号公报的0080~0086段中所记载的化合物,尤其优选举出日本特开2007-90850号公报的0035~0043段中所记载的化合物、日本特开2012-206495号公报的0105~0113段中所记载的化合物。
并且,还能够优选使用日本特开平5-5005号公报的0008~0009段、日本特开2001-222101号公报的0022~0025段中所记载的化合物。作为颜料,优选日本特开2008-195018号公报的0072~0076段中所记载的化合物。
并且,作为上述红外线吸收剂,还可优选使用作为最外层的变色性化合物而在后面叙述的因红外线曝光而分解的分解性化合物。
从印刷耐久性及视觉辨认度的观点出发,上述红外线吸收剂的最高占据轨道(HOMO)优选为-5.250eV以下,更优选为-5.30eV以下,进一步优选为-5.80eV以上且-5.35eV以下,尤其优选为-5.65eV以上且-5.40eV以下。
从经时稳定性、提高灵敏度及UV印刷耐久性的观点出发,上述红外线吸收剂的最低未占分子轨道(LUMO)优选小于-3.70eV,更优选小于-3.80eV,进一步优选为-4.20eV以上且小于-3.80eV,尤其优选为-4.00eV以上且小于-3.8OeV。
红外线吸收剂可以仅使用一种,也可以并用两种以上。
并且,作为红外线吸收剂,可以并用颜料和染料。
相对于图像记录层的总质量,红外线吸收剂的含量优选0.1质量%~10.0质量%,更优选0.5质量%~5.0质量%。
〔聚合性化合物〕
本发明中的图像记录层优选还包含聚合性化合物。
在本发明中,聚合性化合物是指具有聚合性基团的化合物。
作为聚合性基团,并无特别限定,只要是公知的聚合性基团即可,但是优选为烯属不饱和基团。并且,作为聚合性基团,可以是自由基聚合性基团,也可以是阳离子聚合性基团,但是优选为自由基聚合性基团。
作为自由基聚合性基团,可举出(甲基)丙烯酰基、烯丙基、乙烯基苯基、乙烯基等,从反应性的观点出发,优选(甲基)丙烯酰基。
聚合性化合物的分子量(在具有分子量分布的情况下为重均分子量)优选为50以上且小于2,500。
本发明中所使用的聚合性化合物例如可以是自由基聚合性化合物,也可以是阳离子聚合性化合物,优选为具有至少1个烯属不饱和键的加成聚合性化合物(烯属不饱和化合物)。
作为烯属不饱和化合物,优选为至少具有1个末端烯属不饱和键的化合物,更优选为具有个2个以上的末端烯属不饱和键的化合物。聚合性化合物例如具有单体、预聚物即二聚体、三聚体或低聚物或它们的混合物等化学形态。
其中,作为上述聚合性化合物,从UV印刷耐久性的观点出发,优选包含3官能以上的聚合性化合物,更优选包含7官能以上的聚合性化合物,进一步优选包含10官能以上的聚合性化合物。并且,从所获得的平版印刷版中的UV印刷耐久性的观点出发,上述聚合性化合物优选包含3官能以上(优选为7官能以上,更优选为10官能以上)的烯属不饱和化合物,进一步优选包含3官能以上(优选为7官能以上,更优选为10官能以上)的(甲基)丙烯酸酯化合物。
并且,作为上述聚合性化合物,从机上显影性及污染抑制性的观点出发,优选包含2官能以下的聚合性化合物,更优选包含2官能聚合性化合物,尤其优选包含2官能(甲基)丙烯酸酯化合物。
从印刷耐久性、机上显影性及污染抑制性的观点出发,相对于上述图像记录层中的聚合性化合物的总质量,2官能以下的聚合性化合物(优选为2官能聚合性化合物)的含量优选为5质量%~100质量%,更优选为10质量%~100质量%,尤其优选为50质量%~100质量%。
《低聚物》
作为图像记录层中所包含的聚合性化合物,优选含有作为低聚物的聚合性化合物(以下,也简称为“低聚物”。)。
在本发明中,低聚物表示分子量(在具有分子量分布的情况下为重均分子量)为600以上且10,000以下,并且包含至少1个聚合性基团的聚合性化合物。
从耐化学性、UV印刷耐久性优异的观点出发,作为低聚物的分子量,优选为1,000以上且5,000以下。
并且,从提高UV印刷耐久性的观点出发,1分子的低聚物中的聚合性基团数量优选为2个以上,更优选为3个以上,进一步优选为6个以上,尤其优选为10个以上。
并且,低聚物中的聚合性基团的数量的上限值并无特别限制,但是聚合性基团的数量优选为20以下。
从UV印刷耐久性及机上显影性的观点出发,作为低聚物优选聚合性基团的数量为7个以上,并且分子量为1,000以上且10,000以下,更优选聚合性基团的数量为7个以上且20个以下,并且分子量为1,000以上且5,000以下。
另外,可以含有在制造低聚物的过程中有可能产生的聚合物成分。
从UV印刷耐久性、视觉辨认度及机上显影性的观点出发,低聚物优选具备选自具有氨基甲酸酯键的化合物、具有酯键的化合物及具有环氧残基的化合物中的至少一种,优选具备具有氨基甲酸酯键的化合物。
在本发明中,环氧残基是指由环氧基形成的结构,例如表示与通过酸基(羧酸基等)与环氧基的反应获得的结构相同的结构。
作为低聚物的例子的具有氨基甲酸酯键的化合物,例如,优选为至少具有由下述式(Ac-1)或式(Ac-2)表示的基团的化合物,更优选为至少具有由下述式(Ac-1)表示的基团的化合物。
[化学式19]
式(Ac-1)及式(Ac-2)中,L1~L4分别独立地表示碳原子数2~20的二价的烃基,波浪线部分表示与其他结构的键合位置。
作为L1~L4,分别独立地优选为碳原子数2~20的亚烷基,更优选为碳原子数2~10的亚烷基,进一步优选为碳原子数4~8的亚烷基。并且,上述亚烷基可以具有支链或环结构,但是优选为直链亚烷基。
优选式(Ac-1)或式(Ac-2)中的波浪线部分别独立地与由下述式(Ae-1)或式(Ae-2)表示的基团中的波浪线部直接键合。
[化学式20]
式(Ae-1)及式(Ae-2)中,R分别独立地表示丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基,波浪线部分表示与式(Ac-1)及式(Ac-2)中的波浪线部的键合位置。
并且,作为具有氨基甲酸酯键的化合物,可以使用通过高分子反应将聚合性基团导入到通过聚异氰酸酯化合物与多元醇化合物的反应获得的聚氨酯的化合物。
例如,可以通过使具有环氧基及聚合性基团的化合物与聚氨酯低聚物进行反应而获得具有氨基甲酸酯键的化合物,该聚氨酯低聚物通过使具有酸基的多元醇化合物与聚异氰酸酯化合物进行反应而获得。
作为低聚物的例子的具有酯键的化合物中的聚合性基团的数量优选为3个以上,进一步优选为6个以上。
作为低聚物的例子的具有环氧残基的化合物,优选在化合物内包含羟基的化合物。
并且,具有环氧残基的化合物中的聚合性基团的数量优选为2~6,更优选为2~3。
作为上述具有环氧残基的化合物,例如,能够通过使丙烯酸与具有环氧基的化合物进行反应而获得。
将低聚物的具体例示于下述中,但是本发明中所使用的低聚物并不限定于此。
作为低聚物,可以使用市售品,可举出UA-510H、UA-306H、UA-306I、UA-306T(均由KYOEISHA CHEMICAL CO.,LTD.制造)、UV-1700B、UV-6300B、UV7620EA(均由NipponSynthetic Chemical Industry Co.,Ltd.制造)、U-15HA(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造)、EBECRYL450、EBECRYL657、EBECRYL885、EBECRYL800、EBECRYL3416、EBECRYL860(均由DAICEL-ALLNEX LTD.制造)等,但是并不限定于此。
从提高耐化学性、UV印刷耐久性及机上显影残渣的抑制性的观点出发,相对于图像记录层中的聚合性化合物的总质量,低聚物的含量优选为30质量%~100质量%,更优选为50质量%~100质量%,进一步优选为80质量%~100质量%。
《低分子聚合性化合物》
聚合性化合物还可以包含除了上述低聚物以外的聚合性化合物。
作为除了低聚物以外的聚合性化合物,从耐化学性的观点出发,优选为低分子聚合性化合物。作为低分子聚合性化合物,可以是单体、二聚体、三聚体或它们的混合物等化学形态。
并且,作为低分子聚合性化合物,从耐化学性的观点出发,优选为选自具有3个以上的烯属不饱和基团的聚合性化合物及具有异氰脲环结构的聚合性化合物中的至少一种聚合性化合物。
在本发明中,低分子聚合性化合物表示分子量(在具有分子量分布的情况下为重均分子量)为50以上且小于600的聚合性化合物。
作为低分子聚合性化合物的分子量,从耐化学性、UV印刷耐久性及机上显影残渣的抑制性优异的观点出发,优选为100以上且小于600,更优选为300以上且小于600,进一步优选为400以上且小于600。
在聚合性化合物包含低分子聚合性化合物作为除了低聚物以外的聚合性化合物的情况下(在包含两种以上的低分子聚合性化合物的情况下为其总量),从耐化学性、UV印刷耐久性及机上显影残渣的抑制性的观点出发,上述低聚物与低分子聚合性化合物之比(低聚物/低分子聚合性化合物)以质量基准计优选为10/1~1/10,更优选为10/1~3/7,进一步优选为10/1~7/3。
并且,作为低分子聚合性化合物,还能够优选使用国际公开第2019/013268号的0082~0086段中所记载的聚合性化合物。
聚合性化合物的结构、单独使用或并用、添加量等使用方法的详细内容,能够任意设定。
其中,从UV印刷耐久性的观点出发,图像记录层优选包含两种以上的聚合性化合物。
相对于图像记录层的总质量,聚合性化合物的含量(在包含两种以上的聚合性化合物的情况下为聚合性化合物的总含量)优选为5质量%~75质量%,更优选为10质量%~70质量%,进一步优选为15质量%~60质量%。
〔极性有机溶剂〕
从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,本发明中的图像记录层优选还包含极性有机溶剂。
并且,作为极性有机溶剂,优选为非质子性极性有机溶剂。
作为非质子性极性有机溶剂,优选选自N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、γ-丁内酯、二甲基亚砜、二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、二氯甲烷、四氢呋喃、二噁烷及1,3-二氧戊环中的至少1种溶剂,更优选选自N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、γ-丁内酯、二甲基亚砜、二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、四氢呋喃、二噁烷及1,3-二氧戊环中的至少1种溶剂,尤其优选选自二甲基亚砜及N-甲基吡咯烷酮中的至少1种溶剂。
极性有机溶剂可以仅使用一种,也可以并用两种以上。
从油墨浑浊抑制性、曝光部的视觉辨认度及曝光部的经时视觉辨认度的观点出发,相对于图像记录层的总质量,极性有机溶剂的含量优选0.001质量%~5.0质量%,更优选0.005质量%~2.0质量%。尤其优选0.01质量%~1.0质量%。
〔粒子〕
从显影性及UV印刷耐久性的观点出发,本发明中的图像记录层优选还包含粒子。作为粒子,可以是无机粒子,也可以是有机粒子。
其中,作为粒子,优选包含有机粒子,更优选包含树脂粒子。
作为无机粒子,能够使用公知的无机粒子,能够优选使用二氧化硅粒子、二氧化钛粒子等金属氧化物粒子。
《树脂粒子》
作为树脂粒子,例如,可举出包含加成聚合型树脂的粒子(即,加成聚合型树脂粒子)、包含加聚型树脂的粒子(即,加聚型树脂粒子)、包含缩聚型树脂的粒子(即,缩聚型树脂粒子)等,但是其中,优选加成聚合型树脂粒子或加聚型树脂粒子。
并且,作为树脂粒子,从能够热熔接的观点出发,可以是包含热塑性树脂的粒子(即,热塑性树脂粒子)。
并且,树脂粒子可以是微胶囊、微凝胶(即,交联树脂粒子)等形态。
作为树脂粒子,优选选自热塑性树脂粒子、热反应性树脂粒子、具有聚合性基团的树脂粒子、内含疏水性化合物的微胶囊及微凝胶(交联树脂粒子)中。其中,优选具有聚合性基团的树脂粒子。
尤其优选的实施方式中,树脂粒子包含至少1个烯属不饱和基团。由于存在这种树脂粒子,可获得提高曝光部的印刷耐久性及未曝光部的机上显影性的效果。
作为热塑性树脂粒子,优选1992年1月的Research Disclosure No.33303、日本特开平9-123387号公报、日本特开平9-131850号公报、日本特开平9-171249号公报、日本特开平9-171250号公报及欧洲专利第931647号说明书等中所记载的热塑性树脂粒子。
作为构成热塑性树脂粒子的树脂的具体例,可举出乙烯、苯乙烯、氯乙烯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、偏二氯乙烯、丙烯腈、乙烯基咔唑、具有聚亚烷基结构的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等单体的均聚物或共聚物或它们的混合物。
作为热塑性树脂粒子,从油墨着墨性及UV印刷耐久性的观点出发,优选包含具有由芳香族乙烯基化合物形成的构成单元及具有腈基的构成单元的树脂。
作为上述芳香族乙烯基化合物,只要是具有在芳香环键合有乙烯基的结构的化合物即可,但是可举出苯乙烯化合物、乙烯基萘化合物等,优选苯乙烯化合物,更优选苯乙烯。
作为苯乙烯化合物,可举出苯乙烯、对甲基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯、β-甲基苯乙烯、对甲基-β-甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯及对甲氧基-β-甲基苯乙烯等,优选举出苯乙烯。
从油墨着墨性的观点出发,由芳香族乙烯基化合物形成的构成单元的含量优选比后述的具有腈基的构成单元的含量多,相对于树脂的总质量,更优选为15质量%~85质量%,进一步优选为30质量%~70质量%。
具有腈基的构成单元优选使用具有腈基的单体来导入。
作为具有腈基的单体,可举出丙烯腈化合物,优选举出(甲基)丙烯腈。
作为具有腈基的构成单元,优选由(甲基)丙烯腈形成的构成单元。
从油墨着墨性的观点出发,具有腈基的构成单元的含量优选比由上述芳香族乙烯基化合物形成的构成单元的含量少,相对于树脂的总质量,更优选为55质量%~90质量%,更优选为60质量%~85质量%。
并且,在热塑性树脂粒子中所包含的树脂包含由芳香族乙烯基化合物形成的构成单元及具有腈基的构成单元的情况下,作为由芳香族乙烯基化合物形成的构成单元及具有腈基的构成单元的含量比(由芳香族乙烯基化合物形成的构成单元:具有腈基的构成单元),以质量基准计优选为5:5~9:1,更优选为6:4~8:2。
从UV印刷耐久性及耐化学性的观点出发,热塑性树脂粒子中所包含的树脂优选还具有由N-乙烯基杂环化合物形成的构成单元。
作为N-乙烯基杂环化合物,例如,可举出N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基咔唑、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基吩噻嗪、N-乙烯基琥珀酰亚胺、N-乙烯基邻苯二甲酰亚胺、N-乙烯基己内酰胺及N-乙烯基咪唑,优选N-乙烯基吡咯烷酮。
相对于热塑性树脂的总质量,由N-乙烯基杂环化合物形成的构成单元的含量优选为5质量%~50质量%,更优选为10质量%~40质量%。
热塑性树脂粒子中所包含的树脂可以含有具有酸性基团的构成单元,但是从机上显影性及油墨着墨性的观点出发,优选不含具有酸性基团的构成单元。
具体而言,热塑性树脂中的具有酸性基团的构成单元的含量优选为20质量%以下,更优选为10质量%以下,进一步优选为5质量%以下。上述含量的下限并无特别限定,可以是0质量%。
并且,热塑性树脂的酸值优选为160mgKOH/g以下,更优选为80mgKOH/g以下,进一步优选为40mgKOH/g以下。上述酸值的下限并无特别限定,可以是0mgKOH/g。
在本发明中,酸值通过遵照了JIS K0070:1992的测定法来求出。
从油墨着墨性的观点出发,热塑性树脂粒子中所包含的树脂可以含有包含疏水性基团的构成单元。
作为上述疏水性基团,可举出烷基、芳基、芳烷基等。
作为包含疏水性基团的构成单元,优选由(甲基)丙烯酸烷基酯化合物、(甲基)丙烯酸芳基酯化合物或(甲基)丙烯酸芳烷基酯化合物形成的构成单元,更优选由(甲基)丙烯酸烷基酯化合物形成的构成单元。
相对于树脂的总质量,热塑性树脂粒子中所包含的树脂中的具有疏水性基团的构成单元的含量优选为5质量%~50质量%,更优选为10质量%~30质量%。
从UV印刷耐久性及机上显影性的观点出发,热塑性树脂粒子中所包含的热塑性树脂优选具有亲水性基团。
作为亲水性基团,若为具有亲水性的结构,则并无特别限制,但是可举出羧基等酸基、羟基、氨基、腈基、聚环氧烷结构等。
作为上述亲水性基团,从UV印刷耐久性及机上显影性的观点出发,优选为具有聚环氧烷结构的基团、具有聚酯结构的基团或磺酸基,更优选为具有聚环氧烷结构的基团或磺酸基,进一步优选为具有聚环氧烷结构的基团。
作为上述聚环氧烷结构,从机上显影性的观点出发,优选聚环氧乙烷结构、聚环氧丙烷结构或聚(环氧乙烷/环氧丙烷)结构。
并且,从机上显影性的观点出发,上述亲水性基团中,作为聚环氧烷结构,优选具有聚环氧丙烷结构,更优选具有聚环氧乙烷结构及聚环氧丙烷结构。
从机上显影性的观点出发,上述聚环氧烷结构中的环氧烷结构的数量优选为2个以上,更优选为5个以上,进一步优选为5~200个,尤其优选为8~150个。
并且,从机上显影性的观点出发,作为上述亲水性基团,优选后述的由式Z表示的基团。
热塑性树脂所具有的亲水性基团中,优选由下述式PO表示的基团。
[化学式21]
式PO中,LP分别独立地表示亚烷基,RP表示氢原子或烷基,n表示1~100的整数。
式PO中,LP分别独立地优选为亚乙基、1-甲基亚乙基或2-甲基亚乙基,更优选为亚乙基。
式PO中,RP优选为氢原子或碳原子数1~18的烷基,更优选为氢原子或碳原子数1~10的烷基,进一步优选为氢原子或碳原子数1~4的烷基,尤其优选为氢原子或甲基。
式PO中,n优选1~10的整数,更优选1~4的整数。
相对于树脂的总质量,具有亲水性基团的构成单元的含量优选为5质量%~60质量%,更优选为10质量%~30质量%。
热塑性树脂粒子中所包含的树脂还可以含有其他构成单元。作为其他构成单元,能够没有特别限定地含有除了上述各构成单元以外的构成单元,例如,可举出由丙烯酰胺化合物、乙烯基醚化合物等形成的构成单元。
相对于树脂的总质量,热塑性树脂粒子中所包含的树脂中的其他构成单元的含量优选为5质量%~50质量%,更优选为10质量%~30质量%。
作为热反应性树脂粒子,可举出具有热反应性基团的树脂粒子。热反应性树脂粒子通过基于热反应的交联及进行交联时的官能团变化而形成疏水化区域。
作为具有热反应性基团的树脂粒子中的热反应性基团,只要可形成化学键,则可以是进行任何反应的官能团,但是优选聚合性基团,作为其例,优选举出进行自由基聚合反应的烯属不饱和基团(例如,丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等)、阳离子聚合性基团(例如,乙烯基、乙烯氧基、环氧基、氧杂环丁基等)、进行加成反应的异氰酸基或其嵌段物、环氧基、乙烯氧基及具有作为这些的反应目标的活性氢原子的官能团(例如,氨基、羟基、羧基等)、进行缩合反应的羧基及作为反应目标的羟基或氨基、进行开环加成反应的酸酐及作为反应目标的氨基或羟基等。
作为具有上述热反应性基团的树脂,可以是加成聚合型树脂、加聚型树脂或缩聚型树脂,也可以是热塑性树脂。
作为微胶囊,例如,优选如日本特开2001-277740号公报、日本特开2001-277742号公报中所记载那样内含有图像记录层的至少一部分构成成分(优选为疏水性化合物)的微胶囊。含有微胶囊作为树脂粒子的图像记录层的优选方式为,在微胶囊中内含图像记录层的构成成分中的疏水性成分(即,疏水性化合物),且在微胶囊外部含有亲水性成分(即,亲水性化合物)的结构。
微凝胶(交联树脂粒子)能够在其表面或内部的至少一者含有图像记录层的构成成分的一部分。尤其,从平版印刷版原版的灵敏度及所获得的平版印刷版的印刷耐久性的观点出发,优选在其表面具有聚合性基团的反应性微凝胶。
为了获得包含图像记录层的构成成分的微胶囊,能够应用公知的合成法。
微凝胶(交联树脂粒子)能够在其表面或内部的至少一者含有图像记录层的构成成分的一部分。尤其,从平版印刷版原版的灵敏度及所获得的平版印刷版的印刷耐久性的观点出发,优选在其表面具有聚合性基团的反应性微凝胶。
为了获得包含图像记录层的构成成分的微凝胶,能够应用公知的合成法
作为树脂粒子,从所获得的平版印刷版的印刷耐久性、耐污染性及保存稳定性的观点出发,优选通过作为在分子中具有2个以上的羟基的多元酚化合物和异佛尔酮二异氰酸酯的加成物的多元异氰酸酯化合物及具有活性氢的化合物的反应而获得的加聚型树脂粒子。
作为上述多元酚化合物,优选具备多个具有酚性羟基的苯环的化合物。
作为具有上述活性氢的化合物,优选多元醇化合物或多胺化合物,更优选多元醇化合物,进一步优选选自丙二醇、甘油及三羟甲基丙烷中的至少一种化合物。并且,作为上述活性氢化合物,能够使用水。在使用水的情况下,通过异氰酸基与水的反应产生的胺能够形成脲键,而形成粒子。
作为通过作为在分子中具有2个以上的羟基的多元酚化合物和异佛尔酮二异氰酸酯的加成物的多元异氰酸酯化合物及具有活性氢的化合物的反应而获得的树脂的粒子,优选举出国际公开第2018043259号的0230~0234段中所记载的树脂粒子。
而且,作为树脂粒子,从所获得的平版印刷版的印刷耐久性及耐溶剂性的观点出发,优选具有疏水性主链,且包含i)具有直接与上述疏水性主链键合的腈基的构成单元及ii)具有包含亲水性聚环氧烷链段的侧基的构成单元这两者的加成聚合型树脂粒子。具体而言,优选日本特开2019-64269号公报的0156段中所记载的粒子。
《由式Z表示的基团》
本发明中的树脂粒子优选具有由下述式Z表示的基团作为亲水性基团。
*-Q-W-Y 式Z
式Z中,Q表示二价的连结基团,W表示具有亲水性结构的二价的基团或具有疏水性结构的二价的基团,Y表示具有亲水性结构的一价的基团或具有疏水性结构的一价的基团,W及Y中的任一个具有亲水性结构,*表示与其他结构的键合部位。
并且,优选式Z中所包含的亲水性结构均包含聚环氧烷结构。
上述式Z中的Q优选为碳原子数1~20的二价的连结基团,更优选为碳原子数1~10的二价的连结基团。
并且,上述式Z中的Q优选为亚烷基、亚芳基、酯键、酰胺键或将它们组合2个以上而成的基团,更优选为亚苯基、酯键或酰胺键。
上述式Z的W中的具有亲水性结构的二价的基团优选为包含聚环氧烷结构的基团,优选为聚亚烷氧基或在聚亚烷氧基的一个末端键合有-CH2CH2NRW-的基团。另外,RW表示氢原子或烷基。
上述式Z的W中的具有疏水性结构的二价的基团优选为-RWA-、-O-RWA-O-、-RWN-RWA-NRW-、-OC(=O)-RWA-O-或-OC(=O)-RWA-O-。另外,RWA分别独立地表示碳原子数6~120的直链、支链或环状亚烷基、碳原子数6~120的卤代亚烷基、碳原子数6~120的亚芳基、碳原子数6~120的亚烷基芳基(alkarylene group)(从烷基芳基除去1个氢原子而得的二价的基团)或碳原子数6~120的亚芳烷基。
上述式Z的Y中的具有亲水性结构的一价的基团优选为-OH、-C(=O)OH、在末端为氢原子或烷基的聚亚烷氧基或者末端为氢原子或烷基的聚亚烷氧基的另一个末端键合有-CH2CH2N(RW)-的基团。其中,作为具有亲水性结构的一价的基团,优选为包含聚环氧烷结构的基团,优选在末端为氢原子或烷基的聚亚烷氧基或者末端为氢原子或烷基的聚亚烷氧基的另一个末端键合有-CH2CH2N(RW)-的基团。
上述式Z的Y中的具有疏水性结构的一价的基团优选为碳原子数6~120的直链、支链或环状烷基、碳原子数6~120的卤代烷基、碳原子数6~120的芳基、碳原子数6~120的烷芳基(烷基芳基)、碳原子数6~120的芳烷基、-ORWB、-C(=O)ORWB或-OC(=O)RWB。RWB表示具有6~20个碳原子数的烷基。
具有由上述式Z表示的基团的树脂粒子中,从印刷耐久性、着墨性及机上显影性的观点出发,更优选W为具有亲水性结构的二价的基团,更优选Q为亚苯基、酯键或酰胺键,W为聚亚烷氧基,Y为末端是氢原子或烷基的聚亚烷氧基。
另外,由式Z表示的基团可以作为提高树脂粒子的分散性的分散性基团发挥作用。
从印刷耐久性及机上显影性的观点出发,本发明中的树脂粒子优选具有聚合性基团(优选为烯属不饱和基团),更优选包含特别是在表面具有聚合性基团的树脂粒子。通过使用具有聚合性基团的树脂粒子,可提高印刷耐久性(优选为UV印刷耐久性)。
从印刷耐久性的观点出发,本发明中的树脂粒子优选为具有亲水性基团及聚合性基团的树脂粒子。
上述聚合性基团可以是阳离子聚合性基团,也可以是自由基聚合性基团,但是从反应性的观点出发,优选为自由基聚合性基团。
作为上述聚合性基团,只要是能够聚合的基团,则并无特别限制,但是从反应性的观点出发,优选烯属不饱和基团,更优选乙烯基苯基(苯乙烯基)、(甲基)丙烯酰氧基或(甲基)丙烯酰胺基,尤其优选(甲基)丙烯酰氧基。
并且,构成具有聚合性基团的树脂粒子的树脂优选具备具有聚合性基团的构成单元。
另外,可以通过高分子反应将聚合性基团导入到树脂粒子的表面。
并且,从印刷耐久性、着墨性、机上显影性及机上显影时的显影残渣抑制性的观点出发,树脂粒子优选包含具有脲键的加聚型树脂,更优选包含具有至少使由下述式(Iso)表示的异氰酸酯化合物与水进行反应而获得的结构的加聚型树脂,尤其优选包含具有至少使由下述式(Iso)表示的异氰酸酯化合物与水进行反应而获得的结构,并且具有聚环氧乙烷结构及聚环氧丙烷结构作为聚氧亚烷基结构的加聚型树脂。并且,包含具有上述脲键的加聚型树脂的粒子优选为微凝胶。
[化学式22]
式(Iso)中,n表示0~10的整数。
作为由上述式(Iso)表示的异氰酸酯化合物与水的反应的一例,可举出下述所示的反应。另外,下述例为n=0、使用了4,4-异构体的例。
如下所示,若使由上述式(Iso)表示的异氰酸酯化合物与水进行反应,则通过水异氰酸酯基的一部分水解,产生氨基,所产生的氨基与异氰酸酯基进行反应,生成脲键,形成二聚体。并且,重复进行下述反应,形成具有脲键的加聚型树脂。
并且,在下述反应中,添加醇化合物、胺化合物等与异氰酸酯基具有反应性的化合物(具有活性氢的化合物),由此还能够将醇化合物、胺化合物等的结构导入到具有脲键的加聚型树脂中。
作为具有上述活性氢的化合物,优选举出具有已叙述的活性氢的化合物。
[化学式23]
并且,具有上述脲键的加聚型树脂优选具有烯属不饱和基团,更优选具有由下述式(PETA)表示的基团。
[化学式24]
式(PETA)中,波浪线部分表示与其他结构的键合位置。
《树脂粒子的合成》
作为树脂粒子的合成法,并无特别限制,只要是能够利用已叙述的各种树脂合成粒子的方法即可。作为树脂粒子的合成法,例如,可举出乳化聚合法、悬浮聚合法、分散聚合法、无皂聚合法、微乳液聚合法等公知的树脂粒子的合成法。
此外,在树脂粒子的合成中可以使用公知的微胶囊的合成法、微凝胶(交联树脂粒子)的合成法等。
《粒子的平均粒径>》
粒子的平均粒径优选0.01μm~3.0μm,更优选0.03μm~2.0μm,进一步优选0.10μm~1.0μm。在该范围内可获得良好的分辨率和经时稳定性。
关于粒子的平均粒径,通过光散射法进行测定、或者拍摄粒子的电子显微照片,在照片上测定总计5,000个粒子的粒径,并计算平均值。另外,关于非球形粒子,设为照片上的粒子的圆当量直径。
另外,关于本发明中的粒子的平均粒径,只要无特别说明,则为体积平均粒径。
粒子(优选为树脂粒子)可以仅使用一种,也可以并用两种以上。
从显影性及印刷耐久性的观点出发,相对于图像记录层的总质量,粒子(优选为树脂粒子)的含量优选5质量%~90质量%,更优选为10质量%~90质量%,进一步优选为20质量%~90质量%,尤其优选为50质量%~90质量%。
〔其他成分〕
本发明中的图像记录层可以包含除了已叙述的成分以外的其他成分。
作为其他成分,可举出粘合剂聚合物、油剂、显色剂、链转移剂、低分子亲水性化合物、增感剂、表面活性剂、其他添加剂等。
作为其他成分,可举出日本特开2009-255434号公报的0174~0190段中所公开的表面活性剂、着色剂、印出剂、阻聚剂、高级脂肪酸衍生物、增塑剂、无机粒子及低分子亲水性化合物等。
并且,作为其他化合物,还可举出日本特开2012-187907号公报的0191~0217段中所公开的疏水化前体(在施加热时能够将图像记录层转换为疏水性的微粒)、低分子亲水性化合物、增感剂(例如,鏻化合物、含氮低分子化合物、含铵基聚合物)及链转移剂。
并且,作为表面活性剂,优选包含阴离子表面活性剂及氟系表面活性剂。
-粘合剂聚合物-
根据需要,图像记录层可以包含粘合剂聚合物。
在此,粘合剂聚合物是指除了树脂粒子以外的聚合物、即不是粒子形状的聚合物。
并且,关于粘合剂聚合物,增感剂中的含铵盐聚合物及用作表面活性剂的聚合物除外。
粘合剂聚合物能够优选使用平版印刷版原版的图像记录层中所使用的公知的粘合剂聚合物(例如,(甲基)丙烯酸树脂、聚乙烯醇缩醛、聚氨酯树脂等)。
作为一例,关于机上显影型平版印刷版原版中所使用的粘合剂聚合物(以下,也称为机上显影用粘合剂聚合物)进行详细记载。
作为机上显影用粘合剂聚合物,优选具有环氧烷链的粘合剂聚合物。具有环氧烷链的粘合剂聚合物可以在主链具有聚(环氧烷)部位也可以在侧链具有。并且,可以是在侧链具有聚(环氧烷)的接枝聚合物,也可以是由含有聚(环氧烷)的重复单元构成的嵌段与不含有(环氧烷)的重复单元构成的嵌段的嵌段共聚物。
在主链具有聚(环氧烷)部位的情况下,优选聚氨酯树脂。
作为在侧链具有聚(环氧烷)部位时的主链的聚合物,可举出(甲基)丙烯酸树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂、聚脲树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、环氧树脂、聚苯乙烯树脂、酚醛清漆型酚醛树脂、聚酯树脂、合成橡胶、天然橡胶,尤其优选(甲基)丙烯酸树脂。
并且,作为粘合剂聚合物的其他优选例,可举出将6官能以上且10官能以下的多官能硫醇作为核部,并具有通过硫醚键与该核部键合的聚合物链,且上述聚合物链具有聚合性基团的高分子化合物(以下,也称为星型高分子化合物。)。
作为星型高分子化合物,例如,能够优选使用日本特开2012-148555号公报中所记载的化合物。
关于星型高分子化合物,可举出在主链或侧链、优选为侧链上具有如日本特开2008-195018号公报中所记载的用于提高图像部的皮膜强度的烯属不饱和键等聚合性基团的化合物。通过星型高分子化合物所具有的聚合性基团在星型高分子化合物的分子之间形成交联,促进固化。
作为聚合性基团,优选(甲基)丙烯酸基、乙烯基、烯丙基、乙烯基苯基(苯乙烯基)等烯属不饱和基团、环氧基等,从聚合反应性的观点出发,更优选(甲基)丙烯酸基、乙烯基、乙烯基苯基(苯乙烯基),尤其优选(甲基)丙烯酸基。这些基团能够通过高分子反应或共聚而导入到聚合物。具体而言,例如,能够利用在侧链上具有羧基的聚合物与甲基丙烯酸缩水甘油酯的反应、或者具有环氧基的聚合物与甲基丙烯酸等含有烯属不饱和基团的羧酸的反应。
关于粘合剂聚合物的分子量,作为基于GPC法的聚苯乙烯换算值,重均分子量(Mw)优选为2,000以上,更优选为5,000以上,进一步优选为10,000~300,000。
作为粘合剂聚合物,根据需要,能够并用日本特开2008-195018号公报中所记载的聚丙烯酸、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩醛等亲水性聚合物。并且,还能够并用亲油性聚合物和亲水性聚合物。
其中,从机上显影性的观点出发,图像记录层优选包含聚乙烯醇缩醛。作为聚乙烯醇缩醛,例如,优选举出聚乙烯醇缩丁醛等。
粘合剂聚合物可以单独使用一种,也可以并用两种以上。
粘合剂聚合物能够以任意量包含在图像记录层中,但是相对于图像记录层的总质量,粘合剂聚合物的含量优选为1质量%~90质量%,更优选为5质量%~80质量%。
-油剂-
上述图像记录层优选还包含油剂。
本发明中的油剂是指,在80℃下为液体状态,并且在与相同质量的水进行混合时不混合而分离的疏水性化合物。
另外,在使用两种以上的油剂的情况下,即使包含熔点为80℃以上的化合物,只要在混合两种以上的油剂的状态下,在80℃下也为液体状态即可。
并且,从机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,上述油剂优选为分子量小于1,000的化合物,更优选为分子量为200~800的化合物,尤其优选为分子量为300~500的化合物。
而且,从机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,上述油剂优选为1个大气压下的沸点为200℃以上的化合物,更优选为1个大气压下的沸点为250℃以上的化合物,进一步优选为1个大气压下的沸点为300℃以上的化合物,尤其优选为1个大气压下的沸点为400℃以上且500℃以下的化合物。
另外,在本发明中,没有特别说明,在称为“沸点”的情况下,是1个大气压下的沸点。
并且,从机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,上述油剂在1个大气压下的熔点优选为50℃以下,更优选为30℃以下,尤其优选为-200℃以上且25℃以下。
另外,在本发明中,没有特别说明,在称为“熔点”的情况下,是1个大气压下的熔点。
作为上述油剂,可举出磷酸酯化合物、芳香族烃化合物、甘油酯化合物、脂肪酸化合物、芳香族酯化合物等。
其中,从UV印刷耐久性、着墨性、机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,优选选自磷酸酯化合物、芳香族烃化合物、甘油酯化合物、芳香族酯化合物中的至少一种化合物,更优选选自磷酸酯化合物、芳香族烃化合物及甘油酯化合物中的至少一种化合物,进一步优选选自磷酸酯化合物及芳香族烃化合物中的至少一种化合物,尤其优选磷酸酯化合物。
作为磷酸酯化合物,从UV印刷耐久性、着墨性、机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,优选磷酸三酯化合物,更优选磷酸三芳基酯化合物,进一步优选为磷酸三甲苯酯,尤其优选磷酸三甲苯酯的邻位、间位及对位这三种中的两种以上的混合物。
作为芳香族烃化合物,从机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,优选具有2个以上的芳香环的化合物,更优选为具有2个以上的未稠合的苯环的化合物。
作为甘油酯化合物,从机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,优选三甘油酯化合物,更优选为脂肪油,尤其优选蓖麻油等在25℃下为液体的脂肪油。
作为脂肪酸化合物,从机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,优选不饱和脂肪酸,更优选碳原子数为8~30的不饱和脂肪酸,尤其优选碳原子数为12~24的不饱和脂肪酸。
作为芳香族酯化合物,从机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,优选芳香族二酯化合物,更优选具有脂肪族环的芳香族二酯化合物。
作为脂肪族酯化合物,从机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,优选具有支链烷基的脂肪族酯化合物,更优选具有支链烷基并且碳原子数为10~24的脂肪族酯化合物。
作为上述油剂,从UV印刷耐久性、着墨性、机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,优选包含具有磷原子的油剂,更优选为具有磷原子的油剂。
并且,作为上述油剂,从机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,优选包含具有芳香环的油剂,更优选包含具有2个以上的芳香环的油剂,尤其优选包含具有2个以上的未稠合的苯环的油剂。
从UV印刷耐久性、着墨性、机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,上述油剂的clogP值优选为5.0以上,更优选为5.50以上,进一步优选为5.50以上且10.0以下,尤其优选为5.60以上且7.00以下。
clogP值是指通过计算1-辛醇和水的分配系数P的常用对数logP而求出的值。关于用于计算clogP值的方法和软件,能够使用公知的方法和软件,但是只要并无特别说明,则在本发明中使用在Cambridge soft公司的ChemBioDraw Ultra 12.0中编入的ClogP程序。
作为上述油剂,具体而言,例如可举出磷酸三甲苯酯、二甲基(1-苯乙基)苯、2,4-二苯基-4-甲基-1-戊烯、邻苯二甲酸二环己酯、蓖麻油(castor oil)、α-亚麻酸、三(2-乙基己基)磷酸酯等。
上述油剂可以仅使用一种,也可以并用两种以上,但是从机上显影性及润版液浑浊抑制性的观点出发,上述图像记录层优选包含具有不同结构的两种以上的油剂。
相对于图像记录层的总质量,上述油剂的含量优选0.0001质量%~10.0质量%,更优选0.0002质量%~1.0质量%,进一步优选0.0005质量%~0.5质量%,尤其优选0.001质量%~0.05质量%。
-显色剂-
本发明中的图像记录层优选还包含显色剂,更优选还包含酸显色剂。并且,作为显色剂,优选包含无色化合物。
本发明中所使用的“显色剂”是指具有通过光、酸等刺激显色或脱色并使图像记录层的颜色改变的性质的化合物,并且,“酸显色剂”是指具有通过在接受了受电子性化合物(例如,酸等质子)的状态下进行加热而显色或脱色并使图像记录层的颜色改变的性质的化合物。作为酸显色剂,尤其优选具有内酯、内酰胺、磺内酯、螺吡喃、酯、酰胺等部分骨架,且在与受电子性化合物接触时,这些部分骨架快速开环或裂解的无色化合物。
作为这种酸显色剂的例子,可举出日本特开2019-18412号公报的0184~0191段中所记载的化合物。
其中,从视觉辨认度的观点出发,本发明中所使用的显色剂优选为选自螺吡喃化合物、螺噁嗪化合物、螺内酯化合物及螺内酰胺化合物中的至少一种化合物。
作为显色后的色素的色相,从可见性的观点出发,优选在450~650nm的范围内具有极大吸收波长。作为色调,优选为红色、紫色、蓝色或墨绿色。
并且,从视觉辨认度及曝光部的视觉辨认度的观点出发,上述酸显色剂优选为无色色素。
作为上述无色色素,只要是具有无色结构的色素,则并无特别限制,但是优选具有螺旋结构,更优选具有螺内酯环结构。
并且,作为上述无色色素,从视觉辨认度及曝光部的视觉辨认度的观点出发,优选为具有苯酞结构或荧烷母体结构的无色色素。
而且,从视觉辨认度及曝光部的视觉辨认度的观点出发,上述具有苯酞结构或荧烷母体结构的无色色素优选为由下述式(Le-1)~式(Le-3)中的任一个表示的化合物,更优选为由下述式(Le-2)表示的化合物。
[化学式25]
式(Le-1)~式(Le-3)中,ERG分别独立地表示给电子基团,X1~X4分别独立地表示氢原子、卤原子或二烷基苯胺基,X5~X10分别独立地表示氢原子、卤原子或一价的有机基团,Y4及Y2分别独立地表示C或N,在Y1为N的情况下,X1不存在,在Y2为N的情况下,X4不存在,Ra1表示氢原子、烷基或烷氧基,Rb1~Rb4分别独立地表示氢原子、烷基、芳基或杂芳基。
作为式(Le-1)~式(Le-3)的ERG中的给电子基团,从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,优选为氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂芳基氨基、二烷基氨基、单烷基单芳基氨基、单烷基单杂芳基氨基、二芳基氨基、二杂芳基氨基、单芳基单杂芳基氨基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基或烷基,更优选为氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂芳基氨基、二烷基氨基、单烷基单芳基氨基、单烷基单杂芳基氨基、二芳基氨基、二杂芳基氨基、单芳基单杂芳基氨基、烷氧基或芳氧基,进一步优选为单烷基单芳基氨基、二芳基氨基、二杂芳基氨基或单芳基单杂芳基氨基,尤其优选为单烷基单芳基氨基。
并且,作为上述ERG中的给电子基团,从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,优选为具备在至少1个邻位具有取代基的芳基或在至少1个邻位具有取代基的杂芳基的二取代氨基,更优选为具备在至少1个邻位具有取代基且在对位具有给电子基团的苯基的二取代氨基,进一步优选为具备在至少1个邻位具有取代基且在对位具有给电子基团的苯基和芳基或杂芳基的氨基,尤其优选为具备在至少1个邻位具有取代基且在对位具有给电子基团的苯基和具有给电子基团的芳基或具有给电子基团的杂芳基的氨基。
另外,在本发明中,除了苯基以外的芳基或杂芳基中的邻位是指,将芳基或杂芳基与其他结构的键合位置设为1位时的、与上述1位相邻的键合位置(例如,2位等)。
而且,作为上述芳基或杂芳基所具有的给电子基团,从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,优选为氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂芳基氨基、二烷基氨基、单烷基单芳基氨基、单烷基单杂芳基氨基、二芳基氨基、二杂芳基氨基、单芳基单杂芳基氨基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基或烷基,更优选为烷氧基、芳氧基、杂芳氧基或烷基,尤其优选为烷氧基。
从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,式(Le-1)~式(Le-3)中的X1~X4分别独立地优选为氢原子或氯原子,更优选为氢原子。
从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,式(Le-2)或式(Le-3)中的X5~X10分别独立地优选为氢原子、卤原子、烷基、芳基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂芳基氨基、二烷基氨基、单烷基单芳基氨基、单烷基单杂芳基氨基、二芳基氨基、二杂芳基氨基、单芳基单杂芳基氨基、羟基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂芳氧基羰基或氰基,更优选为氢原子、卤原子、烷基、芳基、烷氧基或芳氧基,进一步优选为氢原子、卤原子、烷基或芳基,尤其优选为氢原子。
从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,式(Le-1)~式(Le-3)中的Y1及Y2优选至少一者为C,更优选Y1及Y2这两者为C。
从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,式(Le-1)~式(Le-3)中的Ra1优选为烷基或烷氧基,更优选为烷氧基,尤其优选为甲氧基。
从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,式(Le-1)~式(Le-3)中的Rb1~Rb4分别独立地优选为氢原子或烷基,更优选为烷基,尤其优选为甲基。
并且,从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,具有上述苯酞结构或荧烷母体结构的无色色素更优选为由下述式(Le-4)~式(Le-6)中的任一个表示的化合物,进一步优选为由下述式(Le-5)表示的化合物。
[化学式26]
式(Le-4)~式(Le-6)中,ERG分别独立地表示给电子基团,X1~X4分别独立地表示氢原子、卤原子或二烷基苯胺基,Y1及Y2分别独立地表示C或N,在Y1为N的情况下,X1不存在,在Y2为N的情况下,X4不存在,Ra1表示氢原子、烷基或烷氧基,Rb1~Rb4分别独立地表示氢原子、烷基、芳基或杂芳基。
式(Le-4)~式(Le-6)中的ERG、X1~X4、Y1、Y2、Ra1及Rb1~Rb4分别与式(Le-1)~式(Le-3)中的ERG、X1~X4、Y1、Y2、Ra1及Rb1~Rb4含义相同,优选方式也相同。
而且,从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,上述具有苯酞结构或荧烷母体结构的无色色素进一步优选为由下述式(Le-7)~式(Le-9)中的任一个表示的化合物,尤其优选为由下述式(Le-8)表示的化合物。
[化学式27]
式(Le-7)~式(Le-9)中,X1~X4分别独立地表示氢原子、卤原子或二烷基苯胺基,Y1及Y2分别独立地表示C或N,在Y1为N的情况下,X1不存在,在Y2为N的情况下,X4不存在,Ra1~Ra4分别独立地表示氢原子、烷基或烷氧基,Rb1~Rb4分别独立地表示氢原子、烷基、芳基或杂芳基,Rc1及Rc2分别独立地表示芳基或杂芳基。
式(Le-7)~式(Le-9)中的X1~X4、Y1及Y2与式(Le-1)~式(Le-3)中的X1~X4、Y1及Y2含义相同,优选方式也相同。
从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,式(Le-7)或式(Le-9)中的Ra1~Ra4分别独立地优选为烷基或烷氧基,更优选为烷氧基,尤其优选为甲氧基。
从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,式(Le-7)~式(Le-9)中的Rb1~Rb4分别独立地优选为氢原子、烷基或烷氧基所取代的芳基,更优选为烷基,尤其优选为甲基。
从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,式(Le-8)中的Rc1及Rc2分别独立地优选为苯基或烷基苯基,更优选为苯基。
并且,从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,式(Le-8)中的Rc1及Rc2分别独立地优选为在至少1个邻位具有取代基的芳基或在至少1个邻位具有取代基的杂芳基,更优选为在至少1个邻位具有取代基的芳基,进一步优选为在至少1个邻位具有取代基的苯基,尤其优选为在至少1个邻位具有取代基且在对位具有给电子基团的苯基。作为Rc1及Rc2中的上述取代基,可举出后述的取代基。
并且,在式(Le-8)中,从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,优选X1~X4为氢原子,Y1及Y2为C。
而且,在式(Le-8)中,从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,Rb1及Rb2分别独立地优选为烷基或烷氧基所取代的芳基。
而且,在式(Le-8)中,从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,Rb1及Rb2分别独立地优选为芳基或杂芳基,更优选为芳基,进一步优选为具有给电子基团的芳基,尤其优选为在对位具有给电子基团的苯基。
并且,作为Rb1、Rb2、Rc1及Rc2中的上述给电子基团,从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,优选为氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂芳基氨基、二烷基氨基、单烷基单芳基氨基、单烷基单杂芳基氨基、二芳基氨基、二杂芳基氨基、单芳基单杂芳基氨基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基或烷基,更优选为烷氧基、芳氧基、杂芳氧基或烷基,尤其优选为烷氧基。
并且,作为酸显色剂,从显色性及曝光部的视觉辨认度的观点出发,优选包含由下述式(Le-10)表示的化合物。
[化学式28]
式(Le-10)中,Ar1分别独立地表示芳基或杂芳基,Ar2分别独立地表示在至少1个邻位具有取代基的芳基、或在至少1个邻位具有取代基的杂芳基。
式(Le-10)中的Ar1与式(Le-7)~式(Le-9)中的Rb1及Rb2含义相同,优选方式也相同。
式(Le-10)中的Ar2与式(Le-7)~式(Le-9)中的Rc1及Rc2含义相同,优选方式也相同。
式(Le-1)~式(Le-9)中的烷基可以是直链,也可以具有支链,还可以具有环结构。
并且,式(Le-1)~式(Le-9)中的烷基的碳原子数优选为1~20,更优选为1~8,进一步优选为1~4,尤其优选为1或2。
式(Le-1)~式(Le-10)中的芳基的碳原子数优选为6~20,更优选为6~10,尤其优选为6~8。
作为式(Le-1)~式(Le-10)中的芳基,具体而言,可举出可以具有取代基的、苯基、萘基、蒽基及菲基等。
作为式(Le-1)~式(Le-10)中的杂芳基,具体而言,可举出可以具有取代基的、呋喃基、吡啶基、嘧啶基、吡唑基及苯硫基等。
并且,式(Le-1)~式(Le-10)中的一价的有机基团、烷基、芳基、杂芳基、二烷基苯胺基、烷基氨基、烷氧基等各基团可以具有取代基。作为取代基,可举出烷基、芳基、杂芳基、卤原子、氨基、烷基氨基、芳基氨基、杂芳基氨基、二烷基氨基、单烷基单芳基氨基、单烷基单杂芳基氨基、二芳基氨基、二杂芳基氨基、单芳基单杂芳基氨基、羟基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂芳氧基羰基、氰基等。并且,这些取代基可以进一步被这些取代基取代。
作为可优选使用的上述具有苯酞结构或荧烷母体结构的无色色素,可举出以下化合物。
[化学式29]
[化学式30]
[化学式31]
[化学式32]
[化学式34]
[化学式35]
[化学式36]
也可以使用已上市的产品作为酸显色剂,可举出ETAC、RED500、RED520、CVL、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、BLUE220、H-3035、BLUE203、ATP、H-1046、H-2114(以上为Fuk ui Yamada Chemical Co.,Ltd.制造)、ORANGE-DCF、Vermilion-DCF、PINK-DCF、RED-DCF、BLMB、CVL、GREEN-DCF、TH-107(以上为HODOGAYA CHEMICAL CO.,LTD.制造)、ODB、ODB-2、ODB-4、ODB-250、ODB-BlackXV、Blue-63、Blue-502、GN-169、GN-2、Green-118、Red-40、Red-8(以上为YAMAMOTO CHEM ICALS INC.制造)、结晶紫内酯(Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制造)等。这些市售品中,ETAC、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、H-3035、ATP、H-1046、H-2114、GREEN-DCF、Blue-63、GN-169、结晶紫内酯的所形成的膜的可见光吸收率良好,因此优选。
作为可优选使用的无色色素,从视觉辨认度及曝光部的视觉辨认度的观点出发,可举出以下化合物。
[化学式37]
这些显色剂可以单独使用一种,还能够组合使用两种以上的成分。
相对于图像记录层的总质量,显色剂的含量优选为0.5质量%~10质量%,更优选为1质量%~5质量%。
〔图像记录层的形成〕
本发明所涉及的平版印刷版原版中的图像记录层例如能够通过如下方式形成:如日本特开2008-195018号公报的0142段~0143段中所记载,将必要的上述各成分分散或溶解于公知的溶剂中来制备涂布液,通过棒涂机涂布等公知的方法将涂布液涂布于支承体上并进行干燥。涂布、干燥后的图像记录层的涂布量(固体成分)根据用途而不同,但是优选为0.3g/m2~3.0g/m2。在该范围内,可得到良好的灵敏度和图像记录层的良好的皮膜特性。
作为溶剂,能够使用公知的溶剂。具体而言,例如,可举出水、丙酮、甲基乙基酮(2-丁酮)、环己烷、乙酸乙酯、二氯乙烷、四氢呋喃、甲苯、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇二甲醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、乙酰丙酮、环己酮、二丙酮醇、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚乙酸酯、1-甲氧基-2-丙醇、3-甲氧基-1-丙醇、甲氧基甲氧基乙醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、3-甲氧基丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、γ-丁内酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。溶剂可以单独使用一种,也可以并用两种以上。涂布液中的固体成分浓度优选为1质量%~50质量%。
涂布、干燥后的图像记录层的涂布量(固体成分)根据用途而不同,但是从获得良好的灵敏度和图像记录层的良好的皮膜特性的观点出发,优选0.3g/m2~3.0g/m2。
并且,本发明所涉及的平版印刷版原版中的图像记录层的膜厚优选为0.1μm~3.0μm,更优选为0.3μm~2.0μm。
在本发明中,平版印刷版原版中的各层的膜厚通过制作沿着与平版印刷版原版的表面垂直的方向切割的切片,并通过扫描型显微镜(SEM)观察上述切片的截面来确认。
<最外层>
本发明所涉及的机上显影型平版印刷版原版优选在上述图像记录层上具有最外层。
并且,从视觉辨认度的观点出发,上述最外层优选包含变色性化合物。
并且,上述最外层为机上显影型平版印刷版原版中的支承体的图像记录层侧的最外层。
上述最外层除了通过阻氧而抑制图像形成阻碍反应的功能以外,还可以具有防止在图像记录层中产生划痕、防止高照度激光曝光时烧蚀等的功能。
-变色性化合物-
并且,上述最外层优选包含变色性化合物。
上述最外层除了变色性化合物以外,还可以包含水溶性聚合物、疏水性聚合物、增感剂、产酸剂、红外线吸收剂等其他成分,优选包含变色性化合物及水溶性聚合物,更优选包含变色性化合物、水溶性聚合物及疏水性聚合物。
在本发明中,“变色性化合物”是指因红外线曝光而可见光区域(波长:400nm以上且小于750nm)的吸收改变的化合物。即,在本发明中,“变色”是指因红外线曝光而可见光区域(波长:400nm以上且小于750nm)的吸收改变。
具体而言,关于本发明中的变色性化合物,可举出(1)因红外线曝光而与红外线曝光之前相比可见光区域的吸收增加的化合物、(2)因红外线曝光而具有可见光区域的吸收的化合物、(3)因红外线曝光而在可见光区域不具有吸收的化合物。
另外,本发明中的红外线为750nm~1mm的波长的光线,优选为750nm~1,400nm的波长的光线。
作为变色性化合物,优选包含因红外线曝光而显色的化合物。
并且,作为变色性化合物,优选包含因红外线曝光而分解的分解性化合物,其中,优选包含通过由红外线曝光引起的热、电子转移或该两者分解的分解性化合物。
更具体而言,本发明中的变色性化合物优选为如下化合物,即,因红外线曝光而分解(更优选为通过由红外线曝光引起的热、电子转移或该两者分解),与红外线曝光之前相比,可见光区域中的吸收增加或吸收被短波长化并在可见光区域具有吸收的化合物。
在此,“通过电子转移而分解”是指通过红外线曝光从变色性化合物的HOMO(最高占据轨道)激励到LUMO(最低未占分子轨道)的电子在分子内电子转移到分子内的受电子基(电位接近LUMO的基团),随之发生分解。
以下,对作为变色性化合物的一例的分解性化合物进行说明。
关于分解性化合物,只要是吸收红外线波长区域(750nm~1mm的波长区域、优选为750nm~1,400nm的波长区域)中的至少一部分光,并进行分解的化合物即可,但是优选为在750nm~1,400nm的波长区域具有极大吸收波长的化合物。
更具体而言,分解性化合物优选为因红外线曝光而分解,并生成在500nm~600nm的波长区域具有极大吸收波长的化合物的化合物。
从提高曝光部的视觉辨认度的观点出发,分解性化合物优选为具有通过红外线曝光而分解的基团(具体而言,下述式1-1~式1-7中的R1)的花青色素。
作为分解性化合物,从提高曝光部的视觉辨认度的观点出发,更优选为由下述式1-1表示的化合物。
[化学式38]
式1-1中,R1表示由下述式2-1~式4-1中的任一个表示的基团,R11~R18分别独立地表示氢原子、卤原子、-Ra、-ORb、-SRc或-NRdRe,Ra~Re分别独立地表示烃基,A1、A2及多个R11~R18可以连结而形成单环或多环,A1及A2分别独立地表示氧原子、硫原子或氮原子,n11及n12分别独立地表示0~5的整数,其中,n11及n12的合计为2以上,n13及n14分别独立地表示0或1,L表示氧原子、硫原子或-NR10-,R10表示氢原子、烷基或芳基,Za表示中和电荷的抗衡离子。
[化学式39]
式2-1~式4-1中,R20、R30、R41及R42分别独立地表示烷基或芳基,Zb表示中和电荷的抗衡离子,波浪线表示与上述式1-1中的L所表示的基团的键合部位。
若由式1-1表示的化合物在红外线下被曝光,则R1-L键断裂,L成为=O、=S或=NR10,从而变色。
在式1-1中,R1表示由上述式2-1~式4-1中的任一个表示的基团。
以下,分别对由式2-1表示的基团、由式3-1表示的基团及由式4-1表示的基团进行说明。
式2-1中,R20表示烷基或芳基,波浪线部分表示与式1-1中的L所表示的基团的键合部位。
作为由R20表示的烷基,优选碳原子数1~30的烷基,更优选碳原子数1~15的烷基,进一步优选碳原子数1~10的烷基。
上述烷基可以是直链状,也可以具有支链,还可以具有环结构。
作为由R20表示的芳基,优选碳原子数6~30的芳基,更优选碳原子数6~20的芳基,进一步优选碳原子数6~12的芳基。
作为R20,从视觉辨认度的观点出发,优选为烷基。
并且,从分解性及视觉辨认度的观点出发,作为由R20表示的烷基,优选为仲烷基或叔烷基,优选为叔烷基。
而且,从分解性及视觉辨认度的观点出发,作为由R20表示的烷基,优选为碳原子数1~8的烷基,更优选为碳原子数3~10的支链状烷基,进一步优选为碳原子数3~6的支链状烷基,尤其优选异丙基或叔丁基,最优选叔丁基。
以下,举出由上述式2-1表示的基团的具体例,但是本发明并不限定于这些。下述结构式中,●表示与式1-1中的L所表示的基团的键合部位。
[化学式40]
式3-1中,R30表示烷基或芳基,波浪线部分表示与式1-1中的L所表示的基团的键合部位。
作为由R30表示的烷基及芳基,与由式2-1中的R20表示的烷基及芳基相同,优选方式也相同。
从分解性及视觉辨认度的观点出发,作为由R30表示的烷基,优选为仲烷基或叔烷基,优选为叔烷基。
并且,从分解性及视觉辨认度的观点出发,作为由R30表示的烷基,优选为碳原子数1~8的烷基,更优选为碳原子数3~10的支链状烷基,进一步优选为碳原子数3~6的支链状烷基,尤其优选异丙基或叔丁基,最优选叔丁基。
而且,从分解性及视觉辨认度的观点出发,由R30表示的烷基优选为取代烷基,更优选为氟取代烷基,进一步优选为全氟烷基,尤其优选为三氟甲基。
从分解性及视觉辨认度的观点出发,由R30表示的芳基优选为取代芳基,作为取代基,可举出烷基(优选为碳原子数1~4的烷基)、烷氧基(优选为碳原子数1~4的烷氧基)等。
以下,举出由上述式3-1表示的基团的具体例,但是本发明并不限定于这些。下述结构式中,●表示与式1-1中的L所表示的基团的键合部位。
[化学式41]
式4-1中,R41及R42分别独立地表示烷基或芳基,Zb表示中和电荷的抗衡离子,波浪线部分表示与式1-1中的L所表示的基团的键合部位。
作为由R41或R42表示的烷基及芳基,与由式2中的R20表示的烷基及芳基相同,优选方式也相同。
作为R41,从分解性及视觉辨认度的观点出发,优选为烷基。
作为R42,从分解性及视觉辨认度的观点出发,优选为烷基。
从分解性及视觉辨认度的观点出发,作为由R41表示的烷基,优选为碳原子数1~8的烷基,更优选为碳原子数1~4的烷基,尤其优选甲基。
从分解性及视觉辨认度的观点出发,作为由R42表示的烷基,优选为仲烷基或叔烷基,优选为叔烷基。
并且,从分解性及视觉辨认度的观点出发,作为由R42表示的烷基,优选为碳原子数1~8的烷基,更优选为碳原子数3~10的支链状烷基,进一步优选为碳原子数3~6的支链状烷基,尤其优选异丙基或叔丁基,最优选叔丁基。
关于式4-1中的Zb,只要是用于中和电荷的抗衡离子即可,作为化合物整体,也可以包含在式1-1中的Za中。
Zb优选磺酸根离子、羧酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、对甲苯磺酸根离子或高氯酸根离子,更优选四氟硼酸根离子。
以下,举出由上述式4-1表示的基团的具体例,但是本发明并不限定于这些。下述结构式中,●表示与式1-1中的L所表示的基团的键合部位。
[化学式42]
在式1-1中,L优选氧原子或-NR10-,尤其优选氧原子。
并且,-NR10-中的R10优选烷基。作为由R10表示的烷基,优选碳原子数1~10的烷基。并且,由R10表示的烷基可以是直链状,也可以具有支链,还可以具有环结构。
在烷基中,优选甲基或环己基。
在-NR10-中的R10为芳基的情况下,碳原子数6~30的芳基,更优选碳原子数6~20的芳基,进一步优选碳原子数6~12的芳基。并且,这些芳基可以具有取代基。
在式1-1中,R11~R18分别独立地优选为氢原子、-Ra、-ORb、-SRc或-NRdRe。
由Ra~Re表示的烃基优选碳原子数1~30的烃基,更优选碳原子数1~15的烃基,进一步优选碳原子数1~10的烃基。
上述烃基可以是直链状,也可以具有支链,还可以具有环结构。
作为上述烃基,尤其优选烷基。
作为上述烷基,优选碳原子数1~30的烷基,更优选碳原子数1~15的烷基,进一步优选碳原子数1~10的烷基。
上述烷基可以是直链状,也可以具有支链,还可以具有环结构。
具体而言,例如,可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十六烷基、十八烷基、二十烷基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、1-甲基丁基、异己基、2-乙基己基、2-甲基己基、环己基、环戊基及2-降冰片基。
烷基中,优选甲基、乙基、丙基或丁基。
上述烷基可以具有取代基。
作为取代基的例子,可举出烷氧基、芳氧基、氨基、烷硫基、芳硫基、卤原子、羧基、羧酸酯基、磺基、磺酸酯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基及将它们组合而成的基团等。
式1-1中的R11~R14分别独立地优选为氢原子或-Ra(即烃基),更优选为氢原子或烷基,除了以下情况以外,进一步优选为氢原子。
其中,在与L所键合的碳原子键合的碳原子上键合的R11及R13优选烷基,更优选两者连结而形成环。作为上述所形成的环,可以是单环,也可以是多环。作为所形成的环,具体而言,可举出环戊烯环、环戊二烯环、环己烯环、环己二烯环等单环、及茚环、吲哚环等多环。
并且,在A1 +所键合的碳原子上键合的R12优选与R15或R16(优选为R16)连结而形成环,在A2所键合的碳原子上键合的R14优选与R17或R18(优选为R18)连结而形成环。
在式1-1中,优选n13为1,R16为-Ra(即烃基)。
并且,R16优选与在A1 +所键合的碳原子上键合的R12连结而形成环。作为所形成的环,优选吲哚环、吡喃鎓环、硫代吡啶鎓环、苯并噁唑啉环或苯并咪唑啉环,从提高曝光部的视觉辨认度的观点出发,更优选吲哚环。这些环还可以具有取代基。
在式1-1中,优选n14为1,R18为-Ra(即烃基)。
并且,R18优选与在A2所键合的碳原子上键合的R14连结而形成环。作为所形成的环,优选吲哚环、吡喃环、硫代吡喃环、苯并噁唑环或苯并咪唑环,从提高曝光部的视觉辨认度的观点出发,更优选吲哚环。这些环还可以具有取代基。
式1-1中的R16及R18优选为相同的基团,在各自形成环的情况下,优选形成除了A1 +及A2以外为相同结构的环。
式1-1中的R15及R17优选为相同的基团。并且,R15及R17优选为-Ra(即烃基),更优选为烷基,进一步优选为取代烷基。
在由式1-1表示的化合物中,从提高水溶性的观点出发,R15及R17优选为取代烷基。
作为由R15或R17表示的取代烷基,可举出由下述式(a1)~式(a4)中的任一个表示的基团。
[化学式43]
-RW2-CO2M (a2)
-RW3-PO3M2 (a3)
-RW4-SO3M (a4)
式(a1)~式(a4)中,RW0表示碳原子数2~6的亚烷基,W表示单键或氧原子,nW1表示1~45的整数,RW1表示碳原子数1~12的烷基或-C(=O)-RW5,RW5表示碳原子数1~12的烷基,RW2~RW4分别独立地表示单键或碳原子数1~12的亚烷基,M表示氢原子、钠原子、钾原子或鎓基。
在式(a1)中,作为由RW0表示的亚烷基的具体例,可举出亚乙基、亚正丙基、亚异丙基、亚正丁基、亚异丁基、亚正戊基、亚异戊基、正己基、异己基等,优选亚乙基、亚正丙基、亚异丙基或亚正丁基,尤其优选亚正丙基。
nW1优选1~10,更优选1~5,尤其优选1~3。
作为由RW1表示的烷基的具体例,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、正辛基、正十二烷基等,优选甲基、乙基、正丙基、异丙基或正丁基、叔丁基,进一步优选甲基或乙基,尤其优选甲基。
由RW5表示的烷基与由RW1表示的烷基相同,优选方式也与由RW1表示的烷基的优选方式相同。
以下示出由式(a1)表示的基团的具体例,但是本发明并不限定于这些。下述结构式中,Me表示甲基,Et表示乙基,*表示键合部位。
[化学式44]
在式(a2)~式(a4)中,作为由RW2~RW4表示的亚烷基的具体例,亚甲基、亚乙基、亚正丙基、亚异丙基、亚正丁基、亚异丁基、亚正戊基、亚异戊基、正己基、异己基、亚正辛基、亚正十二烷基等,优选亚乙基、亚正丙基、亚异丙基或亚正丁基,尤其优选亚乙基或亚正丙基。
在式(a3)中,存在2个的M可以相同也可以不同。
在式(a2)~式(a4)中,作为由M表示的鎓基,可举出铵基、碘鎓基、鏻基及锍基等。
式(a2)中的CO2M、式(a2)中的POeM2及式(a4)中的SO3M均可以具有M解离的阴离子结构。阴离子结构的抗衡阳离子可以是A1 +,也可以是式1-1中的R1-L能够包含的阳离子。
在由式(a1)~式(a4)表示的基团中,优选由式(a1)、式(a2)或式(a4)表示的基团。
式1-1中的n11及n12优选为相同,均优选1~5的整数,更优选1~3的整数,进一步优选1或2,尤其优选2。
式1-1中的A1及A2分别独立地表示氧原子、硫原子或氮原子,优选氮原子。
式1-1中的A1及A2优选为相同的原子。
式1-1中的Za表示中和电荷的抗衡离子。
若R11~R18及R1-L全部为电中性基团,则Za成为一价的抗衡阴离子。但是,R11~R18及R1-L可以具有阴离子结构或阳离子结构,例如,在R11~R18及R1-L具有2个以上的阴离子结构的情况下,Za也能够成为抗衡阳离子。
另外,若由式1-1表示的花青色素在除了Za以外的化合物的整体中为电中性结构,则不需要Za。
在Za为抗衡阴离子的情况下,可举出磺酸根离子、羧酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、对甲苯磺酸根离子、高氯酸根离子等,优选四氟硼酸根离子。
碱土类金属离子在Za为抗衡阳离子的情况下,可举出碱金属离子、碱土金属离子、铵离子、吡啶鎓离子、锍离子等,优选钠离子、钾离子、铵离子、吡啶鎓离子或锍离子,更优选钠离子、钾离子或铵离子。
作为分解性化合物,从提高曝光部的视觉辨认度的观点出发,更优选为由下述式1-2表示的化合物(即,花青色素)。
[化学式45]
式1-2中,R1表示由上述式2-1~式4-1中的任一个表示的基团,R19~R22分别独立地表示氢原子、卤原子、-Ra、-ORb、-CN、-SRc或-NRdRe,R23及R24分别独立地表示氢原子或-Ra,Ra~Re分别独立地表示烃基,R19与R20、R21与R22或R23与R24可以连结而形成单环或多环,L表示氧原子、硫原子或-NR10-,R10表示氢原子、烷基或芳基,Rd1~Rd4、W1及W2分别独立地表示可以具有取代基的烷基,Za表示中和电荷的抗衡离子。
式1-2中的R1与式1-1中的R1含义相同,优选方式也相同。
在式1-2中,R19~R22分别独立地优选为氢原子、卤原子、-Ra、-ORb或-CN。
更具体而言,R19及R21优选为氢原子或-Ra。
并且,R20及R22优选为氢原子、-Ra、-ORb或-CN。
作为由R19~R22表示的-Ra,优选烷基或烯基。
在R19~R22全部为-Ra的情况下,优选R19与R20及R21与R22连结而形成单环或多环。
作为R19与R20或R21与R22连结而形成的环,可举出苯环、萘环等。
在式1-2中,优选R23与R24连结而形成单环或多环。
作为R23与R24连结而形成的环,可以是单环,也可以是多环。作为所形成的环,具体而言,可举出环戊烯环、环戊二烯环、环己烯环、环己二烯环等单环及茚环等多环。
在式1-2中,Rd1~Rd4优选为未取代烷基。并且,优选Rd1~Rd4均为相同的基团。
作为未取代烷基,可举出碳原子数1~4的未取代烷基,其中,优选甲基。
在式1-2中,从对由式1-2表示的化合物提高水溶性的观点出发,W1及W2分别独立地优选为取代烷基。
作为由W1及W2表示的取代烷基,可举出由式1-1中的式(a1)~式(a4)中的任一个表示的基团,优选方式也相同。
并且,从机上显影性的观点出发,W1及W2分别独立地优选为具有取代基的烷基,并且是作为上述取代基至少具有-OCH2CH2-、磺基、磺基的盐、羧基或羧基的盐的基团。
Za表示中和分子内的电荷的抗衡离子。
若R19~R22、R23~R24、Rd1~Rd4、W1、W2及R1-L全部为电中性基团,则Za成为一价的抗衡阴离子。但是,R19~R22、R23~R24、Rd1~Rd4、W1、W2及R1-L可以具有阴离子结构或阳离子结构,例如,在R19~R22、R23~R24、Rd1~Rd4、W1、W2及R1-L具有2个以上的阴离子结构的情况下,Za也能够成为抗衡阳离子。
另外,若由式1-2表示的化合物在除了Za以外的化合物的整体中为电中性结构,则不需要Za。
Za为抗衡阴离子时的例子与式1-1中的Za相同,优选方式也相同。并且,Za为抗衡阳离子时的例子也与式1-1中的Za相同,优选方式也相同。
从分解性及视觉辨认度的观点出发,作为分解性化合物的花青色素进一步优选为由下述式1-3~式1-7中的任一个表示的化合物。
尤其,从分解性及视觉辨认度的观点出发,优选为由式1-3、式1-5及式1-6中的任一个表示的化合物。
[化学式46]
式1-3~式1-7中,R1表示由上述式2-1~式4-1中的任一个表示的基团,R19~R22分别独立地表示氢原子、卤原子、-Ra、-ORb、-CN、-SRc或-NRdRe,R25及R26分别独立地表示氢原子、卤原子或-Ra,Ra~Re分别独立地表示烃基,R19与R20、R21与R22或R25与R26可以连结而形成单环或多环,L表示氧原子、硫原子或-NR10-,R10表示氢原子、烷基或芳基,Rd1~Rd4、W1及W2分别独立地表示可以具有取代基的烷基,Za表示中和电荷的抗衡离子。
式1-3~式1-7中的R1、R19~R22、Rd1~Rd4、W1、W2及L与式1-2中R1、R19~R22、Rd1~Rd4、W1、W2及L含义相同,优选方式也相同。
式1-7中的R25及R26分别独立地优选为氢原子或烷基,更优选为烷基,尤其优选为甲基。
以下,举出分解性化合物的花青色素的具体例,但是本发明并不限定于这些。
[化学式47]
并且,作为分解性化合物的花青色素,能够优选使用国际公开第2019/219560号中所记载的红外线吸收性化合物。
并且,上述变色性化合物可以包含酸显色剂。
作为酸显色剂,能够使用在图像记录层中作为酸显色剂记载的酸显色剂,优选方式也相同。
变色性化合物可以单独使用一种,也可以组合使用两种以上的成分。
作为变色性化合物,可以组合使用已叙述的分解性化合物和后述产酸剂。
从视觉辨认度的观点出发,相对于最外层的总质量,最外层中的变色性化合物的含量优选0.10质量%~50质量%,更优选0.50质量%~30质量%,进一步优选1.0质量%~20质量%。
从视觉辨认度的观点出发,上述最外层的上述变色性化合物的含量MX与上述图像记录层的上述红外线吸收剂的含量MY之比MX/MY优选为0.1以上,更优选为0.2以上,尤其优选0.3以上且3.0以下。
-水溶性聚合物-
从显影去除性(更优选为机上显影性)的观点出发,上述最外层优选包含水溶性聚合物。
在本发明中,水溶性聚合物是指如下聚合物,即,相对于70℃、100g的纯水溶解1g以上,并且即使将相对于70℃、100g的纯水溶解1g的聚合物而得的溶液冷却至25℃也不会析出的聚合物。
作为最外层中所使用的水溶性聚合物,例如,可举出聚乙烯醇、改性聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、水溶性纤维素衍生物、聚乙二醇、聚(甲基)丙烯腈等。
作为改性聚乙烯醇,可优选使用具有羧基或磺基的酸改性聚乙烯醇。具体而言,可举出日本特开2005-250216号公报及日本特开2006-259137号公报中所记载的改性聚乙烯醇。
作为上述水溶性聚合物,可举出聚乙烯醇作为优选例。其中,作为水溶性聚合物,进一步优选使用皂化度为50%以上的聚乙烯醇。
上述皂化度优选60%以上,更优选70%以上,进一步优选85%以上。皂化度的上限并无特别限定,可以是100%以下。
上述皂化度可根据JIS K 6726:1994中所记载的方法进行测定。
作为上述水溶性聚合物,可举出聚乙烯吡咯烷酮作为优选例。
作为水溶性聚合物,还优选组合使用聚乙烯醇和聚乙烯吡咯烷酮。
水溶性聚合物可以单独使用一种,也可以组合使用两种以上。
在最外层包含水溶性聚合物的情况下,相对于最外层的总质量,水溶性聚合物的含量优选为1质量%~99质量%,更优选为3质量%~97质量%,进一步优选为5质量%~95质量%。
-其他成分-
上述最外层除了已叙述的变色性化合物及水溶性聚合物以外,还可以包含疏水性聚合物、增感剂、产酸剂、红外线吸收剂等其他成分。
以下,对其他成分进行说明。
《疏水性聚合物》
上述最外层优选包含疏水性聚合物。
疏水性聚合物是指相对于70℃、100g的纯水溶解小于1g或不溶解的聚合物。
作为疏水性聚合物,例如,可举出聚乙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚(甲基)丙烯酸烷基酯(例如,聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯、聚(甲基)丙烯酸丁酯等)、将这些聚合物的原料单体组合而成的共聚物等。
并且,作为疏水性聚合物,优选包含聚偏二氯乙烯树脂。
而且,作为疏水性聚合物,优选包含苯乙烯-丙烯酸共聚物。
而且,从机上显影性的观点出发,疏水性聚合物优选为疏水性聚合物粒子。
疏水性聚合物可以单独使用一种,也可以组合使用两种以上。
在最外层包含疏水性聚合物的情况下,相对于最外层的总质量,疏水性聚合物的含量优选为1质量%~80质量%,更优选为5质量%~5()质量%。
《产酸剂》
在上述最外层使用酸显色剂作为变色性化合物的情况下,优选包含产酸剂。
本发明中的“产酸剂”为利用光或热产生酸的化合物,具体而言,是指通过红外线曝光分解而产生酸的化合物。
作为所产生的酸,优选为磺酸、盐酸等pKa为2以下的强酸。通过由产酸剂产生的酸而能够使已叙述的酸显色剂变色。
具体而言,作为产酸剂,从灵敏度和稳定性的观点出发,优选鎓盐化合物。
关于优选作为产酸剂的鎓盐的具体例,可举出国际公开第2016/047392号的0121段~0124段中所记载的化合物。
其中,优选三芳基锍或二芳基碘鎓的、磺酸盐、羧酸盐、BPh4 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -等。在此,Ph表示苯基。
产酸剂可以单独使用一种,也可以组合使用两种以上。
在最外层包含产酸剂的情况下,相对于最外层的总质量,产酸剂的含量优选为0.5质量%~30质量%,更优选为1质量%~20质量%。
上述最外层除了已叙述的成分以外,还可以含有增感剂、无机层状化合物、表面活性剂等公知的添加物。
最外层通过利用公知的方法涂布并进行干燥而形成。
最外层的涂布量(固体成分)优选0.01g/m2~10g/m2,更优选0.02g/m2~3g/m2,尤其优选0.1g/m2~2.0g/m2。
最外层的膜厚优选为0.1μm~5.0μm,更优选为0.3μm~4.0μm。
相对于后述的图像记录层的膜厚,上述最外层的膜厚优选为0.1倍~5.0倍,更优选为0.2倍~3.0倍。
最外层可以含有用于赋予挠性的增塑剂、用于提高涂布性的表面活性剂、用于控制表面滑动性的无机粒子等公知的添加物。
<支承体>
本发明所涉及的平版印刷版原版具有支承体。
作为支承体,能够从公知的平版印刷版原版用支承体中适当选择而使用。
作为支承体,优选具有亲水性表面的支承体(以下,也称为“亲水性支承体”。)。
作为本发明中的支承体,优选通过公知的方法进行粗糙化处理,并进行了阳极氧化处理的铝板。即,本发明中的支承体优选具有铝板和配置于铝板上的铝的阳极氧化皮膜。
并且,上述支承体优选具有铝板和配置于上述铝板上的铝的阳极氧化皮膜,上述阳极氧化皮膜位于比上述铝板更靠上述图像记录层侧,上述阳极氧化皮膜具有从上述图像记录层侧的表面沿着深度方向延伸的微孔,上述微孔在上述阳极氧化皮膜表面处的平均直径超过10nm且为100nm以下。
而且优选,上述微孔由大径孔部和小径孔部构成,上述大径孔部从上述阳极氧化皮膜表面延伸至深度10nm~1,000nm的位置,上述小径孔部与上述大径孔部的底部连通,且从连通位置延伸至深度20nm~2,000nm的位置,上述大径孔部在上述阳极氧化皮膜表面处的平均直径为15nm~100nm,上述小径孔部在上述连通位置处的平均直径为13nm以下。
图1是铝支承体12a的一实施方式的示意性剖视图。
铝支承体12a具有依次层叠铝板18和铝的阳极氧化皮膜20a(以下,也简称为“阳极氧化皮膜20a”)而成的层叠结构。另外,铝支承体12a中的阳极氧化皮膜20a位于比铝板18更靠图像记录层侧。即,本发明所涉及的平版印刷版原版优选在铝板上依次至少具有阳极氧化皮膜、图像记录层及水溶性树脂层。
-阳极氧化皮膜-
以下,对阳极氧化皮膜20a的优选方式进行说明。
阳极氧化皮膜20a为通过阳极氧化处理在铝板18的表面制作的皮膜,并且该皮膜具有与皮膜表面大致垂直且分别均匀地分布的超微细的微孔22a。微孔22a从图像记录层侧的阳极氧化皮膜20a表面(与铝板18侧相反的一侧的阳极氧化皮膜20a表面)沿着厚度方向(铝板18侧)延伸。
微孔22a在阳极氧化皮膜20a表面处的平均直径(平均开口直径)优选超过10nm且为100nm以下。其中,从印刷耐久性、耐污染性及图像视觉辨认度的均衡的观点出发,更优选15nm~60nm,进一步优选20nm~50nm,尤其优选25nm~40nm。孔内部的直径可以比表层宽,也可以比表层窄。
在平均直径超过10nm的情况下,印刷耐久性及图像视觉辨认度优异。并且,在平均直径为100nm以下的情况下,印刷耐久性优异。
微孔22a的平均直径为如下值,即,使用倍率15万倍的场发射型扫描电子显微镜(FE-SEM)以N=4张观察阳极氧化皮膜20a的表面,在所获得的4张图像中,测定50处存在于400nm×600nm的范围内的微孔的直径(diameter),并进行平均而得的值。
另外,在微孔22a的形状并非圆形的情况下,使用圆当量直径。“圆当量直径”是指将开口部的形状假定为具有与开口部的投影面积相同的投影面积的圆时的圆的直径。
微孔22a的形状并无特别限制,在图1中为大致直管状(大致圆柱状),但是可以是直径随着朝向深度方向(厚度方向)而变小的圆锥状。并且,微孔22a的底部的形状并无特别限制,可以是曲面状(凸状),也可以是平面状。
在支承体中,上述微孔可以由大径孔部和小径孔部构成,该大径孔部从上述阳极氧化皮膜表面延伸至一定深度的位置,该小径孔部与上述大径孔部的底部连通,且从连通位置延伸至一定深度的位置。
例如,如图2所示,铝支承体12b可以是包括铝板18及具有由大径孔部24和小径孔部26构成的微孔22b的阳极氧化皮膜20b的形态。
例如,阳极氧化皮膜20b中的微孔22b由大径孔部24和小径孔部26构成,该大径孔部24从阳极氧化皮膜表面延伸至深度10nm~1,000nm(深度D:参考图2)的位置,该小径孔部26与大径孔部24的底部连通,且从连通位置进一步延伸至深度20nm~2,000nm的位置。具体而言,例如,能够使用日本特开2019-162855号公报的0107~0114段中所记载的方式。
-支承体的制造方法-
作为本发明中所使用的支承体的制造方法,例如,优选依次实施以下工序的制造方法。
·粗糙化处理工序:对铝板实施粗糙化处理的工序
·阳极氧化处理工序:对经粗糙化处理的铝板进行阳极氧化的工序
·扩孔处理工序:使在阳极氧化处理工序中获得的具有阳极氧化皮膜的铝板与酸水溶液或碱水溶液接触,并扩大阳极氧化皮膜中的微孔的直径的工序
以下,对各工序的步骤进行详细叙述。
《粗糙化处理工序》
粗糙化处理工序为对铝板的表面实施包括电化学粗糙化处理的粗糙化处理的工序。本工序优选在后述的阳极氧化处理工序之前实施,但是若铝板的表面已具有优选的表面形状,则无需特别实施该工序。能够通过日本特开2019-162855号公报的0086~0101段中所记载的方法来进行。
《阳极氧化处理工序》
关于阳极氧化处理工序的步骤,只要可获得上述的微孔,则并无特别限制,可举出公知的方法。
在阳极氧化处理工序中,能够将硫酸、磷酸及草酸等的水溶液用作电解池。例如,硫酸的浓度可举出100g/L~300g/L。
阳极氧化处理的条件可根据所使用的电解液适当设定,但是例如可举出液温5℃~70℃(优选为10℃~60℃)、电流密度0.5A/dm2~60A/dm2(优选为1A/dm2~60A/dm2)、电压1V~100V(优选为5V~50V)、电解时间1秒~100秒(优选为5秒~60秒)及皮膜量0.1g/m2~5g/m2(优选为0.2g/m2~3g/m2)。
《扩孔处理》
扩孔处理为扩大存在于通过上述的阳极氧化处理工序形成的阳极氧化皮膜中的微孔的直径(孔径)的处理(孔径扩大处理)。
扩孔处理能够通过使通过上述的阳极氧化处理工序获得的铝板与酸水溶液或碱水溶液接触来进行。接触的方法并无特别限制,例如,可举出浸渍法及喷涂法。
支承体可以根据需要在与图像记录层相反的一侧的面具有包含日本特开平5-45885号公报中所记载的有机高分子化合物或日本特开平6-35174号公报中所记载的硅的烷氧基化合物等的背涂层。
<底涂层>
本发明所涉及的平版印刷版原版优选在图像记录层与支承体之间具有底涂层(有时也称为中间层。)。底涂层在曝光部中增强支承体与图像记录层的粘附,且在未曝光部中使图像记录层容易从支承体剥离,因此该底涂层有助于提高显影性,而并不损害印刷耐久性。并且,在为红外线激光曝光的情况下,底涂层作为隔热层而发挥作用,由此还具有防止通过曝光产生的热扩散到支承体而灵敏度下降的效果。
作为使用于底涂层的化合物,可举出具有可吸附于支承体表面的吸附性基团及亲水性基团的聚合物。为了提高与图像记录层的粘附性,优选具有吸附性基团及亲水性基团,还具有交联性基团的聚合物。底涂层中所使用的化合物可以是低分子化合物也可以是聚合物。使用于底涂层的化合物可以根据需要而混合两种以上来使用。
在使用于底涂层的化合物为聚合物的情况下,优选具有吸附性基团的单体、具有亲水性基团的单体及具有交联性基团单体的共聚物。
作为能够吸附到支承体表面的吸附性基团,优选酚性羟基、羧基、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2-、-SO2NHSO2-、-COCH2COCH3。作为亲水性基团,优选磺基或其盐、羧基的盐。作为交联性基团,优选丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酰胺基、甲基丙烯酰胺基、烯丙基等。
聚合物可以具有通过聚合物的极性取代基和具有含有与上述极性取代基相反的电荷的取代基及烯属不饱和键的化合物的盐形成引入的交联性基团,且可以进一步与除上述以外的单体、优选亲水性单体共聚。
具体而言,优选举出日本特开平10-282679号公报中所记载的具有能够加成聚合的烯属双键反应性基团的硅烷偶联剂、日本特开平2-304441号公报中所记载的具有烯属双键反应性基团的磷化合物。还可优选使用日本特开2005-238816号、日本特开2005-125749号、日本特开2006-239867号、日本特开2006-215263号的各公报中所记载的具有交联性基团(优选为烯属不饱和键基)、与支承体表面相互作用的官能团及亲水性基团的低分子或高分子化合物。
作为更优选的化合物,可举出日本特开2005-125749号及日本特开2006-188038号公报中所记载的可吸附于支承体表面的吸附性基团、具有亲水性基团及交联性基团的高分子聚合物。
底涂层中所使用的聚合物中的烯属不饱和键基的含量在每1g聚合物中优选为0.1mmol~10.0mmol,更优选为0.2mmol~5.5mmol。
底涂层中所使用的聚合物的重均分子量(Mw)优选为5,000以上,更优选为1万~30万。
-亲水性化合物-
从显影性的观点出发,底涂层优选包含亲水性化合物。
作为亲水性化合物,并无特别限制,能够使用底涂层中所使用的公知的亲水性化合物。
作为亲水性化合物,优选举出羧甲基纤维素、糊精等具有氨基的膦酸类、有机膦酸、有机磷酸、有机次膦酸、氨基酸类、以及具有羟基的胺的盐酸盐等。
并且,作为亲水性化合物,优选举出具有氨基或具有聚合抑制能力的官能团和与支承体表面相互作用的基团的化合物(例如,1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷(DABCO)、2,3,5,6-四羟基-对苯醌、氯醌、磺基邻苯二甲酸、乙二胺四乙酸(EDTA)或其盐、羟乙基乙二胺三乙酸或其盐、二羟乙基乙二胺二乙酸或其盐、羟乙基亚氨二乙酸等或其盐等)。
作为亲水性化合物,从划痕污染抑制性的观点出发,优选包含羟基羧酸或其盐。
并且,从划痕污染抑制性的观点出发,亲水性化合物、优选为羟基羧酸或其盐优选包含在上述铝支承体上的层中。并且,上述铝支承体上的层优选为形成有图像记录层的侧的层,并且,优选为与上述铝支承体接触的层。
作为上述铝支承体上的层,作为与上述铝支承体接触的层,优选举出底涂层或图像记录层。并且,可以在除了与上述铝支承体接触的层以外的层、例如最外层或图像记录层包含亲水性化合物、优选为羟基羧酸或其盐。
在本发明所涉及的平版印刷版原版中,从划痕污染抑制性的观点出发,图像记录层优选包含羟基羧酸或其盐。
并且,在本发明所涉及的平版印刷版原版中,还优选举出利用至少包含羟基羧酸或其盐的组合物(例如,水溶液等)对铝支承体的图像记录层侧的表面进行表面处理的方式。在上述方式的情况下,经处理的羟基羧酸或其盐能够以包含在与铝支承体接触的图像记录层侧的层(例如,图像记录层或底涂层)中的状态检测至少一部分。
通过在底涂层等与铝支承体接触的图像记录层侧的层包含羟基羧酸或其盐,能够使铝支承体的图像记录层侧的表面亲水化,并且,能够将铝支承体的图像记录层侧的表面上的基于空中水滴法的与水的接触角容易地设为110°以下,划痕污染抑制性优异。
羟基羧酸为在1分子中具有1个以上的羧基和1个以上的羟基的有机化合物的统称,也称为羟基酸、含氧酸、羟基羧酸、醇酸(参考岩波理化学辞典第5版、Iwanami Shoten发刊(1998))。
上述羟基羧酸或其盐优选由下述式(HC)表示。
RHC(OH)mhc(COOMHC)nhc 式(HC)
式(HC)中,RHC表示mhc+nhc价的有机基团,MHC分别独立地表示氢原子、碱金属或鎓,mhc及nhc分别独立地表示1以上的整数,在n为2以上的情况下,MHC可以相同,可以不同。
在式(HC)中,作为由RHC表示的mhc+nhc价的有机基团,可举出mhc+nhc价的烃基等。烃基可以具有取代基和/或连结基团。
作为烃基,可举出衍生自脂肪族烃的mhc+nhc价的基团、例如亚烷基、烷烃三基、烷烃四基、烷烃五基、亚烯基、烯烃三基、烯烃四基、烯烃五基、亚炔基、炔烃三基、炔烃四基、炔烃五基等、衍生自芳香族烃的mhc+nhc价的基团、例如亚芳基、芳烃三基、芳烃四基、芳烃五基等。作为取代基,可举出烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基等。作为取代基的具体例,可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十六烷基、十八烷基、二十烷基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、1-甲基丁基、异己基、2-乙基己基、2-甲基己基、环己基、环戊基、2-降冰片基、甲氧基甲基、甲氧基乙氧基乙基、烯丙氧基甲基、苯氧基甲基、乙酰氧基甲基、苯甲酰氧基甲基、苄基、苯乙基、α-甲基苄基、1-甲基-1-苯乙基、对甲基苄基、肉桂基、烯丙基、1-丙烯基甲基、2-丁烯基、2-甲基烯丙基、2-甲基丙烯基甲基、2-丙炔基、2-丁炔基、3-丁炔基、苯基、联苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、苯氧基苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、甲氧基羰基苯基、乙氧基羰基苯基、苯氧羰基苯基等。并且,连结基团由选自氢原子、碳原子、氧原子、氮原子、硫原子及卤原子中的至少一种原子构成,且其原子数优选为1~50。具体而言,可举出亚烷基、取代亚烷基、亚芳基、取代亚芳基等,并且可以具有这些2价的基团由酰胺键、醚键、氨基甲酸酯键、脲键及酯键中的任一个连结多个而成的结构。
作为由MHC表示的碱金属,可举出锂、钠、钾等,尤其优选钠。作为鎓,可举出铵、鏻、锍等,尤其优选铵。
并且,从划痕污染抑制性的观点出发,MHC优选为碱金属或鎓,更优选为碱金属。
mhc与nhc的总数优选3以上,更优选3~8,进一步优选4~6。
上述羟基羧酸或其盐的分子量优选为600以下,更优选为500以下,尤其优选为300以下。并且,上述分子量优选为76以上。
关于上述羟基羧酸或构成上述羟基羧酸的盐的羟基羧酸,具体而言,可举出葡萄糖酸、乙醇酸、乳酸、丙醇二酸、羟基丁酸(2-羟基丁酸、3-羟基丁酸、γ-羟基丁酸等)、苹果酸、酒石酸、柠苹酸、柠檬酸、异柠檬酸、白氨酸、甲羟戊酸、泛解酸、蓖麻醇酸、反蓖油酸、脑羟脂酸、奎尼酸、莽草酸、单羟基苯甲酸衍生物(水杨酸、木馏油酸(高水杨酸、羟基(甲基)苯甲酸)、香草酸、丁香酸等)、二羟基苯甲酸衍生物(焦儿茶酸、二羟基苯甲酸、原儿茶酸、龙胆酸、苔色酸等)、三羟基苯甲酸衍生物(没食子酸等)、苯基乙酸衍生物(扁桃酸、二苯乙醇酸、阿卓乳酸等)、氢化肉桂酸衍生物(邻羟基苯丙酸、根皮酸、香豆酸、伞形酸、咖啡酸、阿魏酸、芥子酸、脑羟脂酸、胭脂红酸等)等。
这些中,作为上述羟基羧酸或构成上述羟基羧酸的盐的羟基羧酸,从划痕污染抑制性的观点出发,优选具有2个以上的羟基的化合物,更优选具有3个以上的羟基的化合物,进一步优选具有5个以上的羟基的化合物,尤其优选具有5个~8个羟基的化合物。
并且,作为具有1个羧基、2个以上的羟基的化合物,优选葡萄糖酸或莽草酸。
作为具有2个以上的羧基、1个羟基的化合物,优选柠檬酸或苹果酸。
作为分别具有2个以上的羧基及羟基的化合物,优选酒石酸。
其中,作为上述羟基羧酸,尤其优选葡萄糖酸。
亲水性化合物可以单独使用一种,也可以并用两种以上。
在底涂层包含亲水性化合物、优选为羟基羧酸或其盐的情况下,相对于底涂层的总质量,亲水性化合物、优选为羟基羧酸及其盐的含量优选为0.01质量%~50质量%,更优选为0.1质量%~40质量%,尤其优选为1.0质量%~30质量%。
底涂层中,除了上述底涂层用化合物以外,为了防止经时污染,还可以含有螯合剂、仲胺或叔胺、阻聚剂等。
底涂层可通过公知的方法来涂布。
底涂层的涂布量(固体成分)优选为0.1mg/m2~300mg/m2,更优选为5mg/m2~200mg/m2。
本发明所涉及的平版印刷版原版可以具有除了上述以外的其他层。
作为其他层,并无特别限制,能够具有公知的层。例如,根据需要,可以在支承体的与图像记录层侧相反的一侧设置有背涂层。
(平版印刷版的制作方法及平版印刷方法)
本发明所涉及的平版印刷版的制作方法优选包括:将本发明所涉及的平版印刷版原版曝光成图像状的工序(曝光工序);及对于曝光后的平版印刷版原版在印刷机上供给选自印刷墨液及润版液中的至少一者来去除非图像部的图像记录层的工序(机上显影工序)。
本发明所涉及的平版印刷方法优选包括:将本发明所涉及的平版印刷版原版曝光成图像状的工序(曝光工序);在印刷机上供给选自印刷墨液及润版液中的至少一者来去除非图像部的图像记录层而制作平版印刷版的工序(机上显影工序);及使用所获得的平版印刷版进行印刷的工序(以下,也称为“印刷工序”)。
<曝光工序>
本发明所涉及的平版印刷版的制作方法优选包括将本发明所涉及的平版印刷版原版曝光成图像状并形成曝光部和未曝光部的曝光工序。本发明所涉及的平版印刷版原版优选通过具有线图像、网点图像等的透明原始图像而进行激光曝光或者通过基于数字数据的激光束扫描等曝光成图像状。
优选使用波长为750nm~1,400nm的光源。作为波长为750nm~1,400nm的光源,优选辐射红外线的固体激光及半导体激光。关于红外线激光,输出功率优选为100mW以上,每1像素的曝光时间优选在20微秒以内,且照射能量优选为10mJ/cm2~300mJ/cm2。并且,为了缩短曝光时间,优选使用多束激光设备。曝光机构可以是内鼓方式、外鼓方式和平板方式等的任一个。
关于图像曝光,能够使用制版机等通过常规方法来进行。在为机上显影的情况下,可以在将平版印刷版原版安装于印刷机之后,在印刷机上进行图像曝光。
<机上显影工序>
本发明所涉及的平版印刷版的制作方法优选包括在印刷机上供给选自印刷墨液及润版液中的至少一者来去除非图像部的图像记录层的机上显影工序。
以下,对机上显影方式进行说明。
〔机上显影方式〕
在机上显影方式中,经图像曝光的平版印刷版原版优选通过将油性油墨和水性成分供给至印刷机上,并去除非图像部的图像记录层而制作平版印刷版。
即,若在对平版印刷版原版进行图像曝光之后,不实施任何显影处理而直接安装于印刷机上、或者在将平版印刷版原版安装于印刷机上之后,在印刷机上进行图像曝光,接着供给油性油墨和水性成分并进行印刷,则在印刷中途的初始阶段,在非图像部中,通过所供给的油性油墨及水性成分中的任一者或两者而未固化的图像记录层溶解或分散并被去除,从而亲水性表面暴露于该部分。另一方面,在曝光部中,通过曝光而固化的图像记录层形成具有亲油性表面的油性油墨接受部。最初供给至版面的化合物可以是油性油墨,也可以是水性成分,但是从防止因去除了水性成分的图像记录层的成分而被污染的方面出发,优选最初供给油性油墨。如此,平版印刷版原版在印刷机上进行机上显影,并直接使用于多张印刷中。作为油性油墨及水性成分,优选使用通常的平版印刷用印刷墨液及润版液。
作为对本发明所涉及的平版印刷版原版进行图像曝光的激光,光源的波长优选使用750nm~1,400nm。波长为750nm~1,400nm的光源可优选使用上述光源。
<印刷工序>
本发明所涉及的平版印刷方法包括将印刷墨液供给至平版印刷版并印刷记录介质的印刷工序。
作为印刷墨液,并无特别限制,能够根据需要使用各种公知的油墨。并且,作为印刷墨液,优选举出油性油墨或紫外线固化型油墨(UV油墨)。
并且,在上述印刷工序中,可以根据需要供给润版液。
并且,上述印刷工序中,无需停止印刷机,而可以在上述机上显影工序或上述显影液显影工序中连续进行。
作为记录介质,并无特别限制,能够根据需要使用公知的记录介质。
在来自本发明所涉及的平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法及本发明所涉及的平版印刷方法中,可以根据需要在曝光之前、曝光期间、曝光至显影期间对平版印刷版原版的整个表面进行加热。通过这种加热,可促进图像记录层中的图像形成反应,可产生灵敏度或印刷耐久性的提高、灵敏度的稳定化等的优点。关于显影前的加热,优选在150℃以下的温和条件下进行。若为上述方式,则能够防止非图像部固化等的问题。对于显影后的加热,优选利用非常强的条件,优选在100℃~500℃的范围内。若在上述范围内,则可获得足够的图像增强作用,且能够抑制支承体的劣化、图像部的热解等问题。
(呈色剂)
本发明所涉及的呈色剂为由下述式1或式2表示的呈色剂,优选为具有第13族元素的化合物的呈色剂,更优选为具有第13族元素的有机化合物的呈色剂。
并且,本发明所涉及的呈色剂优选为硼化合物的呈色剂,更优选为有机硼化合物的呈色剂。
[化学式48]
式1及式2中,R1~R7分别独立地表示氢原子或一价的有机基团,L1及L2表示二价的有机基团,L1、R2及R3中的2个以上的基团、L2、R4及R6中的2个以上的基团、以及L2、R5及R7中的2个以上的基团可以连结而形成环结构。
由上述式1或式2表示的呈色剂中的优选方式除了后述以外,与上述的由式1或式2表示的化合物中的优选方式相同。
本发明所涉及的呈色剂可以单独包含1种由上述式1或式2表示的呈色剂,也可以包含2种以上。
从呈色性的观点出发,相对于呈色剂的总质量,本发明所涉及的呈色剂中的由上述式1或式2表示的呈色剂的含量优选0.1质量%~100质量%,更优选1质量%~100质量%,尤其优选10质量%~100质量%。
本发明所涉及的呈色剂还可以包含添加剂。
作为添加剂,能够使用公知的添加剂,可举出溶剂、抗氧化剂、分散剂等。
实施例
以下,通过实施例对本发明进行详细说明,但是本发明并不限定于此。另外,在本实施例中,所谓“%”、“份”,只要没有特别说明,则分别是指“质量%”、“质量份”。另外,在高分子化合物中,除了特别规定的高分子化合物以外,分子量为重均分子量(Mw),结构重复单元的比率为摩尔百分比。并且,重均分子量(Mw)为作为基于凝胶渗透色谱(GPC)法的聚苯乙烯换算值而测定的值。
并且,在本实施例中使用的C-1~C-17为与上述的C-1~C-17分别相同的化合物。
并且,在下述化学结构式中,Me表示甲基,Ph表示苯基。
<酮体或亚胺体的比例的测定方法>
将试样1.0mg溶解于0.5mL的氘代氯仿CDCl3(FUJIFILM Wako Pure ChemicalCorporation制造)中,在25℃的条件下实施了NMR(Bruker公司制造)测定。酮体的CH2基或CHR基(R表示与所测定的试样中所包含的化合物相对应的任意基团。)及烯醇体的CH基的峰值不同,因此根据各积分比来计算出酮体的比例(摩尔%)。亚胺体也通过相同的方法来计算。
<C-1的合成>
[化学式49]
在100mL三口烧瓶中添加2,5-二甲基吡嗪5.0g(46.3mmol,Tokyo ChemicalIndustry Co.,Ltd.制造)、叔丁醇钾15.6g(t-BuOK,138.8mmol,FUJIFILM Wako PureChemical Corporation制造)、二甲基甲酰胺(DMF)30mL(FUJIFILM Wako Pure ChemicalCorporation制造),并在70℃下加热搅拌了1小时。接着,添加4-二甲基氨基苯甲酸乙酯13.4g(69.4mmol,FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造),在70℃下加热搅拌了4小时。反应结束之后,冷却至室温(25℃,以下相同)。接着,添加氯化铵水溶液100mL(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造),以100mL的二异丙醚(FUJIFILM WakoPure Chemical Corporation制造)提取了3次。在所提取的二异丙醚层中添加硫酸镁20g(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造),搅拌10分钟之后,进行过滤,去除了硫酸镁。然后,通过柱色谱法(展开溶剂:乙酸乙酯/己烷=1/2)对利用旋转蒸发器进行减压浓缩而获得的固体进行分离,再次利用旋转蒸发器对目标级分进行减压浓缩,由此以16.9%的产率获得了目标物2.0g。
<C-2及C-6~C-15的合成>
变更了2,5-二甲基吡嗪、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯,除此以外,遵照C-1的合成来分别进行了合成。
<C-3的合成>
[化学式50]
在三口烧瓶中添加了0.5mol/L甲苯溶液的Tebbe’s试样6mL(3mmol,TokyoChemical Industry Co.,Ltd.制造)、6mL的苯(Benzene)。然后,添加4-二甲基氨基腈0.45g(3.07mmol,Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制造),在60℃下加热搅拌了72h。冷却至室温之后,添加10g硫酸钠十水合物(FUJIFILM Wako Pure ChemicalCorporation制造),搅拌了30分钟。对所获得的溶液进行过滤,并对滤液进行了减压浓缩。通过柱色谱法(展开溶剂:二异丙醚/二氯甲烷=1/1)对所获得的固体进行分离,再次利用旋转蒸发器对目标级分进行减压浓缩,由此以77.0%的产率获得了目标物0.36g。
<C-4及C-5的合成>
变更了4-二甲基氨基腈,除此以外,遵照C-3的合成来分别进行了合成。
<C-16的合成>
[化学式51]
在三口烧瓶中添加2-氰甲基吡啶1.00g(8.46mmol,Tokyo Chemical Ind ustryCo.,Ltd.制造)、四氢呋喃(THF)50mL(FUJIFILM Wako Pure Chemi cal Corporation制造)之后,添加60%氢化钠(NaH)1.35g(33.9mmol,Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制造),在室温条件下搅拌了1小时。接着,添加2-溴吡啶1.33g(2-bromopyridine,8.46mmol,TokyoChemical Industry Co.,Ltd.制造),进行了8小时加热回流。反应结束之后,冷却至室温,添加0.1M(=mol/L)盐酸水溶液(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)500mL而使其成为酸性之后,添加了饱和食盐水50mL。以50mL的氯仿(FUJIFILM Wako PureChemical Corporation制造)提取3次之后,对所获得的溶液进行减压浓缩,从而获得了固体。
通过柱色谱法(展开溶剂:二氯甲烷)对所获得的固体进行分离,再次利用旋转蒸发器对目标级分进行减压浓缩,由此以12.1%的产率获得了目标物0.20g。
<C-17的合成>
遵照美国专利申请公开第2018/305552号说明书的0298段中所记载的方法,进行了C-17的合成。
(实施例1~实施例52及比较例1~比较例4)
<支承体1的制作>
对厚度为0.3mm的材质1S的铝合金板实施了日本特开2012-158022号公报的0126段中所记载的(A-a)机械粗糙化处理(刷粒法)至0134段中所记载的(A-i)酸性水溶液中的除污处理。
接着,适当调整日本特开2012-158022号公报的0135段中所记载的(A-j)第1阶段的阳极氧化处理至0138段中所记载的(A-m)第3阶段的阳极氧化处理的各处理条件,形成阳极氧化皮膜,将其作为支承体1。
另外,在所有处理工序之间实施水洗处理,且在水洗处理之后通过夹持辊进行了排液。
对所获得的支承体1的详细内容进行了总结。
支承体1:微孔的阳极氧化皮膜表面的L*a*b*表色系中的明度L*的值:83、微孔中的大径孔部在氧化皮膜表面处的平均直径:35nm(深度为100nm)、微孔中的小径孔部在连通位置处的平均直径:10nm(深度为1,000nm)、大径孔部的深度与大径孔部的平均直径之比:2.9
<支承体2的制作>
-碱蚀刻处理-
在70℃的温度下利用喷雾器向铝板喷吹苛性钠浓度26质量%及铝离子浓度6.5质量%的苛性钠水溶液来进行了蚀刻处理。然后,进行了基于喷雾器的水洗。然后,实施电化学粗糙化处理的表面的铝溶解量为5g/m2。
-使用了酸性水溶液的除污处理(第1除污处理)-
接着,使用酸性水溶液进行了除污处理。关于用于除污处理的酸性水溶液,使用了硫酸150g/L的水溶液。其液温为30℃。利用喷雾器将酸性水溶液喷吹到铝板上,并进行了3秒钟的除污处理。然后,进行了水洗处理。
-电化学粗糙化处理-
接着,使用盐酸浓度14g/L、铝离子浓度13g/L及硫酸浓度3g/L的电解液,并利用交流电流而进行了电化学粗糙化处理。电解液的液温为30℃。添加氯化铝而对铝离子浓度进行了调整。交流电流的波形为正与负的波形对称的正弦波,频率为50Hz,交流电流1周期中的阳极反应时间与阴极反应时间为1:1,电流密度以交流电流波形的电流峰值计为75A/dm2。并且,电量以铝板参与阳极反应的电量的总和计为450C/dm2,关于电解处理,隔着4秒钟的通电间隔,以112.5C/dm2分4次来进行。在铝板的对电极中使用了碳电极。然后,进行了水洗处理。
-使用了酸性水溶液的除污处理-
接着,使用酸性水溶液进行了除污处理。具体而言,利用喷雾器将酸性水溶液喷吹到铝板上,并进行了3秒钟的除污处理。用于除污处理的酸性水溶液使用了硫酸浓度170g/L及铝离子浓度5g/L的水溶液。其液温为30℃。
-第1阶段的阳极氧化处理-
使用图3所示的结构基于直流电解的阳极氧化装置进行第1阶段的阳极氧化处理,形成了规定的皮膜量的阳极氧化皮膜。
另外,在图3所示的阳极氧化处理装置610中,铝板616如图3中箭头所示那样被输送。在贮存有电解液618的供电槽612中铝板616通过供电电极620来带(+)电。并且,对于铝板616,在供电槽612中通过辊622向上方输送,通过夹持辊624向下方转换方向之后,向贮存有电解液626的电解处理槽614输送,并通过辊628向水平方向转换方向。接着,铝板616通过电解电极630而带(-)电,由此在其表面形成阳极氧化皮膜,离开电解处理槽614的铝板616被输送到后续工序。阳极氧化处理装置610中,由辊622、夹持辊624及辊628构成方向转换机构,在供电槽612和电解处理槽614的槽间部中,铝板616通过上述辊622、624及628,以山形及倒U字形输送。供电电极620和电解电极630与直流电源634连接。
-扩孔处理-
将进行了上述阳极氧化处理的铝板在温度为40℃、苛性钠浓度为5质量%及铝离子浓度为0.5质量%的苛性钠水溶液中浸渍3秒钟,并进行了扩孔处理。然后,进行了基于喷雾器的水洗。
-第2阶段的阳极氧化处理-
使用图3所示的结构基于直流电解的阳极氧化装置进行第2阶段的阳极氧化处理,形成了规定的皮膜量的阳极氧化皮膜。
<支承体3的制作>
-碱蚀刻处理-
在70℃的温度下利用喷雾器向铝板喷吹苛性钠浓度26质量%及铝离子浓度6.5质量%的苛性钠水溶液来进行了蚀刻处理。然后,进行了基于喷雾器的水洗。然后,实施电化学粗糙化处理的表面的铝溶解量为5g/m2。
-使用了酸性水溶液的除污处理(第1除污处理)-
接着,使用酸性水溶液进行了除污处理。关于用于除污处理的酸性水溶液,使用了硫酸150g/L的水溶液。其液温为30℃。利用喷雾器将酸性水溶液喷吹到铝板上,并进行了3秒钟的除污处理。然后,进行了水洗处理。
-电化学粗糙化处理-
接着,使用盐酸浓度14g/L、铝离子浓度13g/L及硫酸浓度3g/L的电解液,并利用交流电流而进行了电化学粗糙化处理。电解液的液温为30℃。添加氯化铝而对铝离子浓度进行了调整。交流电流的波形为正与负的波形对称的正弦波,频率为50Hz,交流电流1周期中的阳极反应时间与阴极反应时间为1:1,电流密度以交流电流波形的电流峰值计为75A/dm2。并且,电量以铝板参与阳极反应的电量的总和计为450C/dm2,关于电解处理,隔着4秒钟的通电间隔,以112.5C/dm2分4次来进行。在铝板的对电极中使用了碳电极。然后,进行了水洗处理。
-使用了酸性水溶液的除污处理-
接着,使用酸性水溶液进行了除污处理。具体而言,利用喷雾器将酸性水溶液喷吹到铝板上,并进行了3秒钟的除污处理。用于除污处理的酸性水溶液使用了硫酸浓度170g/L及铝离子浓度5g/L的水溶液。其液温为30℃。
-阳极氧化处理-
在硫酸液中使用基于直流电解的阳极氧化装置进行了阳极氧化处理,以成为规定的氧化皮膜量。
<支承体4的制作>
将厚度为0.28mm的Hydro 1052铝合金带或料片(能够从挪威、Norsk Hydro ASA公司获得)用作含铝支承体。
蚀刻前和蚀刻后这两个工序在已知的条件下用碱溶液来执行。关于粗糙化(或粒化),在约23℃的盐酸溶液中通过电化学机构来执行,以在含铝支承体的平面上,获得计算上的平均粗糙度(Ra)0.5μm。关于这些处理工序,在用于制造平版印刷版原版的典型的生产线上通过连续工艺来执行。
接着,用水清洗所获得的粒化及蚀刻的含铝支承体,并使其干燥,切割成单个粒化及蚀刻的含铝片材。
接着,对各片材进行2次阳极氧化,在各阳极氧化处理浴中包含约100升的阳极氧化溶液。第1阳极氧化条件为在电解质浓度175g/升、温度60℃、电流密度5.8A/dm2下进行21.3秒钟处理,第2阳极氧化条件为在电解质浓度280g/升、温度23℃、电流密度10A/dm2下进行18秒钟处理。用于形成外侧氧化铝层的第一个阳极氧化工艺使用磷酸作为电解质来执行,用于形成内侧氧化铝层的第2阳极氧化工艺使用硫酸作为电解质来执行。
<底涂层的形成方法>
在表1或表3中所记载的支承体上,以干燥涂布量成为80mg/m2的方式涂布表1或表3中所记载的下述组成的底涂层涂布液1并使用100℃的烘箱干燥30秒钟,从而形成了底涂层。另外,在表1或表3中,在底涂层涂布液的种类一栏为“-”的情况下,表示未形成底涂层。
-底涂层涂布液1的组成-
·底涂层用化合物(P-1,11%水溶液):0.10502份
·羟乙基二亚氨基二乙酸:0.01470份
·乙二胺四乙酸钠:0.06575份
·表面活性剂(EMALEX710,NIHON EMULSION Co.,Ltd.制造):0.00159质量份
·防腐剂(Biohope L,K·I Chemical Industry Co.,LTD.制造):0.00149份
·水:2.86144份
[化学式52]
<图像记录层的形成>
将表1~表4中所记载的组成的图像记录层涂布液1棒涂于表1或表3中所记载的支承体或底涂层上,并在120℃下烘干40秒钟,从而形成了干燥涂布量为1.0g/m2的图像记录层。
以下示出图像记录层涂布液1。
<图像记录层涂布液1的组成>
·表1或表3中所记载的红外线吸收剂:表1或表3中所记载的量
·表1或表3中所记载的显色剂:表1或表3中所记载的量
·表1或表3中所记载的受电子型聚合引发剂:表1或表3中所记载的量
·表1或表3中所记载的具有第13族元素的化合物:表1或表3中所记载的量
·表1或表3中所记载的链转移剂:表1或表3中所记载的量
·表1或表3中所记载的由式1或式2表示的化合物:表1或表3中所记载的量
·表1或表3中所记载的聚合性化合物:表1或表3中所记载的量
·表2或表4中所记载的阴离子表面活性剂:表2或表4中所记载的量
·表2或表4中所记载的氟系表面活性剂:表2或表4中所记载的量
·表2或表4中所记载的粘合剂聚合物:表2或表4中所记载的量
·表2或表4中所记载的极性有机溶剂:表2或表4中所记载的量
·表2或表4中所记载的其他添加剂:表2或表4中所记载的量
·2-丁酮:4.2726份
·1-甲氧基-2-丙醇:4.3952份
·甲醇:2.2737份
<最外层的形成>
将表1或表3中所记载的最外层涂布液1~5中的任一种棒涂于图像记录层上,在120℃下烘干30秒钟,以成为表1或表3中所记载的干燥涂布量的方式形成了最外层。
<最外层涂布液1>
·GOHSENX L3266(Mitsubishi Chemical Corporation.制造,固体成分为100%):0.05000份
·Fine Sphere FS102(Nippon Paint Co.,Ltd.制造,固体成分为17%):0.10000份
·EMALEX 710(非离子表面活性剂,聚氧乙烯月桂基醚,NIHON EMULSION Co.,Ltd.制造,固体成分为100%):0.00350份
·微凝胶液2:0.16670份
·水:0.56540份
另外,GOHSENX L3266为下述所示的重均分子量为17,000的磺酸改性聚乙烯醇。
[化学式53]
并且,Fine Sphere FS102为下述所示的苯乙烯-丙烯酸共聚物粒子的水分散体。
[化学式54]
<最外层涂布液2的组成>
·GOHSENX L3266(Mitsubishi Chemical Corporation.制造,固体成分为100%):0.07000份
·Fine Sphere FS102(Nippon Paint Co.,Ltd.制造,固体成分为17%):0.14706份
·EMALEX 710(NIHON EMULSION Co.,Ltd.制造,固体成分为100%):0.00350份
·水:0.50114份
<最外层涂布液3的组成>
·Mowiol4-88(聚乙烯醇,KURARAY CO.,LTD.制造):0.28000份
·Mowiol8-88(聚乙烯醇,KURARAY CO.,LTD.制造):0.20000份
·红外线吸收剂IR-6:0.02000份
·EMALEX 710(NIHON EMULSION Co.,Ltd.制造,固体成分为100%):0.37500份
·疏水性聚合物WP-1(聚偏二氯乙烯水性分散体,Solvin公司制造的Diofan(注册商标)A50):0.20000份
·水:6.38000份
<最外层涂布液4的组成>
最外层涂布液4以下述所记载的量包含下述各成分,并且用离子交换水以固体成分成为6质量%的方式制备。
·wIR-1(变色性化合物,下述化合物):20份
·WP-1(亲水性聚合物,Mowiol4-88聚乙烯醇,KURARAY CO.,LTD.制造):700份
·WP-2(亲水性聚合物,Mowiol8-88聚乙烯醇,KURARAY CO.,LTD.制造):200份
·L-1(疏水性聚合物,聚偏二氯乙烯水性分散体,Solvin公司制造的Diofan(注册商标)A50):200份
·F-1(表面活性剂,RAP[SOL A-80,NOF CORPORATION制造):5份
·疏水性聚合物WP-1(聚偏二氯乙烯水性分散体,Solvin公司制造的Diofan(注册商标)A50):0.20000份
<最外层涂布液5的组成>
最外层涂布液5以下述所记载的量包含下述各成分,并且用离子交换水以固体成分成为6质量%的方式制备。
·wIR-1(变色性化合物,下述化合物):20份
·WP-1(亲水性聚合物,Mowiol4-88聚乙烯醇,KURARAY CO.,LTD.制造):700份
·WP-2(亲水性聚合物,Mowiol8-88聚乙烯醇,KURARAY CO.,LTD.制造):200份
·F-1(表面活性剂,RAPISOL A-80,NOF CORPORATION制造):5份
·疏水性聚合物WP-1(聚偏二氯乙烯水性分散体,Solvin公司制造的Diofan(注册商标)A50):0.20000份
<平版印刷版原版的制作>
如表1~表4所记载,分别根据支承体及上述各层的形成方法,分别制作了实施例1~实施例52及比较例1~比较例4的平版印刷版原版。
<平版印刷版原版的评价>
〔油墨浑浊抑制性评价〕
通过搭载红外线半导体激光的Kodak公司制造的Magnus800 Quantum,在输出功率27W、外鼓转速450rpm、分辨率2,400dpi(dot per inch(每英寸点数),1英寸为2.54cm)的条件下,对所获得的平版印刷版原版进行了曝光(表2或表4中所记载的照射能量)。在曝光图像中包括图像面积率为5%的实心图像。
将所获得的已曝光的原版不进行显影处理而安装于菊版尺寸的HeidelbergerDruckmaschinen AG制造的印刷机SX-74的滚筒上。将内置无纺布过滤器和温度控制装置的容量100L的润版液循环罐连接于本印刷机。将润版液S-Z1(Fujifilm Corporation制造)3.5%的润版液80L装入循环装置内,使用Fusion-G MK MEDIUM N(DIC Corporation制造)200g作为印刷墨液,通过12次润版供给润版液之后供给油墨,以每小时10,000张的印刷速度在Tokubishi Art(Mitsubishi Paper Mills Limited制造,连续量:76.5kg)纸上进行了300张印刷。将上述印刷重复进行10次,通过将上述印刷纸面的油墨的色调与油墨单独的色调进行比较来对油墨的着色进行了评价。以下示出评价标准。
5:在油墨中完全未观察到图像记录层的着色,具有油墨单独的色调。
4:虽然在油墨中观察到少许图像记录层的着色,但是具有与油墨单独的色调相同的色调。
3:在油墨中观察到图像记录层的着色,具有与油墨单独的色调稍微不同的色调。
2:在油墨中观察到许多图像记录层的着色,具有与油墨单独的色调不同的色调。
1:在油墨中明显观察到图像记录层的着色,与油墨单独的色调不同,具有与图像记录层相同的色调。
〔经时视觉辨认度评价(曝光前后的曝光部(图像部)的ΔL测定)〕
通过搭载水冷式40W红外线半导体激光的Creo公司制造的Trendsetter3244VX,在输出11.5W、外鼓转速220rpm、分辨率2,400dpi(dot per inch,1英寸=25.4mm)的条件下,对所获得的平版印刷版原版进行了曝光。关于曝光,在25℃、50%RH的环境下进行。
曝光后在暗处(30℃、70%RH)保存72小时之后,测定了平版印刷版原版的显色。关于测定,使用Konica Minolta,Inc.制造的光谱色度仪CM2600d和操作软件CM-S100W,通过SCE(去除正反射光)方式来进行。关于视觉辨认度,使用L*a*b*表色系的L*值(明度),根据曝光部的L*值与未曝光部的L*值之差ΔL进行了评价。ΔL的值越大,则经时视觉辨认度越优异。
/>
/>
/>
以下记载除了上述以外的表1~表4中所记载的简称的详细内容。
IR-1~IR-3:下述化合物
[化学式55]
[化学式56]
S-2、S-15~S-17、S-22及S-23:下述化合物
[化学式57]
[化学式58]
Int-1及Int-2:下述化合物
Int-3:下述化合物(为光聚合引发剂,并且为具有第13族元素的化合物)
[化学式59]
TPB及TPB-1~TPB-3:下述化合物
[化学式60]
Ct-1:下述化合物
[化学式61]
CC-1:下述化合物
[化学式62]
M-1:通过下述合成方法合成的化合物
<M-1的合成方法>
将Takenate D-160N(聚异氰酸酯-三羟甲基丙烷加合物,Mitsui Chemicals,Inc.制造)4.7质量份、ARONIX M-403(TOAGOSEI CO.,LTD.制造)Takenate D-160N的NCO值与ARONIX M-403的氢氧基值成为1:1的量、叔丁基苯醌0.02质量份、甲基乙基酮11.5质量份的混合溶液加热至65℃。在反应溶液中加入NEOSTANN U-600(铋系缩聚催化剂,NITTO KASEICO.,LTD.制造)0.11质量份,并在相同温度下加热了4小时。将反应溶液冷却至室温(25℃),加入甲基乙基酮,由此合成了固体成分为50质量%的氨基甲酸酯丙烯酸酯溶液。
接着,使用再利用型GPC(设备:LC908-C60,管柱:JAIGEL-1H-40及2H-40(JapanAnalytical Industry.制造)),用四氢呋喃(THF)洗脱液实施氨基甲酸酯丙烯酸酯溶液的分子量级分。重均分子量为20,000。
M-2~M-6:下述化合物
[化学式63]
[化学式64]
[化学式65]
A-1:下述化合物
HPC:羟丙基纤维素,Klucel M,Hercules公司制造
[化学式66]
W-1:下述化合物
[化学式67]
微凝胶液1:通过下述合成方法获得的微凝胶液
<微凝胶液1的合成方法>
·微凝胶(聚合物粒子):2.640份
·蒸馏水:2.425份
以下示出上述微凝胶液中所使用的微凝胶的制备法。
-多元异氰酸酯化合物的制备-
在异佛尔酮二异氰酸酯17.78份(80摩尔当量)与下述多元酚化合物(1)7.35份(20摩尔当量)的乙酸乙酯(25.31份)悬浮溶液中加入三(2-乙基己酸酯)铋(NEOSTANN U-600,NITTO KASEI CO.,LTD.制造)0.043份而进行了搅拌。在发热获得抑制的时刻将反应温度设定在50℃,并搅拌3小时而获得了多元异氰酸酯化合物(1)的乙酸乙酯溶液(50质量%)。
-微凝胶的制备-
将下述油相成分及水相成分混合,并使用均质机以12,000rpm乳化10分钟。将所获得的乳化物在45℃下搅拌4小时之后,加入1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯-辛酸盐(U-CAT SA102,San-Apro Ltd.制造)10质量%水溶液5.20g,在室温下搅拌30分钟,并在45℃下静置了24小时。用蒸馏水将固体成分浓度调整为20质量%,从而获得了微凝胶(1)的水分散液。通过光散射法测定平均粒径的结果,为0.28μm。
~油相成分~
(成分1)乙酸乙酯:12.0份
(成分2)将三羟甲基丙烷(6摩尔当量)与二甲苯二异氰酸酯(18摩尔当量)进行加成,并对其加成单末端甲基化聚氧乙烯(1摩尔当量,氧亚乙基单元的重复数量:90)而成的加成物(50质量%乙酸乙酯溶液,Mitsui Chemicals,Inc.制造):3.76份
(成分3)多元异氰酸酯化合物(1)(作为50质量%乙酸乙酯溶液):15.0份
(成分4)二季戊四醇五丙烯酸酯(SR-399,Sartomer Company,Inc制造)的65质量%乙酸乙酯溶液:11.54份
(成分5)磺酸盐型表面活性剂(PIONIN A-41-C,Takemoto Oil&Fat Co.,Ltd.制造)的10%乙酸乙酯溶液:4.42份
~水相成分~
蒸馏水:46.87份
微凝胶液2:通过下述合成方法获得的微凝胶液
<微凝胶液2的制作>
-油相成分的制备-
混合多官能异氰酸酯化合物(PM-200:万华化学公司制造):6.66g;MitsuiChemicals,Inc.制造的“Takenate(注册商标)D-116N(三羟甲基丙烷(TMP)、间苯二甲基二异氰酸酯(XDI)及聚乙二醇单甲醚(EO90)的加成物(下述结构)”的50质量%乙酸乙酯溶液:5.46g;二季戊四醇五丙烯酸酯(SR-399,Sartomer Company,Inc制造)的65质量%乙酸乙酯溶液:11.24g;乙酸乙酯:14.47g以及Takemoto Oil&Fat Co.,Ltd.制造的PIONIN(注册商标)A-41-C:0.45g,并在室温(25℃)下搅拌15分钟而获得了油相成分。
[化学式68]
-水相成分的准备-
作为水相成分,准备了蒸馏水47.2份。
-微凝胶的制备-
在油相成分中添加水相成分并进行混合,使用均质机使所获得的混合物以12,000rpm乳化16分钟而获得了乳化物。
在所获得的乳化物中添加蒸馏水16.8份,并将所获得的液体在室温下搅拌了10分钟。
接着,将搅拌后的液体加热至45℃,在将液温保持为45℃的状态下搅拌4小时,由此从上述液体中蒸馏除去了乙酸乙酯。接着,加入1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯-辛酸盐(U-CAT SA102,San-Apro Ltd.制造)10质量%水溶液5.12g,在室温下搅拌30分钟,并在45℃下静置了24小时。用蒸馏水将固体成分浓度调整为20质量%,从而获得了微凝胶液2。关于微凝胶液2的体积平均粒径,通过激光衍射/散射式粒径分布测定装置LA-920(HORIBA,Ltd.制造)进行测定的结果,为165nm。
P-1:聚乙烯醇,SEKISUI CHEMICAL C0.,LTD.制造的S-LEC BX-5Z
P-2:聚乙烯醇,SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.制造的S-LEC BL10
聚合物粒子1:包含下述所示的树脂的树脂粒子(n=45,Mw=50,000)
[化学式69]
<聚合物粒子1的合成>
在4口烧瓶中加入分散单元:下述化合物B-1(n=45):10.0份、蒸馏水85.0份及正丙醇240.0份,在氮环境下在70℃下进行了加热搅拌。
接着,经2小时,向4口烧瓶中滴加了预先混合的下述化合物A-1:20.0份、下述化合物A-2:70.0份及2,2’-偶氮二异丁腈0.7份的混合物。
滴加结束之后原封不动地持续反应5小时,然后添加2,2’-偶氮二异丁腈0.5份,并将其升温至80℃。每隔6小时添加0.4份的2,2’-偶氮二异丁腈,并使其进行了共计19小时的反应。
将反应液自然冷却至室温(25℃),获得了聚合物粒子1的分散液(固体成分为23%)。
[化学式70]
聚合物粒子1的中值粒径为150nm,并且变动系数为23%。
并且,关于聚合物粒子1的分散性,通过已叙述的方法确认的结果,聚合物粒子1为具有水分散性的粒子,并且为具有有机溶剂分散性的粒子。
DMSO:二甲基亚砜
NMP:N-甲基吡咯烷酮
O-1~O-3:下述化合物
[化学式71]
根据表1~表4中所记载的结果可知,实施例所涉及的平版印刷版原版与比较例所涉及的平版印刷版原版相比,为油墨浑浊抑制性及曝光部的经时视觉辨认度优异的平版印刷版原版。
(实施例101)
<使用了C-1的呈色反应物的制作>
[化学式72]
在50mL三口烧瓶中添加C-10.3g(1.2mmol)、THF3.0mL、三苯基硼烷0.3g(1.3mmol,sigma aldrich公司制造),在室温条件下搅拌了4小时。反应结束之后,通过柱色谱法(展开溶剂:乙酸乙酯/己烷=1/2)对利用旋转蒸发器进行减压浓缩而获得的固体进行分离,再次利用旋转蒸发器对目标级分进行减压浓缩,由此以91.3%的产率获得了目标物0.45g。
已知C-1与具有第13族元素的有机化合物或其分解物形成络合物,并且观察到因形成络合物而引起的颜色的变化,作为呈色剂发挥作用。
(实施例102~实施例117)
<使用了C-2~C-17的呈色反应物的制作>
将C-1变更为C-2~C-17中的任一个,除此以外,遵照使用了C-1的呈色反应物的制作来分别制作了呈色反应物。
已知C-2~C-17均与具有第13族元素的有机化合物或其分解物形成络合物,并且观察到因形成络合物而引起的颜色的变化,作为呈色剂发挥作用。
于2021年2月26日申请的日本专利申请第2021-030880号的发明其整体通过参考而被编入本说明书中。
本说明书中所记载的所有文献、专利申请及技术标准与各文献、专利申请及技术标准通过参考而被具体且分别记载的情况相同程度地,通过参考而被编入本说明书中。
符号说明
12a、12b-铝支承体,14-底涂层,16-图像记录层,18-铝板,20a、20b-阳极氧化皮膜,22a、22b-微孔,24-大径孔部,26-小径孔部,D-大径孔部的深度,610-阳极氧化处理装置,612-供电槽,614-电解处理槽,616-铝板,618、26-电解液,620-供电电极,622、628-辊,624-夹持辊,630-电解电极,632-槽壁,634-直流电源。
Claims (20)
1.一种机上显影型平版印刷版原版,其具有:
支承体;及
所述支承体上的图像记录层,
所述图像记录层包含由下述式1或式2表示的化合物以及具有第13族元素的有机化合物,
式1及式2中,R1~R7分别独立地表示氢原子或一价的有机基团,L1及L2表示二价的有机基团,L1、R2及R3中的2个以上的基团、L2、R4及R6中的2个以上的基团、以及L2、R5及R7中的2个以上的基团任选地连结而形成环结构。
2.根据权利要求1所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
所述具有第13族元素的有机化合物为给电子型聚合引发剂。
3.根据权利要求2所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
所述给电子型聚合引发剂具有吸电子基团。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
由所述式1或式2表示的化合物在25℃下的酮体或亚胺体的比例为10摩尔%以上。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
由所述式1或式2表示的化合物包含具有环结构的化合物。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
由所述式1或式2表示的化合物包含具有2个以上的环结构的化合物。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
由所述式1或式2表示的化合物包含在芳香环上具有给电子基团的化合物。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
相对于所述图像记录层的总质量,由所述式1或式2表示的化合物的含量为0.05质量%~2.5质量%。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
所述图像记录层还包含受电子型聚合引发剂。
10.根据权利要求9所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
所述受电子型聚合引发剂包含由下述式(II)表示的化合物,
式([I)中,XA表示卤原子,RA表示芳基。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
所述具有第13族元素的有机化合物包含具有受电子性聚合引发剂结构的阳离子和具有给电子型聚合引发剂结构的阴离子形成抗衡盐而成的化合物。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
所述图像记录层还包含极性有机溶剂。
13.根据权利要求12所述的机上显影型平版印刷版原版,其中,
所述极性有机溶剂为选自二甲基亚砜及N-甲基吡咯烷酮中的至少1种溶剂。
14.一种平版印刷版的制作方法,其包括:
将权利要求1至13中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版曝光成图像状的工序;及
在印刷机上供给选自印刷墨液及润版液中的至少一者来去除非图像部的图像记录层的工序。
15.一种平版印刷方法,其包括:
将权利要求1至13中任一项所述的机上显影型平版印刷版原版曝光成图像状的工序;
供给选自印刷墨液及润版液中的至少一者以在印刷机上去除非图像部的图像记录层而制作平版印刷版的工序;及
使用所获得的平版印刷版进行印刷的工序。
16.一种呈色剂,其由下述式1或式2表示,
式1及式2中,R1~R7分别独立地表示氢原子或一价的有机基团,L1及L2表示二价的有机基团,L1、R2及R3中的2个以上的基团、L2、R4及R6中的2个以上的基团、以及L2、R5及R7中的2个以上的基团任选地连结而形成环结构。
17.根据权利要求16所述的呈色剂,其中,
由所述式1或式2表示的呈色剂在25℃下的酮体或亚胺体的比例为10摩尔%以上。
18.根据权利要求16或17所述的呈色剂,其中,
由所述式1或式2表示的呈色剂包含具有环结构的化合物。
19.根据权利要求16至18中任一项所述的呈色剂,其中,
由所述式1或式2表示的呈色剂包含具有2个以上的环结构的化合物。
20.根据权利要求16至19中任一项所述的呈色剂,其中,
由所述式1或式2表示的呈色剂为在芳香环上具有给电子基团的化合物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021-030880 | 2021-02-26 | ||
JP2021030880 | 2021-02-26 | ||
PCT/JP2022/007742 WO2022181724A1 (ja) | 2021-02-26 | 2022-02-24 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び、呈色剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116829366A true CN116829366A (zh) | 2023-09-29 |
Family
ID=83049211
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202280014411.9A Pending CN116829366A (zh) | 2021-02-26 | 2022-02-24 | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、平版印刷方法及呈色剂 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230393468A1 (zh) |
EP (1) | EP4299332A1 (zh) |
JP (1) | JPWO2022181724A1 (zh) |
CN (1) | CN116829366A (zh) |
WO (1) | WO2022181724A1 (zh) |
Family Cites Families (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2655349B2 (ja) | 1989-05-18 | 1997-09-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JPH035174A (ja) | 1989-06-02 | 1991-01-10 | Fujitsu Ltd | 水平プリンタ |
JP2988756B2 (ja) | 1991-04-26 | 1999-12-13 | 協和醗酵工業株式会社 | 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物 |
JP2739395B2 (ja) | 1991-08-19 | 1998-04-15 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JP2907643B2 (ja) | 1992-07-16 | 1999-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版およびその処理方法 |
DE69517174T2 (de) | 1995-10-24 | 2000-11-09 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Herstellung einer lithographische Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindenden Entwicklung |
DE69620336T2 (de) | 1995-10-24 | 2002-10-24 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit Wasser als Entwickler |
DE69608522T2 (de) | 1995-11-09 | 2001-01-25 | Agfa Gevaert Nv | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit |
DE69613078T2 (de) | 1995-11-09 | 2001-11-22 | Agfa Gevaert Nv | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit |
JPH10282679A (ja) | 1997-04-08 | 1998-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性平版印刷版 |
EP0931647B1 (en) | 1998-01-23 | 2003-04-02 | Agfa-Gevaert | A heat sensitive element and a method for producing lithographic plates therewith |
JP2001133969A (ja) | 1999-11-01 | 2001-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型平版印刷版原版 |
JP2001277742A (ja) | 2000-01-27 | 2001-10-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2001277740A (ja) | 2000-01-27 | 2001-10-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP4092055B2 (ja) | 2000-02-09 | 2008-05-28 | 三菱製紙株式会社 | 感光性組成物および感光性平版印刷版材料 |
JP2002023360A (ja) | 2000-07-12 | 2002-01-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型画像記録材料 |
JP4156784B2 (ja) | 2000-07-25 | 2008-09-24 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料及び画像形成方法 |
JP4319363B2 (ja) | 2001-01-15 | 2009-08-26 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
ATE491968T1 (de) | 2003-07-22 | 2011-01-15 | Fujifilm Corp | Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren |
JP4644458B2 (ja) | 2003-09-30 | 2011-03-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
US6960419B2 (en) | 2003-12-12 | 2005-11-01 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Antihalation dye for negative-working printing plates |
JP4351933B2 (ja) | 2004-03-05 | 2009-10-28 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の製版方法 |
JP2006188038A (ja) | 2004-12-10 | 2006-07-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および製版方法 |
JP4469734B2 (ja) | 2005-02-03 | 2010-05-26 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP2006239867A (ja) | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP4393408B2 (ja) | 2005-03-16 | 2010-01-06 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版 |
JP5170960B2 (ja) | 2005-08-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び平版印刷方法 |
JP2008195018A (ja) | 2007-02-15 | 2008-08-28 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP5265955B2 (ja) | 2008-04-18 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用アルミニウム合金板、平版印刷版用支持体、平版印刷版用原版および平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法 |
JP5645743B2 (ja) | 2010-04-30 | 2014-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、その製版方法、及び、多価イソシアネート化合物 |
JP5690645B2 (ja) | 2010-05-31 | 2015-03-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、その製版方法、及び、新規高分子化合物。 |
JP5205505B2 (ja) | 2010-12-28 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその平版印刷方法 |
JP5205480B2 (ja) | 2011-01-31 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体、および平版印刷版原版 |
EP3182205B1 (en) | 2014-09-26 | 2021-04-07 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive resin composition, lithographic printing original plate, method for producing lithographic printing plate, and polymer compound |
KR102247282B1 (ko) * | 2016-01-29 | 2021-05-03 | 후지필름 가부시키가이샤 | 조성물, 막, 근적외선 차단 필터, 적층체, 패턴 형성 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치, 적외선 센서 및 컬러 필터 |
BR112019003802B1 (pt) | 2016-08-31 | 2022-12-20 | Fujifilm Corporation | Composição de revelação de cor, precursor de placa de impressão planográfica, método para produção de placa de impressão planográfica e composto |
EP3838594B1 (en) | 2017-03-31 | 2023-11-22 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of producing same, lithographic printing plate precursor laminate, and lithographic printing method |
BR112019022492A2 (pt) | 2017-07-13 | 2020-05-12 | Fujifilm Corporation | Precursor de placa de impressão litográfica e método para produção de placa de impressão litográfica |
JP2019018412A (ja) | 2017-07-13 | 2019-02-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、ポリマー粒子、感光性樹脂組成物、及び、樹脂組成物。 |
BR112018072411B1 (pt) | 2017-08-31 | 2024-03-12 | Fujifilm Corporation | Precursor de placa de impressão litográfica, método de fabricação de placa de impressão litográfica e método de impressão |
EP3793830B1 (en) | 2018-05-14 | 2023-03-29 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
CN112638657A (zh) * | 2018-08-31 | 2021-04-09 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、平版印刷方法及固化性组合物 |
US20200096865A1 (en) * | 2018-09-21 | 2020-03-26 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and color-forming composition |
CN114051454B (zh) * | 2019-06-28 | 2023-12-15 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
JP7038686B2 (ja) | 2019-08-23 | 2022-03-18 | 本田技研工業株式会社 | 車体側部構造 |
-
2022
- 2022-02-24 EP EP22759759.8A patent/EP4299332A1/en active Pending
- 2022-02-24 CN CN202280014411.9A patent/CN116829366A/zh active Pending
- 2022-02-24 WO PCT/JP2022/007742 patent/WO2022181724A1/ja active Application Filing
- 2022-02-24 JP JP2023502505A patent/JPWO2022181724A1/ja active Pending
-
2023
- 2023-08-23 US US18/454,439 patent/US20230393468A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2022181724A1 (zh) | 2022-09-01 |
US20230393468A1 (en) | 2023-12-07 |
EP4299332A1 (en) | 2024-01-03 |
WO2022181724A1 (ja) | 2022-09-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3184590B1 (en) | Color developing composition, lithographic printing original plate, method for making lithographic printing plate, and color developer | |
WO2021241458A1 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 | |
JP7413526B2 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 | |
CN114051454B (zh) | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 | |
CN114072290B (zh) | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 | |
CN114450161B (zh) | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 | |
JP2024045243A (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷方法 | |
CN115151425A (zh) | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 | |
WO2021241688A1 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷方法 | |
CN114096421B (zh) | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 | |
CN114531860B (zh) | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 | |
US20230120465A1 (en) | On-press development type lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method | |
JP7378613B2 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷方法 | |
CN116829366A (zh) | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、平版印刷方法及呈色剂 | |
CN115666960A (zh) | 层叠体 | |
CN114450175A (zh) | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 | |
WO2022163777A1 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 | |
CN116723942A (zh) | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 | |
JP7391767B2 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、並びに、平版印刷方法 | |
CN116056906A (zh) | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 | |
WO2022019217A1 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 | |
WO2024071344A1 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 | |
CN115697717A (zh) | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 | |
CN116774521A (zh) | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 | |
JP2021189319A (ja) | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、並びに、平版印刷方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |